DE2304380A1 - ELECTRODES WITH A DELAFOSSITE SURFACE - Google Patents

ELECTRODES WITH A DELAFOSSITE SURFACE

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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material

Description

Patentanwalt H / D (521) 5088 ■Patent attorney H / D (521) 5088 ■

Dr. Michael.Hann 30. Januar 1973 63 Gießen ■ "' "Dr. Michael.Hann January 30, 1973 63 Giessen ■ "'"

Ludwigstraße 67Ludwigstrasse 67

PPG Industries, Inc., Pittsburgh, Pennsylvania, USAPPG Industries, Inc., Pittsburgh, Pennsylvania, USA

ELEKTRODEN MIT EINER DELAFOSSIT-OBERFLÄCHEELECTRODES WITH A DELAFOSSITE SURFACE

Priorität: 1. Februar 1972 / USA / Serial No". 222,501Priority: February 1, 1972 / USA / Serial No. "222,501

Für zahlreiche elektrochemische Reaktionen, wie die Elektrolyse von Solen, Chlorwasserstoffsäure und Sulfaten, die Elektroplattierung, elektrolytische Gewinnung, elektrolytische Herstellung von Metallpulvern, elektrolytische Reinigung, elektrolytische Beizung und elektrochemische Erzeugung von elektrischer Kraft werden nicht-verbrauchbare Anoden benötigt. Bisher sind Graphitanoden für solche Zwecke verwendet worden, insbesondere für die Elektrolyse von Solen und die Elektrolyse von Chlorwasserstoffsäure. InFor numerous electrochemical reactions, such as the electrolysis of brines, hydrochloric acid and Sulfates, electroplating, electrolytic Extraction, electrolytic production of metal powders, electrolytic cleaning, electrolytic pickling and electrochemical generation of electrical Power is required for non-consumable anodes. Graphite anodes have heretofore been used for such purposes, particularly for the electrolysis of brines and the electrolysis of hydrochloric acid. In

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jüngerer Zeit sind für solche Verfahren Elektroden entxvdckelt worden, die eine geeignete elektrischleitende Grundlage oder Substrat und einen elektrokatalytischen Überzug darauf besitzen, Typischer- ;weise bilden solche elektrokatalytische Überzüge die Metalle der Platingruppe, wie z.B. Platin, Osmium, Iridium, Ruthenium, Palladium und Rhodium und ihre Oxide.More recently, electrodes have been developed for such processes which have a suitable electrically conductive base or substrate and an electrocatalytic one Have a coating thereon, Typically; such electrocatalytic coatings form the Platinum group metals such as platinum, osmium, iridium, ruthenium, palladium and rhodium and theirs Oxides.

Es wurde nun gefunden? daß eine besonders geeignete Elektrode für die Durchführung von elektrochemischen Reaktionen erhalten wi ;d, wenn eine Delafossit-Oberfläche auf einem geeigneten elektrischleitenden Substrat oder Basis aufgebracht wird. Belafossite sind Oxide, von hoher elektrischer Leitfähigkeit von der stöchiometrischen Formel Has it been found now ? that a particularly suitable electrode for carrying out electrochemical reactions is obtained when a delafossite surface is applied to a suitable electrically conductive substrate or base. Belafossite are oxides, of high electrical conductivity from the stoichiometric formula

wobei in dieser Formel A Platin, Palladium, Silber oder Kupfer ist. B ist typischerweise Chrom» Eisen, Kobalt,-Rhodium, Aluminium, Gadolinium, Scandium, Indium, Thallium». Blei, Ruthenium und die lanthanide*. B kann abe^.auch ein beliebiges Metallion sein, daß einen beständigen +3 formalen Wirklichtkeitszustand hat und mit der DeIafossitstruktur verträglich.ist. "where in this formula A platinum, palladium, silver or Copper is. B is typically chromium »iron, cobalt, rhodium, aluminum, gadolinium, scandium, indium, thallium». Lead, ruthenium and the lanthanide *. B can also be any metal ion that has a constant +3 formal reality and with the DeIafossit structure compatible. is. "

Delafossite schließen auch nicht-stöchiometrische Ver-Delafossite also close non-stoichiometric

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bindungen ein, die mit den !stÖchimetrischen DeIafossiten isostrukturell sind. Ein geeignetes elektrischleitendes Substrat ist ein elektrischleitendes Substrat, daß im wesentlichen nicht durch den Elektrolyten angegriffen wird.bindings that match the ! stoichimetric deIafossites are isostructural. A suitable electrically conductive substrate is an electrically conductive substrate that is substantially unaffected by the electrolyte.

Wie schon ausgeführt .wurde, besitzen die Elektroden nach der Erfindung eine Delafossit-Oberfläche auf einem elektrischleitenden Substrat. Die Delafossite besitzen, eine einzigartige Kristallstruktur, die derjenigen des natürlichen Minerals Delafossit (CuFeO2) ähnlich ist, wobei die geringen Unterschiede in der Kristallstruktur auf die geringfügig verschiedenen Radien der Ionen zurückzuführen sind,As already stated, the electrodes according to the invention have a delafossite surface on an electrically conductive substrate. The Delafossite have a unique crystal structure, which is similar to that of the natural mineral delafossite (CuFeO 2 ), whereby the small differences in the crystal structure are due to the slightly different radii of the ions,

Delafossite ergeben besonders befriedigende Elektrodenmaterialien, da sie eine hohe elektrische Leitfähigkeit, die derjenigen von Metallen vergleichbar ist, mit einer hohen Beständigkeit gegen einen chemischen Angriff, die derjenigen von feuerfesten Metalloxiden vergleichbar ist, vereinigen. So liegt z.B. die elektrische Leitfähigkeit (bulk electrical conductivity) von komprimierten Pulvern des Platin- und Palladium-Delafossits in der Größen-Ordnung von etwa 10 bis 10 (Ohm-Zentimeter) . Derartige Platin- und Palladium-Delafossite sind zusätzlich auch beständig, gegen den Angriff von starken Säuren, wie Königswasser bei 70 C und auch gegen nascierendes Chlor.Delafossite results in particularly satisfactory electrode materials, because they have a high electrical conductivity, which is comparable to that of metals, with a high resistance to chemical attack, comparable to that of refractory metal oxides, unite. For example, this is the electrical conductivity (bulk electrical conductivity) of compressed powders of platinum and palladium delafossite in the size range from about 10 to 10 (ohm-centimeters). Such platinum and palladium delafosites are additional also resistant to attack by strong acids, such as Aqua regia at 70 C and also against nasal chlorine.

Die Delafossite sind eine Familie von Oxiden aus zwei oder mehr Metallen, wobei das Oxid eine rhomboetischeThe Delafossite are a family of oxides made up of two or more metals, the oxide being a rhomboetic one

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.Struktur mit einem hexagonalen Kristallhabitus hat, der demjenigen des Minerals Delafossit CuFeO2 ähnlich ist. Delafossite können weiterhin dadurch charakterisiert werden, daß'ihre Kristalle eine Raumgruppe von 166 haben, eine Shoenflies-Gruppe von D-, > ein vollesHas a structure with a hexagonal crystal habit similar to that of the mineral delafossite CuFeO 2. Delafossite can also be characterized by the fact that its crystals have a space group of 166, a Shoenflies group of D-,> a full one

Standard-Symbol von R« - (R, - 3, zwei über m) und ein internationales Symbol von R* (R, Querstrich 3, m). Solche Oxide und ihre Kristallografie sind besonders in den Aufsätzen von W.J* Croft et al., Acta Crystallogr., Band 17, Seite 313 (1964)j W. Gessner, Z. Anorg, AlIg. Chem., Band 35*2, Seite 145 (1966); H. Hahn et al Z. Anorg. AlIg. Chem., Band 279, Seite 281 (1955); W. Dannhauser et al, J. Amer. Chem. Soc, Band 77, Seite S96 (1955); H. Wiedersich et .al, Mineral Mag., Band 36, Seite 643 (1968); A. Krause et al, Z. Anorg. AlIg. Chem., Band, 228, Seite 253 (1936); A-. Pabst, Amer. Mineral, Band 31, Seite 539 (1946) und A. H. Muir et al, J. Phys. Chem. Solids·, Band 28, Seite 65; R. D. Shannon et al, Chemistry of Noble Metal Oxides. I. Synthesis and Properties of ABp2 Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Band 10, Seite 713 (1971); C. I. Prewitt et al, Chemistry of Noble Metal Oxides. II. Chrystal Structuresi:öf PtCoO2, PdCoO2, CuFeO2 und AgFeO2, Inorganic Chemistry, Band 10, Seite 719 (1971); D. B. Rogers et al, Chemistry of Noble Metal Oxides. III. Electrical Transport Properties and Crystal Chemistry of ABO2 Compound with the Delafossita Structure, Inorganic Chemistry, Band 10, Seite 723 (1971); U. S. Patent 3,498,931, U.S. Patent 3,514,414 und U.S. Patent 3,414,371. .Standard symbol of R «- (R, - 3, two over m) and an international symbol of R * (R, slash 3, m). Such oxides and their crystallography are particularly in the articles by WJ * Croft et al., Acta Crystallogr., Volume 17, page 313 (1964) j W. Gessner, Z. Anorg, AlIg. Chem., Vol. 35 * 2, page 145 (1966); H. Hahn et al. Z. Anorg. AlIg. Chem., Vol. 279, p. 281 (1955); W. Dannhauser et al, J. Amer. Chem. Soc, Vol. 77, p. S96 (1955); H. Wiedersich et. Al, Mineral Mag., Volume 36, page 643 (1968); A. Krause et al, Z. Anorg. AlIg. Chem., Vol. 228, p. 253 (1936); A-. Pabst, Amer. Mineral, Vol. 31, p. 539 (1946) and AH Muir et al, J. Phys. Chem. Solids ·, Volume 28, page 65; RD Shannon et al, Chemistry of Noble Metal Oxides. I. Synthesis and Properties of ABp 2 Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Volume 10, page 713 (1971); CI Prewitt et al, Chemistry of Noble Metal Oxides. II. Crystal Structures i: öf PtCoO 2 , PdCoO 2 , CuFeO 2 and AgFeO 2 , Inorganic Chemistry, Volume 10, page 719 (1971); DB Rogers et al, Chemistry of Noble Metal Oxides. III. Electrical Transport Properties and Crystal Chemistry of ABO 2 Compound with the Delafossita Structure, Inorganic Chemistry, Volume 10, page 723 (1971); U.S. Patent 3,498,931, U.S. Patent 3,514,414, and U.S. Patent 3,414,371. .

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Als allgemeine Regel sind die Delafossite ferner dadurch charakterisiert,, daß die A Ionen, die dem Kupfer in dem Mineraldelafossit entsprechen, einen effektiven Ionenradius haben, der zwei Sauerstoffkoordinationen entspricht, d.h., daß die effektiven'Ionenradien im . Bereich von 0,45 bis 0,68 Angström liegen,.Im Falle der elektrisch besonders gut leitenden Platin- und Palladium-Delafossite haben die A Ionen effektive Ionenradien im Bereich von 0,58 bis 0,61 Angström. Die B Ionen, die den Eisenionen in dem Mineraldelafossit entsprechen, haben einen Ionenradius der einer octahedralen Koordination entspricht, d.h. ,daß die effektiven Atomradien im Bereich von etwa 0,50 bis etwa 1,05 Angströmeinheiten liegen« Der hier benutzte Ausdruck "effektiver lonenradius" schließt den äquivalenten Ausdruck "Kristall-Ionenradius" ein.As a general rule, the delafossite are further characterized by the fact that the A ions corresponding to the copper in the mineral delafossite have an effective ionic radius corresponding to two oxygen coordinations, that is, the effective ionic radii im. Range from 0.45 to 0.68 Angstroms. In the case of the particularly good electrically conductive platinum and palladium Delafossite, the A ions have effective ionic radii in the range from 0.58 to 0.61 Angstroms. The B ions, which correspond to the iron ions in the mineral delafossite, have an ionic radius that corresponds to an octahedral coordination, that is, the effective atomic radii are in the range of about 0.50 to about 1.05 Angstrom units. includes the equivalent term "crystal ionic radius".

Muir et alt,op. cit., Berichten, daß das Mineraldelafossit (CuFeO«) rhombohedral mit hexagonalen Ebenen ist. Die Struktur besteht aus übereinandergeschichteten hexagonalen Schichten. Die Eisenionen haben eine octahedrale Koordination, wogegen die Kupferionen eine -Muir et al t , op. cit., reports that the mineral delafossite (CuFeO ”) is rhombohedral with hexagonal planes. The structure consists of stacked hexagonal layers. The iron ions have an octahedral coordination, whereas the copper ions have a -

. lineare zweifache Sauerstoffkoordination besitzen. Die. have linear double oxygen coordination. the

■ Sauerstoffionen sind von einem Tetraäther aus drei Eisenionen und einem Kupferion umgeben,,Drei Formelgewichte von CuFeO« ergeben eine EJementaraelle des Minerals Delafossit.■ Oxygen ions are three of a tetraether Surrounded by iron ions and a copper ion, three formula weights von CuFeO «result in an EJementaraelle des Minerals delafossite.

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Unter "Elementarzelle" (unit cell) wird ein beliebiges Parallelopiped verstanden, daß die kleinste sich, wiederholende Einheit ist, die alle wesentlichen Merkmale,zur Identifizierung des Kristalls enthält. Die Elementarzelle bestimmt die Symmetrie des Systems zu dem ein Kristall gehört. Die Elementarzelle ist durch, die länge der Kanten und der von ihnen eingeschlossenen Winkel bestimmt. Die Kanten einer· Elementarzelle werden als Gitterkonstante (unit translations in the pattern) bezeichnet. Wenn man von irgendeinem Ausgangspunkt in dent Gitter ausgeht und eine Entfernung zurücklegt,' die einer Zellkante entspracht und mit ihr parallel verläuft, oder irgendeine Kombination von solchen Bewegungen vornimmt, gelangt man an einen Punkt, bei dem die gesamte umgebende Struktur die gleiche Form und Orientierung hat wie der Ausgangspunkt. Wegen der willkürlichen Natur der Definition der Elementarzelle kann ein beliebiges Ion vollständig in einer Zelle sein, oder kann alternativ sich auf zwei, vier oder acht Elementarzellen aufteilen. Außerdem kann der Nachbar von irgendeinem Ion zu der The term "unit cell" is understood to mean any parallel opipiped, which is the smallest repeating unit that contains all the essential features for identifying the crystal. The unit cell determines the symmetry of the system to which a crystal belongs. The unit cell is determined by the length of the edges and the angles they enclose. The edges of a unit cell are called the lattice constant (unit translations in the pattern). If you start from any starting point in the grid and travel a distance that corresponds to and parallel to the edge of a cell, or some combination of such movements, you arrive at a point where all of the surrounding structure has the same shape and orientation has like the starting point. Because of the arbitrary nature of the definition of the unit cell, any ion can be entirely in one cell, or alternatively, it can split into two, four, or eight unit cells. In addition, the neighbor of any ion to the

■ gleichen Elementarzelle oder zu der benachbarten Elementarzelle gehören..■ same unit cell or to the neighboring unit cell belong..

-. C. T. Prewitt, R.D. Shannon and D. B. Rogers op. cit. ' · berichten, daß. der synthetische Platin·?, Kobalt-Delafossit (PtCoO-) die krystallografische Struktur vom Delafo*ssit--. C. T. Prewitt, R.D. Shannon and D.B. Rogers op. Cit. '· report that. the synthetic platinum · ?, cobalt delafossite (PtCoO-) the crystallographic structure of the Delafo * ssit-

• Typ besitzt. Für die Verwendung in den Elektroden nach der Erfindung sind sowohl die stöchiometrischen als auch• Type owns. For use in the electrodes according to of the invention are both stoichiometric and

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die nicht-stöchioraetrisehen Platin— Kobalt-Delafossite ganz besonders geeignet.the non-stoichiometric platinum-cobalt delafosites especially suitable.

Über den Platin-Kobalt-Delafossit wird weiterhin berichtet, daß er eine Kristallstruktur besitzt, die derjenigen des natürlichen Minerals Delafossit (CuFeO2) ähnlich ist. Jedes Sauerstoffion ist tetrahedrisch koordiniert von vier Kationstn$ wobei ein Platinion an einer Ecke des Tetraheders und je ein Kobaltion an den anderen Ecken des Tetraheders angeordnet ist. Di-e .^.atinionen sind linear koordiniert ■ durch zwei Sauerstoffionen. Die Kobaltionen sind octahedrisch koordiniert durch Sauerstoffionen. Die Platinionen sind in hexagonaler bipyramidaler Koordination mit Sauerstoffionen an den Scheitelpunkten und Platinionen an am sechs äquatorialen.Stellungen, wodurch Platin-Platin Wechselwirkung möglich ist.The platinum-cobalt delafossite is also reported to have a crystal structure which is similar to that of the natural mineral delafossite (CuFeO 2). Each oxygen ion is coordinated by four tetrahedrisch Kationstn $ wherein a platinum ion is located at a corner of the Tetra Heder and each represents a cobalt ion to the other corners of the Tetra Heder. Di-e. ^. Atin ions are linearly coordinated by two oxygen ions. The cobalt ions are octahedral coordinated by oxygen ions. The platinum ions are in a hexagonal bipyramidal coordination with oxygen ions at the apexes and platinum ions on the six äquatorialen.Stellungen, whereby platinum-platinum interaction is possible.

Die Delafossit Kristallstruktur und die Relations n zwischen dem Platin-Kobalt-Delafossit, dem Palladium-Delafossit und dem Mineral-Delafossit (CuFeO9) wird durch die Bezugnahme auf die Figuren noch näher erläutert. Die Figuren zeigen folgendes:The Delafossite crystal structure and the relationships between the platinum-cobalt-delafossite, the palladium-delafossite and the mineral-delafossite (CuFeO 9 ) are explained in more detail by referring to the figures. The figures show the following:

Fig. I ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für das Mineral.—Delafossit (CuFeO9) zu finden sind und die in Tabelle I wiedergegeben sind.FIG. I is a graphical representation of the X-ray diffraction values found in the literature for the mineral delafossite (CuFeO 9 ) presented in Table I. FIG.

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Fig. II ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO9) angegeben und in Tabelle 2 zusa'mmengestellt sind. ' .FIG. II is a graphic representation of the X-ray diffraction values given in the literature for platinum-cobalt-delafossite (PtCoO 9 ) and summarized in Table 2. '.

Fig. III ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Kobalt-Delafossitpxid (PdCoO9) angegeben und in Tabelle 3 ' zusammengestellt sind.Figure III is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for palladium-cobalt delafossite oxide (PdCoO 9 ) and summarized in Table 3 '.

Fig. IV ist eine grafische Darstellung der Röntgen*· beugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO9) angegeben und in Tabelle 4 zusammengestellt sind.IV is a graphic representation of the X-ray diffraction values given in the literature for palladium-chromium-delafossite (PdCrO 9 ) and compiled in Table 4.

Fig. V ist eine grafische Darstellung der Röntgenstrahlenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO9) angegeben und in Tabelle-5 zusammengestellt sind. Fig. V is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for palladium-rhodium-delafossite (PdRhO 9 ) and summarized in Table-5.

Die Figuren I -V, die die in der Literatur angegebenen und .in den Tabellen 1 bis 5 zusammengefassten Werte wiedergeben,sind auf den gleichen Maßstab der Abzisse aufgetragen und besitzen eine gemeinsame Ordinate. Die Abzisse gibt I/Io , das angegebene Verhältnis der Intensität des reflektierten Strahls zu dem einfallenden Strahl an. Die Ordinate cL gibt den angegebenen Abstand zwischen den Ebenen an, errechnet aus der später hier noch näher erläuterten Gleichung von Bragg. ■ . ■Figures IV, which are the values given in the literature and summarized in Tables 1 to 5 reproduce are to the same scale as the abscissa plotted and have a common ordinate. The abscissa gives I / Io, the specified ratio of the Intensity of the reflected beam to the incident beam. The ordinate cL gives the specified distance between the levels, calculated from Bragg's equation, which will be explained in more detail later. ■. ■

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Fig. I wurde auf Basis der Werte von Salier und Thompson, - Phys. Rev. Band 44, Seite 644 (1935), berichtet in A.S.T.M. X-Ray Powder Diffraction File 12-752 und in Ta'belle 1 wiedergegeben, erstellt. Die Figuren II, III IV und V wurden aufgrund,der Werte von R. D. Shannon et al Inorganic Chemistry, Band 10, Seiten 713, 717, op cit. und hier in den Tabellen 2, 3, 4 und 5 wiedergegeben erstellt.Fig. I was based on the values of Salier and Thompson, - Phys. Rev. Volume 44, page 644 (1935) reported in A.S.T.M. X-Ray Powder Diffraction File 12-752 and in Ta'belle 1 reproduced, created. Figures II, III IV and V were based on the values of R. D. Shannon et al Inorganic Chemistry, Volume 10, pages 713, 717, op cit. and reproduced here in Tables 2, 3, 4 and 5 created.

Figur 6 ist eine Röntgenstrahlbeugung von Palladium-Kobalt-. Delafossit (PdCoO«), der für die Verwendung als ein Elektrodenmaterial in Beispiel 1 hergestellt wurde.Figure 6 is an x-ray diffraction of palladium-cobalt. Delafossite (PdCoO «) made for use as an electrode material in Example 1.

Figur VII ist eine Röntgenbeugung von Platin-Kobalt-Delafossit (Pt „Ca o^?)» der für die Verwendung als Elektrodenmaterial in Beispiel 2 hergestellt wurde.Figure VII is an X-ray diffraction of platinum-cobalt delafossite (Pt "Ca o ^?)" For use as a Electrode material in Example 2 was prepared.

Figur VIII ist eine Röntgenbeugung von Platin-Kobalt-Delafossit (Ptn QCon 7,,0o), der für die Verwendung als . Elektrodenmaterial in Beispiel 3 hergestellt wurde.Figure VIII is an X-ray diffraction of platinum-cobalt delafossite (Pt n Q Co n 7 ,, 0 o ) suitable for use as a. Electrode material in Example 3 was prepared.

Die kristallografischen Einheiten von Platin- und Palladium-Delafossit geben eine einmalige Familie von Röntgenstrahlbeugungen, die durch Peaks bei "d" Abständen von 5,9072 bis .6,0229 Angström, 2,9728 bis 3,0137 Angström, ein Doublet mit einem Abstand zwischen den Peaks von • 0,06 bis 0,07 Angstrom mit dem ersten Peak bei 2,4260 bis 2,3609 Angström und dem zweiten Peak des DoubletsThe crystallographic units of platinum and palladium delafossite give a unique family of X-ray diffractions identified by peaks at "d" spacings from 5.9072 to .6.0229 angstroms, 2.9728 to 3.0137 angstroms, a doublet with a spacing between peaks of • 0.06-0.07 Angstroms with the first peak at 2.4260 to 2.3609 angstroms and the second peak of the doublet

» bei 2,5884 bis 2,5141 Angström, einem Peak bei 2,1460»At 2.5884 to 2.5141 angstroms, a peak at 2.1460

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- ίο -- ίο -

bis 2,2643 Angström und einem anderen Peak bei 1,6483 bis 1,7104 Angström charakterisiert sind . Für das Mineraldelafo'ssit sind nur Werte von 2 θ Grad im Überschuss, von etwa 30 bekannt, d.h. für d Abstände von weniger als 2,86 Angstrom. Das Mineraldelafossit (CuFeO-) hat das Doublet bei 2,58 und .2,50.8 Angström und auf die Peaks bei 2,238 und 1,658 Angström. Die Unterschiede in den Ergebnissen der.- ' Röntgenstrahlbeugung zwischen den einzelnen Mitgliedern der Delafossitfamilie ist auf die geringfügig verschiedenen Kationenradien, zurückzuführen'.to 2.2643 angstroms and another peak at 1.6483 to 1.7104 Angstroms are characterized. For the mineral delafo'ssite only values of 2 θ degrees are available in excess, known to be about 30, i.e. for d spacings of less than 2.86 Angstroms. The mineral delafossite (CuFeO-) has the doublet at 2.58 and .2.50.8 Angstroms and on the peaks at 2.238 and 1.658 Angstrom. The differences in the results of the .-- ' X-ray diffraction between the individual members of the delafossite family is due to the slightly different Cation radii 'traced back'.

Für das Mineral Delafossit (CuFeO„) sind in Tabelle und in Figur I die Werte der Röntgenstrahlbeugung angegeben bzw, grafisch dargestellt. Die Ergebnisse der Röntgenstrahlbeugung bei Delafossiten von Metallen der Platingruppe sind in den Tabellen 2 bis 5 und den'grafischen Darstellungen der Figuren H-V wiedergegeben. Es Xtfird noch einmal daraufhingewiesen, daß die Werte für die Tabellen 1 bis 5 und die grafischen .Darstellungen I - V der Literatur entnommen sind. Diese Figuren sind idealisiert und zeigen Familienbeziehungen und »trends. Aus den Figuren I bis V ist kein Grundton (background-noise) und keine Regellosigkeit (randomness) zu entnehmen, die normalerweise bei Röntgenstrahluntersuchungen auftreten.For the mineral delafossite (CuFeO ") are in table and in FIG. I the values of the X-ray diffraction are given or shown graphically. The results of the X-ray diffraction on delafossites of platinum group metals are shown in Tables 2 through 5 and den'graphical representations of the figures H-V reproduced. It is pointed out once again that the Values for Tables 1 to 5 and the graphic representations I - V are taken from the literature. These figures are idealized and show family relationships and trends. From Figures I to V is no keynote (background noise) and no randomness (randomness) that normally occur in x-ray examinations.

Bei der Beobachtung und bei der Aufzeichnung von Röntgenstrahluntersuchungen werden Proben des DelafossitpulversWhen observing and recording X-ray examinations become samples of the delafossit powder

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- li -- li -

Röntgenstrahlen aus einem Kupfertarget unterworfen. Die Methoden für eine solche Untersuchung sind im Kapitel des Buchs von Klug und Alexander, X-Ray Diffraction Procedures, John X1JiIey & Sons, Inc., New York (1954), Seiten 235 - 318, insbesondere Seiten 27O - 318 und bei Newfield, X-Ray Diffraction Methods, ' John Wiley & Sons, Inc., New York (1966) Seiten 177 207 beschrieben.Subjected to x-rays from a copper target. The methods for such an investigation are in the chapter of the book by Klug and Alexander, X-Ray Diffraction Procedures, John X 1 JiIey & Sons, Inc., New York (1954), pages 235-318, especially pages 270-318 and at Newfield, X-Ray Diffraction Methods, 'John Wiley & Sons, Inc., New York (1966) pp. 177,207.

Wie Klug und Alexander und auch Newfield angeben, werden Röntgenstrahlen von einer Wellenlänge von 1,5405 Angströmeinheiten veranlasst, auf eine Probe des zu untersuchenden · Pulvers aufzutreffen. Die Röntgenstrahlen werden durch die Probe gebeugt. Die gebeugten Röntgenstrahlen sind bei bestimmten Winkeln (θ) besonders intensiv, was zur Ausbildung von Peaks in den Blättern des Diffraktometers oder von Linien in fotografischen Beugungsaufnahmen führt. Diese Peaks von hoher Intensität werden durch Röntgenstrahlen verursacht, die von parallelen Ebenen in dem Kristall "reflektiert werden", wodurch es zu einer Verständigung kommt. Die Wellenlänge der Röntgenstrahlen,, der Abstand der Ebenen im Kristall und der Winkel (θ), stehen nach der Bragg'sehen Gleichung in folgender Be-Ziehung: >As Klug and Alexander and also Newfield indicate, will X-rays at a wavelength of 1.5405 Angstrom units are caused to focus on a sample of the Apply powder. The X-rays are diffracted by the sample. The diffracted x-rays are Particularly intense at certain angles (θ), which leads to the formation of peaks in the leaves of the diffractometer or from lines in diffraction photographs. These high intensity peaks are caused by x-rays coming from parallel planes in the Crystal "are reflected", whereby it comes to an understanding. The wavelength of the X-rays, the distance between the planes in the crystal and the angle (θ) are, according to Bragg's equation, in the following relationship: >

2d sin θ = ni.2d sin θ = ni.

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In. dieser Gleichung ist d der Abstand zwischen den Ebenen des Kristalls, η ist eine ganze Zahl,-4» ist die Wellenlänge der Röntgenstrahlen und θ ist sowohl de*r einfache Winkel der Röntgenstrahlen als auch der Reflektionswinkel der· Röntgenstrählen.In. In this equation, d is the distance between the planes of the crystal, η is an integer, -4 »is is the wavelength of the X-rays and θ is both the simple angle of the X-rays and the Reflection angle of the x-ray beams.

Diffraktionswerte werden bei der Röntgenuntersuchung mit Hilfe eines Diffraktometers erhalten, das eine direkte Ablesung in 2 θ hat. Der Wert (180 minus 2 θ) ist der Winkel zwischen dem einfallenden Strahl und dem reflektierten Strahl. ·Diffraction values are used in the X-ray examination obtained with the help of a diffractometer, the one has a direct reading in 2 θ. The value (180 minus 2 θ) is the angle between the incident ray and the reflected beam. ·

Tabelle I zeigt die Diffraktionswerte der Röntgenanalyse für das Mineral Delafossit (CuFeO-). Besonders bachtenswert ist das Doublet bei 2,58 und 2,508 Angstrom und die Peaks bei 2,238 und 1,658 Angström.Table I shows the diffraction values of the X-ray analysis for the mineral delafossite (CuFeO-). Particularly noteworthy is the doublet at 2.58 and 2.508 Angstroms and the peaks at 2.238 and 1.658 Angstroms.

Für die Diffraktionswerte der Röntgenuntersuchung von pulverförmigen Delafossiten von Metallen der Platingruppe lassen sich einige Gemeinsamkeiten feststellen. Zuerst ist ein besonders starker Peak bei einem Wert von "d" etwa 5,9072 bis 6,0229 zu beobachten. Dann ist in den Figuren II bis V festzustellen, daß ein starkes Doublet vorkommt, wobei die Peaks von einander durch,etwa 0,06 bis etwa 0,07 Angström getrennt sind mit größeren Trennungen der Peaks und größeren Unterschieden in den Intensitäten bei Delafossiten der Platingruppe mit größeren Elementarzellen und enger aneinanderliegenden Peaks und von nahezu gleicher Intensität für Delafos site der Platingruppe mit einer kompakteren Elementarzelle.For the diffraction values of the X-ray examination of powdery delafossites of metals of the platinum group have some similarities. First is a particularly strong peak at a value of "d" about 5.9072 to 6.0229 to be observed. Then it can be seen in Figures II to V that a strong doublet occurs, the peaks from each other through, about 0.06 up to about 0.07 angstroms are separated with larger ones Separation of the peaks and larger differences in the intensities in delafossites of the platinum group with larger unit cells and closely spaced peaks and of almost the same intensity for Delafos site the platinum group with a more compact unit cell.

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'.'■'■ - 13 -'.' ■ '■ - 13 -

* Für den Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2) liegen die Peaks des Doublets bei 2,4260 und 2,3609 Angström. Für den Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) liegen die beiden Peaks des Doublets bei etwa 2,4272 und 2,3616 Angström, wogegen beim Palladium-Chrom-Delafossit die beiden Peaks bei 2,5065 und 2,4375 Angstrom und für Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) die beiden Peaks bei etwa 2,5884 und 2,5141 Angström liegen. Beachtenswert ist auch der zunehmende Unterschied in der Intensität zwischen den beiden Gliedern des Doublets beim Fortgang Von den Delafossiten mit der kompakteren zu denjenigen mit den weniger kompakten Elementarzellen. Der erste Peak des Doublets entspricht einem Abstand zwischen den Ebenen von etwa 2,42 Angström (PtCoO2) bis etwa 2,58 Angström (PdRhO«), wogegen der zweite Peak einem Abstand zwischen den Ebenen von etwa 2,36 Angström (PtCcO2) bis etwa* For the platinum-cobalt delafossite (PtCoO 2 ) the peaks of the doublet are at 2.4260 and 2.3609 Angstroms. For palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ), the two peaks of the doublet are around 2.4272 and 2.3616 angstroms, whereas for palladium-chromium delafossite the two peaks are 2.5065 and 2.4375 angstroms and for palladium -Rhodium delafossite (PdRhO 2 ) the two peaks are around 2.5884 and 2.5141 Angstroms. Also noteworthy is the increasing difference in intensity between the two members of the doublet as it progresses from the Delafossites with the more compact to those with the less compact unit cells. The first peak of the doublet corresponds to a distance between the planes of about 2.42 Angstroms (PtCoO 2 ) to about 2.58 Angstroms (PdRhO «), while the second peak corresponds to a distance between the planes of about 2.36 Angstroms (PtCcO 2 ) until about

. 2,.51 Angström (PdRhO0) entspricht.. 2, .51 Angstrom (PdRhO 0 ).

e.e.

Fernerhin ist ein starker Peak bei etwa 2,1460 bis etwa 2,2644 Angström festzustellen.1 Dieser Peak liegt bei etwa 2,14 Angström für die kompaktere Elementarzelle von Platin-Kobalt-Delafossit, bei einem Abstand von 2*1448 Angstrom für Palladium-Kobalt-Delafossit'(PdCoO2), bei einem Abstand von 2,2088 für Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) und bei.2,26 Angström für die geringfügig weniger kompakte Elementarzelle von Platin-Rhodium-Delafossit ()There is also a strong peak at about 2.1460 to about 2.2644 Angstroms. 1 This peak is around 2.14 Angstroms for the more compact unit cell of platinum-cobalt-delafossite, at a distance of 2 * 1448 angstroms for palladium-cobalt-delafossite '(PdCoO 2 ), at a distance of 2.2088 for palladium -Chrome-delafossite (PdCrO 2 ) and at 2.26 Angstroms for the slightly less compact unit cell of platinum-rhodium-delafossite ()

Von -Interesse ist auch ein schwaches Doublet im Bereich von 2,0185 und 1,9814 Angström mit Intensitäten vonOf interest is also a weak doublet in the area of 2.0185 and 1.9814 angstroms with intensities of

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0,30 bzw. 0,40 für den kompakteren Platin-Kobalt- Delafossit. In dem Ausmaß wie die Elementarzelle in" ihrer Größe zunimmt, wird dieses spezielle Doublet stärker ausgebreitet und weniger intensiv. Für den nur geringfügig weniger kompakten Palladium-Kobalt-Delafossit tritt das Doublet bei "d" Abständen von 2,0165 bzw. 1,9715 Angström auf, wobei das schwächere der beiden Glieder ein Intensität von etwa 0,15 hat. Für den Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) hat das schwächere der beiden Glieder des Doublets eine Intensität von etwa 0,02 und das Doublet tritt bei 2,0753 bzw. 2,0089 Angstrom auf. Für den noch weniger kompakten Pa.lladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) treten die Glieder des Doublets bei 2,1198 und 2,0088 Angström auf, wobei'sie beide Intensitäten von weniger als 0,05 haben.0.30 or 0.40 for the more compact platinum-cobalt delafossite. As the unit cell increases in size, this particular doublet becomes more spread out and less intense. For the only slightly less compact palladium-cobalt delafossite, the doublet occurs at "d" spacings of 2.0165 and 1.9715, respectively Angstrom, the weaker of the two members has an intensity of about 0.15. For the palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), the weaker of the two members of the doublet has an intensity of about 0.02 and the doublet occurs at 2 , 0753 and 2.0089 Angstroms, respectively. For the even less compact palladium-rhodium-delafossite (PdRhO 2 ), the terms of the doublet occur at 2.1198 and 2.0088 Angstroms, both of which have intensities of less than Have 0.05.

Für die mehr kompakten Kristalle der.Delafossite der Platingruppe existiert ein Peak bei etwa 1,76 bis 1,81 Angstrom. Dieser Peak liegt für Platin-Kobalt-Deiafossit (PtCoO-) bei etwa 1,7655 und hat eine Intensität von etwa" 0,30. "Für den Pallädium-Kobalt-Delafossit wird' der Peak bei einer Entfernung der Ebenen von etwa 1,7616 Angström beobachtet und besitzt eine Intensität von etwa 0,30. Für den geringfügig weniger kompakten Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) tritt der Peak bei etwa 1,8084 Angstrom auf und hat eine Intensität von weniger als 0,05.For the more compact crystals of the platinum group delafossite there is a peak at around 1.76 to 1.81 Angstroms. For platinum-cobalt deiafossite (PtCoO-), this peak is around 1.7655 and has an intensity of around "0.30." 7616 angstroms is observed and has an intensity of about 0.30. For the slightly less compact palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), the peak occurs at about 1.8084 angstroms and has an intensity of less than 0.05.

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Tabelle 1Table 1

Röntgenstrahluntersuchung eines Pulvers aus Kupfer-Eisen-Delafossit (CuFeO2)X-ray examination of a powder made from copper-iron-delafossite (CuFeO 2 )

2,86 352.86 35

2,58 . .182.58. .18

2,508 1002.508 100

2,238 . 25 2.238 . 25th

2,083 , 62.083.6

1,902 *"..■'. 91.902 * ".. ■ '. 9

1,658 ■ . 351.658 ■. 35

1,512 · 401.512 x 40

. ,1,434 . ■ . / , 20. , 1.434. ■. /, 20

1,336 181.336 18

1,295 . 121.295. 12th

1,253 101.253 10

1,184 . ■ 6 1.184. ■ 6

1,119 :' 101.119 : '10

1,108 61.108 6

1,040 181,040 18

0,984 ' 160.984 '16

0,965 100.965 10

309832/1096309832/1096

Tabelle 2 · ' 'Table 2 ''

Röntgenstrahluntersuchung von Platin-Kobalt-Delafossit (PtGoO0) : X-ray examination of platinum-cobalt-delafossite (PtGoO 0 ) :

I/IoI / Io

5,9450 905.9450 90

2,9728 1002.9728 100

2,4260 ' 702.4260 '70

.2,3609 90.2,3609 90

2,1460 · 702.1460 x 70

- 2,0185 ..'.·■ 30- 2.0185 .. '. · ■ 30

1,9814 40 '.1.9814 40 '.

1,7655 : 301.7655 : 30

1,6483 601.6483 60

1,4856 · 201.4856 x 20

1,4415 : 401.4415 : 40

1,4135 301.4135 30

' 1,3751 · " 15'1.3751 · "15

1,3513 . 101.3513. 10

1,2764 . ' ' 301.2764. '' 30

309832/10SS309832 / 10SS

Tabelle 3Table 3

Röntgenstrahluntersuchung eines Pulvers von Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO0) .X-ray examination of a powder of palladium-cobalt-delafossite (PdCoO 0 ).

I/IoI / Io

2,9072 452.9072 45

2,9559 , 902.9559.90

2,4272 802.4272 80

2,3616 1002.3616 100

2,1448 85 2,0165 .152.1448 85 2.0165 .15

1,9713 :\. -501.9713 : \. -50

1,7616 · 301.7616 30

1,6445 . . 851.6445. . 85

1,4788 . . . . -351.4788. . . . -35

1,4373 ' 701.4373 '70

1,4149 ■ 651.4149 ■ 65

1,3762 .151.3762 .15

1,3474. 151.3474. 15th

1,2762 651.2762 65

309832/1096309832/1096

- is -- is -

Tabelle 4 ·Table 4

löntgenstrahluntersuchung eines Pulvers von Palladium- ' CÜtrom-belafossit: (PdCrO0)X-ray examination of a powder of palladium- 'CÜtrom-belafossit: (PdCrO 0 )

I/IoI / Io

6,0229 20 3,0137 · 656.0229 20 3.0137 65

2,5065 . 30 2,4375 ' 1002.5065. 30 2.4375 '100

2,2088 . ' . 402.2088. '. 40

2,0753 . 2 2,0089 · ' . _ " · -102.0753. 2 2.0089 · '. _ "· -10

1,8084· 51.8084 x 5

1,6864 ' 301.6864 '30

1,5074 . 5 1,4722 ;. 151.5074. 5 1.4722; 15th

1,4614' 201.4614 '20

1,3791 21.3791 2

1,3151'■ 151.3151 '■ 15

309832/1096309832/1096

Tabelle 5 ·Table 5

Röntgenstrahluntersuchung von Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhOn)X-ray examination of palladium-rhodium-delafossite (PdRhO n )

I/IoI / Io

6,0209" 3,0130 2,5884 2,5141 2,2644 2,1198 2,0088 1,7104 1,5071 1,4874 1,5106 1,3503 1,29456.0209 "3.0130 2.5884 2.5141 2.2644 2.1198 2.0088 1.7104 1.5071 1.4874 1.5106 1.3503 1.2945

''

9090

1010

100100

9595

85 15 70 85 80 6085 15 70 85 80 60

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Schließlich-ist noch zu den Röntgenuntersuchungen auf einen Peak von mittlerer Intensität bei etwa 1,6453 bis etwa 1,7104 Angström hinzuweisen. Dieser Peak hat eine Intensität von etwa 0,30 für Palladium-Chrom-Delafossit und von etwa 0,85 für Palladiura-Kobalt-Delafossit (PdCoO0)Finally, with regard to the X-ray examinations, a peak of medium intensity at about 1.6453 to about 1.7104 Angstroms should be pointed out. This peak has an intensity of about 0.30 for palladium-chromium-delafossite and of about 0.85 for palladiura-cobalt-delafossite (PdCoO 0 )

und Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2). Er liegt bei ." •l-,6453 Angström für Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO7), bei-etwa 1,6445 Angstrom für Palladium-Kobalt-Delafossit, bei etwa 1,6854 Angstrom für Palladium-Chrom-Delafossit und bei etwa 1,7104 Angström für Palladium-Rhodium-Delafossit. - 'and palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2 ). It is at. "• 1.6453 angstroms for platinum-cobalt delafossite (PtCoO 7 ), at-about 1.6445 angstroms for palladium-cobalt delafossite, at about 1.6854 angstroms for palladium-chromium delafossite and at about 1.7104 angstroms for palladium-rhodium-delafossite .-- '

Es wird nun noch einmal auf die chemische Natur der Delafossite eingegangen. Die Delafossite sind Oxide oder Oxyverbindungen von zwei oder mehreren .Metallen und entsprechen der folgenden allgemeinen Formel . The chemical nature of the Delafossite will now be discussed again. The Delafossite are oxides or oxy compounds of two or more metals and correspond to the following general formula.

ABO2 . .SUBSCRIPTION 2 . .

Bei" der Betrachtung dieser Formel ist zu berücksichtigen, daß auch nicht-stÖchiometrisehe Verbindungen, die Fehlstellen in ihren Strukturen besitzen, gemäß der Erfindung gebraucht werden können. Solche nicht-stöchiometrische Delafossite mit Fehlern in ihrer .Struktur haben die FormelWhen considering this formula, it must be taken into account that also non-stoichiometric connections, the imperfections in their structures can be used in accordance with the invention. Such non-stoichiometric Delafossite with errors in their structure have the formula

AxByÖ2> wobei entweder χ oder y oder beide kleiner als 1 sind,und z.B. etwa 0,070 bis 1,00 betragen können. Derartige Delafossite lassen sich bei der Erfindung eben-■· falls mit guter Wirkung verwenden. A x B y Ö 2> where either χ or y or both are less than 1 and can be, for example, about 0.070 to 1.00. Such delafosites can also be used with good effect in the invention.

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Das in der Formel mit A wiedergegebene Metallion kann ein beliebiges einwertiges Metallion mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,45 Angström-Sinheiten bis etwa 0,68 Angstrom-Einheiten sein. Derartige einwertige Ionen sind Kupfer (Cu+)' mit einem effektiven lonenradius von 0,47 Angström, Palladium (Pd+) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,59 Angström, Platin (Pt+) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,60 Angström und Silber (Ag+) mit einem* effektiven lonenradius von etwa 0,67 Angström. In dem gleichen Delafossitkristall können auch zwei oder mehrere solcher einwertigen Kationen vorkommen« Die bevorzugten Delafossite sind diejenigen, bei denen das einwertige Kation einen effektiven lonenradius von etwa 0,58 bis 0,61 Angstrom besitzt, wie z.B. Palladium (+1) und Platin (+1). 'The metal ion represented by A in the formula can be any monovalent metal ion having an effective ionic radius of from about 0.45 Angstrom units to about 0.68 Angstrom units. Such monovalent ions are copper (Cu +) 'with an effective ionic radius of 0.47 angstroms, palladium (Pd + ) with an effective ionic radius of about 0.59 angstroms, platinum (Pt + ) with an effective ionic radius of about 0.60 angstroms and silver (Ag + ) with an * effective ionic radius of about 0.67 Angstroms. Two or more such monovalent cations can also exist in the same delafossite crystal. The preferred delafosites are those in which the monovalent cation has an effective ionic radius of about 0.58 to 0.61 Angstroms, such as palladium (+1) and platinum ( +1). '

Das in der Formel durch B wiedergegebene Kation ist am häufigsten Chrom,· Eisen, Kobalt, Rhodium, Aluminium, Gadolinium, Skandium, Indium, Thallium, Blei, Ruthenium und die Lanthanide (La, Ce, Pr, Nd, Pm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb und Lu und Y). B ist typischerweise ein dreiwertiges Kation mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,50 Angström bis etwa 1,05 Angström und meistens etwa 0,50 Angström bis etwa 0,89 Angström. Die bevorzugten dreiwertigen Kationen sind diejenigen mit einem effektiven=lonenradius von etwa 0,50 bis etwa 0,70 Angstrom, wie z.B. Kobalt (Co +) mit einem effektiven lonenradiusThe cation represented by B in the formula is most often chromium, iron, cobalt, rhodium, aluminum, Gadolinium, scandium, indium, thallium, lead, ruthenium and the lanthanides (La, Ce, Pr, Nd, Pm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu and Y). B is typically a trivalent cation with an effective ionic radius from about 0.50 angstroms to about 1.05 angstroms and most of the time about 0.50 angstroms to about 0.89 angstroms. The preferred trivalent cations are those with one effective = ion radius from about 0.50 to about 0.70 Angstroms, such as cobalt (Co +) with an effective ionic radius

3 von etwa 0,52 Angstrom, Chrom (Cr +) mit einem effektiven3 of about 0.52 Angstroms, Chromium (Cr +) with an effective

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lonenradius von 0,62 Angström und Rhodium (Rh +) mit einem effektiven Ionenradius von etwa 0,70 Angström. Das !Cation B kann jedoch ein beliebiges Metallion ' · sein, wenn es eine beständige +3 -Wertigkeit und einen effektiven lonenradius von 0,50 bis 1,05 Angström hat. Solche Metallionen schließen ein Metalle der III A-Gruppe, wie Scandium, Yttrium und die Lanthanide; Titan aus der Gruppe IV A; Vanadin aus der Gruppe VA; Metalle der Gruppe VI A wie Chrom, Molybdän und Wolfram; Eisen, Kobalt und Nickel; Ruthenium, Rhodium und Palladium; Metalle aus der Gruppe III B wie Aluminium, Adoiiniurn, Indium und Thallium; Zinn und Blei aus der Gruppe IVB und Antimon und Wismuth aus der Gruppe V B.ion radius of 0.62 Angstrom and rhodium (Rh +) with an effective ionic radius of about 0.70 angstroms. The! Cation B can, however, be any metal ion '· if it has a constant +3 valence and an effective ionic radius of 0.50 to 1.05 angstroms. Such metal ions include Group III A metals such as scandium, yttrium and the lanthanides; titanium from group IV A; Vanadium from group VA; Group VI A metals such as chromium, molybdenum, and tungsten; Iron, cobalt and nickel; Ruthenium, rhodium and palladium; Metals from group III B such as aluminum, Adoiiniurn, Indium, and Thallium; Tin and lead from group IVB and antimony and bismuth from group V B.

Die Platin-Delafossite schließen die stöchiometrische Sauerstoffverbindung von Platin und Kobalt mit der Delafossitstruktur (PtCoO9) und auch die nicht-stöchiometrischen Sauerstoffverbindungen von Platin und Kobalt mit'· der Delaf os sit struktur ein. Derartige nichtstöchiometrische Delafossite haben die FormelThe platinum delafosites include the stoichiometric oxygen compounds of platinum and cobalt with the Delafossite structure (PtCoO 9 ) and also the non-stoichiometric oxygen compounds of platinum and cobalt with the Delafossite structure. Such non-stoichiometric Delafossite have the formula

" · ■ Pt1. Con 09"· ■ Pt 1. Co n 09

1-f-n 1-n z 1-fn 1-n z

2 3 ■ ·2 3 ■ ·

wobei η einen Wert zwischen 0,5 und 0,8 hat.where η has a value between 0.5 and 0.8.

Als zusätzliche Bestandteile können in den Deiafossiten, insbesondere in den Platin-Delafossiten, kleine Mengen von-anderen Metallionen vorkommen, wie z.B. Ionen von Scandium, Titan, Vanadin, Chrom, Mangan, Eisen, Kobalt oder Nickel. Wenn dies der Fall ist,hat der DelafossitAs additional components in the Deia fossites, in particular in the platinum delafossites, small amounts of other metal ions occur, such as ions of Scandium, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt or nickel. If so, the delafossit has

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- 23 folgende Formel ■- 23 following formula ■

wobei χ etwa 0,70 bis 1,00 ist," y etwa 0,70 bis 1,0.0 und ζ weniger als 0,11 ist. Typischerweise ist ζ etwa 0,004 bis etwa 0,11-, und. M i$t Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co oder Ni.where χ is about 0.70 to 1.00, "y is about 0.70 to 1.0.0, and ζ is less than 0.11. Typically, ζ is about 0.004 to about 0.11, and. M i $ t Sc , Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co or Ni.

Der Platin-Kobalt.-Delafossit, der als Elektroden* Oberfläche gemäß dieser Erfindung besonders geeignet ist, hat die FormelThe platinum-cobalt-delafossite, which is used as electrodes * Surface is particularly suitable according to this invention has the formula

14η 1-n 14η 1-n

in der η einen Wert von etwa 0,50 bis ettra. 0,8 hat,in the η a value of about 0.50 to ettra. Has 0.8,

Palladium-Delafossite, die als Elektrodenoberfläche besonders geeignet sind, entsprechen der'FormelPalladium delafosites, which are particularly suitable as electrode surfaces, correspond to the formula

PdMO2 PdMO 2

wobei M Kobalt, Chrom, Rhodium, Ruthenium, Blei oder ein'Lanthanid (einschließlich Yttrium) oder eine Mischung davon ist. Beispiele von ganz besonders gut geeigneten Palladium-Delafossiten sind Palladiüm-Kobalt-Delafossit (PdCoO9),' Palladium-Chrom-Delafossitwhere M is cobalt, chromium, rhodium, ruthenium, lead or a lanthanide (including yttrium) or a mixture thereof. Examples of very particularly suitable palladium delafossites are palladium-cobalt delafossite (PdCoO 9 ), palladium-chromium delafossite

3098327109b3098327109b

(PdCrO9), Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO9), der Palladium-Delafossit von Chrom und Rhodium (PdCrO9/ PdRhO9), der Palladium-Delafossit von Kobalt und Rhodium (PdCoO9/PdRhO9), der Palladium-Delafossit von Ruthenium (PdRuO9), der Palladium-Delafossit von Blei (PdPbO9) und die Palladium-Delafossite der Lanthanide.(PdCrO 9 ), palladium-rhodium-delafossite (PdRhO 9 ), the palladium-delafossite of chromium and rhodium (PdCrO 9 / PdRhO 9 ), the palladium-delafossite of cobalt and rhodium (PdCoO 9 / PdRhO 9 ), the palladium Delafossite from ruthenium (PdRuO 9 ), the palladium delafossite from lead (PdPbO 9 ) and the palladium delafossite from lanthanides.

Die Silber-und Kupfer-Delafossite haben einen höheren spezifischen elektrischen Widerstand bzw. eine niedrigere elektrische Leitfähigkeit als die Platin- und Palladium-Delafossite. Die Silber-Delafossite haben die FormelThe silver and copper delafossite have a higher specific electrical resistance or a lower electrical conductivity than the platinum and palladium delafossite. The Silver Delafossite have the formula

AgMO2 AgMO 2

in· der M Kobalt, Gadolinium, Scandium, "Indium-und Thallium ist. Komprimierte Pulver von Silber-Delafossiten haben eine elektrische Leitfähigkeit (bulkelectrical conductivity) von etwa 10 bis etwa 10 (Ohm Zentimeter)in · the M cobalt, gadolinium, scandium, "indium and Is thallium. Compressed powder of silver delafossites have an electrical conductivity (bulkelectrical conductivity) of about 10 to about 10 (Ohm centimeter)

Die Kupfer-Delafossite, wie Kupfer-Eisen-Delafossit (CuFeO9), natürlicher·Delafossit (CuFeO9), Kupfer-Aluminium-Delafossit (CuAIo9) und Kupfer-Kobalt-Delafossit (CuCoO9) sind ebenfalls für die Herstellung von Elektrodenoberflächen nach der Erfindung geeignet. Obwohl die Kupfer- und Silber-Delafossite einen höheren spezifischen Widerstand als die Platin- und Palladium-The copper delafossite, such as copper-iron delafossite (CuFeO 9 ), natural delafossite (CuFeO 9 ), copper-aluminum delafossite (CuAIo 9 ) and copper-cobalt delafossite (CuCoO 9 ) are also used for the production of electrode surfaces suitable according to the invention. Although the copper and silver delafossite have a higher resistivity than the platinum and palladium

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Delafossite besitzen, können sie als Überzüge für die Elektroden benutzt werden, z.B. in einer Stärke von etwa 0,00254 Mikron (100 mikro inches).Delafossite, they can be used as coatings for the electrodes, e.g. in one thickness of about 0.00254 microns (100 micro inches).

Die Elektroden nach der Erfindung stellen in den meisten Fällen ein elektrischleitendes Substrat oder Basisglied mit einer' Delafossitoberflache dar. Bei einer derartigen Ausbildungsform der Erfindung ist der Delafossit in direktem Kontakt mit dem Basisglied und dem Elektrolyten.The electrodes according to the invention are in most cases an electrically conductive substrate or Base link with a 'delafossite surface One such embodiment of the invention is the delafossite in direct contact with the base member and the electrolyte.

Außerdem können die Silber- und Kupfer-Delafossite und auch die Platin- und Palladium-Delafossite dazu verwendet werden, urn einen elektrischleitenden Überzug auf der elektrischleitenden Basis oder Substrat zu bilden, wobei die Delafossitoberfläche einen weiteren äußeren Überzug von einem geeigneten elektrokatalytischen Material, wie z.B. einem'Spinell besitzt, wie dieser z.B. in der vorgängigen US-Anmeldung Serial No. 106,840 vom 15. Januar 1971 offenbart ist. Statt des Spinells kann auch ein Perowskit oder eine Perowslcit-Bronze verwendet werden, wie dieses z.B. in der vorgängigen US-Anmeldung Serial No. 121,693 vom 8. März 1971 offenbart ist. Alternativ können als äußerer Überzug über den Delafossitüberzug andere elektrokatalytische Materialien verwendet werden, wie Ruthenate, Ruthenide, Rhodite, Rhodate und dergleichen.In addition, the silver and copper delafossite and the platinum and palladium delafossite can also be used to create an electrically conductive coating on the electrically conductive base or substrate, the delafossite surface being a has a further outer coating of a suitable electrocatalytic material, such as a spinel, such as this, for example, in the previous US application Serial No. 106,840 dated Jan. 15, 1971. Instead of the spinel, a perovskite or a perovskite bronze can also be used, such as this e.g. in the previous US application serial no. 121,693 dated March 8, 1971. Alternatively, as outer coating over the delafossit coating other electrocatalytic materials can be used, such as Ruthenates, ruthenides, rhodites, rhodates and the like.

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Fernerhin ist es möglich zwischen der Delafossitoberfläche und dem Elektrolyten eine poröse Schicht eines im wesentlichen nicht-reaktionsfähigen Materials, wie Titandioxid, Vanadinoxid, Tantaloxid, Uolframoxid, Nioboxid, Hafniumoxid, Zirkonoxid, Siliciumdioxid und dergleichen anzuordnen. Durch derartige äußere Überzüge wird die mechanische Beständigkeit der Delafossitoberflache noch weiter verbessert. Außerdem bilden die porösen äußeren Überzüge eine große Oberfläche für katalytische Reaktionen der an der Elektrode gebildeten Produkte oc*-»r der Ausgangsstoffe. Bevorzugt werden diese äußeren Oxidüberzüge "in situ" gebildet, wie dieses später noch näher erläutert wird.It is also possible between the delafossite surface and the electrolyte a porous layer of a substantially non-reactive material such as Titanium dioxide, vanadium oxide, tantalum oxide, uranium oxide, To arrange niobium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, silicon dioxide and the like. Such external Coatings, the mechanical resistance of the Delafossit surface is improved even further. aside from that the porous outer coatings create a large surface area for catalytic reactions at the electrode formed products oc * - »r of the starting materials. Preferred these outer oxide coatings are formed "in situ", as this will be explained in more detail later.

Mit den Delafossitmaterialien können verschiedene ·■ Stoffe gemischt werden. So kann man z.B. leitfähigeDifferent · ■ substances can be mixed with the Delafossit materials. For example, one can use conductive

. Materialien, wie Perowskite, Perowskit-Bronzen, Metalle der Platingruppe, Oxide der Platingruppe und gemischte Carbide,' Nitride, Oxide und Boride, die gegenüber dem Elektrolyten beständig sind, in Mischung mit dem DeIafossit verwenden. Derartige Materialien können zugegen sein, um eine bessere Leitfähigkeit oder Reaktionsfähigkeit zu ergeben. Alternative Materialien sind. Materials such as perovskite, perovskite bronzes, platinum group metals, platinum group oxides, and mixed Carbides, nitrides, oxides and borides, which are resistant to the electrolyte, in a mixture with the DeIafossit use. Such materials may be present for better conductivity or reactivity to surrender. Alternative materials are

. die Oxide von Titan, Tantal, Niob, Hafnium, Wolfram, Aluminium, Vanadin, Silicium und anderen filmbildenden Metallen. Auch diese Zusatzstoffe verbessern die Haltbarkeit der Delafossite. Um die Delafossitteilchen an das Substrat zu binden, können beliebige Oxide benutzt werden, die "in situ" während der Herstellung der Ober-. the oxides of titanium, tantalum, niobium, hafnium, tungsten, aluminum, vanadium, silicon and other film-forming Metals. These additives also improve the shelf life of the Delafossite. To the Delafossite To bind the substrate, any oxides can be used that are "in situ" during the manufacture of the upper

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fläche gebildet werden und die im wesentlichen gegenüber dem Elektrolyten nicht reaktionsfähig sind.surface are formed and which are essentially opposite are not reactive to the electrolyte.

Die Elektroden mit einem Delafossitüberzug nach der Erfindung schließen zwar auch eine Elektrode ein, die im ganzen aus Delafossit besteht, doch werden solche Elektroden aus wirtschaftlichen Gründen normalerweise nicht verwendet werden. Bevorzugt sind deshalb Elektroden nach der Erfindung, dia eine Delafossitoberflache bzw. Überzug auf einem geeigneten elektrischleitenden Substrat besitzen. Die Delafossitoberfläche kann nur 8 Angström dick sein. Aus praktischen Gründen wird aber mit einer Delafossitoberfläche gearbeitet, die mindestens eine Stärke oder Dicke von 1,52 Mikron (micro inches) hat, wobei Stärken von mindestens 3,81 bis 5,08 Mikron (150 bis 200 micro inches) bevorzugt sind. Die Delafossitoberflächen brauchen aber nicht stärker zu sein als etwa 6,35 bis 7,62 Mikron (250 bis 300*micro inches). Es kann zwar ein Delafossit* Überzug verwendet werden, der stärker als 7,62 Mikron ist, z.B. 20,32 Mikron (800 micro inches) ohne daß dabei irgendwelche nachteiligen Wirkungen zu beobachten sind, doch wird auch kein weiterer Vorteil durch die Benutzung so starker Überzüge erreicht.The electrodes with a Delafossit coating according to the invention also include an electrode which consists entirely of delafossite, but such electrodes are usually used for economic reasons Not used. Electrodes according to the invention, dia a Delafossit surface or coating, are therefore preferred on a suitable electrically conductive substrate. The delafossite surface can be only 8 angstroms thick. For practical reasons, however, a Delafossit surface is used that has at least one thickness or Thickness of 1.52 microns (micro inches) with thicknesses of at least 3.81 to 5.08 microns (150 to 200 micro inches) are preferred. However, the delafossite surfaces need not be thicker than about 6.35 to 7.62 microns (250 to 300 * micro inches). Although a delafossite * Coating thicker than 7.62 microns, e.g., 20.32 microns (800 micro inches), may be used any adverse effects can be observed, but there is no further benefit from the use so thick coatings achieved.

Unter einem "geeigneten elektrischleitenden Substrat oder Basis" wird ein Substrat mit einem spezifischen elektrischen Widerstand innerhalb der wirtschaftlichen Grenzen gemeint, wobei dieses Substrat auch noch im wesentlichen nicht-reaktionsfähig mit dem ElektrolytenUnder a "suitable electrically conductive substrate or base "becomes a substrate with an electrical resistivity within the economic Limits meant, with this substrate also being essentially non-reactive with the electrolyte

i ·. ,1 Ϊ.i ·. , 1 Ϊ.

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und den Produkten der Elektrolyse sein soll. Bei der Elektrolyse von Solen soll z.B. ein geeignetes elektrischleitendes Substrat nicht mit Lösungen von Natriumhydroxid oder Natriumchlorid reagieren und auch durch nassierendes Chlor nicht angegriffen werd en.and the products of electrolysis. For the electrolysis of brines, for example, a suitable Electrically conductive substrate does not react with solutions of sodium hydroxide or sodium chloride and are also not attacked by wetting chlorine.

Geeignete elektrischleitende Substrate sind z.B. Gleichrichter-Ventilmetalle. Die Gleichrichtertnetalle sind solche Metalle, die einen Oxidfilm unter anodischen Bedingungen ausbilden. Zu den Gleichrichtermetallen gehören z.B. Titan, Tantal, Niob, Hafnium, Wolfram, Aluminium, Zirkon, Vanadin und ihre Legierungen. In den meisten Fällen werden aus wirtschaftlichen Gründen Titan oder Xitanlegierungen als Substrat für das Basisglied der Elektroden bei dieser Erfindung benutzt. Es können jedoch auch andere Materialien angewandt werden, wie Graphit oder Kohle. Man kann auch ein Laminat eines GIeichrichtermetails mit einem weniger teuren Metall, wie Eisen oder Stahl mit einem Delafossitüberzug auf dem Gleichrichtermetall benutzen.Suitable electrically conductive substrates are, for example, rectifier valve metals. The rectifier metals are those metals that form an oxide film under anodic conditions. To the rectifier metals include e.g. titanium, tantalum, niobium, hafnium, tungsten, aluminum, zirconium, vanadium and their alloys. In most cases are for economic reasons Titanium or xitan alloys are used as the substrate for the base member of the electrodes in this invention. It however, other materials such as graphite or carbon can also be used. You can also use a laminate one Judge details with a less expensive metal, like iron or steel with a delafossite coating the rectifier metal.

Alternativ kann Titanhydrid oder ein anderes elektrischleitendes, anodisch beständiges Hydrid als elektrischleitendes Substrat bei der Elektrode dieser Erfindung benutzt werden. Ein solches Hydrid kann der einzige Bestandteil des Substrats sein oder es kann in Form eines ebenen Gebildes auf dem anderen Material aufliegen.Alternatively, titanium hydride or another electrically conductive, anodically stable hydride can be used as the electrically conductive one Substrate can be used in the electrode of this invention. Such a hydride can be the only component of the substrate or it can rest on the other material in the form of a flat structure.

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Alternativ kann das Hydrid eine Hydridoberfläche eines Metalles sein, z.B. eines Titansubstrats mit einer Titanhydridschicht zwischen dem metallischen Substrat und der Delafossitoberflache.Alternatively, the hydride can be a hydride surface of a metal such as a titanium substrate with a titanium hydride layer between the metallic substrate and the delafossite surface.

Es kann auch eine Schicht eines elektrischleitenden Materials, das eine bessere Leitfähigkeit als der Delafossit besitzt und gegenüber dem Elektrolyten beständig ist, zwischen dem Delafossit und dem Substrat angeordnet werden. Eine derartige Zwischenschicht kann aus einem Metall der Platingruppe gebildet sein, wie z.B. aus metallischem Ruthen, Rhodium, Palladium, Osmium, Iridium, Platin oder ihren Legierungen. Besonders geeignete Legierungen für diesen Zweck sirid z.B."Platin-Palladium-Legierungen, insbesondere diejenigen, die etwa 3 bis etwa 15 Gew.% Platin enthalten, ferner Platin-Iridium-Legierungen, besonders diejenigen, die etwa 2 bis etwa 50 Gew.% Iridium enthalten. Alternativ kann eine solche Zwischenschicht ein Oxid von einem Metall der Platingruppe sein, wie z.B. Ruthenoxid (RuO9), Rhodiumoxid (Rh9Oo), Palladaiumoxid (PdO9), Osmiumoxid (OsO9),. Iridiumoxid (Ir9O-) Platinoxid (PtP9) oder Mischungen davon. Derartige Mischungen können Mischungen von Platinoxid und Palladiumoxid einschließen, die etwa 3 bis etwa 15 Gew.% Platinoxid enthalten, oder Platinoxid-und Iridiumoxid-Mischungen, die etwa 2 bis etwa 50 Gew.% Iridiumoxid enthalten. In Verbindung mit den Metallen der Platingruppe oder ihren Oxiden könnenA layer of an electrically conductive material, which has a better conductivity than the delafossite and is resistant to the electrolyte, can also be arranged between the delafossite and the substrate. Such an intermediate layer can be formed from a metal of the platinum group, such as, for example, from metallic ruthen, rhodium, palladium, osmium, iridium, platinum or their alloys. Particularly suitable alloys for this purpose are, for example, platinum-palladium alloys, in particular those containing about 3 to about 15% by weight of platinum, and also platinum-iridium alloys, especially those containing about 2 to about 50% by weight of iridium Alternatively, such an intermediate layer can be an oxide of a metal from the platinum group, such as ruthenium oxide (RuO 9 ), rhodium oxide (Rh 9 Oo), palladium oxide (PdO 9 ), osmium oxide (OsO 9 ), iridium oxide (Ir 9 O- ) Platinum Oxide (PtP 9 ) or Mixtures thereof Such mixtures can include mixtures of platinum oxide and palladium oxide containing from about 3 to about 15 weight percent platinum oxide or platinum oxide and iridium oxide mixtures containing from about 2 to about 50 weight percent iridium oxide In connection with the metals of the platinum group or their oxides can contain

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zusätzlich noch Oxide von anderen Metallen verwendet werden, wie die Oxide von Titan,' Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal, Wolfram und Aluminium. Wenn solche Zwischenschichten vorhanden sind, haben sie normalerweise eine Stärke von etwa 0,51 bis etwa 3,05 Mikron (20 bis 120 micro inches), wobei Stärken von etwa 1,52 bis 3,05 Mikron bevorzugt sind. Die Zwischenschichten können aber auch dünner sein und, beispielswiese nur eine Stärke von 0,13 Mikron (5 micro inches) haben, wenn sie gleichmäßig aufgetragen sind, so daß sie pore^freien Überzug ergeben. Ferner ist es möglich auch dickere Zwischenschichten zu benutzen, doch ist dieses nicht mit einem wesentlichen Vorzug verbunden.in addition, oxides of other metals are used, such as the oxides of titanium, zirconium, hafnium, Vanadium, niobium, tantalum, tungsten and aluminum. If there are such interlayers, they have typically from about 0.51 to about 3.05 microns (20 to 120 micro inches) thick, with thicknesses from about 1.52 to 3.05 microns are preferred. The intermediate layers can also be thinner and, for example, only 0.13 microns (5 micro inches) thick when applied evenly are so that they result in a pore-free coating. Further it is possible to use thicker intermediate layers, but this is not an essential one Preferential connected.

Wenn bei einer Elektrode mit einer ^elafossitoberflache auf einem Substrat das Substrat mit dem Delafossit unter Bildung einer elektrischisolierenden Sperre nach längeren · . Betriebszeiten bei hohen Stromdichten reagiert, kann zwischen das Substrat und dem Delafossit eine Schicht eines weniger reaktionsfähigen Materials, das gegenüber dem Elektrolyten widerstandsfähiger ist als das Substrat, angeordnet werden. Unter weniger reaktionsfähigen Materialien werden Materialien verstanden, die keine •elektrischisolierende Sperre bilden oder bei der Bildung einer solchen Sperre mitwirken, wenn sie zwischen dem Delafossit und dem Substrat angeordnet werden. Solche weniger reaktionsfähige Materialien können die schon genannten Edelmetalle oder ihre Oxide sein. AlternativIf with an electrode with a ^ elafossitoberflache on a substrate the substrate with the delafossite forming an electrically insulating barrier after prolonged ·. Operating times at high current densities, there may be a layer between the substrate and the delafossite a less reactive material that is more resistant to the electrolyte than the substrate, to be ordered. Less reactive materials are understood to mean materials that are not • Form an electrically insulating barrier or participate in the formation of such a barrier if they are between the Delafossit and the substrate are arranged. Such less reactive materials can be those already mentioned Be precious metals or their oxides. Alternatively

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können als weniger reaktionsfähige Materialien Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2), Palladium-Chrom-Delafossit (PdCr(O oder Palladiura-Fdiodium-Delafossit (PdRhO9) verwendet werden, um eine Zwischenschicht zwischen einem Palladium-Kobalt- · 'Delafossit (PdCoO2) Überzug und einem Titansubstrat zu ergeben. Wenn solche Zwischenschichten benutzt werden, haben sie normalerweise eine Stärke von 0,51 bis 3,05 Mikron, wobei Stärken von 1,52 bis 3,05 Mikron bevorzugt sind. Wenn die Zwischenschichten gleichmäßig aufgetragen werden und porenfrei sind, können sie auch dünner sein, z.B. o,13 Mikron stark. Dickere Überzüge sind auch möglich.Platinum-cobalt-delafossite (PtCoO 2 ), palladium-chromium-delafossite (PdCr (O or Palladiura-Fdiodium-delafossite (PdRhO 9 )) can be used as less reactive materials to form an intermediate layer between a palladium-cobalt · 'delafossite ( PdCoO 2 ) coating and a titanium substrate. When such interlayers are used, they are typically 0.51 to 3.05 microns thick, with 1.52 to 3.05 microns being preferred. When the interlayers are evenly applied and are pore-free, they can also be thinner, e.g. 0.13 microns thick, Thicker coatings are also possible.

Die Elektroden mit Delafossitoberflächen nach der Erfindung lassen sich für beliebige elektrochemische Verfahren mit einer nicht-verbrauchbaren Elektrode verwenden.Unter "nicht-verbrauchbar11 ist z*i verstehen, daß die Elektrode durch den Elektrolyten nicht aufgelöst wird und nicht an der entgegengesetzten Elektrode wieder abgelagert wird. Die Elektroden nach der Erfindung können z.B. für die· Elektrolyse von Solen,Sulfaten, Chlorwasserstoffsäure, Phosphaten und dergleichen benutzt werden. Alternativ sind die Elektroden bei Verfahren geeignet, bei denen Kationen auf einer Kathode abgelagert werden, wie z.B. bei der elektrolytischen Gewinnung von Metallen, elektrolytischen Raffination, Elektroplattierung, Elektrophorese, elektrolytischen Reinigung und elektrolytischen Beizung. Aus entsprechenden Lösungen können Kupfer,The electrodes with delafossite surfaces according to the invention can be used for any electrochemical process with a non-consumable electrode. Under "non-consumable 11 is meant that the electrode is not dissolved by the electrolyte and is not redeposited on the opposite electrode The electrodes of the invention can be used, for example, for the electrolysis of brines, sulfates, hydrochloric acid, phosphates, etc. Alternatively, the electrodes are useful in processes in which cations are deposited on a cathode, such as in the electrowinning of Metals, electrolytic refining, electroplating, electrophoresis, electrolytic cleaning and electrolytic pickling. Copper,

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Nickel, Eisen Mangan, Messing , Bronze, Cadmium, Gold, Indium, Silber, Zinn, Zink, Kobalt, Chrom und ähnliche· Metalle auf Kathoden elektroplattiert werden. Alternativ kann man Metallpulver herstellen, indem man Kationenauslb'sung auf einer geeigneten Kathode bei Verwendung der Elektroden nach dieser Erfindung abscheidet. Die Elektroden nach der Erfindung können ferner für die el.ektrolytische Reinigung von wässrigen Lösungen, von Natriumphosphat, Natriumcarbonat und dergleichen benutzt v/erden. Ferner kann man die elektrolytische Beizung von geeigneten Materialien, die·kathodischNickel, iron manganese, brass, bronze, cadmium, gold, Indium, silver, tin, zinc, cobalt, chromium and similar metals can be electroplated onto cathodes. Alternatively metal powder can be produced by applying cation deposited on a suitable cathode using the electrodes of this invention. the Electrodes according to the invention can also be used for the electrolytic cleaning of aqueous solutions, of Sodium phosphate, sodium carbonate and the like are used. You can also use the electrolytic Pickling of suitable materials that · cathodically

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gegenüber den Anoden nach der Erfindung sind, dazu verwenden um organische Verbindungen elektrolytisch zu oxidieren. So kann man z.B. die elektrolytische Oxidation von Propylen zu Propylenoxid oder Propylenglycol mit den Elektroden nach dieser Erfindung durchführen. Außerdem kann man Metallbauwerke, wie Schiffskörper kathodisch unter Verwendung der Anoden nach dieser Erfindung schützen. Bei jedem der vorstehend angegebenen Fälle für die Verwendung der Elektroden nach der Erfindung enthält die Zelle ein Elektrodenpaar mit einer Anöde und .einer Kathode, wobei mindestens ein Glied des Elektrodenpaars eine Delafossitoberfläche besitzt, eine Elektrode eine entgegengesetzte Polarität hat und Mittel vorhanden sind,um eine äußere Spannung oder elektromotorische Kraft zwischen der Anode und der Kathode aufrechzuerhalten,und wobei die Anode gegenüber der'Kathode positiv geladen ist und ein elektrischer Stromcompared to the anodes according to the invention, to use organic compounds electrolytically to oxidize. For example, the electrolytic oxidation of propylene to propylene oxide or propylene glycol can be used perform with the electrodes of this invention. You can also use metal structures, such as hulls protect cathodically using the anodes of this invention. With each of the above indicated cases for the use of the electrodes according to the invention, the cell contains a pair of electrodes with an anode and .ein cathode, at least one Member of the pair of electrodes has a delafossite surface, one electrode has an opposite polarity has and means are present to apply an external voltage or electromotive force between the anode and the Keeping the cathode upright, and with the anode facing der'Kathode is positively charged and an electric current

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veranlaßt wird von einem Glied dieses Elektrodenpaars zu dem anderen Glied zu fließen.is caused to flow from one member of this pair of electrodes to the other member.

Zusätzlich kann die Elektrode nach dieser Erfindung in Brennstoffzellen verwendet werden. Bei der Benutzung der Elektrode mit dem Delafossitüberzug in Brennstoffzellen werden diese Elektroden für den Fluß des Elektrolyten durchlässig sein. Eine derartige Elektrolytpermeabilität kann durch ein elektrischleitendes poröses Substrat mit einem darauf abgelagerten Delafossitmaterial erreicht werden oder durch eine Dispersion von Delafossitteilchen in einem geeigneten inerten Medium oder durch andere in der Technik bekannte Verfahren. Solche Brennstoffzellen mit Elektroden nach der Erfindung besitzen außer dieser Elektrode eine Elektrode von entgegengesetzter Polarität, die im Abstand von der mit Delafossit überzogenen Elektrode angeordnet ist, eine Vorrichtung zum Zuführen des Elektrolyten in den Raum zwischen den Elektroden, um intern eine elektromotorische Kraft zwischen Elektroden zu erzeugen, und eine Vorrichtung für die Aufnahme der elektrischen Energie, die in. der Brennstoffzelle erzeugt wird.In addition, the electrode of this invention can be used in fuel cells. When using the electrode with the delafossite coating in fuel cells, these electrodes will be permeable to the flow of the electrolyte. Such electrolyte permeability can be achieved by an electrically conductive porous substrate having a delafossite material deposited thereon, or by dispersion of delafossite particles in a suitable inert medium, or by other methods known in the art. Such fuel cells with electrodes according to the invention have, in addition to this electrode, an electrode of opposite polarity which is arranged at a distance from the electrode coated with delafossite, a device for feeding the electrolyte into the space between the electrodes in order to internally apply an electromotive force between electrodes generate, and a device for receiving the electric power that is generated in. the fuel cell.

Die Elektroden nach der Erfindung lassen sich herstellen, ; indem man den Delafossit synthetisiert und nachher auf einem geeigneten elektrischleitenden Substrat oder Träger aufträgt. Delafossite lassen sich durch Oxidation bei niedrigen Temperaturen und hohen Drücken, wie z.B. durch eine hydrothermale Reaktion, herstellen. Außerdem kannThe electrodes according to the invention can be produced; by synthesizing the delafossite and then applying it to a suitable electrically conductive substrate or support. Delafossite can be produced by oxidation at low temperatures and high pressures, such as a hydrothermal reaction. Also can

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man sie auch durch Oxidation bei hohen Temperaturen und hohen Drücken durch Feststoffumsetzungen und durch Oxidation bei niedrigen Temperaturen und niedrigen Drücken in- einem· oxidierenden Flußmittel· erhalten. Alternativ ist es möglich Delafossite bei niedrigem Druck und niedrigen Temperaturen in einer Anionenaustausch-Reaktion herzustellen.they can also be obtained by oxidation at high temperatures and high pressures by solids conversions and by Oxidation at low temperatures and low pressures in an oxidizing flux. Alternatively, it is possible to use Delafossite at low pressure and low temperatures in an anion exchange reaction to manufacture.

Delafossite, die bei der vorliegenden Erfindung geeignet sind, können z.B. durch die Verfahren, .die in folgenden Literaturstellen beschrieben sind, hergestellt werden; R.D. Shannon et al, Chemistry of Noble Metal Oxides, I. Syntheses and Properties ,of ABO9 Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Band 10, Seite 713 (1971); US-PS 3,498,931; US-PS 3,514,414 und US-PS 3,414,371.Delafossite which are useful in the present invention can be produced, for example, by the methods described in the following references; RD Shannon et al, Chemistry of Noble Metal Oxides, I. Syntheses and Properties, of ABO 9 Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Volume 10, page 713 (1971); U.S. Patent 3,498,931; U.S. Patent 3,514,414 and U.S. Patent 3,414,371.

Hydrothermale Synthesen von Delafossit werden bei relativ niedriger Temperatur unter oxidierenden Bedingungen durchgeführt. Die hydrothermale Methode kann z.B. zur Herstellung von Platin-Kobalt-Delafossite, der Kupfer-Delafossite und der Silber-Delafossite verwendet werden. Die Methode verlangt die Erwärmung von zwei Oxiden in Wasser in einem verschlossen inerten Rohr, wie z.B. ein Platin- oder Goldrohr (bei hohem Druck, z.B. etwa 3000 Atmosphären und einer Temperatur von etwa 500 bis 700 C für etwa 24 Stunden).Hydrothermal syntheses of Delafossite are carried out at a relatively low temperature under oxidizing conditions. The hydrothermal method can be used, for example, for the production of platinum-cobalt delafossite, copper delafossite and silver delafossite. The method requires the heating of two oxides in water in a closed inert tube, such as a platinum or gold tube (at high pressure, eg about 3000 atmospheres and a temperature of about 500 to 700 C for about 24 S t reasons).

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Die Platin-, Palladium- und Rupfer-Delafossite können bei relativ niedrigen Drücken und niedrigen Temperaturen in einer Reaktion hergestellt v/erden, die durch einen Austausch von Ionen und 'die Bildung von einem festen oder geschmolzenem Salz als Nebenprodukt charakterisiert ist. Bei dieser Methode werden das Halogenid von Platin, Palladium oder Kupfer und das Oxid des zweiten Metalles unter Bildung von Delafossit und eines Halogenide des zweiten Metalles-umgesetzt. Alternativ kann das Halogenid oder das Metall und das Halogenid des ersten Metalles und eine Lithiumoxiverbindung des zweiten Metalles (wie Lithiumchromat, LithiumKobaltat oder Lithiumrhodat) unter Bildung von Delafossit und Lithiumhalogenid umgesetzt werden.The platinum, palladium and pluckers delafossite can be produced in a reaction at relatively low pressures and low temperatures, caused by an exchange of ions and 'the formation of a solid or molten salt as a by-product is characterized. In this method, the halide of platinum, or palladium Copper and the oxide of the second metal to form delafossite and a halide of the second Metal implemented. Alternatively, the halide or the metal and the halide of the first metal and a lithium oxy compound of the second metal (such as lithium chromate, lithium cobaltate or lithium rhodate) to be reacted with the formation of delafossite and lithium halide.

Die Anionenaustauschreaktion wird in einem evakuierten verschlossenen Siliciumdioxidrohr bei einer Temperatur von etwa 500 C bis etwa 800 C durchgeführt. Die als Nebenprodukt erhaltenen Halogenidsalze werden nach der Bildung des Delafossits durch Auslaugen, z.B. mit Wasser, entfernt. Falls metallisches Platin, Palladium oder Kupfer zurück bleibt oder falls das Chlorid des Edelmetalls zurück bleibt, werden diese Rückstände durch Auslaugen mit einem geeigneten Lösungsmittel, wie z.B. Bromwasserstoffsäure oder Königswasser entfernt.The anion exchange reaction is carried out in an evacuated sealed silica tube at a temperature carried out from about 500 ° C to about 800 ° C. The halide salts obtained as a by-product are after Formation of delafossit removed by leaching, e.g. with water. If metallic platinum, palladium or copper remains or if the chloride of the noble metal remains, these residues will through Leaching with a suitable solvent such as hydrobromic acid or aqua regia removed.

.Delafossite können auch durch Diffusion von feingepulverten gemischten Oxiden bei hohen Temperaturen hergestellt werden. Kupfer-Delafossit kann durch eine.Delafossite can also be finely powdered by diffusion mixed oxides can be produced at high temperatures. Copper delafossite can be obtained by a

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solche Umsetzung im festen Zustand bei atmosphärischem Druck und bei einer Temperatur von etwa 1000 C erhalten werden. Die Platin- und Palladium-Delafossite erfordern eine Temperatur oberhalb von 700 C und einen Druck von etwa 3000 Atmosphären, um den Delafossit durch eine Umsetzung im.festen Zustand zu erhalten.such implementation in the solid state at atmospheric Pressure and at a temperature of about 1000 C. The platinum and palladium delafossite require a temperature above 700 C and a pressure of about 3000 atmospheres for the delafossite to pass through to get an implementation in the solid state.

Die Silber-Delafossite können in einem oxidierenden Flußmittel hergestellt werden. Bei dieser Methode wird ein Flußmittel aus Silbernitrat und Kaliumnitrat hergestellt und es wird ein Chromat, Rhodat oder Kobaltat zu diesem Flußmittel zugesetzt. Die Mischung wird verschlossen und auf eine erhöhte Temperatur, z.B. oberhalb von 350 C für einen Zeitraum von mehr als etwa 100 Stunden erwärmt. In dieser Weise wird eine feste Lösung von Nitrat und Delafossit erhalten. Das Nitrat ■ kann durch Auslaugen mit Wasser entfernt werden.The silver delafossite can be made in an oxidizing flux. With this method A flux is made from silver nitrate and potassium nitrate and it becomes a chromate, rhodate or Cobaltate added to this flux. The mixture is sealed and heated to an elevated temperature, e.g. heated above 350 C for a period of more than about 100 hours. In this way it becomes a solid Obtain solution of nitrate and delafossite. The nitrate ■ can be removed by leaching with water.

Der nach einer dieser Methoden hergestellte Delafossit kann entweder als solcher für eine Elektrode verwendet werden oder bevorzugt als Oberfläche oder Überzug einer Elektrode aus einem geeigneten Basis- oder Substratmaterial dienen. The delafossite produced by one of these methods can either be used as such for an electrode or preferably serve as a surface or coating of an electrode made of a suitable base or substrate material.

In der Regel ist das" elektrischleitende Basis- oder Substratmaterial ein Gleichrichtermetall, wie Titan. Ein derartiges Substrat kann in der Form eines flachen, plattenartigen Gebildes vorliegen oder es kann auch die Form einer perforierten Platte oder eines expandiertenUsually this is "electrically conductive base or" Substrate material a rectifier metal such as titanium. Such a substrate can be in the form of a flat, plate-like structure or it can also be in the form of a perforated plate or an expanded

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Gitterwerk.es (expanded mesh) haben. Alternativ kann es in Form von feinen Drähten, Stäben oder anderen Formen vorliegen, wobei solche Formen den Abfluß der gebildeten Gase aus dem Volumen zwischen der Anode und der Kathode in Räume hinter die Anode erlauben.Latticework.es (expanded mesh). Alternatively can it exist in the form of fine wires, rods or other shapes, such shapes being the drain of the Allow gases formed from the volume between the anode and the cathode into spaces behind the anode.

.Wenn ein Titanglied als Substratmaterial verwendet wird, kann man dieses Titanglied für seine Benutzung als Elektrode dadurch vorbereiten, daß man vor der Ablagerung des Delafossitüberzuges eine Entfettung und danach eine Ätzung vornimmt. Die Entfettung kann durch beliebige bekannte Methoden erfolgen, z.B. unter Verwendung von Detergentien, Schleifmitteln oder organischen Entfettungsmitteln. Dann kann das entfettete Titansubstrat mit Fluorwasserstoffsäure, Chlorwasserstoffsäure oder ähnlichen Materialien geätzt werden. Die Ätzung dient dazu, um den natürlicherweise vorkommenden Oxidfilm zu entfernen und ihn durch einen dünnen Hydridfilm zu ersetzen.When a titanium member is used as the substrate material, this titanium member can be used for its use Prepare as an electrode by degreasing it before the delafossit coating is deposited and then etching. Degreasing can be done by any known method, e.g. under Use of detergents, abrasives or organic degreasing agents. Then the defatted can Titanium substrate with hydrofluoric acid, hydrochloric acid or similar materials. The etching is used to remove the naturally occurring Remove the oxide film and replace it with a thin hydride film.

Der Delafossit kann in verschiedener Weise auf die geätzte Titanoberfläche aufgetragen werden. So kann man z.B. eine Aufschlämmung des Delafossits in einem Lösungsmittel, wie Äthanol, Butanol, Benzylalkohol, Phenol, Benzol, Cumol und dergleichen herstellen. Eine derartige Aufschlämmung kann man auf die Titanoberfläche, z.B. mit dem Pinsel oder der Bürste auftragen.The delafossite can be applied to the etched titanium surface in various ways. So can for example, a slurry of Delafossit in a solvent such as ethanol, butanol, benzyl alcohol, Manufacture phenol, benzene, cumene and the like. Such a slurry can be applied to the titanium surface, e.g. apply with a paintbrush or a brush.

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Nach jedem Aufstrich erwärmt man zur Zersetzung oder Verflüchtigung des Lösungsmittels. Die Auf-,schlämmung kann zusätzlich noch feinteilige Materialien enthalten, wie Silicium, Titan, Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal, Molybdän, Wolfram oder andere Materialien, die in der Lage sind "in situ" während des Vorgangs der Verdampfung oder Zersetzung des Lösungsmittels ein Oxid zu bilden. In der Regel wird als derartiges fej-nverteiltes Material ein Chlorid 'verwendet, wie z.B. Titantrichlorid._After each spread, heat is applied to decompose or volatilize the solvent. The slurry may also contain finely divided materials such as silicon, titanium, zirconium, hafnium, Vanadium, niobium, tantalum, molybdenum, tungsten or other materials that are capable of being "in situ" during the process of evaporation or decomposition of the solvent to form an oxide. Usually will a chloride is used as such a finely distributed material, such as titanium trichloride.

Alternativ kann man eine Aufschlämmung herstellen • aus Dßlafossit, einem Metall, einem organischen Lösungsmittel, wie Äthanol, Butanol, Benzylalkohol, Pherfol, Benzol, Cumol, Polyen und dergleichen, und einer Siliciumdioxidverbindung oder einer Metallverbindung, die in dem organischen Lösungsmittel löslich oder dispergierbar ist, wie z.B. ein Resinat. Eine derartige Aufschlämmung kann auf das Titan aufgestrichen werden, wobei man z.B. etwa 4 bis etwa 8 Aufstriche verwendet und nach jedem Aufstrich erwärmt, urrt die organischen Bestandteile zu zersetzen oder zu verflüchtigen. Alternativ können für das Aufbringen des Delafossits auf das Substrat aber auch andere Methoden verwendet werden, wie das Verbinden durch ' Verpreßen oder die kathodische Elektrophorese.Alternatively, one can prepare a slurry of dßlafosite, a metal, an organic solvent such as ethanol, butanol, benzyl alcohol, Pherfol, benzene, cumene, polyene and the like, and a silica compound or a metal compound which is soluble or dispersible in the organic solvent , such as a resinate. Such a slurry can be spread onto the titanium using, for example, about 4 to about 8 spreads and heating after each spread causes the organic constituents to decompose or volatilize. Alternatively, other methods can also be used for applying the delafossit to the substrate, such as joining by pressing or cathodic electrophoresis.

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230A380230A380

Bei den vorstehenden Verfahren für das Überziehen des Titansubstrats mit dem Delafossit wurde die Verblendung einer Titan- oder einer Siliciumverbindung angegeben, doch sind derartige Verbindungen für das Funktionieren der Elektrode nicht erforderlich. Die Oxidationsprodukte von solchen Verbindungen, wie z.B. Titandioxid oder Siliciumdioxid, verleihen jedoch der-Delafossitoberflache eine zusätzliche physikalische Festigkeit und Dauerhaftigkeit. Alternativ können Oxide von Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal, Molybdän oder Wolfram auf der Oberfläche der Elektrode "in situ" hergestellt werden, um die Beständigkeit und Dauerhaftigkeit der Elektrodenoberfläche zu verbessern. In the above procedures for coating the titanium substrate with the delafossite, the Veneering of a titanium or a silicon compound but such connections are not required for the electrode to function. the However, oxidation products of such compounds as titanium dioxide or silicon dioxide impart der-Delafossitoberflache an additional physical Strength and durability. Alternatively, oxides of zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, Molybdenum or tungsten on the surface of the electrode "in situ" to improve the durability and durability of the electrode surface.

Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen noch näher erläutert.The invention is explained in more detail in the following examples.

: Beispiel 1: Example 1

Man stellt eine aus einem Titansubstrat, einem Überzug aus einem Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO-) und einer zwischen dem Titan und dem Delafossit eingelegten Schicht aus metallischem Platin bestehende Elektrode her,One makes one from a titanium substrate, a coating from a palladium-cobalt delafossite (PdCoO-) and an electrode made of metallic platinum between the titanium and the delafossite,

Den Delafossit stellt man aus 2,6642 g Palladiumchlorid (PdCl2) und 2,2482 g Kobaltoxid auf die Weise her, daß man das Chlorid und das Oxid gründlich mahlt, in einThe delafossite is made from 2.6642 g of palladium chloride (PdCl 2 ) and 2.2482 g of cobalt oxide by thoroughly grinding the chloride and oxide into one

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"2 'Stunden luftleer gesaugtes Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm füllt und darin 1 Stunde auf 1100G erhitzt,. worauf man das Quarzrohr verschließt. Dann erhitzt man das verschlossene Quarzrohr auf 8500C, hält es 15 Minuten bei dieser Temperatur, läßt die Temperatur dann auf 7000C absinken und setzt das Erhitzen bei dieser Temperatur 65 Stunden fort. Man schabt das entstandene Produkt von der Quarzwand ab, mahlt es gründlich, wäscht es zweimal bei 25 C mit 200 ml Wasser> dann.mit Aceton und trocknet es. Man erhält 2,4 g eines grauen metallischen Produkts mit einer Teilchengröße im Bereich von 0,03 bis 0,5 und von 1 bis 7 Mikron. "2 'hours evacuated sucked quartz tube of an outer diameter of 10 mm, filling a length of 12.7 cm and heated therein for 1 hour at 110 0 G ,. after which closes the quartz tube. Then, heating the sealed quartz tube at 850 0 C , keeps it at this temperature for 15 minutes, then lets the temperature drop to 700 ° C. and continues heating at this temperature for 65 hours 200 ml of water> then with acetone and dry it to obtain 2.4 g of a gray metallic product with a particle size ranging from 0.03 to 0.5 and from 1 to 7 microns.

Man untersucht dieses Pulver durch Röntgenstreuung in einem Philips-Diffraktometer. Für die Röntgenröhre verwendet man eine Spannung von 35 Kilovolt und eine Stromstärke von 15 Milliampere, für den Detektor eine Spannung von 1265 Volt. Man verwendet die Strahlung eines Kupfertargets und arbeitet mit einer Divergenzblende von 1°, einer Strahlblende von 0,1524 mm und einer Streublende von 1°. Man läßt den Detektor mit einer Zeitkonstante von 2 Sekunden bei 2Θ β 2 pro Minute und den Prüfkörper bei 2Θ - 1° pro Minute rotieren. Man erhält die in der folgenden Tabelle (6) und in Fig. VI gezeigten Meßwerte.This powder is examined by X-ray diffraction in a Philips diffractometer. A voltage of 35 kilovolts and a current of 15 milliamperes are used for the X-ray tube, and a voltage of 1265 volts for the detector. The radiation from a copper target is used and a divergence diaphragm of 1 °, a beam diaphragm of 0.1524 mm and a scattering diaphragm of 1 ° are used. The detector is allowed to rotate with a time constant of 2 seconds at 2Θ β 2 per minute and the test specimen at 2Θ - 1 ° per minute. The measured values shown in the following table (6) and in FIG. VI are obtained.

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- 41 Tabelle 6- 41 Table 6

I/IoI / Io

5,925 · 405.925 x 40

4,572 . 54,572. 5

3,448 ' 53.448 '5

2,957 902.957 90

2,566 - 102.566-10

2,'440 602, '440 60

2,362 1002.362 100

2,252 · 52.252 x 5

2,148 . 40 ·2.148. 40 ·

1,759 ίο1,759 ίο

1,646 501.646 50

1,480 ίο1.480 ίο

1,438 201.438 20

1,415 301.415 30

1,350 \ 51.350 \ 5

1,325 51.325 5

1,277 " 201.277 "20

1,273 · 201.273 x 20

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Man wäscht einen Titanstreifen von einer Länge von 14,6 cm, einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke von 3,175 mm mit einem unter dem Warenzeichen "Comet" handelsüblichen schleifmittelhaltigen Haushaltsreinigungsmittel, spült ihn in destilliertem Wasser, taucht ihn eine Minute lang in l%ige Flußsäure ein und legt ihn dann23 Stunden in 12-n Salzsäure von 27 C.A titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and thick is washed of 3.175 mm with a under the trademark "Comet" commercial household cleaning agents containing abrasives, rinse it in distilled water, immerse it in 1% hydrofluoric acid for one minute and place it then 23 hours in 12N hydrochloric acid of 27 C.

. Man stellt eine Lösung von 10 g eines als Metall berechnet 7,5 Gew.% Platin enthaltenden Platinresinats vom Typ Engelhard "0-5X" in 9 g Toluol her und trägt diese Lösung in drei Schichten auf den geätzten Titanstreifen auf. Jeweils nach dem Auftragen der beiden ersten Schichten erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50 C in 5 Minuten auf 500 C und. A solution of 10 g of one calculated as metal is made 7.5% by weight of platinum-containing platinum resinate of the Engelhard "0-5X" type in 9 g of toluene and carries this solution in three layers on the etched titanium strip. After each application of the two In the first layers, the strip is heated to 500 ° C. in 5 minutes at a rate of 50 ° C. and

. hält ihn 10 Minuten bei dieser Temperatur, Nach dem Aufbringen der dritten Schicht erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50 C in 5/Minuten auf eine Temperatur von 550 C. Auch bei dieser Temperatur hält man • ihn 10 Minuten.. keep it at this temperature for 10 minutes. After applying the third layer, heat the strip at a speed of 50 C in 5 / minutes to one A temperature of 550 C. It is also kept at this temperature for 10 minutes.

Man stellt aus 0,5 g des PalladiumTKobalt-Delafossits (PdCoO„), 1 g einer durch die Zugabe von 3,4 g Titanchlorid (TiCl3) zu 20 g Äthanol hergestellten 4,5 Gew.7oigen Titanlösung und 1,0 g Äthanol einen Schlamm her und trägt hieraus sechs Überzüge mit einem Pinsel auf den wie beschriebenen Titanstreifen auf. Nach jedem Überzug wird der Streifen auf 1000C erhitzt und'30 Minuten bei dieser Temperatur gehalten. Nach dem Aufbringen desFrom 0.5 g of the palladium-cobalt delafossite (PdCoO ”), 1 g of a 4.5% by weight titanium solution prepared by adding 3.4 g of titanium chloride (TiCl 3 ) to 20 g of ethanol and 1.0 g of ethanol are prepared a mud and uses it to apply six coats with a brush to the titanium strip as described. After each coating, the strip is heated to 100 0 C und'30 minutes at this temperature. After applying the

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23Q438023Q4380

letzten Überzugs erhitzt man den Streifen im Vakuum mit einer Geschwindigkeit von 100 C in 10 Minuten auf 400 C, wonach man ihn 40 Minuten bei dieser Temperatur hält.Finally, the strip is heated in vacuo at a rate of 100 ° C. in 10 minutes to 400 C, after which it is kept at this temperature for 40 minutes.

Nach dem Auftragen der letzten Schicht prüft man die Elektrode in einer. Becherglas-Chloratzelle. Als Chloratzelle verwendet man ein 500 ml fassendes Becherglas, das eine gesättigte Kochsalzlösung enthält und in dem die mit Platin beschichtete Titankathode durch einen Abstandhalter aus Teflon sich zu der Anode in einem Abstand von 9,5 mm befindet. Man führt die ElektrolyseAfter applying the last layer, check the Electrode in one. Beaker chlorate cell. A 500 ml beaker is used as the chlorate cell, which contains a saturated saline solution and in which the platinum-coated titanium cathode is replaced by a Teflon spacers are located at a distance of 9.5 mm from the anode. Electrolysis is carried out

2 bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm und ein«2 at a current density of 53.82 amperes per dm and a «

Zellenspannung von 3,5 Volt durch. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampe:
von 0,08 Volt.
Cell voltage of 3.5 volts. At a current density of 53.82 amps:
of 0.08 volts.

2 bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm und einer2 at a current density of 53.82 amps per dm and one

V(
2
von 53,82 Ampere pro dm hat die Zelle eine Chlorüberspannung
V (
2
The cell has a chlorine overvoltage of 53.82 amperes per dm

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragraazelle ein. Die Zelle hat eine Eisennetzkathode, die von der Anode einen Abstand von 9,5 mm hat und von dieser durch Asbestpapier getrennt ist. Man führt die Elektrolyse einer 315 g NaCl pro Liter enthaltenden Kochsalzlösung beiThe anode is placed in a common laboratory chlorine diaphragm cell a. The cell has an iron mesh cathode that is 9.5 mm away from and from the anode separated by asbestos paper. The electrolysis of a saline solution containing 315 g of NaCl per liter is carried out

2 einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm und einer Temperatur von etwa 90 C durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,64 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt. Nach einer .Elektrolysendauer von 816 Stunden hat sie eine Spannung von 3,92 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,33 Volt.2 a current density of 53.82 amperes per dm and a temperature of about 90 ° C. The cell has a voltage at the beginning of 3.64 volts and a chlorine overvoltage of 0.08 volts. After an electrolysis time of 816 hours it has a Voltage of 3.92 volts and a chlorine overvoltage of 0.33 volts.

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Beispiel 2Example 2

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem DelafossitIt is made from a titanium substrate and the delafossite

Pt,. oCon O0_ als Überzugs schicht eine Elektrode her. U , ο Ό , ο ί Pt ,. o Co n O 0_ an electrode as a coating layer. U, ο Ό , ο ί

Das Delafossit stellt man durch Anionenaustausch aus Platinchlorid, Kobaltoxid (CoO) und Kobaltoxid (Co3O ) her. Die Kobaltoxide verwendet man in Form eines aus 0,9048 g Co3O, und 0,1274 g CoO bestehenden Gemischs. Sie haben die Form eines Pulvers mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen. Man zerstößt sie in einem Mörser zu noch größerer Feinheit. Man gibt das Pulvergemisch in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 10,16 cm, saugt dieses luftleer, verschließt es, erhitzt es auf 7000C und hält es 25 Stunden bei dieser Temperatur. Mai erhält eine aus " einem schwarzen Pulver und hellblauen Kristallen bestehende Mischphase. Man zermahlt dieses Material, füllt es in ein anderes Quarzrohr, saugt dieses 3 Stunden lang luftleer,, erhitzt es auf 710 C, hält es 18 Stunden bei dieser Temperatur und danach weitere 15 Stunden bei einer Temperatur zwischen 7000C und 7100C, kühlt das Quarzrohr ab und. entnimmt ihm das Material. Man zerstößt es in einem Mörser, gibt es in ein 150 ml Becherglas und setzt ihm 100 ml Wasser zu. Man filtriert den erhaltenen Schlamm bei 25 C durch einen Filtertrichter aus gesintertem Glas. Den unlöslichen Rückstand wäscht man zweimal mit 25 ml Wasser und dann mit Aceton. Man erhält einen grau-schwarzenDelafossit is produced by anion exchange from platinum chloride, cobalt oxide (CoO) and cobalt oxide (Co 3 O). The cobalt oxides are used in the form of a mixture consisting of 0.9048 g Co 3 O and 0.1274 g CoO. They are in the form of a powder with a grain size of less than 325 mesh. They are pounded in a mortar to even greater fineness. The powder mixture is placed in a quartz tube with an outer diameter of 10 mm and a length of 10.16 cm, vacuumed, closed, heated to 700 ° C. and kept at this temperature for 25 hours. Mai receives a mixed phase consisting of a black powder and light blue crystals. This material is ground, filled into another quartz tube, vacuumed for 3 hours, heated to 710 C, kept at this temperature for 18 hours and then for more 15 hours at a temperature between 700 0 C and 710 0 C, cools the quartz tube, and, takes out the material. it pounds it in a mortar, there ml beaker into a 150 and sets 100 ml of water to it. the mixture is filtered to The resulting sludge is passed through a filter funnel made of sintered glass at 25 ° C. The insoluble residue is washed twice with 25 ml of water and then with acetone to give a gray-black

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Feststoff, den man, x*ie in Beispiel 1 beschrieben, - --■ durch Röntgenstreuung untersucht. Man erhält ein Röntgendxagramm mit den in der Tabelle 7 und Fig. VII gezeigten Meßwerten.Solid, which one, x * ie described in Example 1, - - ■ examined by X-ray scattering. An X-ray diagram is obtained with the values shown in Table 7 and Fig. VII measured values shown.

Tabelle 7Table 7

I/IöI / Iö

5,901 905.901 90

3,292 ■ . 103,292 ■. 10

2,968 1002.968 100

2,428 302,428 30

2,364 702,364 70

2,146 402,146 40

2,077 52.077 5

2,020 10 1,979 ' 802.020 10 1.979 '80

1,764 101,764 10

1,648 401.648 40

1,549 51.549 5

1,445 601.445 60

1,441 201.441 20

1,414 101.414 10

1,374 51.374 5

1,350 101,350 10

1,321 51.321 5

1,277 101.277 10

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Man reinigt einen Titanstreifen von einer Länge von. 14,6 cm, einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke vonOne cleans a strip of titanium with a length of. 14.6 cm, a width of 9.5 mm and a thickness of

. 3,175 mm mit dem Haushaltsreinigungsraittel "Comet", ätzt ihn 5 Minuten in einer 2 Volumenprozent igen Flußsäurelösung und danach 22 Stunden bei 27°C in 12-n. 3.175 mm with the household cleaning agent "Comet", etches it for 5 minutes in a 2 percent by volume hydrofluoric acid solution and then for 22 hours at 27 ° C in 12-n

. Salzsäure.. Hydrochloric acid.

Man stellt aus 0,25 g des obenbeschriebenen Platin-Kobalt-Belafossits (PtQ gCo0 3O2), 0,5 g einer 4,2 Gew.%igen Lösung von Titanchlorid (TiCl3) in Äthanol und 0,5 g •Äthanol einen Schlamm her und trägt hieraus mit einem Pinsel fünf Überzüge auf den Titanstreifen auf. Nach jedem der Überzüge 1 bis 4 erhitzt man den Streifen auf 1000C, wobei man ihn 30 Minuten lang hält. Nach dem Auftragen des letzten Überzuges erhitzt man den Streifen in einem luftleeren Rohr dann auf 5' Temperatur hält man ihn 30 Minuten.0.25 g of the above-described platinum-cobalt belafossite (Pt Q g Co 0 3O 2 ), 0.5 g of a 4.2% strength by weight solution of titanium chloride (TiCl 3 ) in ethanol and 0.5 g are prepared • Ethanol make a sludge and use it to apply five coats to the titanium strip with a brush. After each of the coatings 1 to 4, the strip is heated to 100 ° C. and held for 30 minutes. After the last coat has been applied, the strip is heated in an evacuated tube to a temperature of 5 'and held for 30 minutes.

in einem luftleeren Rohr dann auf 500 C. Auch bei dieserin a vacuum tube then to 500 C. This is also the case

Man prüft die Elektrode zuerst in einer Becherglaszelle. Als Becherglaszelle verwendet man ein 400 ml fassendes Becherglas. Dieses enthält die zu prüfende Anode und, durch eitlen Abstandhalter aus Teflon 9,5 mm von dieser entfernt, eine platinierte Titankathode. Als Elektrolyt verwendet man eine gesättigte Kochsalzlösung, die pro Liter 315 g Kochsalz enthält. Nach 18 Stunden zeigt die Elektrode eine Spannung von 3,15 Volt bei einer Stromdichte von 26,91The electrode is first tested in a beaker cell. A 400 ml capacity is used as the beaker cell Beaker. This contains the anode to be tested and, a platinum-coated titanium cathode removed 9.5 mm from this by a vain Teflon spacer. A saturated saline solution is used as the electrolyte, which is per liter Contains 315 g of table salt. After 18 hours the electrode shows a voltage of 3.15 volts with a current density of 26.91

2
Ampere pro dm -und eine Spannung von 3,8 Volt bei einer
2
Amps per dm - and a voltage of 3.8 volts at one

2 Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm . Bei einer Stromdichte2 current density of 53.82 amps per dm. At a current density

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2
von 53,82 Ampere pro dm beträgt die Spannung gegen eine Kalomelelektrode 1,12 Volt und die Chlorüberspannung 0,06 Volt. ,
2
of 53.82 amperes per dm, the voltage against a calomel electrode is 1.12 volts and the chlorine overvoltage is 0.06 volts. ,

Man setzt die Elektrode dann in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle ein. Die Zelle enthält eine Eisennetzkathode, die sich zu der Anode in einem Abstand von 9,5 mm befindet und von dieser durch Asbestpapier getrennt gehaltenThe electrode is then placed in a laboratory chlorine diaphragm cell a. The cell contains an iron mesh cathode, which extends to the anode at a distance of 9.5 mm and kept separated from it by asbestos paper

wird. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm undwill. At a current density of 53.82 amps per dm and

einer Temperatur des Elektrolyten von 900C hat die Zelle am Beginn eine Spannung von 3,58 Volt und eine Chlorüjerspannung von 0,06 Volt. Nach einem Betrieb von 104 Tagen hat die Zelle eine Spannung von 3,70 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt.a temperature of the electrolyte of 90 0 C at the beginning of the cell has a voltage of 3.58 volts and a Chlorüjerspannung of 0.06 volts. After 104 days of operation, the cell has a voltage of 3.70 volts and a chlorine overvoltage of 0.08 volts.

Beispiel 3Example 3

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Delafossit PtQ qGOq. 73q°2 a^s Verzugsschicht eine Elektrode her«A titanium substrate and the Delafossite Pt Q qGOq. 73q ° 2 a ^ s distorted layer an electrode made «

Man stellt das Platin-Kobalt-Delafossit nach dem Anionenaustauschverfahren auf die Weise her, daß man 5,322 g Platinchlorid (PtCl2),1,9622 g Kobaltoxid (Co~0.) und 0,882 g Kobältoxid (CoO) durch Mahlen auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen zerkleinert, mischt, das Gemisch in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 12 mm und einer Länge von 12,7 cm einfüllt, das RohrThe platinum-cobalt delafossite is produced by the anion exchange process in such a way that 5.322 g of platinum chloride (PtCl 2 ), 1.9622 g of cobalt oxide (Co ~ 0.) And 0.882 g of cobalt oxide (CoO) are milled to a grain size of crushed less than 325 meshes, mixes, pour the mixture into a quartz tube with an outer diameter of 12 mm and a length of 12.7 cm, the tube

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2 Stunden bei 25°C und 16 Stunden bei 125°C luftleer saugt und dann verschließt. Danach erhitzt man das das Pulver enthaltende Rohr auf 700 C, hält es 70 Stunden bei dieser Temperatur, kühlt es dann rasch auf Raumtemperatur ab, worauf man es öffnet- Sein Inhalt besteht aus einem grauen metallischen Feststoff, festen blauen Kristallen und einem grünen Feststoff. Man zerkieinert das Gesamtprodukt durch Mahlen auf eine Korngröße von weniger als 32-5 Maschen, füllt das zerkleinerte Produkt in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 12 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Rohr 1 Stunde bei 25°C und 3 Stunden bei 135°C luftleer, verschließt es, erhitzt es auf 7000C und hält es 47 Stunden bei dieser Temperatur. Hiernach kühlt man es auf Raumtemperatur ab und öffnet es. Es enthält blaue und grüne Kristalle an seinem abgekühlten Ende und außerdem einen grauen metallischen Feststoff. Man zerkleinert den grauen metallischen Feststoff auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen, wäscht zweimal bei 25 C mit je 25 ml destilliertem Wasser, dann zweimal mit Aceton und trocknet bei 700C. Danach hält man das Pulver 16 Stunden bei 25°C unter Vakuum. Man untersucht den erhaltenen leichten grauen kristallinen metallischen Stoff röntgenspektroskopisch auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise. Das Röntgendiagramm ist in Fig. VIII dargestellt. Es ist von nur geringen Unterschieden abgesehen, mit dem aus der Literatur von Delafossit PtQ gCoQ gCL bekannten Röntgendiagramm im wesentlichen identisch.2 hours at 25 ° C and 16 hours at 125 ° C evacuated and then sealed. The tube containing the powder is then heated to 700 ° C., kept at this temperature for 70 hours, then rapidly cooled to room temperature, whereupon it is opened. Its contents consist of a gray metallic solid, solid blue crystals and a green solid. The entire product is comminuted by grinding to a particle size of less than 32-5 meshes, the comminuted product is filled into a second quartz tube with an outer diameter of 12 mm and a length of 12.7 cm, and the tube is suctioned at 25 ° C. for 1 hour and 3 hours at 135 ° C deflated, it closes, it is heated to 700 0 C, keeping it at this temperature for 47 hours. Then cool it down to room temperature and open it. It contains blue and green crystals on its cooled end and also a gray metallic solid. Comminuting the gray metallic solid to a particle size of less than 325 mesh, washed twice at 25 C with 25 ml of distilled water, then twice with acetone and dried at 70 0 C. Thereafter, the powder holding 16 hours at 25 ° C Vacuum. The light gray crystalline metallic substance obtained is examined by X-ray spectroscopy in the manner described in Example 1. The X-ray diagram is shown in FIG. VIII. Apart from only minor differences, it is essentially identical to the X-ray diagram known from the Delafossit literature Pt Q gCo Q gCL.

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Mäii ätzt den Titanstreifen wie im Beispiel 1 beschrieben und trägt darauf aus einem Schlamm, der aus 0,25 g des Platin-Kobalt-Delafossits, 0,50 g einer als Metali berechnet 4,2 Gew.% Titan enthaltenden Titanresinatlösung, 0,19 g Toluol und 0,06 g Phenol besteht, fünf Überzugsschichten auf. Man erhitzt die Schichten 1 bis 4 mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten auf 425 0C und die fünfte Schicht ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10, Minuten auf 5000C. Alle Schichten hält man ' 10 Minuten bei ihrer jeweiligen Höchsttemperatur.Mäii etches the titanium strip as described in Example 1 and carries 0.19 from a sludge composed of 0.25 g of platinum-cobalt delafossite, 0.50 g of a titanium resinate solution, calculated as metal, containing 4.2% by weight of titanium g of toluene and 0.06 g of phenol consists of five layers of coating. Heating the layers 1 to 4 at a rate of 50 0 C in 10 minutes to 425 0 C, and the fifth layer is also at a rate of 50 0 C in 10 minutes to 500 0 C. All layers can hold '10 minutes at their respective maximum temperature.

Man prüft die erhaltene Elektrode auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise in einer Becherglas-Chlorzelle. BeiThe electrode obtained is tested in the manner described in Example 1 in a beaker chlorine cell. at

einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm und einer Temperatur des Elektrolyten von 60 C hat die Zelle eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt und gegen eine Kalomelelektrode eine Elektrodenspannung von 1,125 Volt.a current density of 53.82 amperes per dm and a temperature of the electrolyte of 60 C, the cell has a chlorine overvoltage of 0.07 volts and against a calomel electrode an electrode voltage of 1.125 volts.

Man setzt die Anode dann in eine laborübliche Chlordiphragmazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse ebenfalls wie im Beispiel 1 beschrieben bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere proThe anode is then placed in a common laboratory chlorodiphragma cell of the type described in Example 1 and also carries out the electrolysis as in the example 1 described at a current density of 53.82 amps per

2 "2 "

dm durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,65 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt. Nach einer Dauer der Elektrolyse von 744 Stunden hat ,die Zelle eine Spannung von 3,85 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,28 Volt.dm through. The cell initially has a voltage of 3.65 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts. After a The electrolysis lasts 744 hours, the cell has a voltage of 3.85 volts and a chlorine overvoltage of 0.28 volts.

309832/1QÖ*309832 / 1QÖ *

23Q438023Q4380

Beispiel 4Example 4

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO9) als Überzugs schicht eine Elektrode her. Den Delafossit stellt man nach dem Anionenaustauschverfahren aus Lithiumrhodanat (LiRhO-), metallischem Palladium und Palladiumchlorid (PdCIp her. Das Lithiumrhodanat (LiRhO9) gewinnt man aus Rhodiumoxid (Rh9O.,) und Lithiumcarbonat (Li0CO.,). Rhodiumoxid (Rh9O-) erhält man, wenn man Rhodiumchlorid (RhCl-· 3H0O) 42 Stunden bei 790 C unter Luftzufuhr erhitzt. Zur Herstellung von Lithiurarhodat zermahlt man das Rhodiumoxid, mischt davon 1,0367 g mit 0,3660 g Lithiuracarbonat (Li2CO3), gibt das Pulvergemisch in eine Alundum-Schale, erhitzt es auf 1040 C, hält es 66 Stunden bei dieser Temperatur, zerkleinert das erhaltene Produkt auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen und prüft sie röntgenspektroskopisch. Das· erhaltene Röntgendiagramm ist mit dem aus der Literatur vom Lithiummanganat (LiMnO9) bei^annten Röntgendiagramm im wesentlichen identisch.An electrode is made from a titanium substrate and the palladium-rhodium delafossite (PdRhO 9 ) as a coating layer. The delafossite is produced by the anion exchange process from lithium rhodanate (LiRhO-), metallic palladium and palladium chloride (PdClp. The lithium rhodanate (LiRhO 9 ) is obtained from rhodium oxide (Rh 9 O.,) and lithium carbonate (Li 0 CO.,). Rhodium oxide (Rh 9 O-) is obtained if rhodium chloride (RhCl- · 3H 0 O) is heated with a supply of air for 42 hours at 790 ° C. To produce lithiurium rhodate, the rhodium oxide is ground and 1.0367 g of it is mixed with 0.3660 g of lithium carbonate (Li 2 CO 3 ), put the powder mixture in an alundum dish, heat it to 1040 C, keep it at this temperature for 66 hours, comminute the product obtained to a particle size of less than 325 meshes and check it by X-ray spectroscopy The X-ray diagram is essentially identical to that from the literature on lithium manganate (LiMnO 9 ) in the case of the X-ray diagram.

Man stellt den Delafossit auf die Weise her, daß man 1,0817 g Lithiumrhodanat (LiRhO9), 0,4068 metallisches Palladium und 0,6672 g Palladiumchlorid (PdCl2) mischt, das Gemisch durch Mahlen zerkleinert, das Pulver in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 9 ram und einer Länge von 12,7 cm füllt, das Rohr 1 Stunde bei 25°C und 3 Stunden bei 1100C luftleer saugt, das Rohr dann schließt, auf 790 C erhitzt und 75 Stunden bei dieser Temperatur hält.The Delafossit is prepared by mixing 1.0817 g of lithium rhodanate (LiRhO 9 ), 0.4068 metallic palladium and 0.6672 g of palladium chloride (PdCl 2 ), the mixture is comminuted by grinding, the powder is placed in a quartz tube from an outer diameter of 9 cm filled ram and a length of 12.7, the pipe sucks 1 hour at 25 ° C and 3 hours at 110 0 C deflated, the tube closes, heated to 790 C and 75 hours at this temperature keeps .

309832/1098309832/1098

Man zerraahlt das erhaltene Produkt, gibt es in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 9 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Rohr luftleer, erhitzt es auf 1800C, hält es 18 Stunden bei dieser Temperatur, verschließt es, erhitzt es auf 775°C und hält es bei dieser Temperatur 48 Stunden. Man wäscht das erhaltene Produkt viermal mit destilliertem Wasser und einmal mit Aceton.The product obtained is crushed, placed in a second quartz tube with an outer diameter of 9 mm and a length of 12.7 cm, the tube is vacuumed, heated to 180 ° C., kept at this temperature for 18 hours, and closed , heats it to 775 ° C and keeps it at that temperature for 48 hours. The product obtained is washed four times with distilled water and once with acetone.

Man reinigt und ätzt einen 14,3 cm langen, 9,5 breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen wie in Beispiel 1 beschrieben und streicht darauf vier Schichten aus einem Schlamm, hergestellt aus 0,2 g des PaXladium-Rhodium-Delafossits (PdRhO2), 0,4 g eines als Metall-berechnet 4,2 Gew.% Titan enthaltenden Titanresinats, 0,05 Phenol und 0,15 g Toluol, mit einem Pinsel auf. Nach jedem der Überzüge 1 bis 3 erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 5O0C in 10 Minuten auf 4500C, worauf man ihn 10 Minuten bei dieser Temperatur hält. Nach dem Auftragen der letzten Schicht erhitzt man ihn, ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 50°C in 10 Minuten, auf 500°C. Auch bei dieser Temperatur hält man den Streifen 10 Minuten.A 14.3 cm long, 9.5 wide and 3.175 mm thick titanium strip is cleaned and etched as described in Example 1 and four layers of a sludge made from 0.2 g of PaXladium-Rhodium-Delafossite (PdRhO 2 ) are painted on it. , 0.4 g of a titanium resinate containing 4.2% by weight of titanium, 0.05 g of phenol and 0.15 g of toluene, with a brush. After each of the coatings 1 to 3 by heating the strip at a rate of 5O 0 C in 10 minutes to 450 0 C, followed by keeping it for 10 minutes at this temperature. After the last layer has been applied, it is heated to 500 ° C in 10 minutes, also at a rate of 50 ° C. The strip is also kept at this temperature for 10 minutes.

Man ,prüf t die so hergestellte Elektrode als Anode wie beschrieben in einer Becherglas-Chloratzelle. Bei einerOne examines the electrode made in this way as an anode such as described in a beaker chlorate cell. At a

2 Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm und einer Temperatur des Elektrolyten von 600C hat die Elektrode eine Chlorüberspannung von 0,07VoIt.2 current density of 53.82 amperes per dm and a temperature of the electrolyte of 60 0 C, the electrode has a chlorine overvoltage of 0.07 volts.

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Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragraazelle der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse wie in Beispiel 1 beschrieben bei einer Stromdichte von 53,82 AmpereThe anode is placed in a common laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and conducts the electrolysis as described in Example 1 at a current density of 53.82 amps

2
pro dm durch. Am Beginn hat die Zelle eine Spannung von 3,69 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt. ' Nach einer Elketrolyse von 1320 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,71 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,15 Volt.
2
per dm through. At the beginning, the cell has a voltage of 3.69 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts. After electrolysis of 1320 hours, the cell has a voltage of 3.71 volts and a chlorine overvoltage of 0.15 volts.

Beispiel 5Example 5

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO_) als Überzugs seicht eine Elektrode her. Den Delafossit stellt man nach dem Anionenaus tauschver-. fahren aus Palladiummetall, Palladiumchlorid und Lithiumchromat her. Man gewinnt■Lithiumchromat durch das Umsetzen von Lithiumcarbonat (Li2CO-) mit Chromoxid (Cr2O-). Man zermahlt hierzu0ein Gemisch aus 3,6945 g LithiumcarbonatAn electrode is made from a titanium substrate and the palladium-chromium-delafossite (PdCrO_) as a coating. The delafossite is made after the anion exchange. are made from palladium metal, palladium chloride and lithium chromate. Lithium chromate is obtained by reacting lithium carbonate (Li 2 CO-) with chromium oxide (Cr 2 O-). This one grinds 0 a mixture of 3.6945 g of lithium carbonate

) und 7,6010 Chromoxid (Cr2O3), gibt das Pulver in eine Alundum-Schale und erhitzt es darin 4 Stunden auf 3300C und 12 Stunden auf 930 C. Man zermahlt das erhaltene Produkt, erhitzt es danach 23 Stunden auf 9300C, zermahlt es wieder und erhitzt es 23 Stunden auf 10400C. Man zermahlt das erhaltene dunkelgrüne Produkt und untersucht es, wie im Beispiel.1 beschrieben, röntgenspektroskopisch. Nach) and 7.6010 chromium oxide (Cr 2 O 3 ), put the powder in an alundum bowl and heat it for 4 hours to 330 ° C. and 12 hours to 930 ° C. The product obtained is ground and then heated for 23 hours 930 0 C, it grinds and heated again in 23 hours 1040 0 C. the dark green product obtained is grinds and examined, as described in Beispiel.1, röntgenspektroskopisch. To

309832/1096309832/1096

seinem Röntgendiagramm hat es die gleiche Kristallfora wie das LiM 0«.it has the same crystal shape in its X-ray diagram like the LiM 0 «.

Man stellt aus 1,8190 g Lithiumchromat (LiCrO2), 1,0670 g Palladiummetall und 1,7761 g Palladiumchlorid (PdCl2) durch1.8190 g of lithium chromate (LiCrO 2 ), 1.0670 g of palladium metal and 1.7761 g of palladium chloride (PdCl 2 ) are put through

• Mahlen ein Pulver mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen her, gibt das Pulvergemisch in e.in Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Rohr 16 Stunden bei 1300C luftleer, verschließt es, erhitzt es 46 Stunden auf 8000C und kühlt es. Man zermahlt das erhaltene Produkt, füllt es in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Quarzrohr 5 Stunden bei 130 C luftleer, verschließt es und erhitzt es 64 Stunden auf 8000C, was bedeutet, daß insgesamt 110 Stunden auf 8000C erhitzt wird.• grinding a powder having a grain size of less than 325 mesh forth, are the powder mixture in e.in quartz tube of an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm, the pipe sucks for 16 hours at 130 0 C evacuated, closes it, heats it to 800 0 C for 46 hours and cools it. The product obtained is ground, filled into a second quartz tube with an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm, the quartz tube is vacuumed for 5 hours at 130 ° C., closed and heated to 800 ° C. for 64 hours, which means that it is heated to 800 ° C. for a total of 110 hours.

Man zermahlt das erhaltene Produkt auf eine Korngröße von" weniger als 325 Maschen, wäscht es bei 250C mit destilliertemThe product obtained is ground to a grain size of "less than 325 meshes, and it is washed at 25 ° C. with distilled

ο Wasser, wäscht es danach noch zweimal mit Aceton bei 25 C undο water, then wash it twice more with acetone at 25 C and

trocknet es.it dries.

Man reinigt und ätzt einen Titanstreifen von einer Länge von 14,6 cm, einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke von 3,175 mm auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise.A titanium strip 14.6 cm in length, 9.5 mm in width and 3.175 in thickness is cleaned and etched mm in the manner described in Example 1.

Man stellt eine Lösung von 10 g eines als Metall berechnet 7,5 Gew.% Platin enthaltenden Platinresinats vom Typ Engelhard "0-5X" in 9 g Toluol her, so daß die Lösung 3,9 Gew.% als Metall berechnetes Platin enthält und bringt aus dieser Lösung vier Überzüge auf den Titanstreifen auf.A solution of 10 g of a platinum resinate of the type containing, calculated as metal, 7.5% by weight of platinum is prepared Engelhard "0-5X" in 9 g of toluene so that the solution Contains 3.9% by weight of platinum, calculated as metal, and applies four coatings to the titanium strip from this solution.

309132/1096309132/1096

Man erhitzt den Streifen jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 mit einer Geschwindigkeit von 50-° C in 5 Minuten auf 400° C und nach dem Aufbringen des vierten Überzuges, mit einer Geschwindigkeit - ; von 50° C in 10 Minuten, auf 500° C_und_hält._Ahn in jedem Fall 10 Minuten bei der jeweiligen Höchsttemperatur.The strip is heated after each application of coatings 1 to 3 at a rate of 50 ° C in 5 minutes to 400 ° C and after application of the fourth coating, at a speed -; from 50 ° C in 10 minutes, to 500 ° C_and_hold._Ahn in in each case 10 minutes at the respective maximum temperature.

Man stellt aus 0,2 g des Palladium-Chrom-Delafossits (PdCrO2), 0,4 g eines als Metall berechnet 4,2 Gew.% Titan enthaltenden Titanresinats, 0,05 g Phenol und 0,15 g Toluol einen Schlamm her und trägt daraus mit einem Pinsel vier Überzugs schichten auf den Titanstreifen auf. Man erhitzt die Elektrode jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10* Minuten auf 450 C und nach dem Aufbringen des letzten Überzugs, ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten, auf 5000C und hält sie in jedem Fall 10. Minuten bei der jeweiligen Höchsttemperatur.A slurry is prepared from 0.2 g of palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), 0.4 g of a titanium resinate containing 4.2% by weight of titanium, 0.05 g of phenol and 0.15 g of toluene and uses it to apply four layers of coating to the titanium strip with a brush. Heating the electrode in each case after the application of the coatings 1 to 3 at a rate of 50 0 C in 10 * minutes at 450 C and after application of the last coating, also at a rate of 50 0 C in 10 minutes, at 500 0 C and keeps it in any case for 10 minutes at the respective maximum temperature.

Man prüft die Elektrode dann als Anode in eiaer Becherglas-Chloratzelle wie im Beispiel 1 beschrieben. BeiThe electrode is then tested as an anode in a beaker chlorate cell as described in example 1. at

■ ; Ο■; Ο

einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm hat die Anode the anode has a current density of 53.82 amperes per dm

309832/1090309832/1090

- 55 Beispiel 6- 55 Example 6

Man stellt mit einem Titansubstrat, einer hierauf aufgetragenen Platinschicht, einer weiteren Schicht aus dem Platin-Kobalt-Delafossit (Pto qCoq 8^2^ unc* e^ner diese Schicht bedeckendeaSchicht aus porösem Titandioxid eine •Elektrode her.It provides with a titanium substrate coated thereon a platinum layer, a further layer of the platinum-cobalt Delafossit (Pto qCoq 8 ^ 2 ^ unc * e ^ ner this layer of porous titanium dioxide bedeckendeaSchicht • an electrode side.

Man stellt den Platin-Kobalt-Delafossit auf die Weise durch die Umsetzung von Platinchlorid (PtCl„) mit Kobalt-(II+III)-oxid (Co3O4) und Kobalt-(II)-oxid (CoO) her, daß man 7,9842 g Platinchlorid (PtCl2), 3,6123 g Kobalt-(II+IIl)-oxid (Co3O4) und 1,1241 g Kobalt-(II)-oxid (CoO) in einem Mörser zu einem Pulver mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen zerstößt und mischt, das Pulver in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und eine Länge von 12,7 cm füllt und darin im Vakuum 18 Stunden ajif 130 C erhitzt, worauf man das Rohr verschließt."The platinum-cobalt delafossite is produced by reacting platinum chloride (PtCl “) with cobalt (II + III) oxide (Co 3 O 4 ) and cobalt (II) oxide (CoO) in such a way that 7.9842 g of platinum chloride (PtCl 2 ), 3.6123 g of cobalt (II + IIl) oxide (Co 3 O 4 ) and 1.1241 g of cobalt (II) oxide (CoO) in a mortar to a Crush and mix powder with a grain size of less than 325 meshes, fill the powder into a quartz tube with an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm and heat it in a vacuum for 18 hours at 130 ° C., after which the tube is closed . "

Man erhitzt das verschlossene Quarzrohr 46 Stunden auf 700 C, nimmt das entstandene Produkt aus dem Quarzrohr heraus, mahlt es, gibt es in ein zweites Quarzrohr von . einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm , erhitzt das Rohr im Vakuum 8 Stunden auf 1300C, verschließt es und erhitzt es dann 64vStunden auf 7000C.The closed quartz tube is heated to 700 ° C. for 46 hours, the resulting product is removed from the quartz tube, it is ground, and then placed in a second quartz tube. mm an outer diameter of 10 and a length of 12.7 cm, the tube is heated in a vacuum for 8 hours 130 0 C, closes it and then heated it to 700 0 C. 64vStunden

Man nimmt das entstandene Produkt aus dem Rohr heraus, wäscht es fünfmal bei 25°C mit destilliertem Wasser, danach zweimal bei "25°C mit Aceton, trocknet es unter Luftzufuhr bei 700C,Take the resulting product out of the tube, it is washed five times at 25 ° C with distilled water, then washed twice at "25 ° C with acetone, it is dried in an air stream at 70 0 C,

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zerstößt es in einem Mörser zu einer Korngröße, von weniger als 325 Maschen und zerkleinert es weiter, indem man es eine Stunde lang in einer unter dem Warenzeichen "Mixer Mill" handelsüblichen Hammermühle mit einem . Hammer aus Borkarbid behandelt.crushes it in a mortar to a grain size of less than 325 mesh and crushes it further by adding one hour in a hammer mill sold under the trademark "Mixer Mill" with a. Boron carbide hammer treated.

Nach einer Untersuchung mit einem Elektronenmikroskop hat das erhaltene Material Korngrößen im Bereich zwischen 0,02 und 7,5 Mikron. Die Korngrößenverteilung liegt innerhalb zweier verschiedener Größenbereiche. In der Hauptsache liegen hierbei die Korngrößen zwischen 0,02 und 0,3 Mikron und zwischen 1,5 und 6,0 Mikron. Im Bereich der feinen Teilchen ist die mittlere Korngröße 0,1 Mikron, im Bereich de.r größeren. Teilchen ist sie 2,5 Mikron.After examination with an electron microscope, the material obtained has grain sizes in the range between 0.02 and 7.5 microns. The grain size distribution lies within two different size ranges. In the The main thing is that the grain sizes are between 0.02 and 0.3 microns and between 1.5 and 6.0 microns. in the In the area of fine particles, the mean grain size is 0.1 micron, in the area of the larger. Particle it is 2.5 Micron.

Man reinigt und ätzt einen 14,6 cm langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstrelfen, wie in Beispiel 1 beschrieben und streicht darauf acht Schichten aus einem 0,25 g des Delafossits PtQ gCOg gO_, 0,12 g Titantetrachlorid (TiCl,) in Butanol, 0,75 g Butanol und 0,15 g Phenol bestehenden Schlamm auf. Man erhitzt den Streifen nach jedem Überzug mit einer Geschwindigkeit von 500C in 5 Minuten auf A25°C.A titanium trelf 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is cleaned and etched, as described in Example 1, and eight layers of 0.25 g of the Delafossite Pt Q gCOg gO_, 0.12 g titanium tetrachloride are painted on it (TiCl,) in butanol, 0.75 g butanol and 0.15 g phenol. Heating the strip after each coating at a rate of 50 0 C in 5 minutes to A25 ° C.

Man stellt dann aus Titantetrachlorid (TiCl,) in Butanol einen Schlamm her, der, als Metall berechnet, 2,25 Gew.% Titan enthält und streicht diesen Schlamm in vier Schichten auf die Delafossitflache des Titanstreifens auf. Man erhitzt den Streifen jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 20 Minuten auf 1100C und danach 10 MinutenA sludge is then prepared from titanium tetrachloride (TiCl,) in butanol, which, calculated as metal, contains 2.25% by weight of titanium, and this sludge is spread in four layers on the delafossite surface of the titanium strip. The strip is heated to 110 ° C. for 1 to 3 20 minutes and then for 10 minutes after the coatings have been applied

309832/1096309832/1096

auf 425°C. Nach dem Aufbringen des letzten Überzugs erhitzt man ihn 20 Minuten auf HO0C und 15 Minuten auf 5000C.to 425 ° C. After the last coating has been applied, it is heated to HO 0 C for 20 minutes and to 500 0 C for 15 minutes.

Die auf diese Weise hergestellte Elektrode besteht aus einem Titansubstrat als Basis, einer Überzugsschicht aus dem Platin-Kobalt-Delafossit und einer dies.e bedeckenden äusseren Schicht aus Titandioxid. Man setzt die Elektrode in eine Becherglas-Chloratzelle als Anode ein. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm h^t die Anode eine Spannung von 1,175 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,12 Volt.The electrode produced in this way consists of a titanium substrate as a base, a coating layer made of platinum-cobalt delafossite and a dies.e covering outer layer of titanium dioxide. Place the electrode in a beaker chlorate cell as a Anode one. At a current density of 53.82 amperes per dm h ^ t the anode has a voltage of 1.175 volts against a Calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.12 volts.

Beispiel 7Example 7

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus Platin-Kobalt-Delafossit PtA 0ΟοΛ Q0o A titanium substrate is used as a base, a coating of platinum-cobalt-delafossite Pt A 0 Οο Λ Q 0 o

U,ο U1 ö /U, ο U 1 ö /

und einer hierauf aufgetragenen äußeren Schicht aus Titandioxid eine Elektrode her.and an outer layer of titanium dioxide applied thereon to produce an electrode.

Man reinigt einen 14,6 cm langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise, trägt darauf, aus einem Schlamm aus 0,5 g des nach Beispiel 6 hergestellten Platin-Kobalt-Delafossits (PtA oCo„ o0o), 0,25 g TitantetrachloridA titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is cleaned in the manner described in Example 1, and then, from a sludge made from 0.5 g of the platinum-cobalt delafossite (Pt A o Co " o o o ), 0.25 g of titanium tetrachloride

UjO UjO ZUjO UjO Z

(TiCl7), 0,75 g Butanol und 0,15 g Phenol sechs Über-(TiCl 7 ), 0.75 g butanol and 0.15 g phenol six over

309832/1088309832/1088

21043802104380

züge auf und erhitzt dan Streifen nach jedem Überzug zunächst 30 Minuten auf .110 C und dann 15 Minuten auf 4000C.on trains and heated dan strip of any coating first 30 minutes .110 C and then 15 minutes at 400 0 C.

Man stellt eine auf das Metall berechnet 2,1 Gew.% Titan enthaltende Lösung von Titantetrachlorid in Butanol her und trägt aus dieser Lösung vier Überzüge auf die Delafossitflache der Elektrode auf. Nach jedem der Überzüge 1 bis 3 erhitzt man die Elektrode zunächst 20 Minuten auf HO0C und dann 10 Minuten auf 4250C. Nach dem vierten Überzug erhitzt man sie zunächst 20 Minuten auf 110 C und dann 15 Minuten auf 5000G.A solution of titanium tetrachloride in butanol containing 2.1% by weight of titanium based on the metal is prepared and four coatings are applied from this solution to the delafossite surface of the electrode. After each of the coatings 1 to 3 by heating the electrode is first 20 minutes HO 0 C and for 10 minutes at 425 0 C. After the fourth coating is heated it first 20 minutes and then 110 C 15 minutes 500 0 G.

Man prüft die aus dem Titansubstrat, einem Überzug aus dem Platin - Kobalt - Delafossit und einem äußeren Überzug aus porösem Titandioxid bestehende Elektrode wie im Beispiel 1 beschrieben als Anode in einer Becherglas-Chloratzelle. Bei einer StromdichteOne tests the one from the titanium substrate, one coating from the platinum - cobalt - delafossite and one outer coating made of porous titanium dioxide electrode as described in Example 1 as an anode in a beaker chlorate cell. At a current density

2
von 53,82 Ampere pro dm hat die Anode eine Spannung von 1,160 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,10 Volt.
2
of 53.82 amperes per dm, the anode has a voltage of 1.160 volts against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.10 volts.

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse nach Beispiel 1 bei einerThe anode is placed in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and performs the electrolysis according to Example 1 at a

Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 374 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,10 Volt. Nach einer Elektrolyse von 74 Tagen hat die Zelle eine Spannung von 3,94 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,17 Volt.Current density of 53.82 amperes per dm. The cell has a voltage of 374 volts at the beginning and a chlorine overvoltage of 0.10 volts. After electrolysis For 74 days, the cell has a voltage of 3.94 volts and a chlorine overvoltage of 0.17 volts.

309832/1093309832/1093

Beispiel 8Example 8

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus dem Platin-Kobalt-Delafossit (?t„ oCo~ O0„)A titanium substrate is used as a base, a coating of platinum-cobalt-delafossite (? T " o Co ~ O 0")

U , O UjO L U, O UjO L

und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelegte!
Elektrode her.
and one inserted between the substrate and the delafossit coating!
Electrode.

zug eingelegten Schicht aus Rutheniumdioxid (RuO9) eineZug inlaid layer of ruthenium dioxide (RuO 9 ) a

Man entfettet, reinigt und atzt einen 14,6 ctn langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mra starken Titanstreifen auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise und streicht darauf mit einem Pinsel fünf Schichten aus einem 1,5 g Rutheniumtrichlorid (RuCl3^H2O) in 9 g Äthanol enthaltenden Schlamm auf. Man trocknet den Streifen nach jedem der ersten vier Überzüge 10 Minuten an der Luft und erhitzt ihn dann unter Luftzufuhr 10 Minuten auf 300 C. Man trocknet den letzten Überzug zunächst ebenfa.lls 10 Minuten an der Luft, erhitzt ihn dann aber 45 Minuten unter Luftzufuhr auf 450 C.A titanium strip 14.6 ctn long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is degreased, cleaned and etched in the manner described in Example 1 and five layers of 1.5 g of ruthenium trichloride (RuCl 3 ^ H 2 O) in sludge containing 9 g of ethanol. The strip is air-dried for 10 minutes after each of the first four coats and then heated to 300 ° C. for 10 minutes with a supply of air. The last coating is first air-dried for 10 minutes, but is then heated for 45 minutes with a supply of air to 450 C.

Man stellt aus 0,5 g des Platin-Kobalt-Delafossits (Ptn ßCon ß0o) nach Beispiel 6, 1,0g einer als Metall berechnet 4,2 Gew.% Titan enthaltenden Lösung von Titantetrachlorid (TiCl-) in Butanol, 0,2 g Phenol und einem Tropfen Nonylphenoxypolyoxyäthylenäthanol ("IGEPAL CO-530") einen Schlamm her und trägt daraus sechs Überzüge auf den Streifen auf. Nach jedem Überzug erhitzt man den Streifen zunächst 20 Minuten auf 1100C und dann 15 Minuten auf 400°C.From 0.5 g of the platinum-cobalt delafossite (Pt n ß Co n ß 0 o ) according to Example 6, 1.0 g of a titanium tetrachloride (TiCl-) solution containing 4.2% by weight of titanium in Butanol, 0.2 g of phenol and a drop of nonylphenoxypolyoxyethylene ethanol ("IGEPAL CO-530") produce a sludge and apply six coatings to the strip. After each coating by heating the strip at first 20 minutes 110 0 C and then 15 minutes at 400 ° C.

309832/109$309832 / $ 109

Danach überzieht man den Streifen mit einer Schicht aus einer als Metall berechnet 2,1 Gew.% Titan enthaltenden Lösung von Titantetrachlorid (TiCl,) in Butanol und erhitzt ihn zunächst 20 Minuten auf 110 C und dann 15 Minuten auf 500°C. Die nach diesem Verfahren erhaltene Elektrode hat ein gleichmäßig graues Aussehen.The strip is then coated with a layer of a solution of titanium tetrachloride (TiCl,) in butanol, calculated as metal, containing 2.1% by weight of titanium and heated first to 110 ° C. for 20 minutes and then to 500 ° C. for 15 minutes. The electrode obtained by this process has a uniform gray appearance.

Man prüft die Elektrode auf die im Beispiel 1 beschriebene The electrode is tested for that described in Example 1

Weise als Anode in einer Becherglas-Chloratzelle. BeiWay as an anode in a beaker chlorate cell. at

2 einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm hat die AnodeThe anode has a current density of 53.82 amperes per dm eine Spannung von 1,147 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,09 Volt.a voltage of 1.147 volts against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.09 volts.

Man setzt die Elektrode dann als Anode in eine laborübliehe Chlordiaphragmazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse wie im The electrode is then used as an anode in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and the electrolysis is carried out as in

Beispiel 1 beschrieben bei einer Stromdichte von 53,82Example 1 described at a current density of 53.82

2 '2 '

Ampere pro dm durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,60 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,09 Volt. Nach einer Elektrolyse von 936 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,72 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt. Amps per dm . The cell initially has a voltage of 3.60 volts and a chlorine overvoltage of 0.09 volts. After 936 hours of electrolysis, the cell has a voltage of 3.72 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts.

309832/1088309832/1088

230A380230A380

Beispiel 9Example 9

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus dem Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelegten Schicht aus Rutheniumdioxid (RuO2) eine Elektrode her.An electrode is produced using a titanium substrate as the base, a coating of palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ) and a layer of ruthenium dioxide (RuO 2) sandwiched between the substrate and the delafossite coating.

Man entfettet, reinigt und ätzt einen 14,6 cm langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise und streicht darauf mit einem Pinsel vier Schichten aus einem 1,5 g Rutheniuratrichlorid (RuCl3*3H2O) in 9 g Äthanol enthaltenden Schlamm auf. Man trocknet den streifen nach jedem der ersten drei Überzüge 10 Minuten an der Luft und erhitzt ihn dann in einem luftoffenen Ofen auf eine Temperatur von 3000C, bei der man ihn 10 Minuten hält. Man trocknet den Streifen nach dem vierten Überzug ebenfalls 10 Minuten an der Luft, erhitzt ihn dann aber in einem luftoffenen Ofen auf 4500C und hält ihn 45 Minuten bei dieser Temperatur.A titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is degreased, cleaned and etched in the manner described in Example 1 and four layers of 1.5 g rutheniurate dichloride (RuCl 3 * 3H 2 O) in sludge containing 9 g of ethanol. Dry the strip after each of the first three coatings 10 minutes in air and then heating it in an air-open furnace to a temperature of 300 0 C, it stops at the one 10 minutes. Dry the strip after the fourth coating is also 10 minutes in the air, but then heating it in an air-open oven at 450 0 C and holding it for 45 minutes at this temperature.

Man stellt aus 0,2 g des Palladium-Kobalt-Delafossits (PdCoO2) nach Beispiel 1, 0,4 g eines als Metall berechnet 4,2 Gew.% Titan enthaltenden Titanresinats, 0,15 g Toluol und 0,05 g Phenol einen Schlamm her und trägt daraus sechs Überzüge auf den Titanstreifen auf. Nach jedem der ersten fünf Überzüge erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 5O0C in 5 Minuten auf 4250C. Nach demFrom 0.2 g of the palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ) according to Example 1, 0.4 g of a titanium resinate containing 4.2% by weight of titanium, 0.15 g of toluene and 0.05 g of phenol are prepared produced a mud and applied six coatings from it to the titanium strip. After each of the first five coatings by heating the strip at a rate of 5O 0 C in 5 minutes at 425 0 C. After

309832/1096309832/1096

letzten Überzug erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50°C in 5 Minuten auf eine Temperatur von 5000C, bei der man ihn 15 Minuten hält.last coating by heating the strip at a rate of 50 ° C in 5 minutes at a temperature of 500 0 C, it stops at the one 15 minutes.

Man setzt die aus einem Titansubstrat, einem Überzug aus dem Palladium-Kobalt-Delafossit und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelagerten Rutheniumdioxidschicht bestehende Elektrode als Anode in eine Becherglas-Chloratzelle nach Beispiel 1 ein.They are made of a titanium substrate, a coating of palladium-cobalt delafossite and one between The ruthenium dioxide layer embedded in the substrate and the delafossite coating acts as an anode into a beaker chlorate cell according to Example 1.

2 Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm hat die Anode eine Spannung von 1,141 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt,2 At a current density of 53.82 amps per dm, the anode has a voltage of 1.141 volts against a Calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.08 volts,

Man setzt die Anode in eine Chlordiaphragmazelle von den im Laboratorium üblichen Maßen ein und führt die Elektrolyse nach Beispiel 1 bei einer Stromdichte vonThe anode is inserted into a chlorine diaphragm cell of the dimensions customary in the laboratory and the Electrolysis according to Example 1 at a current density of

2
53,82 Ampere pro dm durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,48 Volt und eine Chlorüb er spannung von 0,08 Volt. Nach^.einer Dauer der Elektrolyse von 576 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,49 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt.
2
53.82 amps per dm. At the beginning, the cell has a voltage of 3.48 volts and a chlorine voltage of 0.08 volts. After a period of electrolysis of 576 hours, the cell has a voltage of 3.49 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts.

309832/1096309832/1096

Beispiel 10Example 10

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis und einem Palladium-Rutheniuni-Delafossit (PdRuCL) eine Elektrode her.One sets one with a titanium substrate as a base and a palladium-ruthenium-delafossite (PdRuCL) Electrode.

Man entfettet, reinigt und ätzt einen 14,6 cm langen, 9,5 nun breiten und 3,175 starken Titanstreifen wie im Beispiel !beschrieben.You degrease, clean and etch a 14.6 cm long, 9.5 now wide and 3.175 thick titanium strip such as described in the example!

Man stellt aus 0,4055 g metallischem Palladium (Pd), 0,6749 g Palladiumchlorid (PdGl), 1,5813 g Rutheniumtrichlorid (RuCl) und 4,4528 g Lanthamoxid (La-O3) ein Gemisch her, zerkleinert es gründlich, gibt es in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 12 mm und einer Länge von 12,7 cm,erhitzt das Rohr im Vakuum 4 Stunden auf 25°C, 16 Stunden auf 7O0C und 4 Stunden auf 120 C, saugt es dann luftleer und verschließt es. Man erhitzt das verschlossene Rohr auf 775 C und hält es bei dieser Temperatur 70 Stunden. Man öffnet da? Rohr, entnimmt ihm das entstandene Produkt, mahlt es und gibt es in ein zweites Quarzrohr. Man saugt das zweite Quarzrohr dann 3 Stunden bei 25 C und 4 Stunden bei 120°C luftleer, verschließt es, erhitzt es auf 72O0C und hält es 42 Stunden bei dieser Temperatur.A mixture is prepared from 0.4055 g of metallic palladium (Pd), 0.6749 g of palladium chloride (PdGl), 1.5813 g of ruthenium trichloride (RuCl) and 4.4528 g of lantham oxide (La-O 3 ), it is crushed thoroughly, there are in a quartz tube of an outer diameter of 12 mm and a length of 12.7 cm, heating the tube in a vacuum for 4 hours at 25 ° C for 16 hours to 7O 0 C and 4 hours at 120 C, it sucks then evacuated and lock it. The sealed tube is heated to 775 ° C. and held at this temperature for 70 hours. Do you open it? Rohr, takes the resulting product from it, grinds it and puts it in a second quartz tube. One then draws the second quartz tube at 25 C for 3 hours and 4 hours at 120 ° C deflated, it closes, it is heated to 72o 0 C and holding it for 42 hours at this temperature.

Man läßt das Rohr abkühlen, öffnet es, entnimmt ihm das entstandene Produkt und wäscht dieses fünfmal mit Wasser,You let the tube cool down, open it, take it out of it resulting product and washes it five times with water,

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"darauf einmal mit 1-n Salzsäure, wiederum zweimal mit Wasser und abschließend einmal mit Aceton. Man stellt aus dem Produkt mit Titanchlorid in Butanol einen Schlamm her und trägt diesen auf den angeätzten Titanstreifen auf. Die Elektrode besteht aus einem Titansubstrat mit einem Überzug aus einem Palladium-Ruthenium-Delafossit und Titandioxid."then once with 1N hydrochloric acid, again twice with water and finally once with acetone. The product is made with titanium chloride in butanol a mud and applies it to the etched titanium strip. The electrode consists of one Titanium substrate with a coating of a palladium-ruthenium-delafossite and titanium dioxide.

Es sei betont, daß die Erfindung auf die dargestellten und in spezifischen Einzelheiten beschriebenen Ausführungs; formen nicht eingeschränkt sein soll, sondern alle im Rahmen der folgenden Ansprüche möglichen anderen Ausführungsformen sowie Varianten und Abwandlungen mitumfasst. It should be emphasized that the invention is based on the embodiment shown and described in specific detail ; Shapes should not be restricted, but all other possible embodiments as well as variants and modifications that are possible within the scope of the following claims.

309832/1096309832/1096

Claims (34)

- 65 Patentansprüche- 65 claims 1. Elektrode,gekennzeichnet durch einen elektrischleitenden Träger und eine hierauf befindliche Überzugsschicht, die einen Delafossiten enthält.1. Electrode, characterized by an electrically conductive one Carrier and a coating layer thereon which contains a delafossite. 2. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus einem Gleichrichtermetall (valve metal) besteht.2. Electrode according to claim 1, characterized in that the carrier is made of a rectifier metal (valve metal) consists. 3. Elektrode.nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus .Titan besteht.3. Elektro.nach claim 2, characterized in that the carrier is made of titanium. 4. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus Graphit besteht.4. Electrode according to claim 1, characterized in that the carrier consists of graphite. 5. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß 'der Delafossit Palladium enthält.5. Electrode according to claim 1, characterized in that 'which contains delafossite palladium. 6. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ,der Delafossit Platin enthält.6. Electrode according to claim 1, characterized in that the delafossite contains platinum. 7. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen der den Delafossit enthaltenden Schicht und dem Träger eine Schicht aus einem Material befindet, das den elektrischen Strom besser leitet als der Delafossit. 7. Electrode according to claim 1, characterized in that between the layer containing the delafossite and the support is provided with a layer of a material that conducts electrical current better than the delafossite. 309832/1098309832/1098 - ft r. * ti - ft r. * ti - 66 -- 66 - 8. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen der den Delafossit enthaltenden Schicht und dem Träger eine Schicht aus einem Material befindet, das.gegen den Elektrolyten beständiger als der Träger ist.8. Electrode according to claim 1, characterized in that between the layer containing the delafossite and the carrier is a layer of a material, that is more resistant to the electrolyte than the carrier. ' 9.. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als Delafossit den Platin-Kobalt-Delafossit, 'den Palladium-Kobait-Delafossit, den Palladiura-Chrom-Dela- fossit, den Palladium-Rhodiura-Delafossit, den Palladium-Ruthenium-Delafossit, den Palladiura-Blei-Delafossit, . den Pallädiura-Yttrium-Delafossit, den Palladium-Lanthanid-Delafossit, den Silber-Kobalt-Delafossit, den Silber-Gadoliniura-Delafossit, den Silber-Scandium-DelafOssit, den Silber-ThaHium-Delafossit, den Silber-Indiura-Delafossit, den Kupfer-Kobalt-Delafossit oder den Rupfer-Eisen-Delafossit verwendet. '9 .. Electrode according to claim 1, characterized in that the platinum-cobalt-delafossite, ' the palladium-cobalt-delafossite, the palladiura-chromium-delafossite, the palladium-rhodiura-delafossite, the palladium- Ruthenium delafossite, the Palladiura lead delafossite,. the palladiura-yttrium-delafossite, the palladium-lanthanide-delafossite, the silver-cobalt-delafossite, the silver-gadoliniura-delafossite, the silver-scandium-delafossite, the silver-thaHium-delafossite, the silver-indiura-delafossite, the Copper-cobalt delafossite or plucking iron delafossite is used. 10. Mit einem Elektrodenpaar ausgerüstete elektrochemische Vorrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß eine der10. Electrochemical one equipped with a pair of electrodes Device, characterized in that one of the . beiden Elektroden einen Delafossiten enthält.. contains a delafossite on both electrodes. 11. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, worin die Anode durch einen elektrisch-leitenden Träger mit einem einen Delafossiten enthaltenden Überzug gekennzeichnet ist. . 11. An electrochemical device according to claim 10, wherein the anode is characterized by an electrically conductive support with a coating containing a delafossite. . 308833/109«308833/109 « 12. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch ein äußeres Mittel, mit dem
zwischen dem Elektrodenpaar eine elektromotorische Kraft zur Wirkung gebracht wird.
12. Electrochemical device according to claim 10, characterized by an external means with which
an electromotive force is brought into effect between the pair of electrodes.
13. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch ein inneres Mittel, mit dem
zwischen dem Elektrodenpaar eine elektromotorische Kraft zur Wirkung gebracht wird.
13. Electrochemical device according to claim 10, characterized by an internal means with which
an electromotive force is brought into effect between the pair of electrodes.
14. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus einem
Gleichrichtermetall (valve metal) besteht.
14. Electrochemical device according to claim 10, characterized in that the carrier consists of a
Valve metal.
15. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß man als Gleichrichtermetall Titan verwendet.15. Electrochemical device according to claim 14, characterized in that the rectifier metal Titan used. 16. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 11, da-. durch gekennzeichnet, daß der Träger aus Graphit16. Electrochemical device according to claim 11, da-. characterized in that the support is made of graphite besteht.consists. 17. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Delafossit Palladium enthält.17. Electrochemical device according to claim 10, characterized in that the delafossite is palladium contains. 18. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Delafossit Platin enthält.18. Electrochemical device according to claim 10, characterized in that the delafossite contains platinum. 309832/1096309832/1096 19. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen der den Delafossit enthaltenden-Schicht und dem Träger eine Schicht aus einem Material befindet, das den elektrischen Strom besser leitet als der Delafossit.19. Electrochemical device according to claim 10, characterized in that between the delafossite containing-layer and the carrier is a layer of a material that has the electrical Conducts electricity better than the Delafossit. 20. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen der den Delafossit enthaltenden Schicht und dem Träger eine Schicht aus einem Material befindet, das gegen den Elektrolyten beständiger als der Träger ist.20. Electrochemical device according to claim 10, characterized characterized in that between the layer containing the delafossite and the support a Layer is made of a material that is more resistant to the electrolyte than the carrier. 21. Elektrochemische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man als Delafossit den Platin-Kobalt-Delafossit, den Palladiutn-Kobalt-Delafossit, den Palladium-Chrom-Delafossit, den Palladiurn-Rhodium-Delafossit, den Palladium-Ruthenium-Delafossit, den Paliadium-Blei-Delafossit, den Palladium-Yttrium-Delafossit, den Palladium-Lanthanid-Delafossit, den Silber-Kobalt-Delafossit, den Silber-Gadolinium-Delafossit, den Silber-Scandium-Delafossit, den Silber-21. Electrochemical device according to claim 10, characterized in that the Delafossit is used Platinum-cobalt-delafossite, the palladiutn-cobalt-delafossite, the palladium-chromium-delafossite, the palladium-rhodium-delafossite, the palladium-ruthenium-delafossite, the paliadium-lead-delafossite, the palladium-yttrium-delafossite, the palladium-lanthanide-delafossite, the silver-cobalt-delafossite, the silver-gadolinium-delafossite, the silver-scandium delafossite, the silver . ThallLum-Delafossit, den Silber-Indium-Delafossif, den Kupfer-Kobalt-Delafossit oder den Kupfer-Eisen-Delafossit verwendet.. ThallLum delafossite, the silver indium delafossif, the Copper-cobalt delafossite or copper-iron delafossite used. 22. Verfahren zur Durchführung einer elektrochemischen Reaktion, wobei ein Elektrodenpaar in einen Elektrolyten22. A method for carrying out an electrochemical reaction, wherein a pair of electrodes in an electrolyte 309832/1096309832/1096 . eingesetzt und zwischen dem Elektrodenpaar ein elektrisches Potential hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine der beiden Elektroden einen Delafossit enthält.. used and an electrical potential is established between the pair of electrodes, thereby characterized in that one of the two electrodes contains a delafossite. 23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß der Delafossit Palladium enthält.23. The method according to claim 22, characterized in that the delafossite contains palladium. 24. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß der Delafossit Platin enthält.24. The method according to claim 22, characterized in that the delafossite contains platinum. 25. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Potential von außen angelegt wird.25. The method according to claim 22, characterized in that the electrical potential is applied from the outside. 26. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Potential von innen angelegt wird.26. The method according to claim 22, characterized in that the electrical potential is applied from the inside. 27.^ Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß der.Delafossit in einem auf einen elektrisch leitenden Träger aufgetragenen Überzug enthalten ist.27. ^ The method according to claim 22, characterized in that der.Delafossit is contained in a coating applied to an electrically conductive carrier. 28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus Graphit besteht. . ·28. The method according to claim 27, characterized in that the carrier consists of graphite. . · 29. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus einem Gleichrichtermetall (valve metal) besteht.29. The method according to claim 27, characterized in that the carrier made of a rectifier metal (valve metal). 309832/109«309832/109 « 30. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus Titan besteht.30. The method according to claim 29, characterized in that the carrier consists of titanium. 31. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dar den Delafossit enthaltenden Schicht und dem. Träger eine Schicht aus einem Material eingelegt wird, das den elektrischen Strom besser leitet -als der Delafossit.31. The method according to claim 27, characterized in that that between the layer containing the delafossite and the. Carrier inserted a layer of a material that conducts the electric current better than the Delafossit. 32. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der den Delafossit enthaltenden Schicht und dem Träger eine Schicht aus einem Material eingelegt wird, das gegen den Elektrolyten beständiger als der Träger ist.32. The method according to claim 27, characterized in that between the layer containing the delafossite and a layer of a material is inserted into the carrier which is more resistant to the electrolyte than the carrier is. 33. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß man als Delafossit den Platin-Kobalt-Delafossit, den Palladium-Kobalt-Delafossit, den Palladium-Chrom-De-lafossit, den Palladium-Rhodium-Delafossit, den Palladium-Ruthenium-Delafossit, den Palladium-Blei-Delafossit, den Palladium-Yttrium-Delafossit, den -Palladium-Lanthanid-Delafossit, den Silber-Kobalt-Delafossit, den Silber-Gadoliniura-Delafossit, den33. The method according to claim 22, characterized in that the delafossite is the platinum-cobalt delafossite, the Palladium-cobalt delafossite, palladium-chromium de-lafossite, the palladium-rhodium-delafossite, the palladium-ruthenium-delafossite, the palladium-lead-delafossite, the palladium-yttrium-delafossite, the palladium-lanthanide-delafossite, the silver-cobalt-delafossite, the silver Gadoliniura delafossite, the . Silber-Scandium-Delafossit, den Silber-Thaüaium-Delafossit, den Silber-Indiutn-Delafossit, den Kupfer-Kobalt-Delafossit oder den Kupfer-Eisen-Delafossit verwendet.. Silver scandium delafossite, the silver thaüaium delafossite, the silver-Indian delafossite, the copper-cobalt-delafossite or the copper-iron delafossite is used. 309832/1096309832/1096 34. Ein Palladium-Ruthenium-Oxid mit dem Kristaligefüge eines Delafossiten.34. A palladium-ruthenium oxide with the crystal structure of a Delafossite. 309832/1096309832/1096
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