DE202012101674U1 - Arrangement for calibrating a pyrometer - Google Patents
Arrangement for calibrating a pyrometer Download PDFInfo
- Publication number
- DE202012101674U1 DE202012101674U1 DE202012101674U DE202012101674U DE202012101674U1 DE 202012101674 U1 DE202012101674 U1 DE 202012101674U1 DE 202012101674 U DE202012101674 U DE 202012101674U DE 202012101674 U DE202012101674 U DE 202012101674U DE 202012101674 U1 DE202012101674 U1 DE 202012101674U1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pyrometer
- vacuum
- reference body
- tube
- measuring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 43
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 20
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 6
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/026—Control of working procedures of a pyrometer, other than calibration; Bandwidth calculation; Gain control
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/0003—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter
- G01J5/0007—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter of wafers or semiconductor substrates, e.g. using Rapid Thermal Processing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/06—Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity
- G01J5/068—Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity by controlling parameters other than temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2001—Maintaining constant desired temperature
Abstract
Anordnung zur Kalibrierung eines Pyrometers in einer Vakuumbehandlungsanlage (3), die einen Vakuumraum (1) beinhaltet, der durch eine Kammerwandung (14) von der Atmosphäre getrennt ist, wobei die Anordnung ein Pyrometer (11) außerhalb des Vakuumraumes (1) umfasst, das über ein Tubusrohr (13) mit der Kammerwandung derart verbunden ist, dass seine Messachse (12) durch das Rohrinnere auf einen Messort (10) in dem Vakuumraum (1) gerichtet ist, wobei das Tubusrohr (13) die Kammerwandung (14) durch eine Wandungsöffnung vakuumdicht durchdringt und mit seiner Tubusrohröffnung in dem Vakuumraum (1) mündet, dadurch gekennzeichnet, dass ein außerhalb der Messzeiten des Pyrometers (11) in die Messachse (12) einschwenkbarer Referenzkörper (16) angeordnet ist, der mit einem Temperatursensor (25) versehen ist, der mit einer mit dem Pyrometer (11) verbundenen Kalibriereinrichtung (23) verbunden ist.An arrangement for calibrating a pyrometer in a vacuum treatment system (3) which contains a vacuum space (1) which is separated from the atmosphere by a chamber wall (14), the arrangement comprising a pyrometer (11) outside the vacuum space (1) which is connected to the chamber wall via a tube tube (13) in such a way that its measuring axis (12) is directed through the inside of the tube to a measuring location (10) in the vacuum space (1), the tube tube (13) passing through the chamber wall (14) Wall opening penetrates vacuum-tight and opens with its tube opening in the vacuum chamber (1), characterized in that a reference body (16) which can be swiveled into the measuring axis (12) outside the measuring times of the pyrometer (11) and is provided with a temperature sensor (25) is arranged which is connected to a calibration device (23) connected to the pyrometer (11).
Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Kalibrierung eines Pyrometers in einer Vakuumbehandlungsanlage, die einen Vakuumraum beinhaltet, der durch eine Kammerwandung von der Atmosphäre getrennt ist, wobei die Anordnung ein Pyrometer außerhalb des Vakuumraumes umfasst, das über ein Tubusrohr mit der Kammerwandung derart verbunden ist, dass seine Messachse durch das Rohrinnere auf einen Messort in dem Vakuumraum gerichtet ist, wobei das Tubusrohr die Kammerwandung durch eine Wandungsöffnung vakuumdicht durchdringt und mit seiner Tubusrohröffnung in dem Vakuumraum mündet.The invention relates to an arrangement for calibrating a pyrometer in a vacuum treatment plant, which includes a vacuum space, which is separated by a chamber wall from the atmosphere, the arrangement comprising a pyrometer outside the vacuum space, which is connected via a tube tube with the chamber wall such that its measuring axis is directed through the tube interior to a measuring location in the vacuum space, the tube tube penetrating the chamber wall through a wall opening in a vacuum-tight manner and opening into the vacuum space with its tube tube opening.
Es ist bekannt, Substrate in Vakuumbehandlungsanlagen Verfahren zu unterziehen, die die Substratoberfläche oder die Substratbeschaffenheit gezielt beeinflussen. So ist es möglich, Substrate im Vakuum zu beschichten, Schichten von Substraten zu entfernen oder Substrate zu tempern. In aller Regel werden die Substrate auf eine Substratauflage gelegt oder in dem Vakuumraum fixiert.It is known to subject substrates in vacuum treatment plants to processes which specifically influence the substrate surface or the substrate texture. It is thus possible to coat substrates in a vacuum, to remove layers of substrates or to temper substrates. As a rule, the substrates are placed on a substrate support or fixed in the vacuum space.
Es sind aber auch kontinuierlich arbeitende Vakuumbehandlungsanlagen bekannt, bei denen das Substrat auf der Substratauflage durch die Vakuumbehandlungsanlage hindurch bewegt wird. Dabei ist in aller Regel die Substratauflage als eine Substrattransporteinrichtung ausgebildet, beispielsweise mit Transportrollen, von denen zumindest einige als angetriebene Transportrollen ausgebildet sind.However, continuously operating vacuum treatment plants are known in which the substrate is moved on the substrate support through the vacuum treatment system. As a rule, the substrate support is designed as a substrate transport device, for example with transport rollers, of which at least some are designed as driven transport rollers.
Bei allen Vakuumbehandlungsprozessen spielt die Substrattemperatur eine entscheidende Rolle. So werden beispielsweise bei einer Substratbeschichtung die Schichteigenschaften erheblich von der Substrattemperatur beeinflusst. Insbesondere bei großflächigen flachen Substraten, die in einer Vakuumbehandlungsanlage beschichtet werden und zu diesem Zecke durch die Vakuumbehandlungsanlage hindurch transportiert werden, spielt die Homogenität der Schichteigenschaften sowohl in Längsrichtung, das heißt in Transportrichtung der Substrate, als auch in Querrichtung eine entscheidende Rolle. Um zur Gewährleistung homogener Schichteigenschaften zu gelangen, ist eine gezielte Beeinflussung der Substrattemperatur zwingend erforderlich. Dies betrifft sowohl die Temperatur selbst als auch deren laterale Homogenität.In all vacuum treatment processes, the substrate temperature plays a crucial role. For example, in the case of a substrate coating, the layer properties are significantly influenced by the substrate temperature. In particular, in the case of large flat substrates which are coated in a vacuum treatment plant and transported to this tick through the vacuum treatment plant, the homogeneity of the layer properties both in the longitudinal direction, that is in the transport direction of the substrates, as well as in the transverse direction plays a crucial role. In order to achieve a homogeneous layer properties, a targeted influence on the substrate temperature is absolutely necessary. This affects both the temperature itself and its lateral homogeneity.
Zur Messung der Substrattemperatur und in der Folge zu deren gezielter Beeinflussung ist der Einsatz von Pyrometern bekannt.The use of pyrometers is known for measuring the substrate temperature and, consequently, for influencing them in a targeted manner.
Das Prinzip der Temperaturmessung mittels Pyrometern besteht darin, dass die von einem Körper, in diesem Falle von dem Substrat, ausgehende Wärmestrahlung gemessen wird und von dem Messsignal auf die Temperatur des Substrates geschlossen wird. Dieses Verfahren setzt die Kenntnis des Emissionsvermögens des zu messenden, das heißt des emittierenden Körpers voraus. Weiterhin ist zur Erzielung eines ausreichenden Messsignals im Pyrometer eine Mindestemission des zu messenden Körpers erforderlich. Hochreflektierende Schichten, wie zum Beispiel gesputterte Metallschichten, sind dafür ungeeignet.The principle of temperature measurement by means of pyrometers is that the thermal radiation emanating from a body, in this case from the substrate, is measured and is closed by the measuring signal to the temperature of the substrate. This method requires knowledge of the emissivity of the body to be measured, that is to say of the emissive body. Furthermore, in order to obtain a sufficient measuring signal in the pyrometer, a minimum emission of the body to be measured is required. Highly reflective layers, such as sputtered metal layers, are unsuitable for this.
Das Verfahren der pyrometrischen Temperaturmessung erfordert es daher, dass die Messung der Temperatur eines Substrates in einer Vakuumbehandlungsanlage so erfolgt, dass das Messergebnis durch die Vakuumbehandlung selbst nicht beeinflusst wird, beispielsweise durch eine Veränderung des Emissionsvermögens infolge des Aufbringens von Schichten. So ändert nämlich die Oberfläche des Substrates seine Emissivität während der Beschichtung von Substraten und/oder deren Modifizierung, etwa der Selenisierung oder Sulfurisierung, in Abhängigkeit vom Ort, an dem sich das Substrat in Vakuumbehandlungsanlage befindet. Damit sind nur ungenügende Kenntnisse der örtlich variierenden Emissivität vorhanden, was eine zuverlässige und genaue Temperaturmessung des Substrates verhindert. Bei einer derartigen Temperaturmessung von Substraten behilft man sich damit, dass an Oberflächenteilen des Substrates gemessen wird, das heißt die Strahlung von Oberflächenteilen des Substrates empfangen wird, die nicht durch Vakuumbehandlungsprozesse beeinflusst werden. So wird beispielsweise bei einer Temperaturmessung bei einer Beschichtung eines Substrates mit einer Funktionsschicht die Temperatur des Substrates durch eine Messung von der Substratrückseite erfasst, da sehr oft, beispielsweise durch eine Magnetronzerstäubung, das Substrat nur von einer Seite beschichtet wird. Die Temperaturdifferenzen zwischen der Substratrückseite und der aufzubringenden Schicht sind zumeist vernachlässigbar, insbesondere bei dünnen Gläsern von nur einigen Millimetern.The method of pyrometric temperature measurement therefore requires that the measurement of the temperature of a substrate in a vacuum treatment plant be such that the measurement result is not affected by the vacuum treatment itself, for example by a change in the emissivity due to the application of layers. Namely, the surface of the substrate changes its emissivity during the coating of substrates and / or their modification, such as the selenization or sulfurization, depending on the location in which the substrate is in vacuum treatment plant. Thus, there is insufficient knowledge of the locally varying emissivity, which prevents a reliable and accurate temperature measurement of the substrate. With such a temperature measurement of substrates, it is possible to measure on surface parts of the substrate, that is to say receive the radiation from surface parts of the substrate which are not influenced by vacuum treatment processes. Thus, for example, in a temperature measurement in a coating of a substrate having a functional layer, the temperature of the substrate is detected by a measurement of the substrate back, since very often, for example, by a magnetron sputtering, the substrate is coated only from one side. The temperature differences between the substrate back and the applied layer are usually negligible, especially with thin glasses of only a few millimeters.
Eine wesentliche Forderung bei der Nutzung von Pyrometern zur Temperaturmessung besteht darin, dass Kontaminationen des Linsensystems des Pyrometers ausgeschlossen werden müssen. Insbesondere Vakuumbeschichtungsprozesse führen immer wieder zu derartigen Kontaminationen. Abscheidungen auf dem Linsensystem des Pyrometers von nur wenigen Nanometern Schichtdicke können das Signal am Strahlungsempfänger des Pyrometers bereits so stark schwächen, dass eine genaue Temperaturerfassung nicht mehr möglich ist.An essential requirement in the use of pyrometers for temperature measurement is that contamination of the lens system of the pyrometer must be excluded. In particular, vacuum coating processes repeatedly lead to such contamination. Deposits on the lens system of the pyrometer only a few nanometers thick layer can already weaken the signal at the radiation receiver of the pyrometer so much that an accurate temperature detection is no longer possible.
Es ist bekannt, dass die Pyrometerhersteller zum Schutz der Pyrometeroptik ein Schutzglas oder Schutzfenster vorsehen. Da diese Schutzgläser immer auch eine Signalschwächung verursachen, wird beim Hersteller das Pyrometer zusammen mit dem Schutzglas kalibriert. Mit einem derartigen Schutzglas werden aber nur Kontaminationen vom Linsensystem des Pyrometers ferngehalten. Das Schutzglas selber kontaminiert weiterhin, wenn keine weiteren Maßnahmen getroffen werden. Damit führt die Kontaminierung des Schutzglases wiederum zu einer Beeinträchtigung des Messergebnisses. Die Schutzgläser können zwar ausgetauscht oder gereinigt werden, dies kann jedoch nur in Zeitabständigen, beispielsweise im Rahmen einer Anlagenwartung geschehen.It is known that the pyrometer manufacturers provide a protective glass or protective window to protect the pyrometer optics. Since these protective glasses always cause a signal attenuation, the manufacturer of the pyrometer together with the Protective glass calibrated. With such a protective glass but only contaminants are kept away from the lens system of the pyrometer. The protective glass itself will continue to contaminate if no further measures are taken. Thus, the contamination of the protective glass again leads to an impairment of the measurement result. Although the protective glasses can be replaced or cleaned, but this can only happen in time, for example in the context of a plant maintenance.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, die Messgenauigkeit von Pyrometern auch während der Zeit zwischen zwei Wartungen, bei denen eine Reinigung oder ein Austausch von Schutzgläsern vorgenommen wird, zu gewährleisten.It is therefore an object of the invention to ensure the accuracy of measurement of pyrometers during the period between two maintenance, in which a cleaning or replacement of protective glass is made.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe durch einen Anordnung zur Kalibrierung eines Pyrometers mit den Merkmalen des Anspruches 1 gelöst. Die Ansprüche 2 bis 9 zeigen Ausgestaltungen der Erfindung.According to the invention, this object is achieved by an arrangement for calibrating a pyrometer with the features of claim 1. The claims 2 to 9 show embodiments of the invention.
Gemäß der Erfindung ist somit bei einer Anordnung der eingangs genannten Art ein außerhalb der Messzeiten des Pyrometers in die Messachse einschwenkbarer Referenzkörper angeordnet. Dieser Referenzkörper ist mit einem Temperatursensor versehen, der mit einer mit dem Pyrometer verbundenen Kalibriereinrichtung verbunden ist. Durch diese Anordnung wird es möglich, den Referenzkörper außerhalb der Messzeiten in die Messachse einzuschwenken und somit mittels des Pyrometers die Wärmestrahlung des Referenzkörpers aufzunehmen. Da sich der Referenzkörper in dem Vakuumraum befindet, in dem strahlende Wärmequellen vorhanden sind, denn sonst würde der Einsatz eines Pyrometers ja keinen Sinn machen, wird sich der Referenzkörper auf eine Temperatur aufheizen, die der von den Wärmequellen aufgenommenen Wärmestrahlung entspricht. Dementsprechend sendet der Referenzkörper sodann auch eine Wärmestrahlung aus. Diese Wärmestrahlung kann vom Pyrometer gemessen werden, wenn sich der Referenzkörper in dessen Messachse befindet. Da der Temperatursensor mit der Kalibriereinrichtung verbunden ist, kann in der Kalibriereinrichtung die von dem Referenzkörper mit einem bekannten Emissionsvermögen, d. h. dessen Emissionsvermögen bekannt sein muss, ausgesandte Wärmestrahlung, die von dem Pyrometer aufgenommen wird, mit der von dem Temperatursensor gemessenen Temperatur des Referenzkörpers ins Verhältnis gesetzt werden und somit ein entsprechender Kalibrierwert ermittelt werden, der dann der Kalibriereinstellung des Pyrometers dient. Damit wird erreicht, dass Kontaminationen des Schutzglases oder ähnlicher Bauteile, die während der Messzeiten hervorgerufen werden, auskalibriert werden. Somit steht zu jedem Messzeitpunkt ein fehlerbefreites Pyrometer zur Verfügung.According to the invention, a reference body which can be pivoted into the measuring axis outside the measuring times of the pyrometer is thus arranged in an arrangement of the type mentioned above. This reference body is provided with a temperature sensor which is connected to a calibrator connected to the pyrometer. By this arrangement, it is possible to turn the reference body outside the measuring times in the measuring axis and thus absorb the heat radiation of the reference body by means of the pyrometer. Since the reference body is located in the vacuum space in which radiant heat sources are present, otherwise the use of a pyrometer would make no sense, the reference body will heat up to a temperature corresponding to the absorbed by the heat sources heat radiation. Accordingly, the reference body then also emits heat radiation. This heat radiation can be measured by the pyrometer when the reference body is in its measuring axis. Since the temperature sensor is connected to the calibration device, in the calibration device, that of the reference body with a known emissivity, i. H. whose emissivity must be known, emitted heat radiation, which is recorded by the pyrometer, are set in relation to the temperature of the reference body measured by the temperature sensor and thus a corresponding calibration value are determined, which then serves the Kalibrierereinstellung the pyrometer. This ensures that contamination of the protective glass or similar components caused during the measuring times is calibrated out. Thus, a fault-free pyrometer is available at each measurement time.
In einer Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass seitlich neben der Pyrometer-Tubus-Anordnung ein Schwenkantrieb angeordnet ist. Dieser Schwenkantrieb weist eine Welle mit einer Drehachse auf, die im Wesentlichen parallel zu der Messachse verläuft. Die Welle durchdringt mittels einer vakuumdichten Drehdurchführung die Kammerwandung. An dem vakuumseitigen Ende der Welle ist sodann der Referenzkörper angeordnet, der durch die Welle in die Messachse einschwenkbar ist.In one embodiment of the invention it is provided that a pivot drive is arranged laterally next to the pyrometer tube arrangement. This pivot drive has a shaft with a rotation axis that runs substantially parallel to the measurement axis. The shaft penetrates the chamber wall by means of a vacuum-tight rotary feedthrough. At the vacuum-side end of the shaft then the reference body is arranged, which can be pivoted by the shaft in the measuring axis.
Dadurch wird es möglich, den Referenzkörper von außen zu steuern und somit genau die Zeitpunkte festzulegen, in denen gemessen werden soll bzw. in denen der Referenzkörper der Kalibrierung dienen soll.This makes it possible to control the reference body from the outside and thus specify exactly the times in which to measure or in which the reference body is to serve the calibration.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Schwenkantrieb zusätzlich als Hubantrieb gebildet ist. Dabei ist die Welle zusätzlich zu der Drehbewegung in Richtung der Drehachse längsbeweglich ausgebildet. Die vakuumdichte Drehdurchführung ist als lineare Drehdurchführung ausgeführt. Durch eine derartige Anordnung wird es möglich, den Referenzkörper nicht nur zu schwenken, sondern auch vor und nach seiner Schwenkbewegung einer Hubbewegung zu unterziehen, wodurch erreicht werden kann, dass der Referenzkörper beispielsweise direkt auf das Tubusrohr aufgesetzt wird, um somit beispielsweise Fremdstrahlungen zu vermeiden.In a further embodiment of the invention it is provided that the pivot drive is additionally formed as a linear actuator. In this case, the shaft is designed to be longitudinally movable in addition to the rotational movement in the direction of the axis of rotation. The vacuum-tight rotary feedthrough is designed as a linear rotary feedthrough. Such an arrangement makes it possible not only to pivot the reference body, but also to subject it to a reciprocating motion before and after its pivotal movement, whereby it can be achieved that the reference body is placed directly on the tube tube, for example, in order to avoid, for example, extraneous radiation.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Referenzkörper mit einer Bohrung versehen ist, in die ein Thermoelement eingebracht ist. Damit wird das Thermoelement vollständig von dem Referenzkörper umhüllt und gibt somit nahezu unverfälscht dessen Temperatur an die Kalibriereinrichtung weiter.In a further embodiment of the invention it is provided that the reference body is provided with a bore into which a thermocouple is introduced. Thus, the thermocouple is completely enveloped by the reference body and thus gives almost unaltered its temperature to the calibration.
Weiterhin kann der Referenzkörper eine Zusatzfunktion aufweisen, in dem er als ein einen Kontaminationseintritt in das Tubusrohr verhinderndes Schutzelement ausgebildet ist. Dadurch wird es möglich, beispielsweise mittels des Referenzkörpers das Tubusrohr zu verschließen, wobei gerade eine Linear-Schwenkbewegung sehr von Vorteil ist. Damit wird zusätzlich vermieden, dass außerhalb der Messzeiten überhaupt Kontaminationen in das Tubusrohr eindringen können.Furthermore, the reference body can have an additional function in which it is designed as a protection element preventing contamination entering the tube tube. This makes it possible, for example by means of the reference body to close the Tubusrohr, just a linear pivoting movement is very beneficial. This additionally avoids that contamination can penetrate the tube tube outside of the measuring times.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass der Referenzkörper als schwarzer Strahler ausgebildet ist. Als schwarzer Strahler ist dabei ein solcher strahlender Körper zu verstehen, dessen Absorptionsgrad nahe bei eins liegt. Dies wird in einer Ausgestaltung der Erfindung dadurch erreicht, dass der Referenzkörper mit einer hochwärmeabsorbierenden Oberfläche versehen ist. Dabei kann die hochabsorbierende Oberfläche durch eine Oberflächenstrukturierung oder durch eine Oberflächenbeschichtung erzeugt werden. Da nach dem kirchhoffschen Strahlungsgesetz die thermische Strahlung proportional zu dem Absorptionsvermögen ist, wird durch die Gestaltung des Referenzkörpers als schwarzer Strahler erreicht, dass eine bestmögliche Wärmestrahlung abgegeben wird, die sodann zu einer nahezu fehlerfreien Auswertung bei der Referenzbildung führen kann, so dass durch den Referenzstrahler selbst keine oder vernachlässigbare Fehler bei der Kalibrierung erzeugt werden. Dabei ist es nicht zwingend erforderlich, dass der gesamte Referenzkörper als schwarzer Strahler ausgebildet ist. Es ist bereits vorteilhaft, wenn die Fläche auf dem Referenzkörper, auf die das Pyrometer „sieht”, ein gutes Emissionsvermögen aufweist. Entscheidend ist in jedem Falle, das Emissionsvermögen des Referenzkörpers in dem Wellenlängenbereich des Pyrometers bekannt ist.In a further embodiment of the invention it is provided that the reference body is designed as a black radiator. As black emitter is to be understood as such a radiating body whose absorption is close to one. This is in an embodiment of Invention achieved in that the reference body is provided with a high heat absorbing surface. In this case, the highly absorbent surface can be produced by a surface structuring or by a surface coating. Since, according to the Kirchhoff radiation law, the thermal radiation is proportional to the absorption capacity, is achieved by the design of the reference body as a black body, that the best possible heat radiation is emitted, which can then lead to a nearly error-free evaluation in the reference formation, so that by the reference radiator even no or negligible calibration errors are generated. It is not absolutely necessary that the entire reference body is designed as a black radiator. It is already advantageous if the surface on the reference body, on which the pyrometer "sees", has a good emissivity. It is crucial in any case, the emissivity of the reference body in the wavelength range of the pyrometer is known.
Die Fläche auf dem Referenzkörper, auf die das Pyrometer „sieht”, kann durch etwaige Beschichtungen sein Emissionsvermögen ändern. Wenn hier unerwünschte Beschichtungen zu Änderungen des Emissionsvermögens führen, ist eine Strukturierung der Oberfläche des Referenzkörpers zur Erreichung eines hohen Emissionsvermögens sinnvoll, so dass das Emissionsvermögen nur gering von dem Emissionsvermögen der Oberflächenbeschichtung abhängt.The area on the reference body on which the pyrometer "sees" can change its emissivity by any coatings. If unwanted coatings lead to changes in the emissivity, structuring the surface of the reference body to achieve a high emissivity makes sense, so that the emissivity depends only slightly on the emissivity of the surface coating.
Eine weitere Lösung kann darin bestehen, dass ein Sackloch im Referenzkörper mit einem möglichst großen Aspektverhältnis, d. h. einem Verhältnis Sacklochtiefe/Sacklochdurchmesser eingebracht ist, das den Temperatursensor oder das Thermoelement aufnimmt. Dabei wird der Durchmesser so gewählt, dass das Pyrometer nur die Strahlung aus dem Hohlraum (Sackloch) erreicht. Bei bekanntem Emissionsvermögen der Innenbeschichtung kann das Emissionsvermögen des Hohlraumes berechnet oder experimentell ermittelt werden.Another solution may be that a blind hole in the reference body with the largest possible aspect ratio, d. H. a blind hole depth / blind hole diameter ratio is introduced which accommodates the temperature sensor or the thermocouple. The diameter is chosen so that the pyrometer only reaches the radiation from the cavity (blind hole). With known emissivity of the inner coating, the emissivity of the cavity can be calculated or determined experimentally.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. In zugehörigen Zeichnungen zeigt:The invention will be explained in more detail with reference to an embodiment. In accompanying drawings shows:
Wie in
In den
Der Referenzkörper
Weiterhin ist in den Referenzkörper
Mit einer derartigen Kalibrierung kann sodann der nächste Messvorgang entsprechend fehlerbereinigt durchgeführt werden.With such a calibration, the next measurement process can then be carried out correspondingly error-corrected.
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- Vakuumraumvacuum space
- 22
- Vakuumkammervacuum chamber
- 33
- VakuumbehandlungsanlageVacuum treatment plant
- 44
- Transportvorrichtungtransport device
- 55
- Transportrolletransport roller
- 66
- Substratsubstratum
- 77
- Transportrichtungtransport direction
- 88th
- Heizerstoker
- 99
- SubstratrückseiteSubstrate back
- 1010
- MessortMeasuring location
- 1111
- Pyrometerpyrometer
- 1212
- Messachsemeasuring axis
- 1313
- TubusrohrTubusrohr
- 1414
- Kammerwandungchamber wall
- 1515
- Messeinrichtungmeasuring device
- 1616
- Referenzkörperreference body
- 1717
- Wellewave
- 1818
- Hub-DrehantriebHub rotary drive
- 1919
- Linear-DrehdurchführungLinear rotary joint
- 2020
- Drehachseaxis of rotation
- 2121
- Referenzflächereference surface
- 2222
- Beschichtungcoating
- 2323
- Kalibriereinrichtungcalibration
- 2424
- Bohrungdrilling
- 2525
- Thermoelementthermocouple
- 2626
- Messausgängemeasuring outputs
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE202012101674U DE202012101674U1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement for calibrating a pyrometer |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011107758 | 2011-07-15 | ||
DE102011107758.1 | 2011-07-15 | ||
DE202012101674U DE202012101674U1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement for calibrating a pyrometer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE202012101674U1 true DE202012101674U1 (en) | 2012-06-13 |
Family
ID=46511831
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE202012101670U Expired - Lifetime DE202012101670U1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement of a pyrometer in a vacuum treatment plant |
DE102012207510.0A Expired - Fee Related DE102012207510B4 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement for measuring the temperature of substrates in a vacuum treatment plant |
DE202012101675U Expired - Lifetime DE202012101675U1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement for measuring the temperature of substrates in a vacuum treatment plant |
DE202012101674U Expired - Lifetime DE202012101674U1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement for calibrating a pyrometer |
DE102012207512A Withdrawn DE102012207512A1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Pyrometer arrangement on a vacuum treatment plant and method for mounting the same |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE202012101670U Expired - Lifetime DE202012101670U1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement of a pyrometer in a vacuum treatment plant |
DE102012207510.0A Expired - Fee Related DE102012207510B4 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement for measuring the temperature of substrates in a vacuum treatment plant |
DE202012101675U Expired - Lifetime DE202012101675U1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Arrangement for measuring the temperature of substrates in a vacuum treatment plant |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102012207512A Withdrawn DE102012207512A1 (en) | 2011-07-15 | 2012-05-07 | Pyrometer arrangement on a vacuum treatment plant and method for mounting the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (5) | DE202012101670U1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107817054A (en) * | 2017-10-24 | 2018-03-20 | 中国科学院武汉物理与数学研究所 | A kind of infrared thermoviewer temp measuring method for vacuum chamber part |
CN109470365A (en) * | 2018-11-06 | 2019-03-15 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | A kind of device and calibration method for calibrating thermal microscope |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012024110B4 (en) * | 2012-12-10 | 2015-02-05 | Black Photon Instruments GmbH | Device for measuring solar radiation |
DE102013106788B4 (en) | 2013-06-28 | 2019-07-11 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Vacuum treatment plant with vacuum chamber feedthrough |
DE102013108542B3 (en) * | 2013-08-07 | 2014-08-28 | Von Ardenne Gmbh | Sensor arrangement for detecting physical quantity i.e. thermal radiation, in sensor region, has guard system for protecting first sensor region, and second region activated for detecting physical size |
DE102015105844B4 (en) | 2015-04-16 | 2019-08-14 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1583481B2 (en) | 1967-10-16 | 1976-05-13 | Prvni brnenska strojirna, Zavody Klementa Gottwalda, N.P., Brunn (Tschechoslowakei) | DEVICE FOR INDIRECT HEATING OF A FEEDER |
JPH0780718B2 (en) | 1989-08-04 | 1995-08-30 | トヨタ自動車株式会社 | Diamond synthesizing method and synthesizing apparatus |
US5311103A (en) | 1992-06-01 | 1994-05-10 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Apparatus for the coating of material on a substrate using a microwave or UHF plasma |
US5802099A (en) | 1996-08-26 | 1998-09-01 | Moore Epitaxial, Inc. | Method for measuring substrate temperature in radiant heated reactors |
DE102004049789A1 (en) | 2004-10-12 | 2006-04-13 | BEGO Bremer Goldschlägerei Wilh. Herbst GmbH & Co. KG | Device for non-contact measurement of the temperature in a melting furnace |
US20110185969A1 (en) * | 2009-08-21 | 2011-08-04 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Dual heating for precise wafer temperature control |
-
2012
- 2012-05-07 DE DE202012101670U patent/DE202012101670U1/en not_active Expired - Lifetime
- 2012-05-07 DE DE102012207510.0A patent/DE102012207510B4/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-05-07 DE DE202012101675U patent/DE202012101675U1/en not_active Expired - Lifetime
- 2012-05-07 DE DE202012101674U patent/DE202012101674U1/en not_active Expired - Lifetime
- 2012-05-07 DE DE102012207512A patent/DE102012207512A1/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107817054A (en) * | 2017-10-24 | 2018-03-20 | 中国科学院武汉物理与数学研究所 | A kind of infrared thermoviewer temp measuring method for vacuum chamber part |
CN107817054B (en) * | 2017-10-24 | 2020-04-21 | 中国科学院武汉物理与数学研究所 | Temperature measurement method of infrared imager for parts in vacuum cavity |
CN109470365A (en) * | 2018-11-06 | 2019-03-15 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | A kind of device and calibration method for calibrating thermal microscope |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102012207512A1 (en) | 2013-01-17 |
DE102012207510A1 (en) | 2013-01-17 |
DE202012101670U1 (en) | 2012-06-13 |
DE202012101675U1 (en) | 2012-06-12 |
DE102012207510B4 (en) | 2019-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE202012101674U1 (en) | Arrangement for calibrating a pyrometer | |
DE102007042779B4 (en) | Calibration substrate and method | |
WO2016083373A1 (en) | Method for calibrating a pyrometer arrangement of a cvd or pvd reactor | |
DE102013114412A1 (en) | Apparatus and method for controlling the temperature in a process chamber of a CVD reactor using two temperature sensor means | |
DE102012201061B4 (en) | Method and arrangement for calibrating a pyrometer | |
WO2003040649A1 (en) | Method and device for measuring the physical characteristics of thin, optically transparent layers | |
WO2016207315A1 (en) | Method for coating a surface of a metal strip and a metal strip-coating device | |
DE112019004191T5 (en) | Systems and methods for thermal processing and temperature measurement of a workpiece at low temperatures | |
DE19630607C1 (en) | Laser beam energy or its distribution monitoring device | |
DE102011077005B4 (en) | Plant for heat treatment of substrates and method for acquiring measurement data therein | |
DE19516256C1 (en) | Device for the in-situ measurement of mechanical stresses in layers | |
DE102013106788B4 (en) | Vacuum treatment plant with vacuum chamber feedthrough | |
DE102012004505B3 (en) | Pyrometer pipe for measuring temperatures at measurement point within chambers in vacuum treatment plant, comprises a pyrometer having a specific end which is set with a transparent partition wall as particle shield, in measuring range | |
DE102012024418A1 (en) | A method and apparatus for non-contact temperature determination of a moving article of unknown emissivity | |
DE102007042560A1 (en) | Apparatus for determining a temperature of a hot rolling stock and method for controlling and / or regulating a temperature of a hot rolling stock | |
DE102022200914B3 (en) | Coating chamber with detection of the substrate distance and method for coating substrates | |
DE102005031289B3 (en) | Moving steel strip temperature sensor for rolling mills lowers roller with high emissivity surface onto strip surface and measures roller surface temperature with pyrometer | |
DE102015105844B4 (en) | Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system | |
EP3365659B1 (en) | Infrared measuring device | |
DE102012201054A1 (en) | Method for checking accuracy of pyrometer for treatment system of e.g. glass, involves correcting emissivity of pyrometer based on difference between measured temperature of heat absorbing surface and temperature measured by pyrometer | |
DE102013108542B3 (en) | Sensor arrangement for detecting physical quantity i.e. thermal radiation, in sensor region, has guard system for protecting first sensor region, and second region activated for detecting physical size | |
EP2756276A2 (en) | Method for the temperature measurement of substrates in a vacuum chamber | |
DE102013100443A1 (en) | Protective window device for a coating installation | |
AT522840B1 (en) | Method for compensation in a measuring system | |
WO2020053016A1 (en) | Apparatus and method for detecting an object |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R207 | Utility model specification |
Effective date: 20120802 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VON ARDENNE GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH, 01324 DRESDEN, DE Effective date: 20140626 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: LIPPERT STACHOW PATENTANWAELTE RECHTSANWAELTE , DE Effective date: 20140626 Representative=s name: PATENTANWAELTE LIPPERT, STACHOW & PARTNER, DE Effective date: 20140626 |
|
R150 | Utility model maintained after payment of first maintenance fee after three years | ||
R082 | Change of representative | ||
R157 | Lapse of ip right after 6 years |