DE202015103646U1 - Film-forming structure on a produce - Google Patents

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Abstract

Filmbildende Struktur auf einem Erzeugnis, welche Folgendes aufweist: ein Erzeugnis mit einer Oberfläche, auf welcher ein Film gebildet ist; und einen dünnen ersten Film, der von einem Suboxid oder einem Metall aufweisenden Oxid gebildet ist und auf der Oberseite des Erzeugnisses abgelagert ist, und wobei der erste Film ein poröser Film ist.A film-forming structure on a product, comprising: a product having a surface on which a film is formed; and a thin first film formed of a suboxide or a metal-containing oxide deposited on the top of the article, and wherein the first film is a porous film.

Description

Technischer BereichTechnical part

Die vorliegende Vorrichtung bzw. Erfindung betrifft eine filmbildende Struktur und ein filmbildendes Verfahren auf einem Erzeugnis bzw. einem Werkstück, die das dichte bzw. nahe Ablagern eines dünnen ersten Films auf einem Erzeugnis beinhalten, wobei der erste Film ein Suboxid oder ein Oxid ist, das weich ist und Isolationseigenschaften und eine Verschleißbeständigkeit aufweist. Das Erzeugnis ist mit dem ersten Film integriert bzw. einteilig ausgeführt, um zu verhindern, dass sich der erste Film ablöst, wodurch die Bearbeitbarkeit verbessert wird. Ein dünner zweiter Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, wird dicht bzw. nahe auf den ersten Film aufgebracht, wodurch die Menge an benötigter Farbe verringert wird. Der erste Film ist mit dem zweiten Film integriert bzw. einteilig ausgeführt, um zu verhindern, dass der zweite Film sich ablöst und reißt, wodurch die Bearbeitbarkeit nach der Bildung des zweiten Films verbessert wird und dadurch der erste und der zweite Film auf rationelle Art und Weise gebildet werden.The present device or invention relates to a film-forming structure and a film-forming method on a product, which include the dense deposition of a thin first film on a product, wherein the first film is a suboxide or an oxide is soft and has insulating properties and wear resistance. The product is integrated with the first film to prevent the first film from peeling, thereby improving workability. A thin second film, such as a coating, is applied close to the first film, thereby reducing the amount of ink required. The first film is integrated with the second film so as to prevent the second film from peeling and cracking, thereby improving the workability after the formation of the second film, thereby efficiently and efficiently disposing the first and second films Way be formed.

Stand der TechnikState of the art

Weil bei einer Beschichtung bzw. beim Plattieren ein metallischer Film vorhanden ist, sind durch Elektrolyse erzeugte kleine Löcher unvermeidlich und führen damit aufgrund der Potenzialdifferenz unterschiedlicher Metalle zu einem Korrosionsproblem. Beim Beschichten werden, weil durch Sauerstoffeintritt auf metallischen Oberflächen erzeugter Rost unvermeidlich ist, dicke Schichten gebildet, um dem Problem entgegenzutreten. Daher besteht ein Bedürfnis für eine verbesserte Behandlung der Oberfläche, welche die Vorteile nutzt und die Nachteile von Plattieren und Beschichten ausräumt.Since a metallic film is present during coating or plating, small holes produced by electrolysis are unavoidable and thus lead to a corrosion problem due to the potential difference of different metals. In coating, since rust generated by oxygen entry on metallic surfaces is unavoidable, thick layers are formed to counteract the problem. Therefore, there is a need for an improved surface treatment which takes advantage of and eliminates the disadvantages of plating and coating.

Um solchen Bedürfnissen nachzukommen, gibt es zum Beispiel eine beschichtete Stahlplatte, bei welcher eine feuerverzinkte Stahlplatte, welche Aluminium aufweist, vor dem Beschichten erhitzt wird, wobei die zu beschichtende Oberfläche zum Beispiel durch Verchromen aufbereitet wird, eine Grundierschicht mit einer Dicke von 2 bis 15 μm auf die Oberfläche aufgebracht wird und eine obere Beschichtung mit einer Dicke von 5 bis 30 μm darauf aufgebracht wird (siehe zum Beispiel Patentdokument 1).To meet such needs, there is, for example, a coated steel plate in which a hot-dip galvanized steel plate comprising aluminum is heated prior to coating, whereby the surface to be coated is prepared by, for example, chromium plating, a primer layer having a thickness of 2 to 15 μm is applied to the surface and an upper coating having a thickness of 5 to 30 μm is applied thereto (see, for example, Patent Document 1).

Die oben beschriebene beschichtete Stahlplatte muss jedoch dadurch aufbereitet werden, dass die beschichtete Oberfläche einer chemischen Urnwandlungsbehandlung unterzogen wird, bevor sie beschichtet wird. Des Weiteren sind die Grundierschicht und die obere Schicht erforderlich, was zu einem sehr zeitaufwändigen Verfahren führt. Des Weiteren tendiert die Beschichtung, weil sie dick wird, dazu, sich abzulösen, was zum Ablösen und Brechen bzw. Reißen während einer nachfolgenden Behandlung führt. Dadurch hat die beschichtete Stahlplatte eine schlechte Bearbeitbarkeit. Weil es schwierig ist, einen gleichförmigen Chromfilm zu bilden, ist eine Oberflächenkonditionierung bzw. -behandlung erforderlich, bei welcher ein Oberflächenbehandlungsmittel auf Säurebasis vor einer Chromierungsbehandlung auf eine zu beschichtende Ausgangsplatte aufgetragen wird. Dies führt zu einem zeitaufwändigen Verfahren. Des Weiteren wird das Oxid auf der obersten Oberflächenschicht des Plattierens durch das Oberflächenbehandlungsmittel geätzt, so dass eine Verschleißbeständigkeit der Schnittstelle zwischen der Oberflächenschicht der plattierten Schicht und der Grundierschicht der Ausgangsplatte der Beschichtung verringert wird.However, the coated steel plate described above must be prepared by subjecting the coated surface to a chemical conversion treatment before it is coated. Furthermore, the primer layer and the top layer are required, resulting in a very time-consuming process. Further, because the coating becomes thick, it tends to peel off, resulting in peeling and cracking during subsequent treatment. As a result, the coated steel plate has poor machinability. Because it is difficult to form a uniform chromium film, a surface conditioning treatment is required in which an acid-based surface-treating agent is applied to an original plate to be coated before a chromating treatment. This leads to a time-consuming process. Further, the oxide on the uppermost surface layer of the plating is etched by the surface treatment agent, so that wear resistance of the interface between the surface layer of the plated layer and the primer layer of the starting plate of the coating is reduced.

Um die oben genannten Probleme zu lösen, wird ein Verfahren vorgeschlagen, bei welchem Magnesiumionen vorher in dem Oberflächenbehandlungsmittel enthalten sind, die konditionierte Oberfläche der plattierten Schicht des Weiteren mit einer wässrigen Säurelösung einschließlich Magnesium weiter konditioniert wird und Magnesium ersetzt und abgelagert wird, um die Korrosion der Schnittstelle zwischen der Oberflächenschicht der plattierten Schicht und der Grundierschicht der beschichteten Ausgangsplatte zu verhindern (siehe zum Beispiel Patentdokument 2).In order to solve the above problems, a method is proposed in which magnesium ions are previously contained in the surface treatment agent, the conditioned surface of the plated layer is further further conditioned with an aqueous acid solution including magnesium, and magnesium is replaced and deposited to prevent corrosion to prevent the interface between the surface layer of the plated layer and the primer layer of the coated base plate (see, for example, Patent Document 2).

Das oben beschriebene Verfahren kann jedoch nur bei bestimmten Arten von feuerverzinkten Stahlplatten eingesetzt werden. Die Oberflächenkonditionierung bzw. der Oberflächenzustand der beschichteten Ausgangsplatte ist zu kompliziert, was auch die Präparation des Oberflächenbehandlungsmittels kompliziert macht. Des Weiteren ist der Beschichtungsprozess noch immer kompliziert, unproduktiv und ineffizient.However, the method described above can only be used with certain types of hot-dip galvanized steel plates. The surface conditioning or the surface state of the coated starting plate is too complicated, which also complicates the preparation of the surface treatment agent. Furthermore, the coating process is still complicated, unproductive and inefficient.

Um solchen Bedürfnissen nachzukommen, wird ein weiteres Oberflächenbehandlungsverfahren vorgeschlagen, bei welchem eine Chromplattierung und ein Chromoxid in separaten Prozessen abgelagert bzw. aufgebracht werden, metallisches Chrom aktiv aufgebracht wird, um sich mit dem Chromoxid in dem mechanischen Behandlungsbad zu verbinden, eine High-Coulomb-Behandlung mit einer hohen Dichte in dem chemischen Behandlungsbad durchgeführt wird, wobei in dem chemischen Behandlungsbad eines chromischen Anhydrids allein Eisenionen enthalten sind, um an einer Beschichtung auf der Oberfläche der chromplattierten Stahlplatte anzuhaften (siehe zum Beispiel Patentdokument 3).To meet such needs, another surface treatment method is proposed in which a chromium plating and a chromium oxide are deposited in separate processes, metallic chromium is actively applied to combine with the chromium oxide in the mechanical treatment bath, a high-coulomb treatment is carried out at a high density in the chemical treatment bath, wherein in the chemical treatment bath of a chromic anhydride alone iron ions are included to form a coating to adhere to the surface of the chrome-plated steel plate (see, for example, Patent Document 3).

Das oben beschriebene Verfahren benötigt für die Behandlung jedoch Zeit, weil die Chromplattierung und das Chromoxid separat aufgebracht werden. Des Weiteren wird, weil das metallische Chrom aktiv aufgebracht wird, um sich mit dem Chromoxid zu verbinden, die Leitfähigkeit des Chromoxids verbessert und die Härte wird erhöht. Aus diesem Grund kann es wegen der Potenzialdifferenz zwischen dem Chromoxid und der Chromstahlplatte zu Korrosion kommen. Des Weiteren führt die Zunahme der Härte des Chromoxids zu einer schlechten Bearbeitbarkeit nach der Bildung des Films. Wenn das beschichtete Produkt gebogen wird, tendiert die Beschichtung dazu, sich abzulösen und zu reißen.However, the process described above takes time for the treatment because the chromium plating and the chromium oxide are applied separately. Further, because the metallic chromium is actively applied to combine with the chromium oxide, the conductivity of the chromium oxide is improved and the hardness is increased. For this reason, corrosion may occur due to the potential difference between the chromium oxide and the chromium steel plate. Furthermore, the increase in the hardness of the chromium oxide results in poor workability after the formation of the film. When the coated product is bent, the coating tends to peel off and crack.

ZitierlisteCITATION

PatentdokumentPatent document

  • [Patentdokument 1] JP-A-2002-248415 [Patent Document 1] JP-A-2002-248415
  • [Patentdokument 2] JP-A-2003-171779 [Patent Document 2] JP-A-2003-171779
  • [Patentdokument 3] JP-A-57-35699 [Patent Document 3] JP-A-57-35699

Zusammenfassung der Vorrichtung bzw. ErfindungSummary of the device or invention

Technisches ProblemTechnical problem

Die vorliegende Vorrichtung bzw. Erfindung geht auf diese Probleme ein und hat es sich zur Aufgabe gemacht, eine filmbildende Struktur auf einem Erzeugnis zu schaffen, die das dichte bzw. nahe Ablagern eines dünnen ersten Films auf einem Erzeugnis beinhaltet, wobei der erste Film ein Suboxid oder ein Oxid ist, das weich ist und Isolationseigenschaften und eine Verschleißbeständigkeit aufweist. Das Erzeugnis ist mit dem ersten Film integriert, um zu verhindern, dass sich der erste Film ablöst, wodurch die Bearbeitbarkeit verbessert wird. Ein dünner zweiter Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, wird dicht bzw. eng bzw. nahe auf den ersten Film aufgebracht, wodurch die Menge an benötigter Farbe verringert wird. Der erste Film ist mit dem zweiten Film integriert, um zu verhindern, dass der zweite Film sich ablöst und reißt, wodurch die Bearbeitbarkeit nach der Bildung des zweiten Films verbessert wird und dadurch der erste und der zweite Film auf rationelle Art und Weise gebildet werden.The present apparatus and / or invention addresses these problems and has as its object to provide a film-forming structure on a product which includes the dense deposition of a thin first film on a product, the first film being a suboxide or an oxide that is soft and has insulating properties and wear resistance. The product is integrated with the first film to prevent the first film from peeling, thereby improving machinability. A thin second film, such as a coating, is applied closely to the first film, thereby reducing the amount of ink required. The first film is integrated with the second film to prevent the second film from peeling off and cracking, thereby improving the workability after the second film is formed, thereby forming the first and second films in a rational manner.

Lösung des Problemsthe solution of the problem

Gemäß einem ersten Aspekt der Vorrichtung weist eine filmbildende Struktur auf einem Erzeugnis ein Erzeugnis mit einer Oberfläche, auf welcher ein Film gebildet ist; und einen dünnen ersten Film auf, der von einem Suboxid oder einem Metall aufweisenden Oxid gebildet ist und auf der Oberseite des Erzeugnisses abgelagert ist, und wobei der erste Film ein poröser Film ist. Folglich wird der erste Film dünner und weicher, was die Isolationseigenschaften und die Verschleißbeständigkeit verbessert. Zusätzlich wird das Suboxid mit Sauerstoff aus der Luft kombiniert, um einen steifen bzw. festen Oxidfilm zu bilden, wodurch der zweite Film leichter auf dem ersten Film gebildet werden kann, was die Adhäsion zwischen dem ersten Film und dem zweiten Film verbessert. Des Weiteren wird verhindert, dass die Filme sich ablösen und reißen. Ein zweiter Aspekt der Vorrichtung beinhaltet eine Imprägnierschicht, die durch den ersten Film auf der Oberfläche des Erzeugnisses gebildet ist. Folglich ist das Erzeugnis einstückig bzw. angegossen an dem ersten Film auf der Oberflächenschicht des Erzeugnisses, was verhindert, dass der erste Film sich ablöst und reißt. Die poröse Struktur des ersten Films ermöglicht es, dass der zweite Film fest und steif anhaftet, wodurch das Ablösen verhindert wird. Gemäß einem dritten Aspekt der Vorrichtung weist der erste Film eine Oberfläche mit winzigen Unregelmäßigkeiten auf. Folglich kann das Anhaften des zweiten Films an dem ersten Film verbessert werden. Des Weiteren fungiert der erste Film, wenn eine Beschichtung, die den zweiten Film darstellt, zum Beispiel auf dem ersten Film gebildet ist, anstatt der Grundierungen, die häufig verwendet worden sind bzw. ersetzt diese, wodurch die Beschichtung auf rationale Art und Weise gebildet wird.According to a first aspect of the device, a film-forming structure on a product comprises a product having a surface on which a film is formed; and a thin first film formed of a suboxide or a metal-containing oxide and deposited on the top of the product, and wherein the first film is a porous film. As a result, the first film becomes thinner and softer, which improves the insulating properties and the wear resistance. In addition, the suboxide is combined with oxygen from the air to form a rigid oxide film, whereby the second film can be more easily formed on the first film, which improves the adhesion between the first film and the second film. Furthermore, it prevents the films from peeling off and breaking. A second aspect of the apparatus includes an impregnating layer formed by the first film on the surface of the product. Consequently, the product is integral with the first film on the surface layer of the product, preventing the first film from peeling and cracking. The porous structure of the first film allows the second film to adhere firmly and rigidly, preventing peeling. According to a third aspect of the device, the first film has a surface with minute irregularities. Consequently, the adhesion of the second film to the first film can be improved. Further, the first film functions when a coating constituting the second film is formed on, for example, the first film instead of the primers which are frequently used, thereby replacing the coating in a rational manner ,

Gemäß einem vierten Aspekt der Vorrichtung ist das Suboxid ein Chrom-Suboxid und das Oxid ist ein Chromoxid. Folglich ist die Oberfläche des Films mit winzigen Unregelmäßigkeiten gebildet, wodurch sie das Anhaften des zweiten Films verbessert. Gemäß einem fünften Aspekt der Vorrichtung ist der erste Film weicher als metallisches Chrom und weist Isolationseigenschaften und Verschleißbeständigkeit auf. Folglich weist der erste Film, der leichter ist als metallisches Chrom, eine verbesserte Bearbeitbarkeit, Isolationseigenschaften und Verschleißbeständigkeit auf. Ein sechster Aspekt der Vorrichtung weist einen dünnen zweiten Film auf, der auf der Oberfläche mit den Unregelmäßigkeiten des ersten Films gebildet ist. Folglich ist der zweite Film auf dem ersten Film, der eine poröse Struktur aufweist, fest und steif gebildet, was verhindert, dass der zweite Film sich ablöst und reißt. Des Weiteren wird die Bearbeitbarkeit des Erzeugnisses nach der Bildung des zweiten Films verbessert. Ein siebter Aspekt der Vorrichtung weist eine Imprägnierschicht auf, die durch den zweiten Film auf einer Oberflächenschicht des ersten Films gebildet ist. Folglich ist der erste Film einstückig mit bzw. angegossen an den zweiten Film, was verhindert, dass der zweite Film sich ablöst und reißt. Die poröse Struktur des ersten Films bewirkt, dass der zweite Film fest und steif anhaftet. Gemäß einem achten Aspekt der Vorrichtung sind feine Partikel oder Kristalle des zweiten Films auf den Unregelmäßigkeiten des ersten Films unabhängig und mit hoher Dichte angeordnet. Dadurch wird, wenn eine Belastung auf einen Teil der feinen Partikel und Kristalle des zweiten Films aufgebracht wird, der Rest der feinen Partikel und Kristalle nicht beeinträchtigt. Dadurch tritt, wenn das Erzeugnis gebogen oder die Oberfläche des zweiten Films nach der Bildung des zweiten Films beschädigt wird, kein Ablösen oder Reißen des zweiten Films auf. Mit der verbesserten Bearbeitbarkeit des Erzeugnisses können verschiedene Verarbeitungstechniken an dem Erzeugnis angewendet werden.According to a fourth aspect of the device, the suboxide is a chromium suboxide and the oxide is a chromium oxide. Consequently, the surface of the film is formed with minute irregularities, thereby improving the adhesion of the second film. According to a fifth aspect of the device, the first film is softer than metallic chrome and has insulating properties and wear resistance. Consequently, the first film, which is lighter than metallic chromium, has improved machinability, insulating properties and wear resistance. A sixth aspect of the device comprises a thin second film formed on the surface with the irregularities of the first film. As a result, the second film on the first film having a porous structure is solid and rigid, preventing the second film from peeling and cracking. Furthermore, the workability of the product after the formation of the second film is improved. A seventh aspect of the device comprises an impregnating layer formed by the second film on a surface layer of the first film. Thus, the first film is integral with the second film, preventing the second film from peeling and cracking. The porous structure of the first film causes the second film to adhere firmly and rigidly. According to an eighth aspect of the device, fine particles or crystals of the second film are arranged on the irregularities of the first film independently and at a high density. Thereby, when a stress is applied to a part of the fine particles and crystals of the second film, the rest of the fine particles and crystals are not affected. As a result, when the product is bent or the surface of the second film is damaged after the formation of the second film, peeling or tearing of the second film does not occur. With the improved Machinability of the product, various processing techniques can be applied to the product.

Gemäß einem neunten Aspekt weist der erste Film eine Dicke von 1 μm oder mehr und der zweite Film eine Dicke von 5 μm oder mehr auf. Folglich werden dünnere erste und zweite Filme gebildet. Wenn der zweite Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, gebildet wird, wird es dem ersten Film ermöglicht, im Gegensatz zu konventionellen Grundierungen zur Rationalisierung zu dienen. Zusätzlich wird durch eine dünnere Ausführung des zweiten Films zum Beispiel weniger Farbe verwendet und der zweite Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, wird auf rationelle Art und Weise und mit niedrigen Kosten gebildet. Gemäß einem zehnten Aspekt der Vorrichtung weist der zweite Film ein beliebiges von einem Polymermaterial, einer anorganischen oder organischen Farbschicht, ein funktionelles Material oder Keramik auf. Demzufolge können für den zweiten Film verschiedene Materialien verwendet werden. Gemäß einem elften Aspekt der Vorrichtung ist das Erzeugnis ein beliebiges aus rostfreiem Stahl, Nickel, Eisen, Kupfer, Aluminium, Messing, anderen Metallen, einer Legierung, Kunststoff, Glas, Keramik, Papier, Faser oder Holz. Folglich können verschiedene Materialien verwendet werden.According to a ninth aspect, the first film has a thickness of 1 μm or more and the second film has a thickness of 5 μm or more. As a result, thinner first and second films are formed. When the second film, such as a coating, is formed, the first film is allowed to rationalize, unlike conventional primers. In addition, for example, a thinner version of the second film uses less ink and the second film, such as a coating, is formed in a rational manner and at a low cost. According to a tenth aspect of the device, the second film comprises any one of a polymer material, an inorganic or organic coloring layer, a functional material or ceramics. As a result, various materials can be used for the second film. According to an eleventh aspect of the device, the product is any of stainless steel, nickel, iron, copper, aluminum, brass, other metals, alloy, plastic, glass, ceramics, paper, fiber or wood. Consequently, various materials can be used.

Gemäß einem zwölften Aspekt der Vorrichtung ist der erste Film ein dünner und poröser Film, der durch Anordnen des Erzeugnisses und einem Anodenteil in einem Bad zum Aufnehmen einer Behandlungsflüssigkeit, Anlegen von positiven und negativen Spannungen für das Erzeugnis und das Anodenteil, Einstellen einer Badtemperatur der Behandlungsflüssigkeit auf eine niedrige Temperatur; und Ablagern eines Metallionen enthaltenden Suboxids oder Oxids in der Behandlungsflüssigkeit auf dem Erzeugnis mittels elektrochemischer Wirkung oder durch Ablagern eines dünnen und porösen ersten Films gebildet ist, der durch ein Metallionen enthaltendes Suboxid oder Oxid in der Behandlungsflüssigkeit in einem stromlosen Bad auf dem Erzeugnis mittels chemischer Reaktion gebildet ist. Folglich werden verschiedene Arten der ersten Filme bei niedrigen Kosten mittels elektrochemischer Wirkung oder chemischer Reaktion gebildet. Insbesondere kann der erste Film mit einfachen Anlagen bzw. Ausrüstungen durch chemische Reaktion gebildet werden im Vergleich zu einem Fall von elektrochemischer Wirkung.According to a twelfth aspect of the device, the first film is a thin and porous film obtained by arranging the product and an anode part in a bath for receiving a treatment liquid, applying positive and negative voltages to the product and the anode part, adjusting a bath temperature of the treatment liquid to a low temperature; and depositing a metal oxide-containing suboxide or oxide in the treatment liquid on the article by electrochemical action or by depositing a thin and porous first film formed by a metal ion-containing suboxide or oxide in the treatment liquid in an electroless bath on the article by chemical reaction is formed. As a result, various kinds of the first films are formed at a low cost by electrochemical action or chemical reaction. In particular, the first film may be formed with simple equipment by chemical reaction as compared to a case of electrochemical action.

Gemäß einem dreizehnten Aspekt der Vorrichtung weist die Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung Chromanhydrid und einen Reduktionshemmer auf. Folglich wird während der Elektrolyse der Behandlungsflüssigkeit eine Dispersion bzw. Verteilung von Chromat erreicht, während ein Strom, der durch das Erzeugnis strömt, verhindert wird und dadurch das Ablagern von metallischem Chrom verhindert wird und die Leitfähigkeit und die Härte des ersten Films gehemmt wird. Gemäß einem vierzehnten Aspekt der Vorrichtung weist die Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung ein Mittel zum Zuführen von Metallionen, ein Reduktionsmittel und ein Additiv, wie zum Beispiel Keramik, auf. Folglich wird die Ablagerung des Additivs, welches das Suboxid oder Oxid ist, wie zum Beispiel Keramik, gefördert. Gemäß einem fünfzehnten Aspekt der Vorrichtung ist eine Badtemperatur der Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung auf 10°C oder weniger eingestellt. Folglich wird die Ablagerung des ersten Films unterstützt und die Ablagerung des metallischen Chroms wird gehemmt, wodurch die Ablagerung des Chrom-Suboxids gefördert wird. Ein sechzehnter Aspekt der Vorrichtung weist einen dünnen zweiten Film auf, wobei der zweite Film an dem ersten Film angebracht oder adsorbiert ist oder der zweite Film durch Imprägnierung oder Feuern bzw. Brennen gebildet ist. Folglich wird der zweite Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, fest und steif auf dem porösen ersten Film gebildet. Gemäß einem siebzehnten Aspekt der Vorrichtung weist der zweite Film ein beliebiges eines Polymermaterials, einer anorganischen oder organischen Farbschicht, eines funktionalen Materials oder Keramik auf, und wobei ein beliebiges des Polymermaterials, der anorganischen oder organischen Farbschicht des funktionalen Materials oder der Keramik auf dem ersten Film aufgetragen, gesprüht oder gebacken ist, oder das den ersten Film aufweisende Material in eines der oben genannten Materialien eingetaucht ist oder eine Spannung oder ein elektrisches Feld an das die Farbe und den primären Film aufweisende Erzeugnis angelegt ist und des Weiteren die Keramik gebrannt ist. Folglich ist der zweite Film aus den oben genannten Materialien an dem ersten Film angebracht oder auf demselben adsorbiert oder der zweite Film ist durch Imprägnieren oder Brennen gebildet.According to a thirteenth aspect of the device, the electrochemical effect treatment liquid comprises chromanhydride and a reduction inhibitor. Consequently, during electrolysis of the treating liquid, dispersion of chromate is achieved while preventing a current flowing through the product, thereby preventing the deposition of metallic chromium and inhibiting the conductivity and hardness of the first film. According to a fourteenth aspect of the device, the electrochemical action treatment liquid comprises means for supplying metal ions, a reducing agent and an additive such as ceramics. Consequently, deposition of the additive, which is the suboxide or oxide such as ceramics, is promoted. According to a fifteenth aspect of the apparatus, a bath temperature of the electrochemical action treatment liquid is set to 10 ° C or less. Consequently, the deposition of the first film is promoted and the deposition of the metallic chromium is inhibited, thereby promoting the deposition of the chromium suboxide. A sixteenth aspect of the device comprises a thin second film, wherein the second film is attached or adsorbed to the first film, or the second film is formed by impregnation or firing. As a result, the second film such as a coating is firmly and rigidly formed on the porous first film. According to a seventeenth aspect of the device, the second film comprises any one of a polymer material, an inorganic or organic coloring layer, a functional material or ceramics, and any of the polymer material, the inorganic or organic coloring layer of the functional material or the ceramic on the first film coated, sprayed or baked, or the material comprising the first film is immersed in one of the above-mentioned materials, or a voltage or an electric field is applied to the product having the ink and the primary film, and further the ceramic is fired. Consequently, the second film of the above-mentioned materials is attached to or adsorbed on the first film, or the second film is formed by impregnation or firing.

Vorteilhafte Wirkung der VorrichtungAdvantageous effect of the device

Gemäß einem ersten Aspekt der Vorrichtung ist ein dünner erster Film, der von einem Suboxid oder einem Metall aufweisenden Oxid gebildet ist, auf der Oberseite des Erzeugnisses abgelagert, und wobei der erste Film ein poröser Film ist. Folglich wird der erste Film dünner und weicher, was die Isolationseigenschaften und die Verschleißbeständigkeit verbessert. Zusätzlich wird das Suboxid mit Sauerstoff aus der Luft kombiniert, um einen steifen bzw. festen Oxidfilm zu bilden, wodurch der zweite Film leichter auf dem ersten Film gebildet werden kann, was die Adhäsion zwischen dem ersten Film und dem zweiten Film verbessert. Des Weiteren kann verhindert werden, dass die Filme sich ablösen und reißen. Ein zweiter Aspekt der Vorrichtung beinhaltet eine Imprägnierschicht, die durch den ersten Film auf der Oberfläche des Erzeugnisses gebildet ist. Folglich ist das Erzeugnis einstückig bzw. angegossen an dem ersten Film auf der Oberflächenschicht des Erzeugnisses, was verhindert, dass der erste Film sich ablöst und reißt. Die poröse Struktur des ersten Films ermöglicht es, dass der zweite Film fest und steif anhaftet, wodurch das Ablösen verhindert wird. Gemäß einem dritten Aspekt der Vorrichtung weist der erste Film eine Oberfläche mit winzigen Unregelmäßigkeiten auf. Folglich kann das Anhaften des zweiten Films an dem ersten Film verbessert werden. Des Weiteren fungiert der erste Film, wenn eine Beschichtung, die den zweiten Film darstellt, zum Beispiel auf dem ersten Film gebildet ist, anstatt der Grundierungen, die häufig verwendet worden sind bzw. ersetzt diese, wodurch die Beschichtung auf rationale Art und Weise gebildet wird.According to a first aspect of the apparatus, a thin first film formed of a suboxide or metal-containing oxide is deposited on top of the product, and wherein the first film is a porous film. As a result, the first film becomes thinner and softer, which improves the insulating properties and the wear resistance. In addition, the suboxide is combined with oxygen from the air to form a rigid oxide film, whereby the second film can be more easily formed on the first film, which improves the adhesion between the first film and the second film. Furthermore, it can be prevented that the films peel off and tear. A second aspect of the device includes an impregnating layer passing through the first film on the Surface of the product is formed. Consequently, the product is integral with the first film on the surface layer of the product, preventing the first film from peeling and cracking. The porous structure of the first film allows the second film to adhere firmly and rigidly, preventing peeling. According to a third aspect of the device, the first film has a surface with minute irregularities. Consequently, the adhesion of the second film to the first film can be improved. Further, the first film functions when a coating constituting the second film is formed on, for example, the first film instead of the primers which are frequently used, thereby replacing the coating in a rational manner ,

Gemäß einem vierten Aspekt der Vorrichtung ist das Suboxid ein Chrom-Suboxid und das Oxid ist ein Chromoxid. Folglich ist die Oberfläche des Films mit winzigen Unregelmäßigkeiten gebildet und das Anhaften des zweiten Films kann verbessert werden. Gemäß einem fünften Aspekt der Vorrichtung ist der erste Film weicher als metallisches Chrom und weist Isolationseigenschaften und Verschleißbeständigkeit auf. Folglich weist der erste Film, der leichter ist als metallisches Chrom, eine verbesserte Bearbeitbarkeit, Isolationseigenschaften und Verschleißbeständigkeit auf. Ein sechster Aspekt der Vorrichtung weist einen dünnen zweiten Film auf, der auf der Oberfläche mit den Unregelmäßigkeiten des ersten Films gebildet ist. Folglich ist der zweite Film auf dem ersten Film, der eine poröse Struktur aufweist, fest und steif gebildet, was verhindert, dass der zweite Film sich ablöst und reißt. Des Weiteren kann die Bearbeitbarkeit des Erzeugnisses nach der Bildung des zweiten Films verbessert werden. Ein siebter Aspekt der Vorrichtung weist eine Imprägnierschicht auf, die durch den zweiten Film auf einer Oberflächenschicht des ersten Films gebildet ist. Folglich ist der erste Film einstückig mit bzw. angegossen an den zweiten Film, was verhindert, dass der zweite Film sich ablöst und reißt. Die poröse Struktur des ersten Films ermöglicht es, dass der zweite Film fest und steif anhaftet. Gemäß einem achten Aspekt der Vorrichtung sind feine Partikel oder Kristalle des zweiten Films auf den Unregelmäßigkeiten des ersten Films unabhängig und mit hoher Dichte angeordnet. Dadurch wird, wenn eine Belastung auf einen Teil der feinen Partikel und Kristalle des zweiten Films aufgebracht wird, der Rest der feinen Partikel und Kristalle nicht beeinträchtigt. Dadurch tritt, wenn das Erzeugnis gebogen oder die Oberfläche des zweiten Films nach der Bildung des zweiten Films beschädigt wird, kein Ablösen oder Reißen des zweiten Films auf. Die Bearbeitbarkeit des Erzeugnisses wird verbessert und somit können verschiedene Verarbeitungstechniken an dem Erzeugnis angewendet werden.According to a fourth aspect of the device, the suboxide is a chromium suboxide and the oxide is a chromium oxide. As a result, the surface of the film is formed with minute irregularities, and the adhesion of the second film can be improved. According to a fifth aspect of the device, the first film is softer than metallic chrome and has insulating properties and wear resistance. Consequently, the first film, which is lighter than metallic chromium, has improved machinability, insulating properties and wear resistance. A sixth aspect of the device comprises a thin second film formed on the surface with the irregularities of the first film. As a result, the second film on the first film having a porous structure is solid and rigid, preventing the second film from peeling and cracking. Furthermore, the workability of the product after the formation of the second film can be improved. A seventh aspect of the device comprises an impregnating layer formed by the second film on a surface layer of the first film. Thus, the first film is integral with the second film, preventing the second film from peeling and cracking. The porous structure of the first film allows the second film to adhere firmly and rigidly. According to an eighth aspect of the device, fine particles or crystals of the second film are arranged on the irregularities of the first film independently and at a high density. Thereby, when a stress is applied to a part of the fine particles and crystals of the second film, the rest of the fine particles and crystals are not affected. As a result, when the product is bent or the surface of the second film is damaged after the formation of the second film, peeling or tearing of the second film does not occur. The workability of the product is improved, and thus various processing techniques can be applied to the product.

Gemäß einem neunten Aspekt weist der erste Film eine Dicke von 1 μm oder mehr und der zweite Film eine Dicke von 5 μm oder mehr auf. Folglich werden dünnere erste und zweite Filme gebildet. Wenn der zweite Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, gebildet wird, fungiert der erste Film auf rationale bzw. rationelle Art und Weise im Gegensatz zu bzw. anstelle von konventionellen Grundierungen. Zusätzlich wird durch Bilden eines dünneren zweiten Films zum Beispiel weniger Farbe verwendet und der zweite Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, kann auf rationale Art und Weise und mit niedrigen Kosten gebildet werden. Gemäß einem zehnten Aspekt der Vorrichtung weist der zweite Film ein beliebiges von einem Polymermaterial, einer anorganischen oder organischen Farbschicht, ein funktionelles Material oder Keramik auf. Demzufolge können für den zweiten Film verschiedene Materialien verwendet werden. Gemäß einem elften Aspekt der Vorrichtung ist das Erzeugnis ein beliebiges aus rostfreiem Stahl, Nickel, Eisen, Kupfer, Aluminium, Messing, anderen Metallen, einer Legierung, Kunststoff, Glas, Keramik, Papier, Faser oder Holz. Folglich können verschiedene Materialien verwendet werden.According to a ninth aspect, the first film has a thickness of 1 μm or more and the second film has a thickness of 5 μm or more. As a result, thinner first and second films are formed. When the second film, such as a coating, is formed, the first film functions rationally as opposed to instead of conventional primers. In addition, for example, less color is used by forming a thinner second film, and the second film, such as a coating, can be formed rationally and at a low cost. According to a tenth aspect of the device, the second film comprises any one of a polymer material, an inorganic or organic coloring layer, a functional material or ceramics. As a result, various materials can be used for the second film. According to an eleventh aspect of the device, the product is any of stainless steel, nickel, iron, copper, aluminum, brass, other metals, alloy, plastic, glass, ceramics, paper, fiber or wood. Consequently, various materials can be used.

Gemäß einem zwölften Aspekt der Vorrichtung ist der erste Film ein dünner und poröser Film, der durch Anordnen des Erzeugnisses und einem Anodenteil in einem Bad zum Aufnehmen einer Behandlungsflüssigkeit, Anlegen von positiven und negativen Spannungen für das Erzeugnis und das Anodenteil, Einstellen einer Badtemperatur der Behandlungsflüssigkeit auf eine niedrige Temperatur; und Ablagern eines Metallionen enthaltenden Suboxids oder Oxids in der Behandlungsflüssigkeit auf dem Erzeugnis mittels elektrochemischer Wirkung oder durch Ablagern eines dünnen und porösen ersten Films gebildet ist, der durch ein Metallionen enthaltendes Suboxid oder Oxid in der Behandlungsflüssigkeit in einem stromlosen Bad auf dem Erzeugnis mittels chemischer Reaktion gebildet ist. Folglich werden verschiedene Arten der ersten Filme bei niedrigen Kosten mittels elektrochemischer Wirkung oder chemischer Reaktion gebildet. Insbesondere macht die chemische Reaktion das Erzeugen des ersten Films mit einfacheren Anlagen bzw. Ausrüstungen einfacher im Vergleich zu einem Fall von elektrochemischer Wirkung.According to a twelfth aspect of the device, the first film is a thin and porous film obtained by arranging the product and an anode part in a bath for receiving a treatment liquid, applying positive and negative voltages to the product and the anode part, adjusting a bath temperature of the treatment liquid to a low temperature; and depositing a metal oxide-containing suboxide or oxide in the treatment liquid on the article by electrochemical action or by depositing a thin and porous first film formed by a metal ion-containing suboxide or oxide in the treatment liquid in an electroless bath on the article by chemical reaction is formed. As a result, various kinds of the first films are formed at a low cost by electrochemical action or chemical reaction. In particular, the chemical reaction makes it easier to produce the first film with simpler equipment compared to a case of electrochemical action.

Gemäß einem dreizehnten Aspekt der Vorrichtung weist die Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung Chromanhydrid und einen Reduktionshemmer auf. Folglich wird während der Elektrolyse der Behandlungsflüssigkeit eine Dispersion bzw. Verteilung von Chromat erreicht, während ein Strom, der durch das Erzeugnis strömt, verhindert wird, und dadurch kann das Ablagern von metallischem Chrom verhindert werden und die Leitfähigkeit und die Härte des ersten Films kann gehemmt werden. Gemäß einem vierzehnten Aspekt der Vorrichtung weist die Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung ein Mittel zum Zuführen von Metallionen, ein Reduktionsmittel und ein Additiv, wie zum Beispiel Keramik, auf. Folglich wird die Ablagerung des Additivs, wie zum Beispiel Keramik, welches das Suboxid oder Oxid ist, gefördert. Gemäß einem fünfzehnten Aspekt der Vorrichtung ist eine Badtemperatur der Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung auf 10°C oder weniger eingestellt. Folglich wird die Ablagerung des ersten Films unterstützt und die Ablagerung des metallischen Chroms wird gehemmt, und dadurch wird es ermöglicht, die Ablagerung des Chrom-Suboxids zu fördern. Ein sechzehnter Aspekt der Vorrichtung weist einen dünnen zweiten Film auf, wobei der zweite Film an dem ersten Film angebracht oder adsorbiert ist oder der zweite Film durch Imprägnierung oder Feuern bzw. Brennen gebildet ist. Folglich kann der zweite Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, fest und steif auf dem porösen ersten Film gebildet werden. Gemäß einem siebzehnten Aspekt der Vorrichtung weist der zweite Film ein beliebiges eines Polymermaterials, einer anorganischen oder organischen Farbschicht, eines funktionalen Materials oder Keramik auf, und wobei ein beliebiges des Polymermaterials, der anorganischen oder organischen Farbschicht des funktionalen Materials oder der Keramik auf dem ersten Film aufgetragen, gesprüht oder gebacken ist, oder das den ersten Film aufweisende Material in eines der oben genannten Materialen eingetaucht ist oder eine Spannung oder ein elektrisches Feld an das die Farbe und den primären Film aufweisende Erzeugnis angelegt ist und des Weiteren die Keramik gebrannt ist. Folglich ist der zweite Film aus den oben genannten Materialien an dem ersten Film angebracht oder auf demselben adsorbiert oder der zweite Film ist durch Imprägnieren oder Brennen gebildet. Zusätzlich wird der zweite Film der oben genannten Materialien auf optimale Art und Weise gebildet.According to a thirteenth aspect of the Device comprises the treatment liquid for the electrochemical effect chromanhydride and a reduction inhibitor. Consequently, during the electrolysis of the treating liquid, dispersion of chromate is achieved while preventing a current flowing through the product, and thereby the deposition of metallic chromium can be prevented, and the conductivity and hardness of the first film can be inhibited become. According to a fourteenth aspect of the device, the electrochemical action treatment liquid comprises means for supplying metal ions, a reducing agent and an additive such as ceramics. Consequently, the deposition of the additive, such as ceramic, which is the suboxide or oxide, is promoted. According to a fifteenth aspect of the apparatus, a bath temperature of the electrochemical action treatment liquid is set to 10 ° C or less. Consequently, the deposition of the first film is promoted and the deposition of the metallic chromium is inhibited, and thereby it is possible to promote the deposition of the chromium suboxide. A sixteenth aspect of the device comprises a thin second film, wherein the second film is attached or adsorbed to the first film, or the second film is formed by impregnation or firing. Consequently, the second film, such as a coating, can be formed firmly and rigidly on the porous first film. According to a seventeenth aspect of the device, the second film comprises any one of a polymer material, an inorganic or organic coloring layer, a functional material or ceramics, and any of the polymer material, the inorganic or organic coloring layer of the functional material or the ceramic on the first film is applied, sprayed or baked, or the material comprising the first film is immersed in one of the above-mentioned materials, or a voltage or an electric field is applied to the product comprising the ink and the primary film, and further the ceramic is fired. Consequently, the second film of the above-mentioned materials is attached to or adsorbed on the first film, or the second film is formed by impregnation or firing. In addition, the second film of the above materials is optimally formed.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

1 ist eine erläuternde Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem der erste Film mittels elektrochemischer Wirkung, die an der vorliegenden Vorrichtung angewendet wird, auf dem Erzeugnis abgelagert ist. 1 Fig. 10 is an explanatory view showing a state in which the first film is deposited on the product by the electrochemical action applied to the present device.

2 ist eine erläuternde Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem eine Beschichtung, die der zweite Film ist, auf dem ersten Film des Erzeugnisses durch ein an der vorliegenden Vorrichtung angewendetes Sprühverfahren gebildet wird. 2 Fig. 12 is an explanatory view showing a state in which a coating, which is the second film, is formed on the first film of the product by a spraying method applied to the present apparatus.

3 sind mikrographische Bilder, welche die Oberflächenzustände von Chromsuboxid des ersten Films darstellen, der durch Einstellen der Badtemperatur auf –5°C in einem Ablagerungsprozess des ersten Films durch die elektrochemische Wirkung, welche auf die vorliegende Vorrichtung angewendet wurde, abgelagert wurde. Die Bilder sind mit einer Vergrößerung zu unterschiedlichen Zeitdauern nach der Ablagerung dargestellt. 3 are micrographic images representing the surface states of chromium suboxide of the first film deposited by setting the bath temperature at -5 ° C in a deposition process of the first film by the electrochemical action applied to the present apparatus. The images are shown enlarged at different time periods after deposition.

4 sind mikrographische Bilder, welche die Oberflächenzustände von Chromsuboxid des ersten Films darstellen, der durch Einstellen der Badtemperatur auf 15°C in einem Ablagerungsprozess des ersten Films durch die elektrochemische Wirkung, welche auf die vorliegende Vorrichtung angewendet wurde, abgelagert wurde. Die Bilder sind mit einer Vergrößerung zu unterschiedlichen Zeitdauern nach der Ablagerung dargestellt. 4 are micrographic images representing the surface states of chromium suboxide of the first film deposited by setting the bath temperature at 15 ° C in a deposition process of the first film by the electrochemical action applied to the present apparatus. The images are shown enlarged at different time periods after deposition.

5 ist ein vergrößertes mikrographisches Bild, das einen Ablagerungszustand zeigt, nachdem zwanzig Minuten bei der Ablagerung des Chromsuboxids in 3 vergangen sind. 5 FIG. 11 is an enlarged micrograph showing a deposition state after twenty minutes of deposition of the chromium suboxide in FIG 3 have passed.

6 ist ein vergrößertes mikrographisches Bild, das einen Ablagerungszustand zeigt, nachdem zwanzig Minuten bei der Ablagerung des Chromsuboxids in 4 vergangen sind. 6 FIG. 11 is an enlarged micrograph showing a deposition state after twenty minutes of deposition of the chromium suboxide in FIG 4 have passed.

7 sind gescannte mikrographische Bilder mit schrittweiser Vergrößerung, welche einen Ablagerungszustand des Chromsuboxids in 3 zeigen. 7 are stepwise magnified scanned micrographic images showing a deposition state of the chromium suboxide in 3 demonstrate.

8 sind mikrographische Bilder mit schrittweiser Vergrößerung, welche einen Querschnitt des Ablagerungszustand des Chromsuboxid zeigen. 8th are stepwise magnification micrographic images showing a cross section of the deposition state of the chromium suboxide.

9 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch einen Zustand der Imprägnierung zeigt, wenn das Suboxid, welches den ersten Film bildet, auf der Oberfläche des Erzeugnisses abgelagert wird. 9 Fig. 10 is a cross-sectional view schematically showing a state of impregnation when the suboxide constituting the first film is deposited on the surface of the product.

10(a) und 10(b) sind erläuternde Ansichten der vergrößerten Hauptteile in 9 und zeigen das Erzeugnis mit unterschiedlichen Oberflächenzuständen. 10 (a) and 10 (b) are explanatory views of the enlarged main parts in FIG 9 and show the product with different surface conditions.

11 ist ein vergrößertes mikrographisches Bild des Hauptteils aus 9. 11 is an enlarged micrographic image of the main part 9 ,

12 ist eine Schnittansicht, welche schematisch einen Zustand der Bildung einer Beschichtung, welche der zweite Film ist, nach der Ablagerung des Suboxids, welches der erste Film ist, auf der Oberfläche des Erzeugnisses zeigt. 12 Fig. 10 is a sectional view schematically showing a state of forming a coating which is the second film after the deposition of the suboxide, which is the first film, on the surface of the product.

13 ist eine vergrößerte erläuternde Ansicht des Hauptteils aus 12. Die Oberfläche des ersten Films wirkt wie ein Stäbchenhalter und der zweite Film ist in den Löchern zum Halten von Stäbchen eingebettet. 13 is an enlarged explanatory view of the main part 12 , The surface of the first film acts like a rod holder and the second film is embedded in the holes for holding rods.

14 ist eine vergrößerte Schnittansicht, welche einen Zustand einer Beschichtung darstellt, welche der konventionelle zweite Film ist, der gebildet wird. 14 FIG. 10 is an enlarged sectional view illustrating a state of a coating which is the conventional second film that is formed.

15 ist eine vergrößerte Schnittansicht, welche schematisch das Erzeugnis zeigt, das nach der Bildung des zweiten Films gebogen wird. 15 Fig. 10 is an enlarged sectional view schematically showing the product bent after the formation of the second film.

16 ist eine vergrößerte schematische Ansicht des gebogenen Abschnitts des Erzeugnisses aus 15. 16 is an enlarged schematic view of the bent portion of the product from 15 ,

Beschreibung von AusführungsformenDescription of embodiments

Ausführungsformen der vorliegenden Vorrichtung bzw. Erfindung, die auf eine Oberflächenbehandlung angewendet wird, bei welcher ein erster Film auf der Oberfläche eines zu behandelnden Erzeugnisses bzw. Werkstücks oder Bauelements gebildet wird, das aus einer rostfreien Stahlplatte hergestellt ist, und dann ein zweiter Film auf dem ersten Film gebildet ist, wird nun nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. In den 1 bis 16 bezieht sich das Bezugszeichen 1 auf ein Bad, welches eine Behandlungsflüssigkeit 2 oder ein Elektrolyt in demselben aufnimmt. Die Behandlungsflüssigkeit 2 hat dieselbe Struktur wie ein Schwarzchrombad und die Zusammensetzung von 300 bis 400 g/l Chromanhydrid CrO3, 5 bis 10 g/l Natriumsiliziumfluorid NaSiF6 und 2 bis 5 g/l Bariumacetat C4H6O4Ba. Die Badtemperatur der Behandlungsflüssigkeit 2 wird durch Verwenden eines später beschriebenen Kühlgeräts auf 10°C oder niedriger eingestellt, um die Ablagerung des Suboxids von Chromsuboxid CrO3 auf der Oberfläche des Erzeugnisses 3 zu unterstützen und die Ablagerung von metallischem Chrom Cr zu hemmen. In diesem Fall sollte die Badtemperatur, um ein vorbestimmtes Suboxid abzulagern, vorzugsweise 0°C oder weniger betragen, so dass die Behandlungsflüssigkeit 2 nicht gefriert. In einigen Ausführungsformen wird die Badtemperatur von –5 bis 10°C eingestellt.Embodiments of the present apparatus applied to a surface treatment in which a first film is formed on the surface of a product to be treated or a component made of a stainless steel plate, and then a second film on the First film is formed, will now be described below with reference to the drawings. In the 1 to 16 the reference number refers 1 to a bath, which is a treatment liquid 2 or an electrolyte in it. The treatment liquid 2 has the same structure as a Schwarzchrombad and the composition of 300 to 400 g / l Chromanhydrid CrO 3 , 5 to 10 g / l sodium silicon fluoride NaSiF 6 and 2 to 5 g / l barium acetate C 4 H 6 O 4 Ba. The bath temperature of the treatment liquid 2 is adjusted to 10 ° C or lower by using a later-described refrigerator to prevent the deposition of the suboxide of chromium suboxide CrO 3 on the surface of the product 3 to assist and inhibit the deposition of metallic chromium Cr. In this case, the bath temperature to deposit a predetermined suboxide should preferably be 0 ° C or less, so that the treatment liquid 2 not frozen. In some embodiments, the bath temperature is set from -5 to 10 ° C.

Das Erzeugnis bzw. Werkstück 3, welches als ein Kathodenteil 3 ausgebildet ist, ein metallisches Chrom oder ein Anodenteil 4, welche eine lösliche Elektrode ist, und ein Karbon oder Blei, welche eine nichtlösliche Anode ist, werden in der Behandlungsflüssigkeit 2 getränkt bzw. in dieselbe eingetaucht und in derselben angeordnet. Eine Verkabelung 5, 6 zum Aufbringen einer positiven und negativen Spannung werden mit den oben beschriebenen Bauteilen verbunden. Eine Spannung wird von einer Stromquelle 8 über eine Steuereinheit 7 aufgebracht, die die Funktion eines Gleichrichters hat. Diese Einheiten steuern die Stromdichte des Erzeugnisses 3 und des Anodenteils 4 auf 20 A/dm2. In einigen Ausführungsformen wird eine rostfreie Stahlplatte (SUS304), die eine Dicke von 0,5 mm aufweist, als das Erzeugnis 3 verwendet, das Erzeugnis 3 kann jedoch nicht auf ein Metallteil eingeschränkt werden und kann ein beliebiges, von Nickel, Eisen, Kupfer, Aluminium, Messing, anderen Metallen, Legierungen, Kunststoff, Glas, Keramiken, Papier, Fasern oder Holz sein, auf denen ein Oxid abgelagert werden kann.The product or workpiece 3 which serves as a cathode part 3 is formed, a metallic chromium or an anode part 4 , which is a soluble electrode, and a carbon or lead, which is a non-soluble anode, become in the treatment liquid 2 soaked or immersed in the same and arranged in the same. A wiring 5 . 6 for applying a positive and negative voltage are connected to the components described above. A voltage is taken from a power source 8th via a control unit 7 applied, which has the function of a rectifier. These units control the current density of the product 3 and the anode part 4 to 20 A / dm 2 . In some embodiments, a stainless steel plate (SUS304) having a thickness of 0.5 mm is used as the product 3 used, the product 3 however, it can not be limited to a metal part and may be any of nickel, iron, copper, aluminum, brass, other metals, alloys, plastic, glass, ceramics, paper, fibers or wood on which an oxide can be deposited.

Ein Kühlbad 9 zum Aufnehmen einer vorbestimmten Menge der Behandlungsflüssigkeit 2 ist in der näheren Umgebung des Bads 1 angeordnet und eine zickzack- oder spulenähnliche Kühlleitung 11 der Kühlvorrichtung 10 ist in dem Kühlbad 9 angeordnet. In der Zeichnung ist das Bezugszeichen 12 ein Kompressor zum Zirkulieren eines Kühlmittels, das in einem Kühlkreislauf der Kühlvorrichtung 10 vorgesehen ist, das Bezugszeichen 13 bezeichnet einen Kühlzylinder zum Speichern des Kühlbads 9 und das Bezugszeichen 14 ist ein Filter, der in einer Ablaufleitung an dem unteren Ende des Kühlbads 9 eingeschoben vorgesehen ist.A cooling bath 9 for receiving a predetermined amount of the treatment liquid 2 is in the immediate vicinity of the bath 1 arranged and a zigzag or coil-like cooling line 11 the cooling device 10 is in the cooling bath 9 arranged. In the drawing, the reference numeral 12 a compressor for circulating a coolant contained in a cooling circuit of the cooling device 10 is provided, the reference numeral 13 denotes a cooling cylinder for storing the cooling bath 9 and the reference numeral 14 is a filter located in a drain line at the bottom of the cooling bath 9 is provided inserted.

Eine Zuführleitung 15 für die Behandlungsflüssigkeit ist an der oberen Position des Kühlbads 9 vorgesehen und eine Abführleitung 16 für die Behandlungsflüssigkeit ist an dem unteren Teil des Kühlbads 9 vorgesehen. Ein Ende der Zuführleitung 15 für die Behandlungsflüssigkeit ist in die Behandlungsflüssigkeit 2 in dem Bad 1 eingetaucht und eine Flüssigkeitszuführpumpe 17 zum Ansaugen der Behandlungsflüssigkeit 2 ist in die Zuführleitung 15 für die Behandlungsflüssigkeit eingeführt. Des Weiteren ist ein Ende der Abführleitung 16 für die Behandlungsflüssigkeit mit dem Filter 14 verbunden und das andere Ende ist über ein Rückschlagventil 18 mit dem unteren Teil des Bads 1 verbunden.A supply line 15 for the treatment liquid is at the upper position of the cooling bath 9 provided and a discharge line 16 for the treatment liquid is at the lower part of the cooling bath 9 intended. One end of the supply line 15 for the treatment liquid is in the treatment liquid 2 in the bathroom 1 immersed and a liquid feed pump 17 for sucking the treatment liquid 2 is in the supply line 15 introduced for the treatment liquid. Furthermore, there is an end of the discharge line 16 for the treatment liquid with the filter 14 connected and the other end is via a check valve 18 with the lower part of the bath 1 connected.

2 ist ein Zustand, in dem das Suboxid, welches den ersten Film darstellt, auf dem Erzeugnis 3 abgelagert wird und dann durch Sprühen einer Farbe, welche den zweiten Film darstellt, eine Beschichtung auf dem ersten Film gebildet wird. Das Bezugszeichen 19 bezeichnet eine kleine Farbpistole, die für das Sprühen verwendet wird. Die Farbpistole 19 weist einen zylindrischen Farbbehälter 20 auf, der so angeordnet ist, dass er an der Seite der Düse der Farbpistole 19 schräg steht und eine Druckluftleitung 21 ist mit dem unteren Teil der Farbpistole 19 verbunden. Dann kann durch die Betätigung eines Auslösehebels 22 eine Kunstharzfarbe in dem Farbbehälter 20 auf den ersten Film 23, der auf dem Erzeugnis 3 abgelagert ist, gesprüht werden. In einigen Ausführungsformen wird Chromsuboxid CrO3 auf dem Erzeugnis 3 als das Suboxid abgelagert, welches den ersten Film 23 darstellt. 2 is a state in which the suboxide, which represents the first film, on the product 3 is deposited and then by spraying a paint, which is the second film, a coating is formed on the first film. The reference number 19 denotes a small paint gun used for spraying. The paint gun 19 has a cylindrical paint container 20 which is arranged so that it is on the side of the nozzle of the paint gun 19 slanting and a compressed air line 21 is with the lower part of the paint gun 19 connected. Then, by the operation of a release lever 22 a synthetic resin paint in the paint container 20 on the first movie 23 on the product 3 is deposited, sprayed. In some embodiments, chromium suboxide CrO 3 is on the product 3 deposited as the suboxide, which is the first film 23 represents.

Die anderen Verfahren zum Bilden der Beschichtung, welche den zweiten Film darstellt, beinhalten: Auftragen mit einer Bürste oder einer Rolle, eine Back-Finishing-Technik, in welcher eine Farbe erwärmt und gehärtet wird; eine Immersionsbeschichtungstechnik, in welcher das Erzeugnis 3 mit dem ersten Film in die Farbe eingetaucht wird; eine Elektroablagerungs-Beschichtungstechnik, bei welcher das Erzeugnis 3 in einer Wasserfarbe durch Aufbringen einer statischen Elektrizität mit entgegengesetzter Polarität beschichtet wird; und eine elektrostatische Beschichtungstechnik, in welcher eine Beschichtung auf dem Erzeugnis 3 durch Aufladen des Erzeugnisses 3 und einer Sprühformfarbe mit entgegengesetzter Polarität elektrisch absorbiert wird. Die optimale Technik kann in Abhängigkeit von den Bearbeitungsbedingungen ausgewählt werden.The other methods of forming the coating which constitutes the second film include: brush or roller application, a back-finishing technique in which a paint is heated and cured; a Immersion coating technique in which the product 3 immersed in the paint with the first film; an electro-deposition coating technique in which the product 3 is coated in a water color by applying static electricity of opposite polarity; and an electrostatic coating technique in which a coating on the product 3 by charging the product 3 and a spray paint of opposite polarity is electrically absorbed. The optimal technique can be selected depending on the machining conditions.

Als nächstes wird bei dem Verfahren der vorliegenden Vorrichtung das Suboxid, welches der erste Film 23 ist, oder Chromoxid Cr2O3, welches das Oxid des Suboxids ist, als erstes auf dem Erzeugnis 3 abgelagert. Dann wird die Beschichtung, welche den zweiten Film 24 darstellt, auf dem ersten Film 23 gebildet. Wenn das Suboxid, welches der erste Film 23 ist, oder Chromoxid Cr2O3, welches das Oxid des Suboxids ist, zuerst auf dem Erzeugnis 3 abgelagert wird und dann eine Beschichtung, welche der zweite Film 24 ist, auf dem ersten Film 23 gebildet wird, werden das Bad 1 zum Aufnehmen der Behandlungsflüssigkeit 2, das Erzeugnis 3, welches ein Kathodenteil ist, und das Anodenteil 4, präpariert, und dann wird eine vorbestimmte Spannung an das Erzeugnis 3 und das Anodenteil 4 angelegt. Die Stromquelle 8, welche mit einer bestimmten Spannungsdichte arbeitet, und die Steuereinheit 7 zum Steuern der Stromquelle 8, sind auf den oben genannten Komponenten montiert. Des Weiteren ist das Kühlbad 9 in der Nähe des Bads 1 angeordnet.Next, in the method of the present apparatus, the suboxide, which is the first film 23 is, or chromium oxide Cr 2 O 3 , which is the oxide of the suboxide, first on the product 3 deposited. Then the coating, which is the second film 24 represents, on the first film 23 educated. If the suboxide, which is the first movie 23 is, or chromium oxide Cr 2 O 3 , which is the oxide of the suboxide, first on the product 3 is deposited and then a coating, which is the second film 24 is on the first movie 23 is formed, become the bath 1 for receiving the treatment liquid 2 , the product 3 , which is a cathode part, and the anode part 4 , prepared, and then a predetermined voltage is applied to the product 3 and the anode part 4 created. The power source 8th , which works with a certain voltage density, and the control unit 7 for controlling the power source 8th , are mounted on the above components. Furthermore, the cooling bath 9 near the bath 1 arranged.

Das Kühlbad 9 ist mit dem Kühlgerät 10 ausgestattet und die Kühlmittelleitung 11 ist in dem Kühlbad 9 vorgesehen. Die Zuführleitung 15 für die Behandlungsflüssigkeit ist an der oberen Position des Kühlbads 9 vorgesehen und die Abführleitung 16 für die Behandlungsflüssigkeit ist an dem unteren Teil des Kühlbads 9 vorgesehen. Die Flüssigkeitszuführpumpe 17 ist in der Zuführleitung 15 für die Behandlungsflüssigkeit eingeführt. Ein Ende der Zuführleitung 15 für die Behandlungsflüssigkeit ist in der Behandlungsflüssigkeit 2 in dem Bad 1 vorgesehen und ein Ende der Abführleitung 16 für die Behandlungsflüssigkeit ist mit dem unteren Teil des Bads 1 über das Rückschlagventil 18 verbunden.The cooling bath 9 is with the cooling unit 10 equipped and the coolant line 11 is in the cooling bath 9 intended. The feed line 15 for the treatment liquid is at the upper position of the cooling bath 9 provided and the discharge line 16 for the treatment liquid is at the lower part of the cooling bath 9 intended. The liquid feed pump 17 is in the supply line 15 introduced for the treatment liquid. One end of the supply line 15 for the treatment liquid is in the treatment liquid 2 in the bathroom 1 provided and one end of the discharge line 16 for the treatment liquid is with the lower part of the bath 1 over the check valve 18 connected.

Die Behandlungsflüssigkeit 2 wird dann vorbereitet. Die Behandlungsflüssigkeit 2 hat die Zusammensetzung von 300 bis 400 g/l Chromanhydrid CrO3, 5 bis 10 g/l Natriumsiliziumfluorid NaSiF6, das ein Reduktionshemmer ist, und 2 bis 5 g/l Bariumacetat C4H6O4Ba und die Behandlungsflüssigkeit 2 ist in dem Bad 1 aufgenommen. In diesem Fall hemmen Natriumsiliziumfluorid und Bariumacetat in der Behandlungsflüssigkeit 2 einen Fluss von Elektrizität, wodurch sie die Ablagerung von metallischem Chrom Cr auf der Oberfläche des Erzeugnisses 3 hemmen und die Ablagerung von Chromsuboxid CrO3 fördern, welches das Suboxid ist.The treatment liquid 2 is then prepared. The treatment liquid 2 has the composition of 300 to 400 g / l chromanhydride CrO 3 , 5 to 10 g / l sodium silicofluoride NaSiF 6 , which is a reduction inhibitor, and 2 to 5 g / l barium acetate C 4 H 6 O 4 Ba and the treatment liquid 2 is in the bathroom 1 added. In this case, sodium silicon fluoride and barium acetate inhibit in the treatment liquid 2 a flow of electricity, causing the deposition of metallic chromium Cr on the surface of the product 3 and promote the deposition of chromium suboxide CrO 3 , which is the suboxide.

Das Erzeugnis 3 und das Anodenteil 4 werden in dem Bad 1 aufgenommen, die Verkabelung 5, 6 derselben werden mit der Steuereinheit 7 und der Stromquelle 8 verbunden. Die Stromquelle 8 wird eingeschaltet, um eine vorbestimmte Spannung anzulegen und die Stromdichte des Erzeugnisses 3 und des Anodenteils 4 werden über die Steuereinheit 7 eingestellt. In einigen Ausführungsformen wird die Stromdichte des Erzeugnisses 3 und des Anodenteils 4 auf 20 A/dm2 eingestellt.The product 3 and the anode part 4 be in the bathroom 1 recorded, the wiring 5 . 6 the same will be with the control unit 7 and the power source 8th connected. The power source 8th is turned on to apply a predetermined voltage and the current density of the product 3 and the anode part 4 be through the control unit 7 set. In some embodiments, the current density of the product becomes 3 and the anode part 4 set to 20 A / dm 2 .

Dann wird die Flüssigkeitszuführpumpe 17 gestartet, um die Behandlungsflüssigkeit 2 in das Bad 1 zu saugen und die angesaugte Behandlungsflüssigkeit 2 wird zu dem Kühlbad 9 gesandt. Des Weiteren wird das Kühlgerät 10 gestartet, um den Kompressor 12 anzutreiben und das Kühlmittel zu der Kühlmittelleitung 11 zu zirkulieren. Die Behandlungsflüssigkeit 2 in dem Kühlbad 9 wird dann gekühlt und zu dem unteren Teil des Bads 1 von der Abführleitung 16 der Behandlungsflüssigkeit gesandt. Somit wird die Behandlungsflüssigkeit 2 in dem Bad 1 gekühlt und in einigen Ausführungsformen wird die Badtemperatur auf 10°C oder niedriger eingestellt. In diesem Fall sollte die Badtemperatur, um ein vorbestimmtes Suboxid bzw. eine vorbestimmte Menge an Suboxid abzulagern, vorzugsweise 0°C oder niedriger sein, so dass die Behandlungsflüssigkeit 2 nicht gefriert. In einigen Ausführungsformen wird die Temperatur zwischen –5 bis 10°C eingestellt.Then the liquid feed pump 17 started to the treatment liquid 2 in the bathroom 1 to suck and the sucked treatment liquid 2 becomes the cooling bath 9 sent. Furthermore, the cooling unit 10 started to the compressor 12 to drive and the coolant to the coolant line 11 to circulate. The treatment liquid 2 in the cooling bath 9 is then cooled and to the lower part of the bath 1 from the discharge line 16 sent the treatment liquid. Thus, the treatment liquid becomes 2 in the bathroom 1 cooled and in some embodiments, the bath temperature is set to 10 ° C or lower. In this case, the bath temperature to deposit a predetermined suboxide or a predetermined amount of suboxide should preferably be 0 ° C or lower, so that the treatment liquid 2 not frozen. In some embodiments, the temperature is set between -5 to 10 ° C.

Wenn eine Spannung an das Erzeugnis 3 und das Anodenteil 4 angelegt wird, wird auf der Seite des Erzeugnisses 3 Wasserstoffgas erzeugt und in der Behandlungsflüssigkeit 2 nach oben bewegt und dann an die Luft abgegeben, während auf der Seite des Anodenteils 4 Sauerstoffgas erzeugt und in der Behandlungsflüssigkeit 2 nach oben bewegt und dann an die Luft abgegeben wird. Chromanhydrid, welches der Hauptbestandteil der Behandlungsflüssigkeit 2 ist, wird an der Anode 4 ionisiert und die Chromionen werden von dem Anodenteil 4 getrennt. Die abgetrennten Chromionen bewegen und verteilen sich in der Behandlungsflüssigkeit 2 und bewegen sich in Richtung der Schnittstelle des Erzeugnisses 3. Dann werden die Chromionen zu dreiwertigem Chrom reduziert. Das dreiwertige Chrom wird auf der Schnittstelle des Erzeugnisses 3 abgelagert.When a voltage to the product 3 and the anode part 4 is created on the side of the product 3 Hydrogen gas generated and in the treatment liquid 2 moved up and then released to the air while on the side of the anode part 4 Oxygen gas generated and in the treatment liquid 2 moved up and then released into the air. Chromanhydride, which is the main component of the treatment fluid 2 is, is at the anode 4 ionizes and the chromium ions are from the anode part 4 separated. The separated chromium ions move and spread in the treatment liquid 2 and move towards the interface of the product 3 , Then the chromium ions are reduced to trivalent chromium. The trivalent chromium will be at the interface of the product 3 deposited.

Zu dieser Zeit wird dreiwertiges Chrom auf der Schnittstelle des Erzeugnisses 3 basierend auf dem Metall-Cr bzw. dem metallischen Cr abgelagert. Das abgelagerte Metall-Cr verbindet sich mit dem Chromsuboxid CrO3, welches das Suboxid 23 ist, und dann werden das Metall-Cr und das Chromsuboxid nacheinander damit verbunden bzw. daran angehaftet, um einen Suboxidfilm zu bilden. Wenn die Dicke des Films 1 bis 2 μm erreicht, geht die Leitfähigkeit des Suboxidfilms verloren und die Bildung des Suboxids stockt. Der Chromsuboxidfilm ist halbglänzend schwarz und ein dünner Film mit einer Dicke von 1 bis 2 μm. Danach wird der Chromsuboxidfilm mit Sauerstoff in der Luft verbunden und ändert sich in ein Oxid von Cr2O3 und macht den ersten Film steifer bzw. fester.At this time, trivalent chromium is at the interface of the product 3 deposited based on the metal Cr and the metallic Cr, respectively. The deposited metal Cr combines with the chromium suboxide CrO 3 , which is the suboxide 23 and then the metal Cr and the chromium suboxide are sequentially bonded thereto adhered to form a suboxide film. When the thickness of the film reaches 1 to 2 μm, the conductivity of the suboxide film is lost and the formation of the suboxide ceases. The chromium suboxide film is semi-glossy black and a thin film having a thickness of 1 to 2 μm. Thereafter, the chromium suboxide film is bonded with oxygen in the air and changes into an oxide of Cr 2 O 3 , making the first film stiffer.

Bei der Ablagerung des Suboxidfilms wird die Badtemperatur auf eine niedrige Temperatur eingestellt, die 10°C oder weniger beträgt. In einigen Ausführungsformen wird die Temperatur auf –5 bis 10°C eingestellt. Der Strom wird durch Natriumsiliziumfluorid und Bariumacetat in der Behandlungsflüssigkeit 2 gehemmt. Des Weiteren kann, weil die Stromdichte des Erzeugnisses 3 und des Anodenteils 4 auf 20 A/dm2 eingestellt ist, die Ablagerung von metallischem Chrom Cr auf dem Erzeugnis 3 gehemmt werden. Somit wird davon ausgegangen, dass der aus dem Suboxid hergestellte erste Film 23 weicher ist als das Metall-Cr und eine niedrigere Leitfähigkeit aufweist.In the deposition of the suboxide film, the bath temperature is set to a low temperature, which is 10 ° C or less. In some embodiments, the temperature is set at -5 to 10 ° C. The current is through sodium silicon fluoride and barium acetate in the treatment liquid 2 inhibited. Furthermore, because the current density of the product 3 and the anode part 4 is set to 20 A / dm 2 , the deposit of metallic chromium Cr on the produce 3 be inhibited. Thus, it is considered that the first film made of the suboxide 23 softer than the metal Cr and has a lower conductivity.

Die Erfinder haben die Komponenten des abgelagerten Suboxidfilms durch eine quantitative Analyse unter Verwendung eines Elektronenprobenmikroanalysators (EPMA 1720) der SHIMADZU CORPORATION geprüft. Die folgenden Daten wurden erhalten: C: 24,91%; O: 18,82%; Si: 35,75%; Cr: 11,16%; und Ni: 9,36%. Diese Daten zeigen, dass die Ablagerung von Cr gehemmt wird.The inventors tested the components of the deposited suboxide film by a quantitative analysis using a SHIMADZU CORPORATION electron sample microanalyzer (EPMA 1720). The following data were obtained: C: 24.91%; O: 18.82%; Si: 35.75%; Cr: 11.16%; and Ni: 9.36%. These data show that the deposition of Cr is inhibited.

Als nächstes prüften die Erfinder den Oberflächenzustand des ersten Films 23 durch Verwenden eines hochauflösenden Abtastelektronenmikroskops der Feldemissions-Bauart (SU-10) der Hitachi High-Technologies Corporation. Die in den 3 und 4 dargestellten Ergebnisse wurden erhalten. 3 sind fotografische Bilder der Oberflächenzustände nach 5 Minuten, 10 Minuten und 20 Minuten nach dem Beginn der Ablagerung des den ersten Film 23 bildenden Suboxids mit der Badtemperatur von –5°C und der Stromdichte von 20 A/dm2, mit einer Vergrößerung von 10 K, 20 K, 50 K und 100 K (K: ×1000). Plurale bzw. mehrfache Massen oder granuläre Strukturen treten in jedem Zustand auf und diese Strukturen wachsen im Verlauf der Zeit nach der Ablagerung und die Abstände derselben vergrößern sich ebenfalls. Es wurde beobachtet, dass Unregelmäßigkeiten verteilt wurden und eindeutig gebildet waren.Next, the inventors examined the surface state of the first film 23 by using a field emission type high resolution scanning electron microscope (SU-10) manufactured by Hitachi High Technologies Corporation. The in the 3 and 4 The results obtained were obtained. 3 are photographic images of the surface states after 5 minutes, 10 minutes and 20 minutes after the onset of deposition of the first film 23 forming suboxide with the bath temperature of -5 ° C and the current density of 20 A / dm 2 , with an enlargement of 10 K, 20 K, 50 K and 100 K (K: × 1000). Plural or multiple masses or granular structures occur in each state, and these structures grow over time after deposition and the distances thereof also increase. It was observed that irregularities were distributed and clearly formed.

4 sind fotografische Bilder der Oberflächenzustände nach 5 Minuten, 10 Minuten und 20 Minuten nach dem Beginn der Ablagerung des den ersten Film 23 bildenden Suboxids mit der Badtemperatur von 15°C und der Stromdichte von 20 A/dm2, mit einer Vergrößerung von 10 K, 20 K, 50 K und 100 K. Plurale Körner oder skalenartige Strukturen treten in jedem Zustand auf und diese Strukturen vergrößern sich und wachsen im Verlauf der Zeit nach der Ablagerung und die Abstände derselben vergrößern sich ebenfalls. Somit wurde eine Verteilung von Unregelmäßigkeiten beobachtet. 4 are photographic images of the surface states after 5 minutes, 10 minutes and 20 minutes after the onset of deposition of the first film 23 forming suboxide with the bath temperature of 15 ° C and the current density of 20 A / dm 2 , with a magnification of 10 K, 20 K, 50 K and 100 K. Plural grains or scale-like structures occur in each state and these structures increase and grow in the course of time after the deposition and the distances of the same also increase. Thus, a distribution of irregularities was observed.

5 ist ein fotografisches Bild des Oberflächenzustands nach 20 Minuten nach dem Beginn der Ablagerung des ersten Films 23 bei der Badtemperatur von –5°C mit einer Vergrößerung von 100 K. Die Größe der Massen oder granulären Strukturen sind zum Vergleich mit einer Referenzskala dargestellt. Es wurden Massen oder granuläre Strukturen mit der Größe von 25 bis 200 nm beobachtet. 6 ist ein fotografisches Bild des Oberflächenzustands nach 20 Minuten nach dem Beginn der Ablagerung des ersten Films 23 bei der Badtemperatur von 15°C mit einer Vergrößerung von 100 K. Die Größe der Strukturen von Körnern oder Kanten ist zum Vergleich mit einer Referenzskala dargestellt. Es wurden Strukturen von Körnern oder Kanten mit der Breite von 25 bis 50 nm und der Länge von 400 bis 650 nm beobachtet. 5 is a photographic image of the surface state after 20 minutes after the start of deposition of the first film 23 at the bath temperature of -5 ° C with a magnification of 100 K. The size of the masses or granular structures are shown for comparison with a reference scale. Masses or granular structures with the size of 25 to 200 nm were observed. 6 is a photographic image of the surface state after 20 minutes after the start of deposition of the first film 23 at the bath temperature of 15 ° C with a magnification of 100 K. The size of the structures of grains or edges is shown for comparison with a reference scale. Structures of grains or edges having a width of 25 to 50 nm and a length of 400 to 650 nm were observed.

Zusätzlich beinhaltet 7 fotografische Bilder des Oberflächenzustands von 5, die von einem Abtastmikroskop aufgenommen wurden, mit einer Vergrößerung von 10 bis 50 K. Es wurde beobachtet, dass der Suboxidfilm eine feinporöse Struktur aufweist, dass die Oberfläche wie ein Kuchen mit winzigen Unregelmäßigkeiten oder ein Schwamm gebildet war und die Oberfläche viele Unregelmäßigkeiten mit der Größe von 50 bis 200 nm aufwies. 8 ist ein fotografisches Bild eines Querschnitts des Suboxids oder des ersten Films 23 aus 3. Es wurde beobachtet, dass winzige Unregelmäßigkeiten auf der Oberfläche des ersten Films 23 gebildet wurden, um die Oberfläche des Erzeugnisses 3 abzudecken.Additionally included 7 Photographic images of the surface state of 5 from a scanning microscope at a magnification of 10 to 50 K. It was observed that the suboxide film had a fine porous structure, that the surface was formed like a cake with minute irregularities or a sponge, and the surface had many irregularities with the surface Size of 50 to 200 nm had. 8th is a photographic image of a cross section of the suboxide or the first film 23 out 3 , It was observed that tiny irregularities on the surface of the first film 23 were formed around the surface of the product 3 cover.

Wie von oben zu erkennen ist, kann die Oberfläche des Erzeugnisses 3, wie in 9 dargestellt, schematisch repräsentiert werden. Wie in 10(a), (b) in weiteren vergrößerten Bildern von 9 dargestellt, scheint der erste Film, weil verschiedene Unregelmäßigkeiten und Serrationen auf der Oberfläche des Erzeugnisses 3 mit den Unregelmäßigkeiten des porösen ersten Films 23 in Verbindung stehen, dicht an dem Erzeugnis 3 angehaftet und abgelagert zu sein. Dieser Zustand ist weiter vergrößert und in 11 dargestellt. Der erste Film 23 ist in einem gestreiften Muster mit bestimmten Abständen angeordnet und mit der Oberflächenschicht des Erzeugnisses 3 in Verbindung, so dass der erste Film 23 fest an dem Erzeugnis 3 anhaftet.As can be seen from above, the surface of the product can 3 , as in 9 represented, represented schematically. As in 10 (a) (b) in further enlarged pictures of 9 shown, the first film seems because of various irregularities and serrations on the surface of the product 3 with the irregularities of the porous first film 23 in contact, close to the product 3 to be attached and deposited. This condition is further enlarged and in 11 shown. The first movie 23 is arranged in a striped pattern with certain intervals and with the surface layer of the product 3 connected, so the first movie 23 firmly attached to the product 3 adheres.

Somit ist eine Imprägnierschicht, die aus dem ersten Film 23 gebildet ist, auf der Oberfläche des Erzeugnisses 3 gebildet, so dass das Erzeugnis 3 einteilig mit dem ersten Film 23 ist. Folglich haftet der erste Film 23 an der Oberflächenschicht des Erzeugnisses 3 steif und dicht an, was verhindert, dass der erste Film 23 sich ablöst und reißt bzw. bricht. Des Weiteren ist der zweite Film 24 auf der porösen Struktur des ersten Films 23 fest und starr gebildet, so dass ein Ablösen des zweiten Films 24 verhindert wird.Thus, an impregnating layer made of the first film 23 is formed on the surface of the product 3 formed, so that the product 3 in one piece with the first film 23 is. Consequently, the first film is liable 23 on the surface layer of the product 3 stiff and tight, which prevents the first movie 23 peels off and breaks or breaks. Furthermore, the second movie 24 on the porous structure of the first film 23 firmly and rigidly formed, allowing a detachment of the second film 24 is prevented.

Als nächstes wird beim Bilden einer Beschichtung auf dem Erzeugnis, bei der es sich um den zweiten Film 23 handelt, eine anorganische oder organische Farbschicht auf dem auf dem Erzeugnis 3 abgelagerten Suboxid oder Oxid aufgebracht oder absorbiert. In einigen Ausführungsformen wird ein Sprühverfahren zum Beschichten mit der Sprühpistole 19 als ein Auftrags- oder Absorbierverfahren der Beschichtung angewendet, es können jedoch auch andere Techniken angewendet werden. In diesen Fällen kann, weil Sauerstoff die Beschichtung durchdringen bzw. in dieselbe eindringen kann, die Beschichtung unmittelbar nach der Bildung des ersten Films 23 gebildet werden oder sie kann später gebildet werden. Die Beschichtung sollte lediglich am Ende auf dem starren Oxid gebildet sein. Somit beeinflusst der Zeitpunkt der Bildung der Beschichtung die Qualität nicht.Next, when forming a coating on the product, which is the second film 23 an inorganic or organic color layer on the product 3 deposited or absorbed on deposited suboxide or oxide. In some embodiments, a spray method is used to coat with the spray gun 19 As an application or Absorbierverfahren the coating applied, but other techniques can be used. In these cases, because oxygen can penetrate or penetrate the coating, the coating immediately after the formation of the first film 23 or it can be made later. The coating should only be formed at the end of the rigid oxide. Thus, the timing of the formation of the coating does not affect the quality.

Dann wird die Oberfläche des Suboxids oder des Oxids des ersten Films 23, der auf dem Erzeugnis 3 abgelagert ist, vor dem Bilden der Beschichtung gereinigt und getrocknet. Das Erzeugnis 3 wird zum Beispiel auf einer geeigneten Vorrichtung bzw. Schablone 25 angeordnet. Dann wird eine gewünschte Farbe in den Farbbehälter 20 der Beschichtungspistole 19 eingefüllt. Durch das Halten der Beschichtungspistole 19 in Verbindung mit der Druckluftleitung 21 wird die Farbe durch eine Betätigung des Auslösers 22 gesprüht, wobei die Düse in Richtung des Erzeugnisses 3 gehalten wird. Dieser Zustand ist in 2 dargestellt.Then, the surface of the suboxide or the oxide of the first film becomes 23 on the product 3 is deposited, cleaned and dried before forming the coating. The product 3 for example, on a suitable device or template 25 arranged. Then a desired color in the paint container 20 the coating gun 19 filled. By holding the coating gun 19 in connection with the compressed air line 21 The color is achieved by pressing the shutter button 22 sprayed with the nozzle in the direction of the product 3 is held. This condition is in 2 shown.

Die auf die oben beschriebene Art und Weise auf dem Erzeugnis 3 aufgebrachte Farbe wird an der Oberfläche des ersten Films 23 des Suboxids oder Oxids angehaftet und dann erwärmt und gehärtet. In diesem Fall ist der gebildete Zustand der Beschichtung, welche den zweiten Film 24 darstellt, in den 12 und 13 dargestellt. Beim Bilden des zweiten Films 24 der vorliegenden Vorrichtung wird der dünne erste Film 23, welcher das auf dem Erzeugnis 3 abgelagerte Suboxid oder Oxid darstellt, anstelle von Grundierungen verwendet, welche bei einer konventionellen Beschichtung häufig verwendet worden sind. Jedes feine Partikel oder Kristall der Beschichtung wird unabhängig und mit einer hohen Dichte auf dem ersten Film 23 abgelagert.In the manner described above on the product 3 Applied color becomes on the surface of the first film 23 of the suboxide or oxide and then heated and cured. In this case, the formed state of the coating, which is the second film 24 represents, in the 12 and 13 shown. While making the second movie 24 the present device becomes the thin first film 23 which on the product 3 deposited suboxide or oxide, instead of using primers which have been widely used in a conventional coating. Any fine particles or crystal of the coating will become independent and with a high density on the first film 23 deposited.

Zu diesem Zeitpunkt muss die Beschichtung im Prinzip nur einmal gebildet werden und eine Grundierung, eine mittlere und eine obere Beschichtung, die bei der üblichen Vorgehensweise erforderlich und sehr zeitaufwändig sind, sind nicht notwendig. Der Film wird in einem dünnen Film mit einer Dicke von 5 μm, was ein Fünftel bis ein Drittel der üblichen Werte ist, gebildet. Der dünne Film geht mit den winzigen Unregelmäßigkeiten des ersten Films 23 in Eingriff, um dicht daran anzuhaften. Somit wird die Menge der verwendeten Farbe verringert und die Beschichtung wird im Vergleich mit dem konventionellen Beschichtungsverfahren einfach gebildet, wodurch die Beschichtung auf rationelle Art und Weise und mit geringen Kosten gebildet wird.At this point in time, in principle, the coating only has to be formed once, and a primer, middle and top coat, which are required in the usual procedure and very time-consuming, are not necessary. The film is formed in a thin film having a thickness of 5 μm, which is one-fifth to one-third of the usual values. The thin film goes with the tiny irregularities of the first film 23 engaged to closely attach. Thus, the amount of the ink used is reduced and the coating is easily formed in comparison with the conventional coating method, whereby the coating is formed in a rational manner and at a low cost.

In diesem Fall wirken aufgrund der porösen Struktur des ersten Films 23 die vielen Unregelmäßigkeiten oder Löcher bzw. Vertiefungen auf der Oberfläche wie ein Stäbchenhalter und eine den zweiten Film 24 darstellende Beschichtung wird in den Löchern eingepasst und eingebettet. Folglich kann die Dichte der eingebetteten Beschichtung auch durch die Löcher eingestellt werden und die Polymerketten der Kunststoffbeschichtung können eingestellt werden und dadurch kann der zweite Film 24 mit hoher Dichte verteilt und der zweite Film 24 fest auf den Unregelmäßigkeiten und Löchern angebracht werden. Eine Imprägnierschicht des zweiten Films 24 wird auf der Oberflächenschicht des ersten Films 23 gebildet. Weil der zweite Film 24 einteilig bzw. integral bzw. fest verbunden mit dem ersten Film 23 ist, wird verhindert, dass der zweite Film 24 sich ablöst. Die poröse Struktur des ersten Films bewirkt, dass der zweite Film fest und starr an demselben anhaftet.In this case, due to the porous structure of the first film 23 the many irregularities or holes or depressions on the surface like a rod holder and the second film 24 illustrative coating is fitted and embedded in the holes. Consequently, the density of the embedded coating can also be adjusted through the holes and the polymer chains of the plastic coating can be adjusted, and thereby the second film 24 distributed in high density and the second movie 24 firmly attached to the irregularities and holes. An impregnating layer of the second film 24 becomes on the surface layer of the first film 23 educated. Because the second movie 24 integral or integral with the first film 23 is, prevents the second movie 24 peels off. The porous structure of the first film causes the second film to adhere firmly and rigidly thereto.

Wie oben beschrieben beinhaltet die vorliegende Vorrichtung bzw. Erfindung eine Imprägnierung des Erzeugnisses 3 und des ersten Films 23 und eine Imprägnierung des ersten Films 23 und des zweiten Films 24, wodurch die Integration derselben miteinander gefördert wird. Folglich werden sie fest und steif aneinander angehaftet. Des Weiteren werden Ablösen und Reißen bzw. Brechen verhindert, wenn der erste Film 23 und der zweite Film 24 gebogen werden. Zusätzlich weist das Suboxid oder Oxid Isoliereigenschaften auf, so dass ein Strom nicht durch das Erzeugnis 3 über das Suboxid oder Oxid verläuft, auch wenn die Beschichtung dünner ausgeführt wird. Daraus ergibt sich, dass eine Korrosion aufgrund der Potenzialdifferenz nicht auftritt, wodurch die Korrosionsbeständigkeit verbessert wird. Weil der erste Film 23 porös und weich ist, treten die feinen Partikel der Beschichtung leichter ein und gehen mit dem Erzeugnis 3 in Eingriff und ein Ablösen bzw. außer Eingriff Gehen mit dem Erzeugnis 3 wird verhindert. Der Film wird auf einfache Art und Weise eingebettet und wirkt wie ein Ankerbauteil, so dass die Beschichtung fest und starr gebildet wird. Eine Verbindung mit anderen, darauf aufgebrachten Beschichtungen wird ebenso gefördert, um die Beschichtung auf rationelle Art und Weise zu bilden.As described above, the present device or invention includes an impregnation of the product 3 and the first movie 23 and an impregnation of the first film 23 and the second movie 24 which encourages their integration. Consequently, they are firmly and rigidly attached to each other. Furthermore, peeling and cracking are prevented when the first film 23 and the second movie 24 be bent. In addition, the suboxide or oxide has insulating properties such that a current does not pass through the product 3 passes over the suboxide or oxide, even if the coating is made thinner. As a result, corrosion due to the potential difference does not occur, thereby improving the corrosion resistance. Because the first movie 23 porous and soft, the fine particles of the coating enter more easily and go with the product 3 engaging and disengaging with the product 3 will be prevented. The film is embedded in a simple manner and acts like an anchor component, so that the coating is solid and rigid. A combination with other coatings applied thereto is also promoted to form the coating in a rational manner.

Wie oben beschrieben, werden Körner und Kristalle der Beschichtung jeweils unabhängig und mit hoher Dichte angeordnet. Folglich wird, wenn eine Spannung oder Belastung auf einen Teil der Körner und Kristalle aufgebracht wird, der Rest der Körner und Kristalle nicht betroffen. Dadurch wird, wenn das Erzeugnis 3, wie in den 15 und 16 dargestellt, nach der Bildung der Beschichtung gebogen wird, die Spannung verteilt. Des Weiteren treten, wenn die Oberfläche der Beschichtung beschädigt wird, Ablösen oder Reißen bzw. Brechen nicht auf. Dadurch weist das Erzeugnis 3 mit der darauf gebildeten Beschichtung eine gute Ver- bzw. Bearbeitbarkeit auf und verschiedene Verarbeitungstechniken können an dem Erzeugnis 3 angewendet werden. Die Oberfläche der Beschichtung wurde in einem Gittermuster eingeschnitten und das Ablösen eines ausgeschnittenen Teils wurde getestet. Es wurde kein Ablösen beobachtet und es wurde eine Beschichtung mit einem hohen Anhaften festgestellt.As described above, grains and crystals of the coating are each arranged independently and at a high density. Consequently, if a tension or stress is applied to a portion of the grains and crystals, the rest of the grains and crystals are not affected. This will when the product 3 as in the 15 and 16 shown after the formation of the coating is bent, the stress is distributed. Further, when the surface of the coating is damaged, peeling or cracking does not occur. This shows the product 3 With the coating formed thereon, good workability and various processing techniques can be applied to the product 3 be applied. The surface of the coating was cut in a grid pattern and the peeling of a cut-out part was tested. No peeling was observed and a high adhesion coating was observed.

Andererseits zeigt 14 einen Zustand einer auf konventionelle Art und Weise gebildeten Beschichtung 27. Die Körner und Kristalle der Beschichtung 27 sind lose und mit einer geringen Dichte verteilt. Um die durch eine Potenzialdifferenz bewirkte Korrosion, wie zum Beispiel sehr kleine Löcher, zu verhindern, wird eine sehr dicke Beschichtung mit einer Dicke von zum Beispiel 50 bis 100 μm benötigt. Eine solche Beschichtung wird durch Auftragen der Grundierung 26 auf dem Erzeugnis 3 und dann Aufbringen der Beschichtung 27 in einzelnen Schichten gebildet. Der oben beschriebene Beschichtungsprozess erfordert Arbeit und die Menge der verwendeten Farbe erhöht sich ebenfalls, wodurch sich auch die Ver- bzw. Bearbeitungskosten erhöhen. Wie oben beschrieben, sind die Körner und Kristalle der Beschichtung nicht unabhängig und mit einer geringen Dichte lose verteilt, so dass, wenn eine Spannung auf einen Teil der Körner und Kristalle aufgebracht wird, sie eine Auswirkung auf den Rest der Körner und Kristalle hat. Wenn das Erzeugnis 3 gebogen wird oder die Oberfläche der Beschichtung nach dem Bliden der Beschichtung beschädigt wird, löst sich die Beschichtung 27 ab und reißt bzw. bricht, was zu einer schlechten Verarbeitbarkeit führt.On the other hand shows 14 a state of a conventionally formed coating 27 , The grains and crystals of the coating 27 are loose and distributed with a low density. In order to prevent the corrosion caused by a potential difference, such as very small holes, a very thick coating having a thickness of, for example, 50 to 100 μm is needed. Such a coating is made by applying the primer 26 on the product 3 and then applying the coating 27 formed in individual layers. The coating process described above requires work and the amount of ink used also increases, which also increases processing costs. As described above, the grains and crystals of the coating are not independent and loosely dispersed at a low density, so that when a stress is applied to a part of the grains and crystals, it has an effect on the rest of the grains and crystals. If the product 3 is bent or the surface of the coating is damaged after Bliden the coating, the coating dissolves 27 and breaks or breaks, resulting in poor processability.

Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird eine Elektroplattiertechnik, basierend auf der elektrochemischen Wirkung als ein Ablagerungsverfahren des ersten Films 23 auf dem Erzeugnis 3 eingesetzt. Andere Ablagerungstechniken, die verwendet werden können, beinhalten ein stromloses Plattieren. Falls Additive, wie zum Beispiel Nickelsulfat, das ein Mittel zum Zuführen von Metallionen darstellt, Natriumhypophosphit, welches ein Reduziermittel ist, und Pulverkeramiken bei der Zusammensetzung der Behandlungsflüssigkeit 2 in dem stromlosen Bad hinzugefügt werden, können die Ablagerung des Suboxids oder Oxids oder einer Keramik durch Verwenden einer einfachen Ausrüstung im Vergleich mit der Ausrüstung für die elektrochemische Wirkung unterstützt werden.In the embodiment described above, an electroplating technique based on the electrochemical action becomes a deposition method of the first film 23 on the product 3 used. Other deposition techniques that may be used include electroless plating. If additives such as nickel sulfate which is a metal ion supplying agent, sodium hypophosphite which is a reducing agent and powder ceramics in the composition of the treating liquid 2 in the electroless bath, the deposition of the suboxide or oxide or a ceramic can be promoted by using a simple equipment in comparison with the equipment for the electrochemical action.

Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird der zweite Film 24 als eine Beschichtung verwendet, es können jedoch auch funktionelle Materialien, Keramiken, Teflon (eingetragene Marke) oder Fluor anstatt der Beschichtung verwendet werden. Die funktionellen Materialien beinhalten zum Beispiel ein Polymermaterial, Difluoridmaterial, Tetrafluoridmaterial, Fluorverbindung, Titandioxid, Zinkoxid, Mangandioxid, Aluminiumoxid, Bentonit, Hydroxyapatit, Zeolit, Talk, Kollinit, poröses Silizium, Gold, Platin, Palladium, Bornitrid, Titannitrid, Aluminiumnitrid, DLC, magnetisches Material, metallisches Material und Karbonmaterial. Sie können auf der Oberfläche und der Schnittstelle des ersten Films 23 verwendet werden oder innerhalb des ersten Films 23 eingelagert werden zum Verbessern von Funktionalitäten des ersten und zweiten Films 23, 24, wie zum Beispiel Korrosionsbeständigkeit, adsorbierenden Eigenschaften, Abrasionsbeständigkeit, katalytischen Eigenschaften, thermischer Leitfähigkeit, geringen Reibungseigenschaften und antibiotischen Eigenschaften.In the embodiment described above, the second film becomes 24 As a coating, however, functional materials, ceramics, Teflon (registered trademark) or fluorine may be used instead of the coating. The functional materials include, for example, a polymeric material, difluoride material, tetrafluoride material, fluorine compound, titanium dioxide, zinc oxide, manganese dioxide, alumina, bentonite, hydroxyapatite, zeolite, talc, collinite, porous silicon, gold, platinum, palladium, boron nitride, titanium nitride, aluminum nitride, DLC, magnetic material, metallic material and carbon material. You can on the surface and the interface of the first movie 23 be used or within the first movie 23 are stored for improving the functionality of the first and second films 23 . 24 such as corrosion resistance, adsorptive properties, abrasion resistance, catalytic properties, thermal conductivity, low friction properties and antibiotic properties.

Wie oben beschrieben, werden jeweilige feine Partikel und Kristalle der Beschichtung unabhängig und mit hoher Dichte auf dem ersten Film 23 des Suboxids oder Oxids, das auf dem Erzeugnis 3 abgelagert ist, abgelagert. Der Film wird in einem dünnen Film mit einer Dicke von einem Fünftel bis zu einem Drittel der üblichen Dicken gebildet. Die feinen Partikel und Kristalle werden an den winzigen Unregelmäßigkeiten der Oberfläche des ersten Films 23 dicht und fest angehaftet. Somit ist, wenn eine Spannung auf einen Teil der feinen Partikel und Kristalle der den zweiten Film 24 darstellenden Beschichtung aufgebracht wird, der Rest der feinen Partikel und Kristalle nicht betroffen, was zu einer Verbesserung der Bearbeitbarkeit des Erzeugnisses 3 nach der Bildung der Beschichtung führt.As described above, respective fine particles and crystals of the coating become independent and high-density on the first film 23 of the suboxide or oxide that is on the product 3 deposited, deposited. The film is formed in a thin film having a thickness of one-fifth to one-third of the usual thicknesses. The fine particles and crystals become attached to the tiny irregularities of the surface of the first film 23 tightly and firmly attached. Thus, when a tension on a part of the fine particles and crystals of the second film 24 performing coating is applied, the rest of the fine particles and crystals are not affected, resulting in an improvement in the workability of the product 3 after the formation of the coating leads.

Industrielle AnwendbarkeitIndustrial applicability

Die vorliegende Vorrichtung bzw. Erfindung ist geeignet für eine filmbildende Struktur und ein filmbildendes Verfahren auf einem Erzeugnis bzw. Werkstück, die das dichte Ablagern eines dünnen ersten Films auf dem Erzeugnis beinhalten, wobei der erste Film ein Suboxid oder ein Oxid ist, das weich ist und Isoliereigenschaften und eine Korrosionsbeständigkeit aufweist. Das Erzeugnis ist mit dem ersten Film integriert bzw. einteilig ausgeführt, um zu verhindern, dass sich der erste Film ablöst, wodurch die Bearbeitbarkeit verbessert wird. Der dünne zweite Film, wie zum Beispiel eine Beschichtung, wird dicht an dem ersten Film angebracht, wodurch die Menge der verwendeten Farbe verringert wird. Der erste Film ist mit dem zweiten Film integriert bzw. einteilig ausgeführt, um zu verhindern, dass sich der zweite Film ablöst, wodurch die Bearbeitbarkeit nach der Bildung des zweiten Films verbessert wird und dadurch der erste und der zweite Film auf rationelle Art und Weise gebildet werden.The present device or invention is suitable for a film-forming structure and a film-forming method on a product, which include the dense deposition of a thin first film on the product, wherein the first film is a suboxide or an oxide which is soft and insulating properties and corrosion resistance. The product is integrated with the first film to prevent the first film from peeling, thereby improving workability. The thin second film, such as a coating, is applied close to the first film, thereby reducing the amount of ink used. The first film is integrated with the second film to prevent the second film from peeling off, thereby improving the workability after the formation of the second film and thereby improving the second film first and second films are made in a rational way.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Badbath
22
Behandlungsflüssigkeittreatment liquid
33
Erzeugnis (Kathodenteil)Product (cathode part)
44
Anodenteilanode part
2323
erster Film (Suboxid, Oxid)first film (suboxide, oxide)
2424
zweiter Film (Beschichtung)second film (coating)

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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  • JP 57-35699 A [0008] JP 57-35699 A [0008]

Claims (17)

Filmbildende Struktur auf einem Erzeugnis, welche Folgendes aufweist: ein Erzeugnis mit einer Oberfläche, auf welcher ein Film gebildet ist; und einen dünnen ersten Film, der von einem Suboxid oder einem Metall aufweisenden Oxid gebildet ist und auf der Oberseite des Erzeugnisses abgelagert ist, und wobei der erste Film ein poröser Film ist.A film-forming structure on a product, comprising a product having a surface on which a film is formed; and a thin first film formed of a suboxide or a metal-containing oxide and deposited on the top of the product, and wherein the first film is a porous film. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 1, welche des Weiteren eine Imprägnierschicht aufweist, die durch den ersten Film auf der Oberfläche des Erzeugnisses gebildet ist.A film-forming structure on the product according to claim 1, further comprising an impregnating layer formed by the first film on the surface of the product. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 1, wobei der erste Film eine Oberfläche mit winzigen Unregelmäßigkeiten aufweist.A film-forming structure on the product according to claim 1, wherein the first film has a surface with minute irregularities. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 1, wobei das Suboxid ein Chrom-Suboxid ist und das Oxid ein Chromoxid ist.A film-forming structure on the product of claim 1, wherein the suboxide is a chromium suboxide and the oxide is a chromium oxide. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 1, wobei der erste Film weicher als metallisches Chrom ist und Isolationseigenschaften und Verschleißbeständigkeit aufweist.A film-forming structure on the product according to claim 1, wherein the first film is softer than metallic chromium and has insulation properties and wear resistance. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 3, welche des Weiteren einen dünnen zweiten Film aufweist, der auf der Oberfläche mit den Unregelmäßigkeiten des ersten Films gebildet ist.A film-forming structure on the product according to claim 3, further comprising a thin second film formed on the surface having the irregularities of the first film. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 6, welche des Weiteren eine Imprägnierschicht aufweist, die durch den zweiten Film auf einer Oberflächenschicht des ersten Films gebildet ist.The film-forming structure on the product according to claim 6, further comprising an impregnation layer formed by the second film on a surface layer of the first film. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 6, wobei feine Partikel oder Kristalle des zweiten Films auf den Unregelmäßigkeiten des ersten Films unabhängig und mit hoher Dichte angeordnet sind.A film-forming structure on the product according to claim 6, wherein fine particles or crystals of the second film are arranged on the irregularities of the first film independently and at a high density. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 6, wobei der erste Film eine Dicke von 1 μm oder mehr und der zweite Film eine Dicke von 5 μm oder mehr aufweist.A film-forming structure on the product according to claim 6, wherein the first film has a thickness of 1 μm or more and the second film has a thickness of 5 μm or more. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 6, wobei der zweite Film ein beliebiges von einem Polymermaterial, einer anorganischen oder organischen Farbschicht, ein funktionelles Material oder Keramik aufweist.A film-forming structure on the article of claim 6, wherein the second film comprises any of a polymeric material, an inorganic or organic color layer, a functional material or ceramic. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 1, wobei das Erzeugnis ein beliebiges von rostfreiem Stahl, Nickel, Eisen, Kupfer, Aluminium, Messing, anderen Metallen, einer Legierung, Kunststoff, Glas, Keramik, Papier, Faser oder Holz ist.A film-forming structure on the product of claim 1, wherein the product is any of stainless steel, nickel, iron, copper, aluminum, brass, other metals, an alloy, plastic, glass, ceramic, paper, fiber or wood. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 1, wobei der erste Film ein dünner und poröser Film ist, der durch Anordnen des Erzeugnisses und einem Anodenteil in einem Bad zum Aufnehmen einer Behandlungsflüssigkeit, Anlegen von positiven und negativen Spannungen für das Erzeugnis und das Anodenteil, Einstellen einer Badtemperatur der Behandlungsflüssigkeit auf eine niedrige Temperatur; und Ablagern eines Metallionen enthaltenden Suboxids oder Oxids in der Behandlungsflüssigkeit auf dem Erzeugnis mittels elektrochemischer Wirkung oder durch Ablagern eines dünnen und porösen ersten Films gebildet ist, der durch ein Metallionen enthaltendes Suboxid oder Oxid in der Behandlungsflüssigkeit in einem stromlosen Bad auf dem Erzeugnis mittels chemischer Reaktion gebildet ist.The film-forming structure on the product according to claim 1, wherein the first film is a thin and porous film which is set by arranging the product and an anode part in a bath for receiving a treatment liquid, applying positive and negative voltages to the product and the anode part a bath temperature of the treatment liquid to a low temperature; and depositing a metal oxide-containing suboxide or oxide in the treatment liquid on the article by electrochemical action or by depositing a thin and porous first film formed by a metal ion-containing suboxide or oxide in the treatment liquid in an electroless bath on the article by chemical reaction is formed. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 12, wobei die Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung Chromanhydrid und einen Reduktionshemmer aufweist.A film-forming structure on the product according to claim 12, wherein the electrochemical action treatment liquid comprises chromanhydride and a reduction inhibitor. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 12, wobei die Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung ein Mittel zum Zuführen von Metallionen, ein Reduktionsmittel und ein Additiv, wie zum Beispiel Keramik, aufweist.A film forming structure on the product according to claim 12, wherein the electrochemical action treating liquid comprises metal ion supplying agent, reducing agent and an additive such as ceramics. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 12, wobei eine Badtemperatur der Behandlungsflüssigkeit für die elektrochemische Wirkung auf 10°C oder weniger eingestellt ist.A film-forming structure on the product according to claim 12, wherein a bath temperature of the electrochemical action treatment liquid is set to 10 ° C or less. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 12, welche des Weiteren einen dünnen zweiten Film aufweist, wobei der zweite Film an dem ersten Film angebracht oder adsorbiert ist oder der zweite Film durch Imprägnierung oder Feuern bzw. Brennen gebildet ist.A film forming structure on the product according to claim 12, further comprising a thin second film, wherein the second film is attached or adsorbed to the first film, or the second film is formed by impregnation or firing. Filmbildende Struktur auf dem Erzeugnis nach Anspruch 16, wobei der zweite Film ein beliebiges eines Polymermaterials, einer anorganischen oder organischen Farbschicht, eines funktionalen Materials oder Keramik aufweist, und wobei ein beliebiges des Polymermaterials, der anorganischen oder organischen Farbschicht des funktionalen Materials oder der Keramik auf dem ersten Film aufgetragen, gesprüht oder gebacken ist, oder das den ersten Film aufweisende Material in eines der oben genannten Materialien eingetaucht ist oder eine Spannung oder ein elektrisches Feld an das die Farbe und den primären Film aufweisende Erzeugnis angelegt ist und des Weiteren die Keramik gebrannt ist.The film-forming structure on the article of claim 16, wherein the second film comprises any one of a polymer material, an inorganic or organic color layer, a functional material or ceramic, and any of the polymer material, the inorganic or organic color layer of the functional material or the ceramic the first film is applied, sprayed or baked, or the material comprising the first film is immersed in one of the above-mentioned materials, or a voltage or an electric field is applied to the product having the ink and the primary film, and further the ceramic is fired is.
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