DE2142456A1 - Reaktor zur kontinuierlichen aufbereitung von polymeren - Google Patents

Reaktor zur kontinuierlichen aufbereitung von polymeren

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Description

  • Einchtungen zur kontinuierlichen Aufbereitung von Polymeren Die Erfindung betrifft Einrichtungen zur kontinuierlichen Aufbereitung von Polymeren, z.B. von Polyester, um eine hohe Viskosität für die weitere Verarbeitung zu synthetischen Fäden zu erhalten.
  • Im USH-Patent 3 528 782 wurde ein Reaktor vorgeschlagen, der im wesentlichen aus einer um eine waagerechte Achse drehbaren Trommel besteht. Die Polymermasse wird in das Innere der rotierenden Trommel eingeführt. Durch Stauplatten wird ein in der Innenwand der Trommel rotierender £ilm von vorbestimmbarer Dicke erzeugt.
  • Urtsfest angebrachte und mit einem Winkel gegenüber der Achsenrichtung angestellte Leitplatten streifen die rotierenden Filmschichten ab und fördern sie in den durch sie gebildeten schrägen Kanälen - wie in einer Schnecke - in axialer Wichtung weiter.
  • Bei dieser Vorrichtung ist jedoch die Lagerung der Trommel schwierig und die Beheizung der Produktmasse insofern unbefriedigend, als der Wärmeübergang von Gehäuse-Heizmantel an die Trommel über einen - durch die Lagerrollen bedingten - großen leg und über ein Vakuum erfolgen muß. Die vorgeschlagene Beheizung durch die Leitplatten erfordert doppelwandige und daher teure und störanfällige Konstruktionen.
  • Zeine weitere Vorrichtung gem. USA-Patent br. 3 499 873 betrifft einen Reaktor, dessen auf einer horizonzalen stelle befestigten Ringscheiben bei einer Xotation aus dem durch den Gehäusemantel beheizten bumpf freifallende Filme bilden.
  • Die fest mit dem Gehäuse verbundenen Kammmerwände, die die einzelnen Hadscheiben voneinander trennen und die im Sumpf mit Öffnungen zum axialen Durchtritt der Flüssigkeit versehen sind, bilden jedoch fiir die Polymerströmung tote Ecken mit den bekannten Nachteilen. Durch Freilassung eines passend dimensionierten größeren Spaltes zwischen Gehäuse und Kammerwand, der auf dem ganzen Umfang der Kammervfand vom Produkt durchströmt wird, ließe sich dieser Nachteil beheben.
  • Durch das Fehlen von mechanischen Vorrichtungen zur Schichtbegrenzung und Filmabstreifung ist die Sicke des aufsteigenden und frei fallenden Filmes nicht definiert und die ständige Erneuerung des filmes nicht gewährleistet. Da eine Zwangsförderung des Produktes nicht vorhanden-ist, ist eine unabhängige regelung von Durchsatz und Verweilzeit in weiten Grenzen nicht möglich.
  • Die hier beschriebenen Einrichtungen beheben diese Mängel. Die gemeinsamen Merkmale der vorgeschlagenen Keaktoren sind: 1. Zwangsförderung der Reaktionsmasse durch Anwendung des Prinzips der Schneckenförderung. Die zwangsförderung erlaubt, den Durchsatz weitgehend durch die Drehzahl des Rotors, die Verweilzeit weitgehend durch den Füllungsgrad und in geringem Grade auch durch die Drehzahl zu regeln.
  • 2. behichtbegrenzer, die die Dicke des im Vakuumraum reagierenden und ausgasenden Flüssigkeitsfilmes begrenzen, definieren und daher eine berechnung ihrer Verweilzeit ermöglichen.
  • 3. Im Sumpf angeordnete Abstreifer, die die Filmschichten ablösen, in den Sumpf zurückführen und eine ständige erneuerung der reagierenden Polymerfilme gewährleisten.
  • Diese Grundsätze sind verwirklicht in den hier vorgeschlagenen zinrichtungen, die a) einen Trommelreaktor und b) einen Mehrecheibenreaktor mit Vollscheiben betreffen.
  • Die Figuren 1 bis 14 zeigen diese Erfindungen in beispielhaften Ausführungsformen.
  • Die Figuren 1 - 5 stellen Vertikalschnitt, Achsnormalschnitte und Horizontalschnitt eines Trommelreaktors mit Zwangsförderung dar.
  • Figuren 6, 7 und 8 geben Vertikalschnitt, Achsnormalschnitt und Horizontalschnitt eines Mehrscheibenreaktors mit Zwangsförderung wieder. Figuren 9, 10 und 11 entsprechen Vertikalschnitt, Achsnormalschnitt und Horizontalschnitt einer zweiten Ausführungsform eines Mehrscheibenreaktors. Figuren 12, 13, 14 sind Vertikalschnitt, Achsnormalschnitt und Horizontalschnitt einer dritten Ausführungsform eines Mehrscheibenreaktors.
  • Die Figuren 1,2, 3 zeigen die verschiedenen Schnitte durch einen Trommelreaktor mit Zwangsförderung, Schichtbegrenzer und Abstreiufer. Das zylindrische Reaktorgehäuse 1 ist zur Aufnahme des Heizmediums für die Produktbeheizung doppelwandig ausgeführt und enthält zum Ein- und Austritt des Heizmediums die Stutzen 2 und 2', zum Ein- und Austritt der Produkt'masse die Stutzen 3 und 3' und zum Austritt der Produktmasse den Stutzen 4.
  • innerhalb des evakuierten Reactorgehäuses 1 rotiert die zylindrische Trommel 5, die auf einer waagerecht gelagerten Welle 6 befestigt ist. ltetztere wird über vakuumdicht abschließende Stopfbuchsen 7 aus dem Gehäuse 1 herausgeführt, außerhalb zweifach gelagert und über ein regelbares Getriebe durch einen Motor angetrieben.
  • im unteren Teil des Heaktorraumes sind mehrere ortsfeste Ileitplatten 8 schräg zur Achsenrichtung angeordnet, die den Sumpfraum in mehrere schräge Kanäle einteilen. Diese Leitplatten haben ein kleines Spiel gegenüber dem Trommelzylinder und ein größeres Spiel 5 gegenüber der Heaktorwandung, so daß tote Eckräume vermieden sind,und bei zu hoher Drehzahl ein Rückfluß des Polymers ermöglicht wird. Die Höhe der Leitplatten ist so bemessen, daß sie das Niveau des Sumpfes, der etwa 20 - 50% des frein Reaktorraumes ausmacht, nur wenig überragen. Die Verbindung der Leitplatten mit dem Gehäuse erfolgt durch starke - hier nicht gezeichnete - Ankerbolzen, oder zwecks Vermeidung von toten Sicken durch eine außerhalb des Sumpfes angebrachte Halterung ( z.BO efestigung der den Stumpf überragenden Teile mit dem Gehäuse). (regen Schwingungen sind sie durch axiale Distanzbolzen gesichert.
  • Die Seitenflächen der schrägen Leitkanäle, die hier durch ebene Platten 8 dargestellt sind, können auch - hier nicht gezeichnete-Schraubenflächen sein, deren Achse mit der 'L'rommelachse zusammenfällt und die (wegen des Fehlens der oberen Hälfte) Halbwendeln sind.
  • Der Vorgang der Zwangsförderung erfolgt also in der Weise, daß im auftauchenden Teil der rotierenden Trommel ein Flüssigkeitsfilm mitgenommen,-und auf die andere Trommelseite getragen wird, und dort in den schrägen Leitkanal gelanp-t, in dem die ganze Flüssigmasse wie bei einer Schnecke wieder auf die erste Trommelseite gefördert wird. Durch Verwendung einer größeren Anzahl von Seite blechen läßt sich die Scherung und Vermischung in weiten Grenzen erhöhen und dosieren.
  • Der Schichtbegrenzer 9 besteht aus einer axial durchgehenden, über dem Flüssigkeitsspiegel ortsfest angeordneten Stange, die durch den Spalt gegenüber der Trommelfläche die Filmdicke definiert und dadurch eine Berechnung der Verweil- und Reaktionszeit möglich macht. Die Begrenzerstange kann parallel oder mit einer geringen Winkelneigung gegen die Trommelachse eingestellt werden, je nachdem, ob eine konstante oder eine längs der Achse variable Filmdicke erwünscht ist.
  • Die schrägen Leitwände im Sumpf bewirken eine Abstreifung der Filmschicht von der Trommel, ihre Rückführung in den Sumpf und bieten bei genügender Anzahl Gewähr für eine ständige Erneuerung der in den Vakuumraum getragenen Polymerfilme. Diese Wirkung kann auch durch eine besonders vorgesehene Abstreifvorrichtung 10 erreicht bzw. verstärkt werden. Sie besteht aus einer axial durchgehenden Stange, die wenig unterhalb des Flüssigkeitsspiegels mit kleinem Spalt gegen die Trommel montiert und zur Vermeidung von Tot ecken zweckmäßig außerhalb des Sumpfes an der Gehäusewand befestigt ist.
  • in Fig.4 wird gezeigt, daß durch Absenkung des Flüssigkeitsspiegels das uberflächen-Volumen-verhaltnis drastisch vergrößert und damit die Verweil- und Keaktionszeiten in weiten Grenzen variiert werden können.
  • in Fig. 5 ist die Trommelachse exzentrisch unterhalb der Gehäuseachse angeordnet. Die schrägen Schneckenkanäle, die von den Leitwänden 8 gebildet werden, erhalten dadurch kleinere Gangtiefen, so daß gegenüber der konzentrischen Achsenanordnung - wie bei Schnecken - eine intensivere zwangsförderung erreicht wird.
  • Die figuren 6, 7, 8 zeigen einen Mehrscheibenreaktor mit Zwangsförderung, Schichtbegrenzer und Abstreifer.
  • Wie in den Figuren 1, 2, 3 für den Trommelreaktor ist das zylindrische doppelwandige gehäuse mit 1, die Lin- und ivustrittsstutzen flir Heizmedium, Produktflüssigkeit und Gase sind mit .', ;" bzw. 3, 3' und 4 bezeichnet. Auf der horizontal gelagerten und durch einen Motor angetriebenen Welle 6 sind mehrere vollwandige Hadscheiben 11 befestigt, die mit einem Spiel 5 gegenüber dem Keaktorgehäuse umlaufen. auf der beite des Polymersumpfes, aus der die Kadscheiben austauchen, sind zwischen je zwei Scheiben ortsfeste Leitplatten 12 schräg zur Achse angeordnet, die dem - ca. 20 - 50% des Seaktorraumes ausfüllenden - bumpf nur wenig überragen und mit einem Spiel S1< Sr gegenüber dem Gehäuse befestigt sind. Die i?roduktflüssigkeit, die sich in der radeintauchenden Seite a1, a2 des Polymersumpfes befindet, wird durch das rotierende Kad als treibende Schneckenkante auf die andere Sumpfseite b1 und wegen der Keilwirkung der schräggestellten Leitplatten 12 sowie wegen S1<Sr auch auf die andere Radseite b2 getrieben. Die Zwangsförderung beruht also auf der Schrägstellung.
  • der Leitplatten (Keilwirkung) sowie auf dem Umstand9 daß der Radspalt Sr größer als der Plattenspalt 1 ist (und dem bekannten Gesetz, daß die Durchflußmengen proportional 93 sind).
  • Anstelle der ebenen Leitplatte zwischen zwei Radscheiben kann auch eine - hier nicht gezeichnete - Schraubenfläche angeordnet sein, deren Achse mit der Wellenachse zusammenfällt, deren erste Erzeugende im Halbraum des Sumpfes zwischen zwei Scheiben vertikal verläuft und einen-engen Spalt mit der Scheibe bildet, deren letzte Erzeugende vor der folgenden Scheibe ungefähr waagerecht verläuft und die also wegen der Erzeugendendrehung um 900 eine Viertelwendel darstellt.
  • Zur Erzeugung von Scherung und Vermischung sind auf der fadeintauchenden Seite des Polymersumpfes Scherflächen 13 ortsfest angebracht mit relativ großem Spiel gegen die Gehäusewand (zur Vermeidung toter Ecken). Zur Erhöhung der Mischwirkung können diese Scherflächen mit Durchbrüchen (Löchern) versehen sein.
  • Über der radaustauchenden Seite des Polymersumpfes sind am Gehäuse Schichtbegrenzer 14 befestigt, die mit beiden Seiten jedes Rades einen relativ kleinen Spalt bilden, dadurch die Pilmdicken begrenzen und in vorher bestimmbarer Weise definieren.
  • Unterhalh-ooer oberhalb des Flüssigkeitsspiegels sind auf der radeintauchenden Sumpfseite Abstreifer 15 ortefest am Gehäuse angebracht, die das Rad gabelförmig mit kleinem Spalt umfassen, die eingetragene Filmsch£cht ablösen, in den Sumpf zurückführen und Gewähr für ständige Erneuerung der reagierenden Pilmschicht bieten. Die Abstreifun und Vermischung des filmes kann auch ohne besondere Abstreifvorrichtungen 15 dadurch verwirklicht werden,daß die Leitplatten 12 gegen die umlaufenden Radscheiben angeordnet sind.
  • Die Piguren 9, 10, 11 zeigen eine zweite Ausführung des Mehrscheibenreaktors mit Zwangsförderung. Wie in den früheren Figurein sind das mantelbeheizte Gehäuse mit 1, die Ein- und Austrittsstutzen für Heizmedium, Produkt und Reaktionsgase mit 2, 2' bzw.
  • 3; 3, und 4, die horizontale Welle mit Stopfbuchsen und Radscheiben mit 6 bzw. 7 und 11 bezeichnet.
  • In der radaustauchenden Seite des Sumpfraumes sind zwischen je 2 Scheiben schräg zur Wellenachse Leitplatten 16 mit dem Spiel Sb gegen das Gehäuse und in der radeintauchenden Seite des Sumpfraumes ebenfalls schräge - jedoch entgegengesetzt gerichtete -Leitplatten 17 mit dem Spiel 5a gegen das Gehäuse ortsfest angebracht. Diese Leitplatten, die zugleich als Scherflächen eine Vermischung bewirken und mit Durchbrüchen versehen sein können, teilen den Polymersumpf zwischen 2 Radscheiben in 4 keilartige Räume a3, a4, b3, b4. Sie iiberragen nur wenig den Sumpf und sind mit - hier nicht gezeichneten - Ankerbolzen im Sumpf oder besser mit einer Halterung oberhalb des Sumpfes ans Gehäuse befestigt, und mit - hier ebenfalls nicht gezeichneten - axialen Distanzbolzen gegen Flattern gesichert.
  • Die relativ großen Spiele gegen das Gehäuse von Radscheibe 5r und Leitplatten 5a und Sb, durch die tote Ecken vermieden sind und die bei zu hoher Drehzahl Rückströmungen zulassen, sind so bemessen, daß 5a> Sr> Sb ist.
  • Zum Verständnis der Zwangsförderung ist die Kenntnis notwendig, daß die Durchflußmengen sehr stark von den Spaltweiten S abhängen ( proportional 83), dai3 also z.B. durch die doppelte Spaltweite unter sonst gleichen Umständen die achtfache Menge strömt.
  • Die Flüssigkeit des Sumpfraumes a3 wird nun unter der reibenden Zähigkeitskraft der rotierenden Radscheibe wegen der Keilwirkung der Leitplatte 17 und der Verschiedenheit der Spiele Sr und 5a vorwiegend in den Keilraum a4 getrieben und dort durch die Treibkraft der folgenden Scheibe in den Sumpfraum b3 und - wegen Sr>Sb und der Eeilwirkung der Leitplatte 16 - in den Nachbarraum b4 der anderen Scheibenseite geförderte Anstelle der beiden ebenen Beitplatten 16 und 17 können auch die - oben beschriebenen und hier nicht- gezeichneten - Schraubenflächen, d.h. Viertelwendeln, angeordnet sein Die Schichtbegrenzer 14, die über dem Spiegel des radaustauchenden Teiles des Sumpfes angebracht sind, erzeugen wie in den vorstehend beschriebenen Vorrichtungen eine definierte Filmschicht dicke. Als Abstreifer zur Ablösung der von der Radscheibb in den anderen Sumpfteil getragenen Filmschícht kann wieder die - hier nicht gezeichnete - gabelförmige Vorrichtung 15 in Figur 8 dienen. Zusätzlich oder auch allein kann die Abstreifung bewirkt werden durch einen engen Spalt zwischen Radecheibe und der vertikalen Stoßkante der beiden Leitplatten 16 und 17.
  • In den Figuren 12, 13, 14 ist eine dritte Ausführungsform eines Mehrscheibenreaktors mit Zwangsförderung dargestellt. Wie oben sind wieder bezeichnet das mantelbeheizte Gehäuse mit 1, die Ein- und Austrittsstutzen von Heizmedium9 Flüssigkeit und Gasen mit 2, 2' bzw. 3, 3' und 4, Welle, Stopfbuchsen und Radecheiben mit 6 bzwG 7 und 11.
  • Im Sumpf sind mehrere unter einem Winkel gegen die Wellenachse geneigte und ihn nur wenig überzagende Beitplatten 18 ortsfest angebracht, die den Sumpf in ebenso viele schräge Kanäle -einteilen, wie Radscheiben vorhanden sind. Diese Radscheiben haben senkrechte Schlitze, durch die die Umlaufscheiben von einer Sumpfseite in die andere durchlaufen können und deren Kanten auf der radeintauchenden Sumpfseite bei genügend kleinem Spiel gegen die Radscheibe als Abstreifer dienen können. Ihre Befestigung mit dem Gehäuse erfolgt entweder durch - hier nicht gezeichnete -Ankerbolzen im Sumpf oder durch eine Konstruktion außerhalb des Sumpfes. Die Leitplatten und Radscheiben haben verhältnismäßig große Spiele S1 bzw. Sr#S1, so dasß Toträume vermieden sind und bei zu hoher Drehzahl und entsprechend zu hoher Zwangsfördermenge ein küekfluß mit zusätzlicher Vermischung möglich ist.
  • Die Zwangsförderung erfolgt dann in der Weise, daß die Flesigkeit im Keilraum a5 unter der Ziehkraft der rotierenden Scheibe wegen der Keilwirkung der schrägen Leitplatte und wegen 5r #S1 auf die andere Radseite des Sumpfraumes a6 getrieben wird. Die andere Radseite treibt die Flüssigkeit des Raumes a6 in den anderen Sumpfseitenraum b5 und von dort wegen Sr# S1 teilweiee auch in den Keilraum b6. lon den REumen b5 und b6 wird die Flüssigkeit durch die Radscheibe in Form eines Filmes nach der anderen Sumpfseite in den folgenden Leitkanal getragen.
  • Anstelle der ebenen, geschlitzten Leitplatte 18 kann auch eine mit der Welle koaxiale Schraubenfläche aus Blech angeordnet sein, die wegen der Verdrehung der Erzeugenden um 1800 eine Halbwendel darstellt und im Bereich der vertikalen Erzeugenden zum Durchlauf der Radscheibe geschlitzt ist.
  • Zwischen je 2 Leitplatten können ihnen parallele Scherbleche 19 mit großem Spiel gegen das Gehäuse ortsfest angebracht werden.
  • Sie erzeugen eine Scherung und zusätzliche Vermischung der Leitplattenströmung , die durch Löcher in den Scherflächen oder eine geringe Winkelstellung gegenüber den Leitplatten noch verstärkt werden kann.
  • Auf der radaustauchenden Seite sind über dem Sumpf die ortsfesten Schichtbegrenzer 14 angebracht, durch deren Spalt gegenüberader umlaufenden Scheibe die aufsteigende Filmschicht genau bemessen und definiert werden kann.
  • Unterhalb des Sumpfspiegels können auf der radeintauchenden Seite die - hier nicht gezeichneten - gabelförmigen Abstreifer 15 in Figur 8 ortsfest montiert werden, die die Filmechichten vom Rad ablösen, in den Sumpf zurückführen und dadurch bewirken, daß immer neue i'ilmschichten über den Vakuumraum getragen werden.
  • Wie bereits erwähnt wurde, können anstelle dieser Abstreifer 15 auch die senkrechten Schlitzkanten der Leitplatten 18 diese Schichtabstreifung besorgen.
  • "Patentansprfiche"

Claims (9)

  1. Pantentansprüche: 1. einrichtung zur kontinuierlichen Aufbereitung von Polymeren bestehend aus einem zylindrischen Gehäuse mit horizontaler Achse, das zur Aufnahme des Heizmediums für die Beheizung der Reaktionsflüssigkeit doppelwandig ausgeführt ist und das Ein- und Austrittsstutzen für Heizmedium, Reaktionsmasse und Reaktionsgase enthält, und einer an beiden Seiten verschlossenen, drehbaren zylindrischen Trommel im Inneren des Gehäuses mit waagerechter Achse und zweifacher Lagerung außerhalb des Gehäuses, die in die Polymerflüssigkeit, die sich unterhalb der Trommelachse zwischen Trommel und Gehäuse benfindet, eintaucht und durch deren Drehung ein Polymerfilm aus der einen Sumpfseite in den evakuierten Raum über dem Sumpf getragen und in die andere trommeleintauchende Seite des Polymersumpfes transportiert wird, dadurch gekeenzeichnet, daß im Hohlraum zwischen Trommel und Gehäuse bis zur Höhe der Trommelachse ortsfeste Leitflächen angeordnet sind, die diesen Sumpfraum in mehrere zur Achsenrichtung schräg verlaufende Leitkanäle unterteilen und in denen die Flüssigkeit durch die Reibkraft der rotierenden äußeren zylinderwand wie bei einer Schnecke von der trommeleintauchenden Sumpfseite nach der anderen Seite getrieben wird und gleichzeitig in axialer Richtung gegen den Austritt gefördert wird.
  2. 2. Einrichtung nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß die die schrägen Leitkanäle bildenden Leithflächen entweder aus obenen, schräg geger die Trommelachse gestellten Blechen (Platten) bestehen oder aus Schraubenflächen, deren Achse mit der Trommelachse zusammenfällt, und die wegen des Fehlens der oberen Hälfte Halbwendeln darstellen.
  3. 3. Einrichtung nach Anspruch 1 und 2,dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Gehäuse und Leitflächen längs ihres Umfanges ein relativ großer Spalt vorgesehen ist.
  4. 4. Einrichtung nach Anspruch 1 bis 3,dadurch gekennzeichnet9 daß die Achsen von Gehause und Trommel zusammenfallen oder in einer Vertikalebone einen Winkel gegeneinander bilden oder daß die Trommelachse parallel unterhalb oder oberhalb der Gehäuseachse exzentrisch angeordnet ist.
  5. 5. Einrichtung nach Anspruch 1 bis 4 dadurch gekennzeichnet, daß über dem Spiegel der trommelauscauchenden Seite des Sumpfes ein Schichtbegrenzer angeordnet iat, der im wesentlichen aus einer axial durchgehenden, ortsfesten Stange besteht, die mit kleinem Spiel gegen die Trommeloberfläche entweder parallel oder mit geringer Winkelneigung gegen die Trommelachse eingestellt werden kann.
  6. 6. Einrichtung nach Anspruch 1 bis 5,dadurch gekennzeichnet, daß auf der trommeleintauchenden Seite des Sumpfes ein ortsfester Abstreifer angeordnet ist, der aus einer axial durchgehenden Stange besteht, die unterhalb oder wenig oberhalb des Spiegels mit kleinem Spalt gegen die Trommeloberfläche am Gehäuse befestigt ist.
  7. 7. Einrichtung zur kontinuierlichen Aufbereitung von Polymeren bestehend aus einem zylindrischen Gehäuse mit horizontaler Achse, das zur Aufnahme des Heizmediuma für die beheizung der reaktionsflüssigkeit doppelwanding ausgeführt ist, und das Ein- und Austrittsstutzen für heizmedium, Reaktionsmasse und Reaktionsgase enthält, und einer drehbaren horizontalen und außerhalb des Gehäuses zweifach gelagerten Welle mit einer oder mehreren vollwandingen iadscheiben im Inneren des Gehäuses, die in den Sumpf der Flüssigkeit, der etwa 20 bis 50% des Gehäuseraumes ausmacht, eintauchen und durch deren Drehung die Polymerfilme auf den beidon Radseiten aus der einen Sumpfseite in den evakuierten Gasraum über dem Sumpf getragen und in die andere radeintauchende Seite des Polymersumpfes getragen werden, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich des Flüssigkeitssumpfes ortfesebe Leitflächren angeordnet sind, die aus Schraubenflächen oder unter einer Winkel gegen die Achsenrichtung angestellten Elechen (Flavien) bearchan und den Sumpfraum in mehrere schräg Achschrichtung verlaufende Leikanäle unteilen, in denen die Flüssigkeit durch die Leibkraft der retierenden Radscheibe von der radeintauchenden Sumpfseite nach der radaustauchenden Seite getrieben und gleichzeiting auch in axialer Richtung gegen don Austritt geföredrt wird.
  8. 8. Einrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen 2 Scheiben die Leitflächen (z.b. 12 in Fig.6 7, 9 in der radaustauchenden Seite des Sumpfraumes angebracht sind, und das Radspiel gegen die Gehäusewand größer als das Leitflächenspiel gegen die Gehäusewand ist.
  9. 9. Einrichtung nach Anspruch 7 und 8,dadurch gekennzeichnet, daß zwischen 2 Scheiben in der radeintauchenden Seite des Flüssigkeitsraumes ortsfeste Scherflächen ( z.B. 13 in Fig. 7 , 8 ) angebracht sind.
    10. Einrichtung nach Anspruch 7,dadurch gekennzeichnet, daß zwischen 2 Scheiben sowohl auf der radaustauchenden wie radeintauchenden Seite des Flüssigkeitssumpfes entgegengesetzt gerichtete Leitflächen ( z.BO 16 und 17 in Pig.9, 10, 11 ) angebracht sind,und daß für die Spiele Sa, Sr, Sb des Gehäuses gegen Leitfläche 17 in der radeintauchenden Sumpfseite, bzw. gegen die Radscheibe, bzw. gegen die Leitfläche 16 in der radaustauchenden Sumpfseite die Beziehung Sa Sr wSb besteht.
    11o Einrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Leitflächen (Schraubenflächen oder ebene Platten, wie z.B. in Fig.
    12, 13, 14 ) sich über beide Sumrfseiten erstrecken und in axialer Richtung über etwa 2 Scheibenabstände reichen , daß diese Leitflächen senkrechte Schlitze zum Durchlauf der Radscheiben haben, und Spiele gegen die Gehäusewand besitzen, die gleich oder kleiner als das Spiel der Radscheiben gegen das Gehäuse sind.
    12. Einrichtung nach Anspruch 7 und 11,dadurch gekennzeichnet, daß im Sumpfraum zwischen Je 2 Radscheiben eine ortsfeste Scherfläche ( 19 in Fig.14 ) angebracht ist, die etwa parallel zu den Leitflächen verläuft und zur Erhöhung der Mischwirkung mit Löchern und Durchbrüchen versehen werden kann.
    13. Einrichtung nach Anspruch 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die senkrechten Kanten der Leitflächan..e'inen kleinen Spalt gegen die Radscheiben bilden und dadurch als Abstreifer dienen.
    144 Einrichtung nach Anspruch 7 bis 13,dadurch gekennzeichnet, daß die Leitflächen und Scherflächen verhältnismäßig große Spiele gegen die Gehäusewand haben.
    150 Einrichtung nach Anspruch 7 bis 14,dadurch gekennzeichnet, daß über dem Spiegel der radaustauchenden Sumpfseite Schichtbegrenzer ( 14 der Fig.6' 7, 9, 10, 12, 13 ) am Gehäuse befestigt sind, die in den Gasraum etwa bis zur vertikalen Meridianebene reichen und mit beiden Seiten jeder Radscheibe enge Spalte bilden.
    16. Einrichtung nach Anspruch 7 bis 15,dadurch gekennzeichnet, daß unterhalb oder wenig oberhalb des Spiegels der radeintauchenden Seite des Sumpfes Abstreifer ( 15 in Sigo7 8 ) am Gehäuse befestigt sind, die etwa bis zur vertikalen Meridianebene reichen und mit beiden Seiten jeder Radscheibe enge Spalte bilden.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0719582A3 (de) * 1994-12-30 1996-08-07 Fischer Karl Ind Gmbh
WO2010057695A3 (de) * 2008-11-21 2010-11-04 Astegger, Johann, Josef Nachkondensieren von kunststoffgranulat

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EP0719582A3 (de) * 1994-12-30 1996-08-07 Fischer Karl Ind Gmbh
WO2010057695A3 (de) * 2008-11-21 2010-11-04 Astegger, Johann, Josef Nachkondensieren von kunststoffgranulat

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