DE2119486A1 - Elektro-optisches Lagekorrektursystem für die Korrektur der Lage einer Platine, die von einem Schlitten getragen wird, der entlang einer Parallelbank verschoben wird - Google Patents
Elektro-optisches Lagekorrektursystem für die Korrektur der Lage einer Platine, die von einem Schlitten getragen wird, der entlang einer Parallelbank verschoben wirdInfo
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- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims description 20
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 10
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 210000000352 storage cell Anatomy 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
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- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
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Description
Dr. Gertrud Hauser eooo Mönchen 6o, 20.April 1971
Dipl.-Ing. Gottfried Leiser E,«berfl.rS.ro„. i?
Patentanwälte
Telefon: 83 15 10
Postscheckkonto! München 117078
unser Zeichen
ι
T 1021
THOMSOK-CSI1
101, Bä.Murat,
PARIS 16eme, Frankreich
Elektro-optisches Lagekorrektursystem für
die Korrektur der Lage einer Platine, die von eineta Schlftteür getragen wird, der entlang einer
Parallelbank verschoben wird.
Die Erfindung bezieht sich auf Meßsysteme, mit denen
eine franslatorisehe Verschiebung von beweglichen Teilen
auf einen] Gestell mit großer Präzision durchgeführt und gemessen werden können. Die Erfindung eignet sich sowohl
für Systeme dieser Art, die ausschließlich zu Meßzwecken verwendet werden, wie auch für Systeme,welche - die sehr
genaue Einstellung von Teilen auf Maschinen (Präzisions-Werk
zeugma sch inen, Maschinen zur Fertigung von Masken für integrierte Schaltungen usw.) mit Hilfe von Verstellungen
in einer oder mehreren Richtungen und die genauen Messungen dieser Verstellungen ermöglichen.
Es sind bereits zahlreiche Meß-und/oder Einatellsysteme
bekannt, bei denen ein beweglicher Schlitten auf einem Gestell verschoben wird, das entweder die Meßbank oder
das Maschinengestell -(bildet, wobei die genaue Messung
der Verschiebungen in jeder Translations richtung in
«allgemein h^kfvn^nter Weise durch interferometrische
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Verfahren erfolgt, die Vorzugs weise mit kohärentem Licht arbeiten, beispielsweise dem Licht einer Laser-Quelle.
Es sind bereits Verbesserungen aller Arten bei solchen Systemen vorgenommen worden, und zwar sowohl
hinsichtlich des optischen Teils, der für die eigentliche Messung dient, als auch für den mechanischen Teil, der
für die Verstellung verwendet wird. Dennoch weisen die bisher vorhandenen Systeme einen schwerwiegenden
Mangel auf, der auf dem "Schlingern" des beweglichen Schlittens beruht, d.h. auf Störbewegungen des Schlittens
in allen möglichen'Richtungen außer der betreffenden Translationsrichtung,
wodurch entsprechende Fehler verursacht werden. Es sind bereits Korrekturvorrichtungon für diese
Fehler ausgeführt worden; sie sind im allgemeinen kompliziert, unzureichend wirksam und führen zu einer
beträchtlichen Erhöhung des Gewichts und des Umfangs
der damit ausgestatteten Meßbank oder Maschine und zaar
umso mehr, je größer die Strecken sind, über welche die Traaslstionsbewegungen erfolgen müssen.
Das Ziel der Erfindung ist die Verbesserung von reinen
Meßsysiemen oder von Präzisions-Einstellsystemen in Verbindung mit Meßsystemen der zuvor beschriebenen Art
" durch Schaffung einer dynamischen Korrekturanordnung
für die Schlingerbewegungen, die besonders einfach auszuführen
ist und eine sehr wesentliche Verbesserung der Güte derTranslations bewegungen und der Genauigkeit ihrer
Messungen ergibt.
Nach der Erfindung"ist ein elektro-optischos Lagekorrektursystem
für die Korrektur der Lage einer Platine, die von einem Schlitten getragen wird, der entlang einer
Parallelbank mit einer Translationsacb.se verschoben wird,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Einrichtung zur Aussendung
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wenigstens eines Strahlungsenergiebündels parallel zu
der Translationsachse, eine fest mit der Platine verbundene Detektoreinrichtung für die Strahlungsenergie
und eine Einrichtung zur Verstellung der Platine relativ zu dem Schlitten vorgesehen sind, daß die Detektoreinrichtung
zwei Detektorwege aufweist, die senkrecht zu dem Bündel gerichtet sind und in einer die Translationsachse
enthaltenden Etaene liegen, daß im Weg des Bündels halbreflektierende Flächen liegen, die entlang dem einen
bzw. dem anderen Detektorweg einen ersten bzw. einen zweiten Energieanteil reflektieren, der von einem ersten
bzw. einem zweiten photoelektrischen Wandler empfangen wird, daß die Verstelleinrichtung wenigstens zwei
elektromechanisch^ Wandler enthält, die über Polgeregelschaltungen
mit den photoelektrischen Wandlern verbunden sind, damit eine Verstellung der Platine
im wesentlichen parallel zu der Ebene erzeugt wird, und daß jeder der photoelektrischen Wandler zwei
nebeneinanderliegende lichtempfindliche Sektoren aufweist, deren Trennlinie senkrecht zu der Ebene
steht.
Mit diesem verbesserten Lagekorrektursystem ist es möglich, Längenmessungen mit einer Präzision durchzuführen,
die größer als bei den bisher vorhandenen Systemen ist, weil vermieden wird, daß die Messung
einer Länge, die in klassischer Weise durch Zählung der bei der Verschiebung des Schlittens beispielsweise
von dem einen zum anderen Ende des zu messenden Teils vorbeilaufenden Interferenzstreifen erfolgt, durch eine
schlechte Stellung*des Keßschlitten3 verfälscht wird.
Das erfindUQgsgemäße Lagekorrektursystem eignet sich
ebensogut zu Bildung von Meßanordnungen für die Messung der Abmessungen von Teilen und beispielsweise für die
Bildung von "Eichoiaßen" als auch für die Ausstattung von
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Maschinen, bei denen eine sehr genaue Kontrolle der Einstellung von Teilen erforderlich ist, wie es bei
flen zur Fertigung von Mikroschaltungen dienenden Maschinen der Fall ist«, Im letzten Fall wird das einzustellende
Teil auf dem beweglichen Schlitten angebracht, und seine Einstellung wird durch die zugehörige Laser-Meßanordnung
a ngezeigt.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand der Zeichnung
bei spieIshalber beschrieben. Darin zeigen:
Fig.1 eine sehr schematische Oberansicht der wesentlichen Bestandteile eines nach der Erfindung verbesserten
?"M«ßÄystems, bei dem die Verschiebungen eines
beweglichen Schlittens in einer Richtung angewendet werden,
Fig. 2 eine entsprechende Seitenansicht der Anordnung von
Fig. 1 und '
Fig.5 eine sehr' schematische Oberansicht einerAnordnung,
die eine Erweiterung des Prinzips der Anordnung von Fig.1 und'2 auf Translations bewegungen in zwei zu-
* einander senkrechten Richtungen darstellt.
Fig.1 und 2 zeigen schetöatisch die Bestandteile eines
Meßsystems, die zum Verständnis der Erfindung notwendig sind. Die gesamte Ausbildung des Meßsystems ist so allgemein
bekannt, daß hier nicht näher darauf eingegangen zu werden braucht. .
Das Gestell 1 einer Parallelbank trägt insbesondere die Meßanordnung, die beispielsweise aus einem Michelson-Interferometer
mit zwei refTetctierenäen Organen, beispielsweise
zwei Prismen 2 und 3 , und einer halbreflektierenden Platte
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besteht, die von einem Strahlungsenergiebünäel F angestrahlt
werden, das von einer Laserquelle L abgestrahlt wird. Ein opto-elektrischer Detektor 5 wandelt die erhaltenen Interferenzstreifen
in elektrische Signale S um. Während das Prisma 2 am G-estell 1 befestigt und damit feststehend ist,
sind das Prisma 3 sowie die halbdurchlässige Platte 4
und der Detektor 5 mechanisch an einem Schlitten 6 befestigt, der auf dem Gestell 1 in einer Translationsrichtung D
beweglich ist, die parallel zu der Richtung des Bündels F liegt. Der Schlitten 6 ist auf dem Gestell 1 mit Hilfe
irgendeiner geeigneten bekannten Vorrichtung verstellbar, beispielsweise mit Hilfe von nicht dargestellten Gleitführungen.
Die Verstellungen D dieses Schlittens äußern sich in einem Vorbei laufen'der Interferenzstreifen vor
dem Detektor 5 #nd in einer praktisch sinusförmigen Änderung
der abgegebenen Signale. Mit Hilfe von an sich bekannten
Interferenzstreifen-Zählvorrichtungen ist es möglich,
die einer Verschiebung D entsprechende Anzahl von Interferenzstreifen
und Bruchteilen von Interferenzstreifen
zu zählen und demzufdfee einen quantisierten Wert der Länge
dieser Verschiebung zu abhalten. Die Größe des Meßquantums
und demzufolge· die Präzision der Messung hängen insbesondere von den verwendeten Zähleinrichtungen und dem Grad
ihrer Vollkommenheit ab.
Wenn ein solches System beispielsweise für reine Meßzwecke
verwendet wird, enthält es zwei Fühler, von denen der eine dem Gestell und dar andere dem Schlitten zugeordnet
•sind, und die mit großer Präzisjbn die Enden eines zu
messenden Teils anzeigen können; in diesem Fall wird das Meßergebnis dadurch erhalten, daß die Interferenzstreifen
gezählt werden, die vor dem Detektor vorbeilaufen, wenn der Schlitten in der Richtung D von einer
Stellung, die der Anzeige oines Nullpunkts der Messung
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entspricht, in eine Stellung verschoben wird, die der Anzeige der Enden des su messenden Teils entspricht«, Es
bestehen verschiedene Anwendungen und verschiedene Aus werteverfahreη für solche Systeme. Wenn es sich
darum handelt, präzise Einstellungen vorzunehmen,, braucht
nur das einzustellende Teil an dem beweglichen Schlitten angebracht au werden. Die nachstehend beschriebenen
Verbesserungen sind in beiden Fällen anwendbar und wirksam*
S ist klar zu erkennen, daß jede Störbewegung des
W Schlittens 6 in einer Richtung, die von fler Sraoslations-
richtung D verschieden ist, beispielsweise die "Schlingerbewegung"
des Schlittens sowohl die Längentnessungen als
auch die Genauigkeit derEinstellungen beeinträchtigt.
Zur Kompensation dieser Fehler wird eine dynamische
Korrekturanordnung verwendet, die dem Meßlaserstrahl nachgeregelt ist, dessen Richtung als seitlich aod
räumlich sehr konstant angesehen werden kann.
An dem beweglichen Schlitten 6 sind photoelektrisihe
Wandler 7 und.8 befestigt, beispielsweise nach Art von
bekannten - Ablagemeßzellen. Diese empfangen einen
• Teil 11 bzw. 12 des Bündels mit Hilfe von teilreflektierenden Platten oder Prismen 9, 10, die am Schlitten 6
so befestigt sind, daß sie im Weg des BündelsΈ liegen.
Bei einem A us führ u ng s bei spiel weist jede dieser Zellen
zwei getrennte Sektoren auf, die entlang der Richtung £ in einer Linie liegen; die gestrichelten Linien in J1Ig. 1
zeigen schematisch die Trennlinie zwischen; diesen beiden Sektoren an.
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Wenn der Schlitten 6 die richtige Lage hat, beleuchten die Bündel 11 und 12 die beiden Sektoren in gleicher
Weise, so daß die Zellen Feh le rs ig na Ie des Wertes Hull
abgeben. Wenn dagegen infolge von Stortoewegungen des
Schlittens 6 Änderungen beira Auf treffen der Bündel 11
und 12 auf denZelleh 7 bzw,8 auftreten, geben diese von
Null verschiedene Fehlersignale ab, welche für die Störbewegungen
kennzeichnend sind«
Der bewegliche Schlitten enthält erfindungsgemäß außer
seinem Chassis 6 eine Meßplatine 13, welche die Abstandsmeßzellen,
die teilreflektierenden Organe 9 und 10, das
bewegliche Prisma 13, die halbreflektierenäe Platte 4 und
den Detektor 5 des Interferometers trägt. Diese Platine ist an desB Chassis 6 durch Stapel 14 und 15 aus piezoelektrischen
Keramikteilen befestigt. In der RuhesteIlang,
d.h. beim Fehlen jeder Störbewegung des Schlittens, liegt
die Platine parallel zu. dem Chassis 6 dea Schlittens.
Bei einerAüsführungsforra sind zwei Keramikstapel 14 und
vorhanden, die jeveils das von einer der Ablagemeßzellen .7
bzw. 8 abgegebene Fehlersignal nach Verstärkung in einem
Verstärker 16 bzw.'17 empfangen.
Somit werden die Störbewegungen des Schlittens, welche diesen
in der XZ-Ebene um die Y-Achse zu drehen suchen, durch Änderungen der K§ramikstapel 14 und 15 autoroiisch korrigiert,
indem die Keramikstapel die Platine 13 in der XY-Ebene zu halten suchen, die stets parallel zu der Richtung des
Bündels F liegt.
Um die Güte der Lagekorrektur der Platine 13 noch zu
verbessern und sie unabhängig von der Richtung der Störbewegungen de3 Chassis 6 parallel zu dem Bündel F zu halten,
vor allem auch bei Störbewegungen, welche den Schlitten in der YZ-Ebene um die X-Achse zu drehen suchen, braucht nur
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das beschriebene lagekorrektursystem dadurch ergänzt
zu werden, daß eine dritte Ablageraeftzetle-* 18 hinzugefügt
wird, die auf der Platime 13 so angeordnet ist, daß sie einen Teil 21 des Bündels F empfängt, der ihr
über eine teilreflektierende Platte 19 und einen Spiegel 20 zugeführt wird. Die Zelle 18 enthält beispielsweise
zwei Sektoren, die senkrecht zur Ebene der Platine 13 in einer Linie liegen, und deren nicht dargestellte
Trennlinie parallel zu der Ebene der 'Platine liegt. Sie gibt ein Fehlersignal ab, wenn Störbewegungen des
Schlittens die Platine 13 in der YZ-Ebene um die X-Achse
zu drehen suchen. Um diese Störbewegungen zu korrigieren und die Platine 13 parallel zu dem Bündel F zu halten,
κ wird dieses Signal nach geeigneter Verstärkung einem
dritten Keramikstapel 22 zugeführt, der nichtin einer
Linie mit den beiden anderen Stapeln 14 und 15 liegt. ■ In Figo 2 sind die Zelle 18 und der Stapel 22 gestrichelt
dargestellt, um anzudeuten, daß sie nicht in der von den Bündeln F, 11 und 12 gebildeten Ebene und auch nicht
in der Ebene der Keramikstapel 14 und 15 liegen. Die gestrichelten" linien von Fig.2 stellen symbolisch die
Träger dar, über welche die verschiedenen Bestandteile 9, 10, 3, 4, 5, 18 an der Platine 13 befestigt sind.
Mit einer zusätzlichen Verbesserung, die schematisch in
Fig.1 und 2 dargestellt (lst, kann die Güte der von den
beschriebenen Systemen gelieferten Meßergebnissen dadurch " noch weiter verbessert werden, daß eventuelle langsame
Richtungsänderungen des als Bezugsrichtung dienenden
Bündels korrigiert werden.
Eine Zelle 23, die ebenso wie die Laser quelle L fest mit
dem Gestell verbunden ist, liegt am Ende der Meßanordnung im Yfeg des Bündels F. Sie enthält vorzugsweise vier verschiedene
empfindliche Sektoren und stellt die e/entuellen
Abweichungen des Bündels von seiner Bezugsstellung fest.
Das von ihr abgegebene Fehlersignal wird bei 24 einer Korrekturvorrichtung 25 für die Ausrichtung des Bündels
zugeführt.
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Es ist weiterhin möglich., auch seitliche Abweichungen des
Schlittens 6 in Bezug auf das Bezugs bündel F dadurch zu korrigieren, daß die an der Platine 13 befestigten Ablage- ,
meßzellen 7, 8 , 18 mit zwei Sektoren durch Zellen mit vier Sektoren ersetzt werden und dieVerbindungenjzwischen dem
Chassis 6 und der Platine 13 durch piezoelektrische Keramikdbapel
ergänzt werden, deren Wirkungslinie in einer XY-Ebene liegt.
Wie bereits zuvor erwähnt wurde, eignen sich die beschriebenen
Systems für die Durchführung von sehr genauen Lageeinstellungen,
Sie können auf sehr einfache Weise auch bei Anordnungen angewendet
werden, welche Einstellungen in zwei zueinander senkrechten Achsen X und Y ermöglichen, in denen sie in der
beschriebenen Weise stabilisiert sind. Eine Anordnung dieser Art enthält beispielsweise, wie schematisch in Fig.3
dargestellt ist, einen Schlitten 6X, der auf dem Gestell 1
in Richtung der X-Achse beweglich ist, und einen Schlitten 6Y, der auf dem Schlitten 6X iu Richtung der Y-Achse beweglich
ist. Das Meßbündel F beleuchtet zwei Interferometer systeme
der in Fig.1 dargestellten Art und dient als Bezugsrichtung
für die Lagefcorrekturanordnungen, mit denen es in der beschriebenen Weise möglich ist, zwei Platinen 13X und 13Y,
von d'enen die eine ^auf dem Schlitten 6X und die andere auf
dem Schlitten 6Y befestigt sind, mit Hilfe von piezoelektrischen
Keramikstapeln horizontal zu stabilisieren. Die Lagekor rektursysteme empfangen jeweils einen Bruchteil des
Byndels F über teilreflektierende Organe 9X, 1OX bzw.
9Y, 1OY.
Es ist zu bemerken, daß die Verstellungen in den beiden Achsrichtungen
gleichzeitig erfolgen können, und daß eine solche Anordnung für beträchtlich grcße Verstellungen verwendbar ist,
die mehrere 14£er betragen lcönnen.Sie sind insbesondere für
die XY-Maskentische für Mikroschaltungen geeignet, die einen
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Bewegungshub von 20ctn oder mehr haben. Das beschriebene
System kann auch auf Verstellungen in drei zueinander senkrechten Richtungen erweitert werden und dann zur
Messung der "Vers te Hangen der drei XYZ-Bewegungen von
Richtmaschine!! großer Kapazität dienen.
Patents ns prü ehe
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Claims (7)
- Pa t en ta η S1 ρ r ü ο heElektro-optisehes Lagekorrektursysteta für die Korrektur der Lage einer Platine, die von einem Schlitten getragen wird, der entlang einer Parallelbank mit einer Translationsachse verschoben wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine Einrichtung zur Aussendung wenigstens eines Strahlungsenergiebündels paralleljzu üer Translationsachse, eine fest *it der Platine verbundene Detektoreinrichtung für die Strahlungsenergie und eine Einrichtung zur Verstellung der Platine relativ zu dem Schlitten vorgesehen sind, daß die Detektoreinrichtung zwei Detektorwego aufweist, die senkrecht zu dem Bündel gerichtet sind und in einer die Translationsachse enthaltenden Ebene liegen, daß ins Weg des Bündels halbreflektierende Flächen liegen* Öle entlang dem einen bzw. dem anderen Detektorweg einen ersten bzw, eisen zweiten EnergieanteJ.l reflektieren, der von einen? ersten bzw, einem zweiten photoelektrischen Wandler empfangen »ird, daß die Verstelleinrichtung wenigstens zwei elektromechanische Wandler enthält, die über Polgeregelschaltungen mit den photoelektrischen Wandlern verbunden sind, damit eine Verstellung der Platine im wesentlichen parallel zu der Ebene erzeugt wird und daß jeder der photoelektrischen Wandler zwei nebeneinanderliegende lichtempfindliche Sektoren aufweist, deren Trennlinie senkrecht zu der Ebene steht.
- 2. Lagekorrektursystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung eine optische Trennvorrichtung enthält, die ein zusätzliches Strahlungsenergiebundel parallel zu dea ersten Bündel liefert, daß die Detektoreiηriehtung09345/1326 ■ --ίeinen zusätzlichen,fest mit der Platine verbundenen photoelektrischen Wandler enthält, auf den das zusätzliche Bündel auf trifft, und daß die Verstelleinrichtung einen von dem zusätzlichen photoelektrischen Wandler gesteuerten zusätzlichen elektromechanischen Wandler .zum Verschwenken der Platine um eine zu der Iranslationsachse parallele Achse enthält.
- 3. Lagekorrektursystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß an den beiden Enden der Bank optische Einrichtungen angeordnet sind, die das Bündelfc. so ausrichten, daß es zentrisch zu zwei an diesen Endenliegenden Bezugspunkten bleibt".
- 4. Lagekorrektursystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die das Strahlungsenergie bündel aussendende..Einrichtung eine Laserquelle ist.
- 5. Lagekorrektursystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß jeder de? elektromechanischen Wandler durch einen Stapel von piezoelektrischen Keramikteilen gebildet ist.
- 6. Lagekorrefcfcttrsystem nach einem der vorhergehendenAnsprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Amplitude der Verschiebung des Schlittens relativ zu der Bank mit Hilfe eines Michelson-Interferometers gemessen wird, das einen mit der Bank verbundenen festen Spiegel und einen mit der Platine verbundenen beweglichen Spiegel enthält.
- 7. Lagekorrektursystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Schlitten eine Gleitbank für einen zweiten Schlitten bildet, dessen.09845/1326Verstellrichtung relativ zu dem ersten Schlitten in einem Winkel zu der Vers te 1 !richtung des ersten Schlittens relativ zu der Bank steht, daß eine mit der ersten Platine verbundene halbreflektierende Platte das Bündel empfängt und ein zweites Strahlungsenergie bundel in einer Richtung zurückwirft, die parallel zu der Vers te 11 rieht u ng des zweiten Schlittens liegt, und daß der zweite Schlitten eine zweite Platine trägt, die mit Lagekorrektureinrichtungen versehen ist, die denjenigen der ersten Platine gleich sind.109845/1326
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7014414A FR2088675A5 (de) | 1970-04-21 | 1970-04-21 |
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ID=9054322
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---|---|
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