DE2236761A1

DE2236761A1 - PROCESS FOR PIVOTING THE END SURFACES OF ELECTRIC CAPACITORS

Info

Publication number: DE2236761A1
Application number: DE2236761A
Authority: DE
Inventors: Heinrich Dipl Ing Gottlob; Hans Dipl Phys Haid; Hartmut Dipl Ing Kessler
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1972-07-26
Filing date: 1972-07-26
Publication date: 1974-02-07
Also published as: DE2236761B2

Description

Verfahren zum pendelnden Beschoopen von Stirnflächen elek -trischer Kondensatoren Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum pendelnden Beschoopen von Stirnflächen elektrischer Kondensatoren, deren Ausdehnung in allen Richtungen größer ist als der Durclunesser des Schoopstrahls, bei dem die Stirnflächen mit konstanter Geschwindigkeit in einer Richtung und der Schoopstrahl in einer zu dieser annähernd senkrechten Richtung.Process for the swinging Beschooping of front surfaces of electrical Capacitors The invention relates to a method for swinging Beschooping Frontal surfaces of electrical capacitors, the extent of which is greater in all directions is than the Durclunesser of the Schoopstrahls, in which the frontal surfaces with constant Speed in one direction and the Schoopstrahl in one approximate to this perpendicular direction.

verschoben werden, Bei derartigen Verfahren wird der Sc'.ioopstrahl üblicherweise ähnlich einer tolbenbewegung bewegt, deren zeitlicher Ablauf einer Sinuskurve gleicht. Dieses übliche Verfahren führt zu einer Verdickung der Schoopschicht im äußeren Teil des beschoopten-Bereichs. Da auf Grund von Toleranzforderungen dieser verdickte Bereich nicht verwendet werden kann, läßt das übliche Verfahren nur die Verwendung des mittleren Bereichs zu. Dadurch wird ein großer Teil des Schoopmetalls nicht ausgenützt, sondern geht verloren.be shifted, with such procedures the Sc'.ioopstrahl usually moved similar to a piston movement, the timing of which is a Sinusoid is the same. This common procedure leads to a thickening of the Schoopschicht in the outer part of the crafted area. Because due to tolerance requirements this thickened area can not be used, the usual procedure leaves only the Use the middle range too. This will make a large part of the Schoopmetall not used, but lost.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, die Ausnützung des Schoopmetalls zu verbessern.The object of the present invention is to utilize to improve the Schoopmetall.

Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs beschriebenen Art dadurch gelöst, daß der Schoopstrahl relativ zu der zu beschoopenden Stirnfläche entlang annähernd gerader Linien mit konstanter Geschwindigkeit bis zu einem Umkehrpunkt bewegt wird und naß im Umkehrpunkt eine möglichst schnelle Umkehrung der Richtung erfolgt.In a method, this task is described at the outset Art solved in that the Schoopstrahl relative to the face to be beschoopenden along approximately straight lines at constant speed to a turning point is moved and wet at the reversal point as quickly as possible reversal of direction he follows.

Dieses Verfahren hat den Vorteil, daß über den Gesamtbereich der Bewegung des SchoonstrahTs und über die Umkehrpunkte hinaus in einem Bereich, der auf beiden Seiten je die Hälfte des Durehmessers des Schoopstrahls ausmacht, eine gleichmäße Beschoopung stattfindet. Als Durchmesser des Schoopstrahls 8011 der Durchmesser des Kreises verstanden sein, innerhalb dessen beim Beschoopen ohne Bewegung der zu beschoonenden Unterlage gegenüber dem Schoopstrahl kein Punkt eine mehr als zulastge Abweichung von der größten Schichtdicke der aufgeschoopten Schicht aufweist. Im allgemeinen darf hierbei die Schichtdicke der aufgeschoopten Schicht nicht weniger als 80 der maximalen Schichtdicke betragen.This method has the advantage that it covers the entire range of motion of the SchoonstrahTs and beyond the turning points in an area that is on both Each side makes up half of the diameter of the Schoopstrahls, an even one Procurement takes place. As the diameter of the Schoop jet 8011 be understood as the diameter of the circle, within which when Beschoopening without Movement of the surface to be coated against the Schoopstrahl no point one deviation from the greatest layer thickness of the laid-up layer by more than a burden having. In general, the thickness of the layer that has been scooped up may be used not less than 80 of the maximum layer thickness.

Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung besteht darin, daß die Richtungsänderung der Bewegung des Schoopstrahls hydraulisch hervorgerufen wird und daß die Amplitude der' Bewegung des Schoopstrahls - gemessen von einem Umkehrpunkt zum anderen - etwa der um den Durchmesser des Schoopstrahls verkleinerten Ausdehnung der Schoopschicht in der Bewegungsrichtung des Schoopstrahls entspricht. Dabei reicht die geringe Verweilzeit beim hydraulischen Umschalten aus, um auch am Rand des Durchmessers des Schoopstrahls eine ausreichendeA Schichtdicke zu erzeugen. Dieses Verfahren ermöglicht gegen-.An advantageous embodiment of the invention is that the The change in direction of the movement of the Schoopjet is caused hydraulically and that the amplitude of the movement of the Schoop Ray - measured from a turning point on the other hand - for example the expansion reduced by the diameter of the Schoop jet corresponds to the Schoopschicht in the direction of movement of the Schoopstrahls. That is enough the short dwell time during the hydraulic switchover to also at the edge of the diameter of the Schoop stream to produce a sufficient layer thickness. This method allows against.

über dem aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren eine Einsparung von mehr als der Hälfte @es Schoopmaterials. Es läßt sich besonders vorteilhaft zum Beschoopen von Mutter-oder Ausgangskondensatoren verwenden, die zur erstellung von Stapel- oder Schichtkondensatoren nach dem Beschoopen zerteilt werden sollen.a saving over the method known from the prior art from more than half @es Schoopmaterials. It can be particularly advantageous Use for looping mother or output capacitors that are used to create of stacked or layered capacitors are to be divided after the Beschoopen.

Die Erfindung wird nun anhand der Figuren 1 und 2 naher erlHutert.The invention will now be explained in more detail with reference to FIGS.

Fi. 1 und p zeiten eine gemäß dem Stand der Technik aufgetragene Schicht und den zugehörigen Verlauf der Bewegung des Schoonstrahls; Fig. 3 und 4 zeigen eine erfindungsgemäß aufgebrachte Schicht un den zugehörigen Verlauf der Bewegung des Schoopstrahls.Fi. 1 and p times a layer applied according to the prior art and the associated course of the movement of the schoon jet; Figures 3 and 4 show a layer applied according to the invention and the associated course of movement of the Schoopstrahls.

Bei einem Verfahren gemäß dem Stand der Technik verläuft der Schoonrtrahl entlang der Kurve 1 zwischen den Umkehrungspunkten suf den Linien 2. Die äuße@e Begrenzung des Schoonstrahls mit dem Durchmesser d erreicht die Linien 3, die um d/2 außerhalb der Linien 2 liegen. Daraus ergibt sich eine Schichtdickenverteilung gemäß Kurve 4 mit zwei Maxima 5 und einem relativ dünnen Teil 6, der annähernd gleichmäßige Schichtdicke aufweist. Der zu beschoopende Gegenstand darf nicht breiter sein als die Breite a des Teils mit relativ kleiner Schichtdicke.In a method according to the prior art, the schoonr beam runs along curve 1 between the reversal points suf lines 2. The outer @ e Limitation of the schoon beam with the diameter d reaches the Lines 3 that lie outside of lines 2 by d / 2. This results in a layer thickness distribution according to curve 4 with two maxima 5 and a relatively thin part 6, the approximately uniform one Has layer thickness. The object to be hooped must not be wider than the width a of the part with a relatively small layer thickness.

Beim Verfahren gemäß der Erfindung bewegt sich der Schoonstrahl gegenüber der zu beschoopenden Unterlage entlang der Kurve 7. Bei Erreichen der Linien 8 wird die Bewegun=o.srichtung des Schoopstrahls durch ein hydraulisches Verfahren umgeschaltet. Dabei setzt sich die Bewegangskurve 7 aus der Bewegung des Schoopstrahls und der der zu beschoopenden Unterlaçe zusammen. Der Schoopstrahl selbst bewegt sich senkrecht zu den-X1nien 8. Die äußere Begrenzung des Schoonstrahls mi.t dem Durchmesser d bewegt sich zwischen den Linien 9, die um d/2 außerhalb der Linien 8 liegen. Daraus resultiert eine Schicht mit dem Profil 10, deren annähernd geradliniger Teil b eine gleichmaßige Schichtdicke aufweist und innerhalb der geforderten Dickentoleranz liegt, so daß er zur Beschichtung voll ausgenützt werden kann.In the method according to the invention, the schoon jet moves opposite the surface to be hooped along the curve 7. When reaching the line 8, is the direction of movement of the schoop jet is switched by a hydraulic process. The movement curve 7 is made up of the movement of the Schoopstrahls and the the Unterlaçe to be booped together. The Schoopstrahl itself moves vertically to the-X1nien 8. The outer limit of the schoon beam with the diameter d moves between lines 9, which lie outside lines 8 by d / 2. From it the result is a layer with the profile 10, the approximately straight part b of which is a has a uniform layer thickness and within the required thickness tolerance lies so that it can be fully utilized for coating.

Wie aus den Figuren 1 und 9 hervorgeht, ist der Bereich b wesentlich größer als der Bereich a beim Stand der Technik.As can be seen from FIGS. 1 and 9, the area b is essential larger than the area a in the prior art.

2 Patentansprüche 4 Piguren2 claims 4 Piguren

Claims

Patent claims process for pendular scooping of end faces electrical capacitors whose expansion in all directions eats coarser than the diameter of the schoop jet at which the end faces are at constant speed in one direction and the Schoopstrahl in one approximately perpendicular to this Direction to be shifted, d u r c h g e k e n n n z e i c h n e t that the Schoopstrahl is approximately straighter relative to the end face to be hooped Lines at constant speed before being moved to a reversal point and that at the reversal point, the direction is reversed as quickly as possible.

2. The method according to claim 1, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t that the change in direction of the movement of the schoop jet is caused hydraulically and that the amplitude of the movement of the Schoopstrahls - measured from a turning point on the other hand - for example the expansion reduced by the diameter of the Schoop jet corresponds to the face to be scooped in the direction of movement of the scoop jet.