DE2140549B2 - Beleuchtungsvorrichtung zur Herstellung von Mikroschaltungen nach Maskendruckverfahren - Google Patents
Beleuchtungsvorrichtung zur Herstellung von Mikroschaltungen nach MaskendruckverfahrenInfo
- Publication number
- DE2140549B2 DE2140549B2 DE2140549A DE2140549A DE2140549B2 DE 2140549 B2 DE2140549 B2 DE 2140549B2 DE 2140549 A DE2140549 A DE 2140549A DE 2140549 A DE2140549 A DE 2140549A DE 2140549 B2 DE2140549 B2 DE 2140549B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- prism
- lighting device
- mask
- light
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70583—Speckle reduction, e.g. coherence control or amplitude/wavefront splitting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft die Herstellung von Mikroschaltungen
nach dem Schattierungs- oder Masken- -,0
druckverfahren bei dem die jeweilige Mikroschaltung fotolithografisch auf eine vorbereitete Unterlage,
üblicherweise auf Halbleitermaterial, aufgebracht wird. Im engeren Sinne betrifft die Erfindung eine Beleuchtungsvorrichtung
zur Anwendung bei diesem Verfahren.
Beim fotolithografischen Drucken eines Mikroschaltungsbildes auf eine Halbleiterunterlage, z. B. auf eine
Siliciumscheibe nach dem Maskenverfahren, wird eine Maske mit einem bildmäßig verteilten Muster in dem
Strahlengang angeordnet, der auf eine auf der Unterlage vorgesehene lichtempfindliche Fläche einwirkt.
Dabei ist es wichtig, daß das gedruckte Bild eine scharfe und geometrisch genaue Reproduktion der
Bildfelder der Maske darstellt, d. h., daß eine scharfe Schattierung solcher Flächen auf der Oberfläche der 4$
Unterlage erzeugt wird.
Beim Kontaktdruck wird die Maske direkt auf die zu bedruckende Unterlage aufgelegt, während sie beim
Schattierungsdruck oder beim kontaktlosen Druck nahe der Unterlage, jedoch mit Abstand zu dieser angeordnet
ist. Beim Kontaktdruck erfolgt jedoch in der Praxis nicht eine Kontaktgabe im tatsächlichen Sinne der Bezeichnung
zwischen der Bildfläche der Maske und der darunterliegenden Unterlage, so daß beide Verfahrensarten auch als Schattierungsdruck bezeichnet werden <,s
können. Ein die Erzeugung eines scharfen Bildes und damit einer genau wiedergegebenen Schaltung auf der
Unterlage beeinträchtigendes Problem besteht in der Beugung an den Kanten der Maskenbildflächen. Die
Wirkung des Beugungsbildes auf d(.r Unterlage im (K,
Bereich des Schattierungsbildes der Maske kann in gewissem Grade durch Steuerung der Belichtung der
behandelten Unterlage verringert werden. Allein durch diese Maßnahme ist jedoch eine wirksame Beseitigung
der gesamten Beugungseffekte nicht möglich. ds
Es ist Aufgabe der Erfindung, eine Möglichkeil zur Verringerung der beschriebenen Beugungseffekte anzu-Eine
Beleuchtungsvorrichtung zur Herstellung von Mikroschaltungen nach dem Maskendruckverfahren
zeichnet sich zur Lösung dieser Aufgabe gemäß der Erfindung aus durch Lichtquelle mit endlicher begrenzter
Sirahiungsilächc uiiii einer effektiven Helligkeit:,
verteilung mit einem von einer hellen Zone umgebenen mittleren dunklen Bereich, die auf einer Maske bei
Fresnel-Fraunhoferscher Übergangsbeugung einen effektiven Beleuchtungszustand erzeugt, der von unterschiedlichen
Teilen der Lichtquelle Beugungsbilder zur Folge hat, die einander mindestens teilweise auslöschen.
Die Bezeichnung »Fresnel-Fraunhofersche Übergangsbeugung« soll sich im folgenden auf eine Art der
Beugung beziehen, die von einer kohärent beleuchteten Linie oder einem Schlitz unter einem Abstand zu
beobachten ist, der in derselben Größenordnung liegt wie die Breite der Linie oder des Schlitzes. Unter diesen
Bedingungen überlappen die Fresnelschen Streifenbilder auf einem unter diesem Abstand parallel zur Linie
oder zum Schlitz angeordneten Schirm die Grenzen des geometrischen Bildes der Linie oder des Schlitzes auf
dem Schirm. In diesem Zusammenhang wird auf »Introduction to Theoretical Physics« von J. C. Slater
und H. Frank, McGraw-Hill Book Co., 1937. S. 317 bis 322, hingewiesen.
Durch Anwendung einer gemäß der Erfindung ausgebildeten Beleuchtungsvorrichtung ist es möglich,
die Schärfe bei Schattierungsdruck und Kontaktdruck ohne kostspielige Projektionsoptiken zu verbessern.
Die Erfindung besteht in einem von den üblichen Beleuchtungsarten für den Schattierungsdruck deutlich
abweisenden Weg. Bisher mußten hohe Anforderungen an die genaue Bündelung der verwendeten Strahlung
gestellt werden, um eine minimale Divergenz zu gewährleisten. Bei der Erfindung wird hingegen eine
Strahlung erzeugt, die aus einer Gruppe divergierender Wellen besteht.
Die Lichtquelle kann ringförmige Struktur haben. Dabei kann die effektive Helligkeitsverteilung der
Lichtquelle eine Anzahl heller Bereiche aufweisen, die um den dunklen Bereich in einer ringförmigen
Anordnung regelmäßig verteilt sind.
Die Lichtquelle kann eine einzelne punktförmige Quelle und ein fest angeordnetes Mehrfachprisma
umfassen, welches aus mehreren kreisförmig angeordneten Prismenelementen besteht, so daß das Licht der
punktförmigen Quelle durch die Prismenelemente fällt und eine entsprechende Anzahl Teilstrahlen erzeugt,
wobei ferner ein Bündelungselement vorgesehen ist, das aus den Teilstrahlen in der Bildebene den genannten
effektiven Beleuchtungszustand erzeugt.
Das Mehrfachprisma besteht vorzugsweise aus sechs oder mehr identisch ausgebildeten und nebeneinander
angeordneten sektorförmigen Prismene'.ementen, welche jeweils zur Außenkante hin, ausgehend von einer
maximalen Dicke am Scheitel bis zu einer minimalen Dicke, abgeschrägt sind, wobei die Außenkanten der
Prismenelemente auf einem gemeinsamen Kreis liegen. Hierbei kann jedes Prismenelement an seinem Scheitel
stumpf ausgebildet sein, so daß das Mehrfachprisma einen zentralen Teil mit planparallelen Außenflächen
aufweist.
Vorzugsweise sind die beiden Außenflächen eines jeden Prismenelemcnts zur radialen Ebene des Mehrfachprismas
geneigt. Die Außenflächen sind zweckmäßig beschichtet, um sie für ein vorgegebenes Wellenlängenband
optimal durchlässig zu machen.
Das Mehrfachprisma kann aus zwei prismatisch
geschliffenen und eine ebene radiale Fläche aufweisenden Teilen bestehen, die miteinander an den radialen
Flächen verklebt sind.
In der Praxis werden die besten Ergebnisse dann erzielt, wenn sechs oder mehr identische Prismenelemente
verwendet werden.
Eine andere Ausführungsform der Erfindung besteht darin, daß die Lichtquelle eine einzelne punktförmige
Quelle und einen fest angeordneten, zusammengesetzten Reflektor umfaßt, der aus einer Anzahl Reflektorelemente
besteht, die ringförmig angeordnet sind, so daß das Licht der punktförmigen Quelle durch Reflexion
an den Reflektorelementen eine entsprechende Anzahl Teilstrahlen erzeugt, und daß ferner ein Bündelungselement
vorgesehen ist, das aus den Teilstrahlen in der Bildebene den genannten effektiven Beleuchtungszustand
erzeugt. Vorzugsweise sind die Reflektorelemente so angeordnet, daß sie virtuelle Bilder der punktförmigen
Quelle in einer gemeinsamen, durch die punktförmige Quelle verlaufenden Ebene erzeugen. Dabei kann
eine zentral zur kreisförmigen Anordnung der Reflektorelemente angeordnete Blende vorgesehen sein, die den
direkten Durchgang von Licht durch die Anordnung ohne Reflexion an den Reflektorelementen verhindert.
Die von dem Mehrfachprisma oder dem zusammengesetzten Reflektor ausgehenden Teilstrahlen werden
vorzugsweise um 90° mittels eines Reflexionselementes umgelenkt, bevor sie durch das Bündelungselement
geleitet werden.
Alternativ kann die Lichtquelle auch eine Quelle und eine Vorrichtung zu deren kreisförmiger Bewegung
umfassen, so daß innerhalb jeweils einer Beleuchtungsperiode eine ringförmige Helligkeitsverteilung erzeugt
wird. Vorzugsweise erzeugt die Lichtquelle jedoch einen gebündelten Lichtstrahl, der eine kegelige oder
zylindrische Fläche zyklisch abtastet, indem ein Reflexions- oder Refraktionselement in seiner optischen
Achse in Rotation versetzt wird.
Das Reflexions- oder Refraktionselement kann ein drehbares Keilprisma sein, das auf der optischen Achse
zwischen einer Lichtquelle und einem Bündelungselement angeordnet ist, so daß bei seiner Drehung der
gebündelte Strahl eine Abtastung auf einer Kegelfläche erzeugt. Alternativ kann das Reflexions- oder Refraktionselement
ein drehbares Keilprisma sein, das auf der optischen Achse angeordnet ist, wobei zwischen dem
Keilprisma und der Lichtquelle ein Bündelungselement angeordnet ist, so daß der aus dem Keilprisma
austretende Strahl bei Drehung des Keilprismas eine Abtastung auf einer Kegelfläche durchführt.
Eine weitere Möglichkeit besteht darin, daß das Reflexions- oder Refraktionselement ein ebener Spiegel
ist, der um eine gegenüber der Normalen zu seiner Reflexionsfläche geneigte Achse drehbar ist und auf der
optischen Achse zwischen der Lichtquelle und einem Bündelungselement angeordnet ist, so daß der gebündelte
Strahl bei Drehung des Spiegels eine Abtastung auf einer Kegelfläche durchführt.
Das Reflexions- oder Refraktionselement kann auch ein rhombisches Prisma sein, das um eine senkrecht zu
zwei planparallelen, vom Lichtstrahl durchsetzten Flächen verlaufende Achse drehbar ist, so daß der aus
ihm austretende Lichtstrahl eine zylindrische Fläche abtastet.
Wie bereits ausgeführt, wird eine gemäß der
Erfindung ausgebildete Beleuchtungsvorrichtung beim Schatticrungsdruck angewendet, die Erfindung ist
iedoch auch auf den Kontnktdru:k anwendbar, wie er
oben beschrieben wurde, sowie auch in anderen Fällen, bei denen eine Kompensation der Fresnel-Fraunhoferschen
Beugung zu einem gewissen Grade erforderlich ist.
Gemäß weiterer Ausbildung des Erfindungsgedankens ist ein unter Verwendung einer Beleuchtungsvorrichtung
der beschriebenen Arten arbeitendes Maskendruckverfahren zur Herstellung von Mikroschaltungen
vorgesehen, bei dem die Strahlung einer Strahlungsquelle durch eine Maske auf eine zu bedruckende
strahlungsempfindliche Fläche gerichtet wird. Dieses Verfahren kann derart ausgebildet sein, daß eine
extensive Strahlungsquelle mit einer Helligkeitsverteilung in Form einer von einer hellen Zone umgebenen
mittleren dunklen Zone verwendet wird, wobei die Maske und die Fläche auf den dunklen Bereich zentriert
sind, so daß auf der Fläche durch Fresnel-Fraunhofersche Übergangsbeugung von unterschiedlichen Teilen
der Lichtquelle erzeugte Streifenbilder eines jeweils gegebenen Teils der Maske einander auf der Fläche
zumindest teilweise auslöschen.
Die Wellenlänge der erzeugten Strahlung kann bei diesem Verfahren 0,4 Mikron betragen, wobei die
Fläche von der Maske einen Abstand von 9 Mikron hat. Unter diesen Umständen ergibt sich eine Glättung des
auf der Fläche erzeugten Beugungsmusters durch Kompensation der Streifenbilder innerhalb eines
Bereichs von 3 bis 6 Mikron der Fläche.
Wie bereits ausgeführt, ist die Lichtquelle vorzugsweise so angeordnet, daß ihre effektive Helligkeitsverfeilung
ringförmig ist, wobei dieser Ring beispielsweise quadratisch oder kreisförmig sein kann.
Bei einer ringförmigen Verteilung bzw. bei einer Abtastbewegung der verwendeten Strahlung auf einem
kreisförmigen Weg wird vorzugsweise eine Einwirkung der Strahlungsquelle auf jeden Punkt der Maske mit
einer Strahlung erzeugt, die zwischen zwei kegeligen Flächen liegt, die eine gemeinsame Spitze an dem
jeweiligen Punkt und eine gemeinsame Achse normal zur Maskenebene haben. Vorzugsweise haben die
kegeligen Flächen dabei einen halben Öffnungswinkel von 3.25 bis 4,75°.
Die Erfindung wird im folgenden an Hand in der Figuren dargestellter Ausführungsbeispiele beschrie·
ben. Es zeigt
Fig. 1 eine Beleuchtungsvorrichtung für den Schattierungsdruck,
wobei schematisch die Fresnelschf Beugung einer sphärischen Wellenfront dargestellt ist
die auf eine rechteckförmige Öffnung einer Maske trifft, F i g. 2 eine schematische Darstellung des auf eine;
Unterlage erzeugten Beugungsmusters, wobei eii Abstand von 12 Mikron von einem Schlitz in der ii
F i g. 1 gezeigten Maske vorliegt, deren Breite 3 Mikroi beträgt, zusammen mit dem Beugungsmuster, das durcl
eine erfindungsgemäße Beleuchtungsvorrichtung er zeugt wird,
F i g. 3 bis 6 schematische Darstellungen unterschied licher Ausführungsformen erfindungsgemäßer Beleuch
tungsvorrichtungen, die mit rotierenden optischei Elementen arbeiten,
F i g. 7 eine perspektivische Darstellung einer erfin dungsgemäßen Beleuchtungsvorrichtung mit fest an
geordneten optischen Elementen,
Fig. 8 eine seitliche Darstellung der in Fig. gezeigten Vorrichtung.
Fig.9 eine seitliche Darstellung einer andere
Ausführungsform der Erfindung und Fip. 10 den Schnitt IV-IV aus F i g. 9.
In Fig. 1 ist schematisch eine Anordnung für den
Schattierungsdruck dargestellt, die eine punktförmige Lichtquelle 1, eine mit öffnung versehene Maske 2 und
eine Unterlage 3 enthält, deren lichtempfindliche Oberfläche die Strahlung der Quelle 1 nach Durchgang s
durch die Maske 2 empfängt.
In Fig. 1 ist eine sphärische Wellenfront 4 dargestellt,
die von der punktförmigen Lichtquelle 1 ausgeht und an einem rechteckförmigen Schlitz der Maske 2
eintrifft.
Unter Anwendung der einfachen Fresnelschen Theorie der Cornu-Spirale, wobei der Neigungsfaktor
der einfallenden Strahlung und die Änderung der Amplitude mit dem Abstand nicht berücksichtigt sind,
können die Amplitudenkomponenten des an einem is Punkt mit dem Koordinaten λ, y auf der Unterlage 3 zu
beobachtenden Beugungsbildes für Abstände s in der Maskenebene, gemessen längs der Cornu-Spirale oder
Vibrationskurve, abgeleitet werden.
Die Komponenten können folgendermaßen angegeben werden:
f 1 n:
I COS Ί UN
J sin .,
d.s.
Für jeden gegebenen Punkt im Beugungsbild beträgt
3.S
wobei die Werte von ρ aus den entsprechenden
Koordinaten von (x, y), des Punktes in der querliegenden Unterlagenebene in Relation zu den Koordinaten des
Schlitzes in der querliegenden Maskenebene abgeleitet werden, b der Abstand von Maske zu Unterlage und λ
die Wellenlänge der Strahlung ist (s. F i g. 1). Die Größe des Beugungsbildes ist daher proportional der Quadratwurzel
der Wellenlänge λ,
Typischerweise ist die lichtempfindliche Ätzschutzschicht auf der Unterlage 3 empfindlich für drei mit
geringem Abstand zueinandcrliegende Wellenlängen des Quecksilberspektrums, nämlich für Wellenlängen
von 365 nm, 405 nm und 436 nm.
Da jedoch die erzeugte Beugung proportional der Quadratwurzel der Wellenlänge ist, kann man in der
Praxis diese drei Werte durch einen Wellenlängenwert von 400 nm ersetzen.
Eine Analyse des Beugungsbildes einer Linie oder eines Schlitzes kann entsprechend dieser Theorie ss
durchgeführt werden, die sich als eine gute praktische Näherungslösung darstellt. Fig. 2 zeigt, nicht maßstabsgerecht,
das Beugungsbild auf einer Unterlage 3, die einen Abstand von 12 Mikron zur Maske 2 hat.
wobei die Schlitzbreite 3 Mikron beträgt. ho
Es wurde beispielsweise von Michelson gezeigt,
daß die Auslöschung von Beugungsstreifen durch zwei divergierende Strahlungswellen erreicht werden kann
(d. h. mit zwei Lichtquellen). Eine Kombination zweier Lichtquellen reicht jedoch zur Auslöschung von <,«,
Beugungsstreifen nicht aus, die mit Schlitzen unterschiedlicher Breite einer Maske erzeugt werden.
Es hat sich gezeigt, daß eine bestimmte Verteilung der
Helligkeit der Lichtquelle bei bestimmter Schlitzbreite und bestimmtem Abstand zwischen Maske und Unterlage
eine Kompensation der Beugungsstreifen bringen kann.
Gemäß der Erfindung wird die Intensitätsverteilung des auf der Unterlage 3 erzeugten Beugungsbildes durch
geeignete Wahl der Geometrie der Lichtquelle, abweichend von der in F i g. 1 dargestellten punktförmigen
Quelle, beeinflußt. Es wurde beispielsweise gefunden, daß eine weitgehende Glättung des Beugungsbildes
innerhalb eines bestimmten Bereiches auf der Unterlage durch Verwendung einer Strahlungsquelle 1 ringförmiger
Konfiguration erreicht werden kann.
Mit einer Strahlungsquelle, die eine Wellenlänge von 0,4 Mikron hat, ergibt sich eine optimale ringförmige
Geometrie. Es kann auch eine Strahlungsquelle verwendet werden, die einen eine Kegelfläche abtastenden
Strahl erzeugt, so daß die Strahlung auf jeden gegebenen Punkt der Maske 2 mit Strahlen auftrifft, die
eine Kegelflächenfamilie erzeugen, deren gemeinsamer Scheitelpunkt an dem jeweiligen Punkt der Maske liegt
und deren gemeinsame Achse senkrecht zur Maske verläuft, wobei die halben öffnungswinkel zwischen 3,25
und 4,75° liegen.
In F i g. 2 ist das typische Beugungsbild auf der Unterlage 3 unter Verwendung einer punktförmigen
Strahlungsquelle 1 der in F i g. 1 gezeigten Art dargestellt, wobei ein korrigiertes Strahlungsbild
überlagert ist. Dieses ist gestrichelt dargestellt. Hierzu wird eine Beleuchtungsvorrichtung gemäß der Erfindung
mit ringförmiger Helligkeitsverteilung verwendet, bei der eine Strahlungsquelle auf einem Kreis von
0,144 Bogeneinheiten Durchmesser bewegt wird. Dabei beträgt der Abstand von Maske zu Unterlage
12 Mikron.
In den Fig.3 bis 6 sind verschiedene praktische
Ausführungsformen einer erfindungsgemäßen Beleuchtungsvorrichtung für den Schattierungsdruck dargestellt,
bei denen rotierende optische Elemente verwendet sind.
Bei der in F i g. 3 gezeigten Anordnung wird das Licht der Quelle 1 durch einen geneigten Spiegel 5 auf ein
rotierendes Keilprisma 6 in Richtung senkrecht zu einer seiner Flächen geleitet, von wo aus es auf eine
Sammellinsenanordnung 7 trifft und auf die zu beleuchtende Masken-Unterlagenkombination 2, 3
gestrahlt wird. Das Prisma 6 wird mit konstanter Drehzahl mittels eines Elektromotors 8 gedreht, der mit
dem Prismengehäuse über einen Bandtrieb 9 gekoppelt ist. Die Rotationsachse des Prismas 6 fällt mit der
optischen Achse der Sammellinsenanordnung 7 zusammen.
Die Drehung des Prismas 6 mit konstanter Drehzahl während der Bestrahlung der Unterlage 3 durch die
Maske 2 hindurch verursacht eine Abtastbewegung de; mit der Linsenanordnung 7 gebündelten Strahls aul
einer Kegelfläche, wobei die Masken-Unterlagenkom bination 2,3 so beleuchtet wird, als ob eine kreisförmigt
Lichtquelle der beschriebenen Art verwendet würde.
F i g. 4 zeigt eine andere Ausführungsform, bei dei das Keilprisma 6 in einem drehbaren Gehäuse in
Verlauf des gebündelten Lichtstrahls angeordnet ist, de von der Sammellinsenanordnung 7 ausgeht.
In Fig. 5 ist ein Drehspiegel 7 vorgesehen, der eim
kegelförmige Abtastung mit dem gebündelten Lieh erzeugt. Der Spiegel 10 ist um eine Achse drehbar, di
gegenüber der Normalen zu seiner Reflcxionsfläch geneigt ist, so daß das an ihm reflektierte Licht ein
kegelförmige Abtastbewegung durchführt. Der Spiegel wird mit konstanter Drehzahl um diese Achse gedreht.
Das Licht wird auf den Spiegel 10 von der Quelle 1 aus gerichtet, wozu eine Kombination von Linsen 11 λ
und Ilisowie ein intern reflektierendes Pentaprisma 12
vorgesehen ist. Das Licht wird mit der Linse 11a zum
Durchgang durch das Pentaprisma 12 gebündelt und mit der Linse 11 erneut zu einem Bild fokussiert, bevor es
durch den Drehspiegel 10 reflektiert wird. Dies erfolgt innerhalb eines großen Lichtaufnahmebereiches des
Lichtes der Quelle 1. Nach Reflexion am Spiegel 10 wird der Abtastlichtstrahl durch die Sammellinsenanordnung
7 und dann auf die Masken-Unterlagenkombination 2,3 geleitet.
Fig. 6 zeigt eine weitere Ausführungsform, bei der
das von der Quelle 1 abgegebene Licht mit einer Sammellinsenanordnung 14 auf ein rhombisches Prisma
15 geleitet wird, welches in einem Gehäuse angeordnet ist und um eine versetzte Achse X-X gedreht wird, die
senkrecht zu den parallelen Eintritts- und Austrittsflächen des Prismas 15 liegt. Das austretende Licht wird
mit einem Spiegel 16 in die Sammellinsenanordnung 7 geleitet und gelangt von dort aus auf die Masken-Unterlagenkombination
2, 3. Es erzeugt hier einen Abtaststrahl, der eine kegelförmige Abtaslbewegung durchführt.
Die Fig. 7 und 8 zeigen Ausführungsformen der
Erfindung mit fest angeordneten optischen Elementen.
Bei diesen Ausführungsformen wird die Strahlung einer einzelnen Lichtquelle 1, die eine punktförmige
Lichtquelle ist, mit dem noch zu beschreibenden optischen System auf eine vorbereitete Unterlage 3
gerichtet, die eine lichtempfindliche Oberfläche hat. Die Strahlung hat dabei eine vorbestimmte Verteilung.
Die Unterlage 3 ist in einer Bild- oder Druckebene P ( F i g. 8) angeordnet, und eine Maske 2 mit vorbestimmtem
Bildmuster, die in F i g. 8 gestrichelt gezeigt ist, ist vor der Unterlage 3 vorgesehen. Zum Schattierungsdruck hat die Maske 2 einen Abstand von der Unterlage
3, der durch die Analyse typischer Bildintensitätsverteilungen bestimmt ist und für einen konstanten Trennungswinkel
der verwendeten Lichtstrahlen berechnet ist. Im vorliegenden Beispiel beträgt der Abstand
9 Mikron, so daß die Bedingungen für Fresnel-Fraunhofersche Beugung der verwendeten Strahlung an der
Maske 2 vorliegen. Die von der Quelle 1 erzeugte Strahlung hat eine Wellenlänge im Bereich von
0,4 Mikron.
Eine wirksame Ausiöschung der Beugungsstreifen in der Bildebene Pist möglich, wenn diese Ebene von einer
Strahlungsquelle beleuchtet wird, die eine ringförmige Helligkeitsverteilung mit einem mittleren dunklen
Bereich hat, der durch eine helle Zone umgeben ist. Diese effektive Helligkeitsverteilung wird mit einem
festen optischen System erreicht, das in den F i g. 7 und 8 dargestellt ist und aus einem Mehrfachprisma 20 und
einem Bündelungselement 21 besteht. Das Bündelungselement 21 kann in an sich bekannter Weise eine oder
mehrere Linsen umfassen. Die Quelle 1 ist auf der Symmetrieachse des Prismas 20 angeordnet, die
horizontal verläuft. Die Achse des Bündelungselements 21 ist vertikal angeordnet, das durch das Prisma
abgelenkte Licht wird durch einen ebenen Spiegel nach unten in das Bündelungselement 21 reflektiert,
wozu der Spiegel 22 unter einem Winkel von 45" gegenüber der Horizontalen geneigt ist.
Das Mchrfachprisma 20 besteht aus einer Anzahl identischer Prismenelemente 23, die mit zueinander
gleichem Abstand kreisförmig angeordnet sind. Im dargestellten Ausführungsbeispiel besteht das Mehrfachprisma
20 aus sechs Prismenelementen 23.
Das Mehrfachprisma 20 hat eine kreisrunde Außenkante, und jedes Prismenelement 23 ist sektorförmig
ausgebildet. Seine Außenkante bildet einen Teil der kreisförmigen Außenkante des Prismas 20. Jedes
Prismenelement 23 ist, ausgehend von einer maximalen Dicke an seinem Scheitel, nach außen hin abgeschrägt
und mit dieser Schrägungsfläche gegenüber der radialen Ebene des Mehrfachprismas 20 geneigt angeordnet.
Diese radiale Ebene verläuft normal zur Symmetrieachse des Prismas 20. Die Außenfläche 24 eines jeden
Prismenelementes 23, die der Lichtquelle 1 zugewandt ist, hat eine Neigung von 78 bis 79° gegenüber der
Symmetrieachse des Prismas 20, während die andere Außenfläche 25 in dazu entgegengesetzter Richtung
unter einem Winkel von 63 bis 64° gegenüber der Symmetrieachse geneigt ist.
Jedes sektorförmige Prismenelemenl 23 ist an seinem Scheitel abgestumpft, so daß das Mehrfachprisma 20
einen mittleren Bereich 26 mit planparallelen Außenflächen hat, wobei dieser mittlere Bereich 26 die Form
eines hexagonalen Parallelepipeds hat.
Das jeweilige Prismenelement 23 wird in der Praxis vorteilhaft so zusammengesetzt, daß facettenartige
Flächen auf zwei runden Scheiben geschliffen werden, die die Flächen 24 und 25 bilden. Die beiden Scheiben
werden dann an ihren ebenen Flächen miteinander verklebt, so daß die Flächen 24 und 25 außen liegen und
jeweils ein Prismenelement 23 bilden.
Die von der Quelle 1 abgegebene und auf das Mehrfachprisma 20 treffende Strahlung wird durch das
Prisma 20 in eine Anzahl Teilstrahlen aufgeteilt, die gleich der Anzahl der Prismenelemente 23 ist. In F i g. ί
sind zwei einander gegenüberliegende Prismenelemen· te 23 mit zugehörigem Strahlenverlauf dargestellt. Be
Reflexion am Spiegel 22 werden diese Strahlen nacl unten als divergente Strahlen weitergeleitet, sie
erzeugen virtuelle Bilder der Quelle 1, von denen di< Bilder Γ und 1" in Fig. 8 dargestellt sind. Dies«
Strahlen werden in der Bildebene P durch da: Bündelungselement 21 zusammengefaßt, wie es ii
Fig.8 schematisch gezeigt ist. Die relative Divergen;
der gebündelten Strahlen in der Bildebene P betrag 0,14 Bogeneinheiten.
Die auf die Bildebene P auftreffenden Strahlen habei
eine effektive Intensitätsverteilung, derart, daß sie in de Bildebene Peinen Beleuchtungszustand erzeugen, der ii
einer mittleren dunklen Zone und einer diese umgeben den Anzahl (im vorliegenden Falle sechs) heller Zonei
besteht, die kreisförmig regelmäßig um die dunkle Zon verteilt sind. Dies kommt der idealen Kreisform für di
Kompensation der Beugungsbilder in der Bildebene nahe.
Die Oberflächen der licht übertragenden Kompo nenten des optischen Systems sind vorzugsweis
beschichtet, um eine optimale Durchlässigkeit für di verwendete Strahlung zu gewährleisten. Im dargestcll
ten Ausführungsbeispiel sind alle Flächen, einschließlic der Flächen 24 und 25 der Prismenelemente 23 für best
Durchlässigkeit im Wellenlängenbereich von 0.36 bi 0,44 Mikron beschichtet. Das optische System erzeug
sechs gebündelte Lichtstrahlen. Entsprechend ist di hierbei verwendete Strahlungsintensität wesentlic
größer als diejenige einer kreisförmig bewegte Lichtquelle bzw. eines kreisförmig bewegten Lichi
Strahls bei Verwendung derselben BündclunEslinscn.
<P
In den F i g. 9 und 10 sind weitere Ausführungsformen
dargestellt, bei denen das Mehrfachprisma 20 durch einen zusammengesetzten Reflektor 30 ersetzt ist.
Der zusammengesetzte Reflektor 30 besteht aus einer Anzahl (z. B. sechs) identischer ebener Spiegel 31, die
ringförmig (sechseckförmig) angeordnet sind, wie es in Fig. 10 gezeigt ist. Die punktförmige Lichtquelle 1 ist
auf der Achse 32 dieser Anordnung vorgesehen. Jeder Spiegel ist unter einem gleichbleibend geringen Winkel
gegenüber der Achse 32 geneigt, so daß das Licht der Quelle 1 durch den Reflektor 30 in divergente
Teilstrahlen verteilt wird, deren Anzahl der Anzahl der Spiegel 31 entspricht. Die Lichtstrahlen gehen von
virtuellen Bildern 33 aus, welche in einer gemeinsamen
Ebene liegen, in der auch die punktförmige Lichtquelle ί in der in F i g. 9 gezeigten Weise angeordnet ist.
Die divergenten Teilstrahlen des Reflektors 30 werden an dem ebenen Spiegel 22, der unter einem
s Winkel von 45° gegenüber der Achse 32 geneigt ist, auf das Bündelungselement 21 reflektiert, wodurch sich die
gewünschte Helligkeitsverteilung in der Bildebene / ergibt, wie sie bereits an Hand der F i g. 7 und 8
beschrieben wurde, Das Licht der Lichtquelle 1 wird ίο durch eine zentral angeordnete Blende 34 derart
abgeschirmt, daß es nicht direkt und ohne Reflexion ar den Spiegeln 31 auf das Bündelungselement 21 faller
kann.
Hier/u 7 Blau Zeit.'
Claims (20)
1. Beleuchtungsvorrichtung zur Herstellung von Mikroschaltungen nach dem Maskendruckverfahren,
gekennzeichnet durch eine Lichtquelle (t) mit endlicher begrenzter Strahlungsfläche und
einer effektiven Helligkeitsverteilung mit einem von einer hellen Zone umgebenen mittleren dunklen
Bereich, die auf einer Maske (2) bei Fresnel-Fraunhoferscher
Übergangsbeugung einen effektiven Beleuchtungszustand erzeugt, der von unterschiedlichen
Teilen der Lichtquelle (1) Beugungsbilder zur Folge hai, die einander mindestens teilweise
auslöschen. ι _s
2. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die effektive Helligkeitsverteilung
der Lichtquelle (1) eine Anzahl heller Bereiche aufweist, die um den dunklen Bereich in
tiner ringförmigen Anordnung regelmäßig verteilt ;o
tind.
3. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle eine
einzelne punktförmige Quelle (1) und ein fest Angeordnetes Mehrfachprisma (20) umfaßt, welches
ius mehreren kreisförmig angeordneten Prismenelementen (23) besteht, so daß das Licht der
punktförmigen Quelle (1) durch die Prismenelemente (23) fällt und eine entsprechende Anzahl
Teilstrahlen erzeugt, und daß ferner ein Bündelungselement (21) vorgesehen ist, das aus den Teilstrahlen
in der Bildebene (P) den genannten effektiven Beleuchtungszustand erzeugt.
4. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Mehrfachprisma
(20) aus vorzugsweise sechs oder mehr identisch (ausgebildeten und nebeneinander angeordneten
sektorförmigen Prismenelementen (23) besteht, welche jeweils zur Außenkante hin, ausgehend von
«iner maximalen Dicke um Scheitel bis zu einer minimalen Dicke, abgeschrägt sind, und daß die
Außenkanten der Prismenelemente (23) auf einem gemeinsamen Kreis liegen.
5. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß jedes Prismenelement
(23) an seinem Scheitel stumpf ausgebildet ist, so daß das Mehrfachprisma (20) einen zentralen Teü (26)
mit planparallelen Außenflächen aufweist.
6. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
beiden Außenflächen (24, 25) eines jeden Prismenelements
(23) zur radialen Ebene des Mchrfachprismas (20) geneigt sind.
7. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Mehrfachprisma ss
(20) aus zwei jeweils prismatisch geschliffenen und eine ebene radiale Fläche aufweisenden Teilen
besteht, die miteinander an den radialen Flächen verklebt sind.
8. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, <*>
dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle eine einzelne punktförmige Quelle (1) und einen fest
angeordneten, zusammengesetzten Reflektor (30) umfaßt, der aus einer Anzahl Reflektorelemente (31)
besteht, die ringförmig angeordnet sind, so daß das <,<
Licht der punktförmigen Quelle (1) durch Reflexion an den Reflektorelementen (3t) eine entsprechende
Anzahl Teilstrahlen erzeugt und daß ferner ein Bündelungselement (21) vorgesehen ist, das aus den
Teilstrahlen in der Bildebene (P) den genannten effektiven Beleuchtungszustand erzeugt.
9. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Reflektorelememe
(31) virtuelle Bilder der punktförmigen Quelle (l) in
einer gemeinsamen, durch die punktförmige Quelle (1) verlaufenden Ebene erzeugen.
10. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, gekennzeichnet durch eine zentral zur
kreisförmigen Anordnung der Reflektorelemente (31) angeordnete Blende (34), die den direkten
Durchgang von Licht durch die Anordnung ohne Reflexion an den Reflektorelementen (31) verhindert.
11. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch !, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle eine
Quelle (1) und eine Vorrichtung (8, 9) zu deren kreisförmiger Bewegung umfaßt, so daß innerhalb
jeweils einer Beleuchtungsperiode eine ringförmige Helligkeitsverteilung erzeugt wird.
12. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle einen
gebündelten Lichtstrahl erzeugt, der eine kegelige oder zylindrische Fläche zyklisch abtastet, indem ein
Reflexions- oder Refraktionselement in seiner optischen Achse in Rotation versetzt wird.
13. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Reflexions- oder
Refraktionselement ein drehbares Keilprisma (6) ist, das auf der optischen Achse zwischen einer
Lichtquelle (1) und einem Bündelungselement (7) angeordnet ist, so daß bei seiner Drehung der
gebündelte Strahl eine Abtastung auf einer Kegelfläche erzeugt (Fig. 3).
14. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet, daß das Reflexions- oder Refraktionselement ein drehbares Keilprisma (6) ist,
das auf der optischen Achse angeordnet ist, wobei zwischen dem Keilprisma (6) und der Lichtquelle (1)
ein Bündelungselement (7) angeordnet ist, so daß der aus dem Keilprisma (6) austretende Strahl bei
Drehung des Keilprismas (6) eine Abtastung auf einer Kegelfläche durchführt (Fig. 4).
15. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Reflexions- oder
Refraktionselement ein ebener Spiegel (10) ist, der um eine gegenüber der Normalen zu seiner
Reflexionsfläche geneigte Achse drehbar ist und auf der optischen Achse zwischen der Lichtquelle (1)
und einem Bündelungselement (7) angeordnet ist, so daß der gebündelte Strahl bei Drehung des Spiegels
(10) eine Abtastung auf einer Kegelfläche durchführt (Fig. 5).
16. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Reflexions- oder
Refraktionselement ein rhombisches Prisma (15) ist, das um eine senkrecht zu zwei planparallelen, vom
Lichtstrahl durchsetzten Flächen verlaufende Achse (X-X) drehbar ist, so daß der aus ihm austretende
Lichtstrahl eine zylindrische Fläche abtastet (Fig. 6).
17. Verfahren zur Herstellung von Mikroschaltungen,
bei dem die Strahlung einer Strahlungsquelle durch eine Maske auf eine zu bedruckende
strahlungsempfindliche Fläche gerichtet wird, unter Verwendung einer nach einem der Ansprüche 1 bis
!6 ausgebildeten Beleuchtungsvorrichtung, dadurch
gekennzeichnet, daß eine extensive Strahlungsquelle (1) mit einer Helligkeitsverteilung in Form einer von
ei.-.er hellen Zone umgebenen mittleren dunklen Zone verwendet wird, wobei die Maski: (2) und die
Fläche (3) auf den dunklen Bereich zentriert sind, so daß auf der Fläche (3) durch Fresnel-Fraunhofersche
Übergangsbeugung von unterschiedlichen Teilen der Lichtquelle erzeugte Streifenbilder eines jeveils
gegebenen Teils der Maske (2) einander auf der Fläche (3) lumindest teilweise auslöschen.
18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Wellenlänge der erzeugten
Strahlung 0,4 Mikron beträgt und daß die Fläche (3) von der Maske (2) einen Abstand von 9 Mikron hat.
19. Verfahren nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsquelle (1) auf
jeden Punkt der Maske (2) mit einer Strahlung einwirkt, die zwischen zwei kegeligen F'ächen liegt,
die eine gemeinsame Spitze an dem jeweiligen Punkt und eine gemeinsame Achse normal zur Maskenebene
haben.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die konischen Flächen halbe
öffnungswinkel von 3,25 bis 4,75° haben.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB3880970 | 1970-08-12 | ||
GB3880970A GB1353739A (en) | 1970-08-12 | 1970-08-12 | Light exposure means for shadow or contact printing |
GB728871 | 1971-03-19 | ||
GB728871 | 1971-03-19 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2140549A1 DE2140549A1 (de) | 1972-02-17 |
DE2140549B2 true DE2140549B2 (de) | 1976-01-02 |
DE2140549C3 DE2140549C3 (de) | 1976-08-19 |
Family
ID=
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3627136A1 (de) * | 1986-04-28 | 1987-10-29 | Orc Mfg Co Ltd | Belichtungsvorrichtung mit sich bewegendem parallellicht |
EP0266203A2 (de) * | 1986-10-30 | 1988-05-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Belichtungseinrichtung |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3627136A1 (de) * | 1986-04-28 | 1987-10-29 | Orc Mfg Co Ltd | Belichtungsvorrichtung mit sich bewegendem parallellicht |
EP0266203A2 (de) * | 1986-10-30 | 1988-05-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Belichtungseinrichtung |
EP0266203A3 (en) * | 1986-10-30 | 1988-12-21 | Canon Kabushiki Kaisha | An illumination device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7111033A (de) | 1972-02-15 |
DE2140549A1 (de) | 1972-02-17 |
JPS5143750B1 (de) | 1976-11-24 |
IT939738B (it) | 1973-02-10 |
FR2104273A5 (de) | 1972-04-14 |
US3795446A (en) | 1974-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3125205C2 (de) | ||
DE3323852C2 (de) | ||
DE3137031C2 (de) | Mehrfachstrahlenbündel-Abtastoptiksystem | |
DE2952607C2 (de) | Verfahren zur optischen Herstellung einer Einstellscheibe für eine Kamera | |
DE3913228C2 (de) | Spektroskopiesystem diffuser Reflexion und Verfahren zum Erhalten eines diffusen Reflexionsspektrums | |
DE2709353C2 (de) | Reproduktionseinrichtung zur Herstellung gerasterter Bilder | |
DE4301716C2 (de) | Projektionsbelichtungsgerät und -verfahren | |
DE3343145A1 (de) | Beobachtungsgeraet | |
DE2643975A1 (de) | Optischer fokussierungsmessfuehler und damit ausgeruestete fokussierungsvorrichtung | |
DE2360197A1 (de) | Verfahren zur erhoehung der schaerfentiefe und/oder des aufloesungsvermoegens von lichtmikroskopen | |
DE2539183C2 (de) | Optisches Meßinstrument | |
DE1622245A1 (de) | Optisches Abtastverfahren | |
DE2253492A1 (de) | Projektionsverfahren zum erzeugen einer kopie einer photomaske | |
DE2259727C3 (de) | Einrichtung zum Aufzeichnen eines redundanten Hologrammes | |
DE102018114162B4 (de) | Lochscheibe zum Selektieren von Licht für eine optische Abbildung, optisches Abbildungssystem | |
DE10237325A1 (de) | Gerät und Verfahren zur Belichtung eines Objektes mit Licht | |
DE2140549B2 (de) | Beleuchtungsvorrichtung zur Herstellung von Mikroschaltungen nach Maskendruckverfahren | |
EP0262088B1 (de) | Anordnung zur Positionierung und Synchronisation eines Schreiblaserstrahls | |
DE4127919C2 (de) | Lichtaufzeichnungsvorrichtung | |
DE102006038473A1 (de) | Beleuchtungssystem und Belichtungsvorrichtung | |
DE2151528A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Abtastung eines interferometrischen Linienmusters | |
DE102005017014B4 (de) | Verfahren zur Formung eines Beleuchtungslaserstrahls und Beleuchtungseinrichtung mit einem Laser | |
DE2608176C2 (de) | ||
DE2140549C3 (de) | Beleuchtungsvorrichtung zur Herstellung von Mikroschaltungen nach Maskendruckverfahren | |
DE3240360C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |