DE2144748B2 - Verfahren zur veresterung von halogensilanen mit alkoholen in der gasphase - Google Patents
Verfahren zur veresterung von halogensilanen mit alkoholen in der gasphaseInfo
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- DE2144748B2 DE2144748B2 DE19712144748 DE2144748A DE2144748B2 DE 2144748 B2 DE2144748 B2 DE 2144748B2 DE 19712144748 DE19712144748 DE 19712144748 DE 2144748 A DE2144748 A DE 2144748A DE 2144748 B2 DE2144748 B2 DE 2144748B2
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 title claims description 9
- 230000032050 esterification Effects 0.000 title claims description 8
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 title claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 53
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 14
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 9
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 22
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 18
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 18
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 14
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 12
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 9
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 9
- -1 silicon halides Chemical class 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 5
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical group Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)Cl QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004028 SiCU Inorganic materials 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)OC GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Epoxybutane Chemical compound CCC1CO1 RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQXKWPLDPFFDJP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethyloxirane Chemical compound CC1OC1C PQXKWPLDPFFDJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBEHFRAORPEGFH-UHFFFAOYSA-N Allyxycarb Chemical compound CNC(=O)OC1=CC(C)=C(N(CC=C)CC=C)C(C)=C1 FBEHFRAORPEGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000237858 Gastropoda Species 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000589614 Pseudomonas stutzeri Species 0.000 description 1
- 229910003930 SiCb Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 230000003467 diminishing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 1
- 125000005358 mercaptoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000004999 nitroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- JSECNWXDEZOMPD-UHFFFAOYSA-N tetrakis(2-methoxyethyl) silicate Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)OCCOC JSECNWXDEZOMPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/04—Esters of silicic acids
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
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- C07F7/06—Esters of silicic acids with hydroxyaryl compounds
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Veresterung von Organohalogensilanen oder Trichlorsilan bis zu
wenigstens 80% der Halogenatome, wobei während der Umsetzung die Temperatur so geführt wird, daß die
Reaktionsteilnehmer und -produkte gasförmig bleiben, woraufhin man die Reaktionsprodukte gasförmig aus
der Reaktionszone abführt.
Es ist bekannt, Äthylsilicat und andere Orthoester einwertiger Alkohole aus Siliciumhalogeniden mit den
entsprechenden Alkoholen herzustellen. Derartige Umsetzungen von Siliciumtetrachlorid bzw. Siliciumtetrafluorid
in flüssiger und in gasförmiger Phase sind bereits bekannt.
Wie bereits erwähnt, ist der wesentliche Punkt des erfindungsgemäßen Verfahrens darin zu sehen, daß die
vollständige Reaktion bis zur Austragung der Reaktionspartner in Gasphase stattfindet. 1st dies nämlich
nicht der Fall und wird wie in bekannten Umsetzungsverfahren in flüssiger Phase gearbeitet, so verschlechtert
die rückläufige Reaktion, nämlich der Angriff des gebildeten Chlorwasserstoffs auf die gebildeten Kieselsäureester,
die Ausbeute an den angestrebten Veresterungsprodukten. Es zeigte sich jedoch wider Erwarten,
daß durch die erfindungsgemäße Maßnahme einer vollständigen Dampfphasenreaktion diese die Ausbeute
schmälernde rückläufige Reaktion weitestgehend zurückgedrängt werden kann, so daß man Ausbeuten in
der Größenordnung von 99% an den angestrebten Estern erreichen kann.
Es zeigte sich auch, daß bei Umsetzungen in flüssiger Phase der gebildete Chlorwasserstoff zu vielfältigen
Reaktionen mit Substituenten am Siliciumatom der Halogensilane führen kann. Wird beispielsweise Trichlorsilan
SiHCl3 mit Methanol zu HSi(OCH3J3 umgesetzt,
so greift der gebildete Chlorwasserstoff die Si-H-Bindung an und es wird in erheblicher Menge
Tetramethylsilicat Si(OCHj)4 gebildet. Weil viele funktionelle
organische Gruppen, die über eine Organogruppe am Silicium hängen, während der Veresterung in
flüssiger Phase vorzeitig umgesetzt werden, werden solche Reaktionen weitgehendst vermieden und man
geht aus von veresterten Silanen und nicht von Halogensilanen. Obwohl man beispielsweise aus AlIyI-isocyanat
und Trichlorsilan y-Isocyanatpropyltrichlorsiian
erhält, kommt man doch nicht zu dem entsprechenden Alkoxysilan, weil die Isocyanatgruppe mit dem
Alkohol in flüssiger Phase unter Carbamatbildung reagiert. Offensichtlich ist die Reaktionsgeschwindigkeit
des Alkohols mit der Isocyanatgruppe größer als mit der Silylchloridgruppe. Im Falle von /?-Cyanäthyltrichlorsilan
wird bei der Veresterung in flüssiger Phase die Cyangruppe in unerwünschter Weise hydrolisiert.
Aus »Chem. Prumyl«, Bd. 11, Seiten 461 -466 (1961),
vgl. C. A, 56, 496 (1962), ist ein Verfahren bekannt,
wonach 1 Mol Siliciumtetrachlorid und/oder dessen Teilester, insbesondere Methoxyverbindungen, mit 0,4
bis 0,55 Mol Methanol oder Äthanol in einer Düse bei 10
bis 15° C über dem Siedepunkt des Mkohols umgesetzt wird. Die Reaktionskinetik läuft wie üblich über k\, k2, h
und A4, also unter Bildung von zuerst Monoester, dann
Diester, danach Triester und schließlich Tetraester. Wurde die Reaktion in einem heißen Rohr bei 75 bis
80° C unter Verwendung von CH3SiCb und einer stöchiometrischen Menge Methanol durchgeführt, trat
die Spezifität der Reaktion gemäß dem obigen Artikel nicht auf. Dies läßt vermuten, daß bei diesen Verfahren
geringere Mengen als die stöchiometrischen Mengen von Reaktionsteilnehmern verwendet wurden, wobei
ausgehend von SiCU eine geringere Ausbeute an dem gewünschten Produkt erhalten wird. Wenn nach den
angegebenen Bedingungen gearbeitet wird und andere Silane anstelle von SiCU und dessen Teilester verwendet
werden, kann das Veresterungsprodukt einen Siedepunkt von mehr als 10 bis 15° C über dem Siedepunkt
des Alkohols besitzen, so daß die Reaktionsprodukte im flüssigen Zustand anfallen und sich darin HCl löst,
welches das Alkoxid unter Chloridbildung zerstört und dadurch die Ausbeute verringert.
Es wurde festgestellt, daß bei dem erfindungsgemäßen Verfahren unerwarteterweise bei Erhöhung der
Reaktionstemperatur die Reaktionsgeschwindigkeit nicht ansteigt. Dies läßt sich wie folgt erklären:
Wie oben erwähnt, werden bei der Veresterungsreaktion der Silylester ( = SiOR) und HCl gebildet. HCl
reagiert bekanntlich mit einem Silylester unter Rückbildung der Reaktionsteilnehmer
=r=SiOR + HCl
==SiCl + ROH
und mit dem Silan ( = SiH) unter Bildung des Chlorids
( = SiCl). Die Reaktionen des HCl würden erwartungsgemäß bei steigender Temperatur zunehmen. Es wurde
jedoch gefunden, daß — wenn die Reaktionsprodukte HSi(OR)3 oder Gemische HSi(OR)3, HSiCl(OR)2,
HSiCl^OR) und HSiCl3 mit HCl in der Gasphase
verbleiben — eine sehr unerhebliche oder gar keine Reaktion mit dem HCl eintritt. Tatsächlich findet die
einzige Reaktion, die als erheblich bezeichnet werden kann, erst später in flüssiger Phase statt, wenn der
größte Teil HCI entfernt war und ein Rest von den Silylesterprodukten mitgenommen wurde.
Wie vorher erwähnt, reagieren durch Isocyanatgruppen substituierte Silane sehr schnell über die Isocyanatgruppen
mit Alkoholen unter Bildung von Carbamaten. Es wurde festgestellt daß — wenn isocyanatsubstituierte
Organohalogensilane mit Alkoholen nach dem erfindungsgemäßen Verfahren bei einer Temperatur über
dem Siedepunkt der am höchsten siedenden Verbindung im Reaktionsgemisch umgesetzt werden — sehr wenig
oder gar kein Carbamat gebildet wird und praktisch die Gesamtmenge des umgesetzten Alkohols Silylester
bo bildet, d. h. in die Kondensationsreaktion aber nicht in
die das Carbamat bildende Additionsreaktion eintritt.
Die gleiche Reaktionsweise kann auch festgestellt werden, wenn das Chlorsilan organofunktionelle Gruppen
enthält (wie Cyangruppen, Chloratome, Carboalkoxygruppe und Mercaptogruppen), während entweder
eine Reaktion des Alkohols mit der organofunktionellen Gruppe oder von HCl mit dem Silylesterprodukt zu
erwarten wäre, insbesondere wenn die Temperatur der
Reaktionsmasse über dem Siedepunkt des am höchsten siedenden Stoffs liegt
Das erfindungsgemäße Verfahren läßt sich absatzweise, kontinuierlich oder halb-kontinuierlich durchführen,
was zu einer größeren Produktivität bei geringeren Aufwendungen für die Anlagen als das bekannte
Verfahren in flüssiger Phase führt
Die verwendete Alkoholmenge sollte ausreichen, um wenigstens etwa 80% der Halogenatome, die direkt an
das Siliciumatom des Silans gebunden sind, zu verestern. Die gasförmigen Reaktionsprodukte werden abgekühlt
und die Ester fest oder flüssig gewonnen.
Das Verfahren kann dadurch durchgeführt werden, daß kontinuierlich das Halogensilan und der Alkohol in
eine erhitzte Reaktionszone eingespeist werden, wo die Umsetzung stattfindet. Der bei der Reaktion gebildete
Halogenwasserstoff sollte gasförmig gehalten werden, um die leichte Abtrennung von den Estern zu
ermöglichen. Man wird also die Reaktionsprodukte nur soweit abkühlen, daß keine Kondensation des Halogenwasserstoffs
stattfindet Um optimale Ausbeuten sicherzustellen und die Mitnahme von restlichen Mengen
Halogenwasserstoff zu vermeiden, kann man die Ester in einem Lösungsmittel gewinnen oder sie werden
kontinuierlich mit einem Inertgas gespült, um den Halogenwasserstoff auszublasen. Man kann auch einen
Halogenwasserstoff-Akzeptor verwenden.
Die Temperatur in der Reaktionszone ist nicht in engen Grenzen kritisch, sollte jedoch wenigstens 5° C,
vorzugsweise wenigstens 100C, über den Siedepunkten
der Reaktionsteilnehmer und -produkte liegen. Die Maximaltemperatur der Reaktionszone ist ebenfalls
nicht in engen Grenzen kritisch, sollte jedoch unter der Zersetzungstemperatur des erhaltenen Esters liegen.
Wegen der Aggressivität des HCl-Gases arbeitet man z. B. in einem Quarzrohr. In den meisten Fällen ist es
zweckmäßig, daß die Reaktionstemperatur den höchsten Siedepunkt nicht um mehr als 100° C übersteigt.
Der Arbeitsdruck hängt vom Siedepunkt und der Empfindlichkeit der Reaktionsteilnehmer und -produkte
ab. Drucke bis zu 1 mm Hg und darunter können angewandt werden. Andererseits kann bei Reaktionsteiinehmern,,die
extrem flüchtig sind oder sich extrem leicht bei den Arbeitstemperaturen unter Atmosphärendruck
zersetzen, Überdruck angewandt werden, meistens reicht jedoch Normaldruck.
Die Reaktionszeit ist ziemlich kurz und hängt gewöhnlich von der Reaktivität des Alkohols ab. Im
allgemeinen reichen bis 40 s und meistens wenigstens 0,1 s, vorzugsweise etwa 1 bis 20 s.
Die Reaktion kann in Gegenwart von inerten Verdünnungsmitteln durchgeführt werden wie einem
Lösungsmittel entweder für die Reaktionsteilnehmer, einen der Reaktionsteilnehmer oder das Silanester-Endprodukt,
z. B. Stickstoff, Argon, Helium oder Kohlenwasserstoffe, wie Testbenzin, Toluoo, Xylol, Hexan,
Nonan, Butan.
In manchen Fällen kann es erwünscht sein, dem Reaktionsgemisch eine Base zuzufügen, wie Ammoniak,
tertiäre Amine, primäre Amine, sekundäre Amine, um den sich bildenden Halogenwasserstoff abzufangen.
Auch kann man den gewonnenen Ester mit Basen oder Alkylenoxiden behandeln, um eventuell darin gelösten
Halogenwasserstoff zu entfernen.
Die Entfernung erheblicher Mengen von mitgenommenen Halogenwasserstoff aus dem Ester ist zweckmäßig,
um dessen Zersetzung zu vermeiden. Dies erreicht man z. B. durch Kondensieren des Esters in ein
Lösungsmittel unter Rückfluß, durch Kondensieren und Durchblasen von Inertgas, oder durch Kondensieren
des Esters durch eine poröse Platte oder Packung im Gegenstrom zu einem inerten Spülgas und/oder durch
Einsprühen des Esters in eine mit Inertgas gespülte Zone. Am zweckmäßigsten hierfür ist Stickstoff. Eine
Kombination der genannten Verfahren ist dann besonders zweckmäßig, wenn die letzten Spuren
Halogenwasserstoff aus dem Ester abgetrennt werden.
ίο Ein weiteres Verfahren zur Entfernung von mitgenommenen
Halogenwasserstoff aus dem Ester besteht darin, daß der kondensierte Ester durch ein Bett aus einem
anionischen Austauscherharz geleitet wird. Das Bett kann mit einer Base regeneriert werden.
Ein weiteres Verfahren zur Entfernung von mitgenommenen Halogenwasserstoff besteht darin, den Ester
mit vicinalen Alkylenoxiden, wie Äthylenoxid, 1,2-Propylenoxid,
1,2-Butylenoxid, 2,3-Butylenoxid oder Epichlorhydrin,
umzusetzen. Diese Behandlung dient zwei Zwecken. Zuerst reagiert das Alkylenoxid mit dem
Halogenwasserstoff unter Addition gemäß:
-CH
-CH- +HX
und zweitens reagiert es mit dem restlichen Silan unter
Bildung weiterer Silylestergruppen gemäß:
=Si—X + -CH-
CH-
SESi- O—CH- CH-
In allen Fällen ist es zweckmäßig, das vollständige
Verfahren von der Einführung der Reaktionsteilnehmer bis zur Gewinnung des Esters unter wasserfreien
Bedingungen durchzuführen, um dessen Hydrolyse auszuschließen.
Das Verfahren ist besonders zweckmäßig bei der Veresterung von Silanen der Formel:
in der η 0 oder 1 bedeutet und R' ein Wasserstoffatom,
eine Cyanalkylgruppe mit 2 bis 8 aufeinanderfolgenden Kohlenstoffatomen in der Alkylgruppe, die die Cyangruppe
vom Siliciumatom trennen; eine Cyanarylgruppe, bei der die Cyangruppe vom Siliciumatom durch
wenigstens zwei Kohlenstoffatome getrennt ist; eine Cyanalkarylgruppe, bei der die Alkylgruppe wenigstens
ein Kohlenstoffatom enthält und der Arylrest nicht mehr als zwei aromatische Ringe enthält; eine
Alkenylgruppe; eine Nitroarylgruppe; eine Halogensubstituierte Alkyl- oder Arylgruppe, bei der die
Halogenatome Chlor oder Brom sind; eine Carboalkoxyalkylgruppe, wobei die Alkylgruppe wenigstens aus
2 aufeinanderfolgenden Kohlenstoffatomen besteht, die die Carboalkoxygruppe vom Siliciumatom trennen und
die Alkoxygruppe 1 bis etwa 8 Kohlenstoffatome enthält; eine Alkenylcarbonyloxyalkylgruppe, wobei die
Alkylgruppe 1 oder wenigstens 3 Kohlenstoffatome nacheinander enthält, die den Carbonyloxyrest vom
Siliciumatom nennen; eine lsocyanatoalkylgruppe, in der die Alkylgruppe wenigstens drei aufeinanderfolgen-
de Kohlenstoffatome enthält, die die lsocyanatogruppe vom Siliciumatom trennen; oder eine Mercaptoalkylgruppe,
bei der die Alky'igruppe wenigstens 2 aufeinanderfolgende
Kohlenstoffatome besitzt, die die Mercaptogruppe vom Siliciumatom trennen; R" R' oder eine
Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe und X ein Halogenatom, wie Chlor, Fluor
oder Brom, bedeuten.
Im allgemeinen wird das Verfahren mit Alkanolen und Alkylenoxidmonoolen durchgeführt, wie Monomethyl-
und -äthyläther von Äthylenglykol, Diäthylenglykol
oder Triäthylenglykol.
Dieser Versuch dient als Vergleich zur Simulierung der experimentellen Bedingungen für die Dampfphasenveresterung
von Chlorsilan mit Alkohol gemäß W e i s η e r, »Chem. Prumyl«, Bd. 11, Seiten 461 bis 466
(1961) und zur Feststellung, ob eine hohe Selektivität für den Monoester bei der Umsetzung von Methyltrichlorsilan
mit Methanol im Molverhältnis 1 :1 zu Methylmethoxydichlorsilan
in hoher Ausbeute führt.
In Tropftrichter wurden 500 ml Methyltrichlorsilan und 500 ml Methanol eingebracht und durch Stickstoffdruck
eine Speisegeschwindigkeit von Methyltrichlorsilan von 6,85 ml/min (58,4 mMol/min) und von Methanol
von 2,63 ml/min (58,4 mMol/min) (Molverhältnis 1:1) eingestellt. Die Umsetzung fand in einem Rohr mit
einem Innendurchmesser von 19 mm und einer Länge von 76 cm bei 75 bis 850C oder 10 bis 15° C über dem
Siedepunkt von Methanol statt. Die Proben der dampfförmigen Reaktionsgemische wurden sofort
durch Gaschromatographie analysiert, die 43,9% nicht-umgesetztes Methyltrichlorsilan, 32,1% Methylmethoxydichlorsilan
und 22,0% Methyldimethoxychlorsilan ergab.
Die gleiche Reaktion wurde unter gleichen experimenteilen Bedingungen durchgeführt mit der Ausnahme,
daß die Temperatur des heißen Rohrs auf 14O0C erhöht wurde und die Probenahme auch bei dieser
Temperatur stattfand. Die Gaschromatographie ergab 44,2% nicht-umgesetztes Methyltrichlorsilan, 40,2%
Methylmethoxydichlorsilan und 15,6% Methyldimethoxychlorsilan.
In Tropftrichter wurden 550 ml Trichlorsilan und 550 ml Methanol eingebracht und durch Stickstoffdruck
eine Speisegeschwindigkeit von Trichlorsilan von 3 ml/min (29,5 mMol/min oder 226 g/h) und von
Methanol von 3,6 ml/min (88 mMol/min oder 171 g/h) eingestellt, entsprechend einem Molverhältnis 1 :3. Die
Umsetzung fand bei 1200C statt und erreichte in etwa 30
min ein dynamisches Gleichgewicht. Die Produkte aus dem Reaktionsgefäß wurden in einen 177 ml Kolben
überführt und gleichzeitig das Volumen Trichlorsilan im Tropftrichter aufgezeichnet. Noch 1 h 40 min wurden
insgesamt 354 g Produkt gesammelt, nachdem 305 ml (408 g oder 3,01 Mol) Trichlorsilan eingespeist waren.
Das isolierte farblose Produkt wurde in einen 500-ml-Dreihalskolben mit einem Thermometer, einem
Magnetrührer und einem Destillationsaufsatz von 46 cn Länge (mit 3,2-mm-Glasschnecken gefüllt) eingebracht.
Es wurde Propylenoxid aus einer 50-ml-Bürette langsam dem Kolbeninhalt zugefügt und der pH-Wert geprüft,
und zwar in Portionen von 0,5 ml Propylenoxid, bis der Kolbeninhalt neutral war. Insgesamt wurden 19 ml
Propylenoxid eingebracht. Das neutralisierte Reaktionsgemisch wurde bei Atmosphärendruck unier
trockenem Stickstoff destilliert Man erhielt folgende Fraktionen:
Fraktion 1:
Siedebereich 60 bis 72° C, 8 g; gaschromatographisch
14% Trimethoxysilan (etwa 3 g) und 86% Methanol.
Fraktion 2:
Fraktion 2:
ίο Siedebereich 72 bis 87°C mit konstantem Kp bei
830C, 266 g; gaschromatographisch 98% Trimethoxysilan.
Fraktion 3:
Fraktion 3:
Kp > 87°C, 47,7 g; gaschromatographisch 37%
Trimethoxasilan (etwa 15 g) und 63% Tetramethylsilicat
(32,7 g).
Trichlorsilan wurde mit Äthylenglykolmonomethyläther umgesetzt und mit Stickstoffspülung HCI aus dem
Kondensat entfernt.
In Tropftrichter wurden 500 ml Trichlorsilan und
In Tropftrichter wurden 500 ml Trichlorsilan und
500 ml CH3OCH2CH2OH gebracht und durch Stickstoffdruck
eine Speisegeschwindigkeit von HSiCl3 von ! ,80 ml/min (17,7 mMol/min) und von
CH3OCH2CH2OH
von 4,32 ml/min (54,9 mMol/min) (Molverhältnis 1 :3,1)
eingestellt. Die Umsetzung wurde bei 2300C durchgeführt.
Das Dampfgemisch enthielt (gaschromatographisch)
95,4% HSi(OC2H4OCH3)3und
nur 1,5% Si(OC2H4OCH3)4.
nur 1,5% Si(OC2H4OCH3)4.
Im Gegensatz zur Flüssigphasenreaktion trat nur eine
geringfügige Reaktion der SiH-Bindung mit gasförmigem HCl auf.
Nach 1 h 20 min wurden 377 g Reaktionsprodukt aus 192 g (1,42 Mol) Trichlorsilan und 334 g (4,44 Mol)
4c CH3OCH2CH2OH erhalten. Das isolierte farblose
Produkt wurde in einem 500-ml-Dreihalskolben mit Thermometer, Magnetrührer und einer 46 cm langen
Destillationskolonne mit 5 ml Propylenoxid neutralisiert und fraktioniert.
45
45
Fraktion 1:
Siedebereich 30°C/8 mm bis 120°C/6 mm, 14 g.
Die Gaschromatographie zeigte die Gegenwart von CH3OCH2CH2OH.
Fraktion 2:
Die Gaschromatographie zeigte die Gegenwart von CH3OCH2CH2OH.
Fraktion 2:
Kpl21°C/5mm,333g.
93% HSi(OC2H4OCH3)3^gaschromatographisch).
Fraktion 3:
Fraktion 3:
Rückstand 29 g.
Die Ausbeute an HSi(OC2H4OCH3J3 betrug 86%,
bezogen auf eingesetztes Trichlorsilan.
Es wurden gemäß Beispiel 3 HSiCl3 und CH3CH2OH
in der Gasphase umgesetzt, wobei in hoher Ausbeute HSi(OC2Hs)3 erhalten wurde. Aus 2 Tropfti ichtern mit
500 ml Trichlorsilan bzw. 500 ml Äthanol wurden 1,76 ml/min (17,3 mMol/min) HSiCl3 und 3,12 ml/min (53,9
mMol/min) C2HsOH eingespeist, Reaktionstemperatur
1800C. Die Analyse des Dampfes des Reaktionsgemisches
durch Gaschromatographie zeigte 91% HSi(OC2Hs)3 und nur 8,3% Si(OC2Hs)4.
Die Gasphasenreaktion von Trichlorsilan mit n-Butylalkohol
wurde in gleicher Weise wie im Beispiel 3 durchgeführt und 1,60 ml/min (15,8 mMol/min) Trichiorsilan
und 4,37 ml/min (47,7 mMol/min) 11-C4H9OH
(Molverhältnis 1 :3) eingespeist, Reaktionstemperatur 2200C. Die Analyse ergab 96% HSi(OBu)3 und nur 0.8%
n-Butylsilicat.
Die Gasphasenreaktion von Trichlorsilan und Isopropylalkohol
wurde gemäß Beispiel 3 durchgeführt. Es wurden 1,10 ml/min (10,9 mMol/min) HSiCl3 und 2,55
ml/min (33,4 mMol/min) (CH3J2CHOH (Molverhältnis
1 :3,1) eingespeist; Reaktionstemperatur 200cC. Die Analyse ergab 95% HSi(OC3H7J3 und 1,2% Si(OC3H7J4.
Zur Gasphasenreaktion von 0-Cyanäthyltrichlorsilan
mit Äthanol wurden 2,64 ml/min (183 mMol/min)
NCCH2CH2SiCl3 und 3,48 ml/min (59,5 mMol/min)
C2H5OH (Molverhältnis 1 :3,2) eingespeist; Reaktionstemperatur 2500C.
Die Gaschromatographie des dampfförmigen Reaktionsgemischs
ergab
5,6 Mol-% NCCH2CH2SiCl(OC2Hs)2 und
84% NCCH2CH2Si(OQHs)3-
84% NCCH2CH2Si(OQHs)3-
Die Analyse zeigte, daß zwischen den empfindlichen Cyangruppen und dem Chlorwasserstoff eine Reaktion
nur in sehr geringem Ausmaß stattgefunden hatte.
Zur Gasphasenreaktion von Vinyltrichlorsilan mit n-Propylalkohol wurden 1,22 ml/min (9,55 mMol/min)
ViSiCl3 (Vi = Vinyl) und 2,25 ml/min (30,1 mMol/min) n-Propylalkohol (Molverhältnis 1 :3,1) eingespeist;
Reaktionstemperatur 2000C. Die gaschromatographische Analyse ergab
88% ViSi[CKCH2)2CH3]3und
nur 6,1 % ViClSifOCH^HaCH^.
Die Analyse zeigte, daß die an Silicium gebundene Vinylgruppe durch die Gegenwart von Chlorwasserstoff nicht beeinträchtigt wurde.
Die Analyse zeigte, daß die an Silicium gebundene Vinylgruppe durch die Gegenwart von Chlorwasserstoff nicht beeinträchtigt wurde.
Zur Gasphasenreaktion von y-lsocyanatpropyltrichlorsilan
O = C = N-CH2CH2CH2SiCl3 mit Methanol
wurden
1,2 ml/min (5,5 mMol/min)
OCNCH2CH2CH2SiCl3UmI
0,62 ml/min (15,4 mMol/min) CH3OH
(Molverhältnis 1 :23)
eingespeist; Reaktionsteinperatur 2300C Die gaschromatographische
Analyse ergab
11,8 Mol-%
Die hohe Ausbeute an
(MeO)3SiCH2CH2CH2NCO
zeigt, daß die empfindliche Isocyanatgruppe weder durch Chlorwasserstoff noch durch Methanol erheblich
angegriffen wird. Dies ist nicht der Fall, wenn die Reaktion in flüssiger Phase durchgeführt wird, wie
folgender Vergleich zeigt.
Es wurden 1,2 ml OCNCH2CH2CH2SiCl3 und 0,6 ml
CH3OH (Molverhältnis 1 : 2,8) schnell bei Raumtemperatur
(25°C) in einem kleinen Behälter gemischt. Es fand eine schnelle Umsetzung mit Chlorwasserstoffentwicklung
statt. Nach 1 min wurde eine Probe des Reaktionsgemisches gaschromatographisch analysiert;
man erhielt
30% Cl(MeO)2SiCH2CH2CH2NCO,
28% (MeO)3SiCH2CH2CH2NCO und
37% Cln(MeO)3-^iCH2CH2CH2HCOOMe
(/7=1 und 2).
Im Gegensatz zur Gasphasenreaktion von
28% (MeO)3SiCH2CH2CH2NCO und
37% Cln(MeO)3-^iCH2CH2CH2HCOOMe
(/7=1 und 2).
Im Gegensatz zur Gasphasenreaktion von
Cl3SiCH2CH2CH2NCO
mit MeOH ergab die Reaktion in flüssiger Phase eine schlechte Ausbeute an (MeO)3SiCH2CH2CH2NCO,
während gleichzeitig große Mengen des Carbamats Cln(MeO)3-^iCH2CH2CH2NHCOOMe gebildet wurden.
Beispiel 10
Zur Gasphasenreaktion von Phenyltrichlorsilan mit Äthanol wurden 2,64 ml/min (16,5 mMoi/min) PhSiCl3
(Ph = Phenyl) und 2,98 ml/min (51,2 mMol/min) C2H5OH
(Molverhältnis 1 :3,10) eingespeist; Reaktionstemperatur 240° C. Die Dampfprobe wurde sofort gaschromatographisch
analysiert; man erhielt
81% PhSi(OC2Hs)3 und
12% PhClSi(OC2Hs)2.
81% PhSi(OC2Hs)3 und
12% PhClSi(OC2Hs)2.
Nach Beispiel 4 wurde die Gasphasenreaktion von Methyldichlorsilan und Äthylalkohol durchgeführt. Die
Einspeisegeschwindigkeit betrug 5,97 ml/min (57,6 mMol/min) CH3HSiCl2 bzw. 6,75 ml/min (115 mMol/
min) Äthanol. Die Reaktionstemperatur wurde auf 150° C gehalten.
Durch Gasphasenchromatographie ergab sich eine Ausbeute von 82% CH3HSi(OC2Hs). Die Ausbeute an
Monochlorester CH3HSJa(OC2H5) betrug 18%.
Q(MeO)2SiCH2CH2CH2NCO
78^ Mol-%
(MeO)3SiCH2CH2CH2NCO
and 4,7 Mol-%
HO
Nach Beispiel 4 wurde die Gasphasenreaktion von Methyldichlorsilan und Äthylalkohol durchgeführt In
6o die beiden Trogftrichter wurden 500 cm3 CH3HSiCb
bzw. 550 cm3 Äthanol eingebracht Die Einspeisegeschwindigkeit
betrag 537 cm3/mm, d. h. 57,6 mMol/min,
bzw. 6,75 cm3/mm, <L h. 115 mMol/min. Die Temperatur
im Rohr wurde auf 150°Cgehalten.
65 Durch Gasphasenchromatographie ergab sich in dem Dampfgemisch eine Ausbeute von 82% an vollständig verestertem CHaHSi(OC2Hs). Die Ausbeute ail Mo1 (n = 1 rad 2). nochlorester CH3HSiCl(OC2H5) Tjetrug 18%.
65 Durch Gasphasenchromatographie ergab sich in dem Dampfgemisch eine Ausbeute von 82% an vollständig verestertem CHaHSi(OC2Hs). Die Ausbeute ail Mo1 (n = 1 rad 2). nochlorester CH3HSiCl(OC2H5) Tjetrug 18%.
6Ö9 55074K
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Veresterung von Halogensilanen mit Alkoholen in der Gasphase, dadurch gekennzeichnet, daß man Organohalogensilane oder Trichlorsilan bis zu wenigstens 80% der Halogenatome verestert und dabei die Temperatur so führt, daß die Reaktionsteilnehmer und -produkte gasförmig bleiben, und daß man die Reaktionsprodukte gasförmig aus der Reaktionszone abführt
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US7005370A | 1970-09-08 | 1970-09-08 | |
US7005370 | 1970-09-08 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2144748A1 DE2144748A1 (de) | 1972-03-09 |
DE2144748B2 true DE2144748B2 (de) | 1976-12-09 |
DE2144748C3 DE2144748C3 (de) | 1977-07-28 |
Family
ID=
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2744726A1 (de) * | 1977-10-05 | 1979-04-12 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von monomeren und oligomeren kieselsaeurealkylestern |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2744726A1 (de) * | 1977-10-05 | 1979-04-12 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von monomeren und oligomeren kieselsaeurealkylestern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA960685A (en) | 1975-01-07 |
BE772268A (fr) | 1972-03-07 |
AU467417B2 (en) | 1975-12-04 |
US3651117A (en) | 1972-03-21 |
GB1359312A (en) | 1974-07-10 |
FR2107388A5 (de) | 1972-05-05 |
NL168841B (nl) | 1981-12-16 |
AU3281571A (en) | 1973-03-01 |
NL168841C (nl) | 1982-05-17 |
NL7112308A (de) | 1972-03-10 |
JPS5038085B1 (de) | 1975-12-06 |
DE2144748A1 (de) | 1972-03-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |