DE102015105844B4 - Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system - Google Patents

Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system Download PDF

Info

Publication number
DE102015105844B4
DE102015105844B4 DE102015105844.8A DE102015105844A DE102015105844B4 DE 102015105844 B4 DE102015105844 B4 DE 102015105844B4 DE 102015105844 A DE102015105844 A DE 102015105844A DE 102015105844 B4 DE102015105844 B4 DE 102015105844B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
pyrometer
closure element
axis
optical axis
housing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102015105844.8A
Other languages
German (de)
Other versions
DE102015105844A1 (en
Inventor
Stephan Aulhorn
Matthias Smolke
Sven Heinrich
Norbert Schneider
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Original Assignee
Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Von Ardenne Asset GmbH and Co KG filed Critical Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority to DE102015105844.8A priority Critical patent/DE102015105844B4/en
Publication of DE102015105844A1 publication Critical patent/DE102015105844A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE102015105844B4 publication Critical patent/DE102015105844B4/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/52Means for observation of the coating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/0003Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter
    • G01J5/0007Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter of wafers or semiconductor substrates, e.g. using Rapid Thermal Processing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/0205Mechanical elements; Supports for optical elements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/025Interfacing a pyrometer to an external device or network; User interface
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/04Casings
    • G01J5/041Mountings in enclosures or in a particular environment
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/04Casings
    • G01J5/041Mountings in enclosures or in a particular environment
    • G01J5/042High-temperature environment
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/04Casings
    • G01J5/048Protective parts
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/08Optical arrangements
    • G01J5/0803Arrangements for time-dependent attenuation of radiation signals
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/08Optical arrangements
    • G01J5/0818Waveguides
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/08Optical arrangements
    • G01J5/0831Masks; Aperture plates; Spatial light modulators
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/08Optical arrangements
    • G01J5/084Adjustable or slidable
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/08Optical arrangements
    • G01J5/0893Arrangements to attach devices to a pyrometer, i.e. attaching an optical interface; Spatial relative arrangement of optical elements, e.g. folded beam path

Abstract

Verschlusseinrichtung mit einem Gehäuse (1), das zwei gegenüberliegende Öffnungen (2) aufweist, die eine optische Achse durch das Gehäuse (1) hindurch definieren, wobei in dem Gehäuse (1) ein prismatischer Hohlraum (3) mit einer Prismenachse so angeordnet ist, dass die Prismenachse quer zur optischen Achse ausgerichtet ist und in dem Hohlraum (3) ein Verschlusselement (4) mit mindestens zwei funktionellen Bereichen (5), von denen mindestens ein erster funktioneller Bereich (5) für IR-Strahlung durchlässig ist, verschiebbar so angeordnet ist, dass wahlweise genau ein funktioneller Bereich (5) der mindestens zwei funktionellen Bereiche (5) in der optischen Achse angeordnet ist.

Figure DE102015105844B4_0000
A closure device comprising a housing (1) having two opposing openings (2) defining an optical axis through the housing (1), wherein in the housing (1) a prismatic cavity (3) having a prism axis is arranged, in that the prism axis is aligned transversely to the optical axis and in the cavity (3) a closure element (4) with at least two functional areas (5), of which at least a first functional area (5) is permeable to IR radiation, is displaceably arranged is that optionally exactly one functional area (5) of the at least two functional areas (5) is arranged in the optical axis.
Figure DE102015105844B4_0000

Description

Die Erfindung betrifft eine Verschlusseinrichtung, eine Pyrometer-Anordnung und eine Vakuum-Substratbehandlungsanlage.The invention relates to a closure device, a pyrometer arrangement and a vacuum substrate treatment system.

Es ist bekannt, Substrate in Vakuum-Substratbehandlungsanlagen Verfahren zu unterziehen, die die Substratoberfläche oder die Substratbeschaffenheit gezielt beeinflussen. So ist es möglich, Substrate im Vakuum zu beschichten, Schichten von Substraten zu entfernen oder Substrate zu tempern. In aller Regel werden die Substrate auf eine Substratauflage gelegt oder in dem Vakuumraum fixiert.It is known to subject substrates in vacuum substrate treatment plants to processes that specifically influence the substrate surface or the substrate texture. It is thus possible to coat substrates in a vacuum, to remove layers of substrates or to temper substrates. As a rule, the substrates are placed on a substrate support or fixed in the vacuum space.

Es sind aber auch kontinuierlich arbeitende Vakuum-Substratbehandlungsanlagen bekannt, bei denen das Substrat auf der Substratauflage durch die Vakuum-Substratbehandlungsanlage hindurch bewegt wird. Dabei ist in aller Regel die Substratauflage als eine Substrattransporteinrichtung ausgebildet, beispielsweise mit Transportrollen, von denen zumindest einige als angetriebene Transportrollen ausgebildet sind.However, continuously operating vacuum substrate treatment systems are known in which the substrate is moved on the substrate support through the vacuum substrate treatment system. As a rule, the substrate support is designed as a substrate transport device, for example with transport rollers, of which at least some are designed as driven transport rollers.

Ein Beispiel für derartige Vakuum-Substratbehandlungsanlagen sind Anlagen zur Behandlung großflächiger plattenförmiger Substrate wie Glasscheiben oder bandförmiger Substrate wie Folien oder Metallbänder, beispielsweise zur Reinigung oder/und Beschichtung solcher Substrate im Durchlaufverfahren, bei dem die Substrate durch eine Eingangsschleuse in die Anlage eingeschleust, durch verschiedene Abschnitte der Anlage hindurch transportiert und dabei einer Behandlung unter atmosphärischen Bedingungen oder im Vakuum oder in einer Prozessgasatmosphäre unterzogen werden und durch eine Ausgangsschleuse aus der Anlage ausgeschleust werden.An example of such vacuum substrate treatment plants are plants for the treatment of large-area plate-shaped substrates such as glass panes or belt-shaped substrates such as films or metal strips, for example for cleaning or / and coating of such substrates in a continuous process in which the substrates are introduced through an entrance lock into the system, by various Sections transported through the system and thereby undergo a treatment under atmospheric conditions or in a vacuum or in a process gas atmosphere and are discharged through an exit lock from the plant.

Die aufeinanderfolgend angeordneten Abschnitte solcher Substratbehandlungsanlagen können zur Durchführung unterschiedlicher Verfahrensschritte oder zur Erfüllung verschiedener anderer Aufgaben ausgebildet sein, beispielsweise zum Transfer zwischen den Atmosphären außerhalb und innerhalb der Substratbehandlungsanlage, dem Zwischenspeichern (Puffern) der Substrate innerhalb der Substratbehandlungsanlage, zum Aufheizen oder Abkühlen der Substrate, zum Evakuieren oder Belüften der Anlagenkammer, zur Vakuumtrennung zwischen aufeinanderfolgenden Prozessbereichen, zur Substratbehandlung usw.The successively arranged sections of such substrate treatment plants can be designed to carry out different process steps or to fulfill various other tasks, for example for transferring between the atmospheres outside and inside the substrate treatment plant, buffering (buffering) the substrates within the substrate treatment plant, heating or cooling the substrates, for evacuation or aeration of the plant chamber, for vacuum separation between successive process areas, for substrate treatment etc.

In einigen solcher Abschnitte innerhalb derartiger Substratbehandlungsanlagen werden sehr hohe Temperaturen erreicht. Bei allen Vakuumbehandlungsprozessen spielt die Substrattemperatur eine entscheidende Rolle. So werden beispielsweise bei einer Substratbeschichtung die Schichteigenschaften erheblich von der Substrattemperatur beeinflusst. Insbesondere bei großflächigen flachen Substraten, die in einer Vakuum-Substratbehandlungsanlage beschichtet werden und zu diesem Zwecke durch die Vakuum-Substratbehandlungsanlage hindurch transportiert werden, spielt die Homogenität der Schichteigenschaften sowohl in Längsrichtung, das heißt in Transportrichtung der Substrate, als auch in Querrichtung eine entscheidende Rolle. Um zur Gewährleistung homogener Schichteigenschaften zu gelangen, ist eine gezielte Beeinflussung der Substrattemperatur zwingend erforderlich. Dies betrifft sowohl die Temperatur selbst als auch deren laterale Homogenität.In some such sections within such substrate treatment plants very high temperatures are reached. In all vacuum treatment processes, the substrate temperature plays a crucial role. For example, in the case of a substrate coating, the layer properties are significantly influenced by the substrate temperature. In particular, in the case of large flat substrates which are coated in a vacuum substrate treatment plant and for this purpose are transported through the vacuum substrate treatment system, the homogeneity of the layer properties both in the longitudinal direction, that is in the transport direction of the substrates, as well as in the transverse direction plays a crucial role , In order to achieve a homogeneous layer properties, a targeted influence on the substrate temperature is absolutely necessary. This affects both the temperature itself and its lateral homogeneity.

Es ist bekannt, ebene Substrate oder Bahnen im Vakuum mit metallischen und nichtmetallischen Schichten durch thermisches Verdampfen oder Sputtern der Auftragwerkstoffe zu beschichten. In der Regel müssen die zu beschichtenden Flächen für bestimmte Schichteigenschaften vorbehandelt werden. Beispielsweise müssen die Substrate für eine notwendige Haftfestigkeit der aufgebrachten Schicht auf dem Substrat eine Temperatur aufweisen, die in der Regel durch Beheizen des Substrats oder in einer Plasmabehandlung hergestellt werden kann. Die Temperatur des Substrats muss innerhalb bestimmter Grenzen eingestellt werden. Beispielsweise werden für haftfeste Aluminium-Schichten auf Stahlband Substrattemperaturen von 280 °C bis 320 °C eingestellt. Beim Beschichten von Wafern mit Aluminium für Solarzellen sollen 400 °C nicht überschritten werden. In beiden Fällen darf das Einlegieren von Aluminium in das Grundmaterial nicht erfolgen. Oft erfolgt das Beschichten bei veränderlichen Substratgeschwindigkeiten. Der Prozess muss an die Substratdicke, die Substratgeschwindigkeit und die Dicke der aufgebrachten Schicht angepasst werden. Zur Einstellung der Prozessparameter muss die Temperatur des Substrats vor und nach der Beschichtung gemessen werden. Beispielsweise kann aus der Temperatur nach der Beschichtung auf die Dicke aufgebrachter Schichten geschlossen werden, die durch ihre Kondensationswärme zu einer weiteren Erwärmung des Substrates führt.It is known to coat flat substrates or webs in vacuum with metallic and non-metallic layers by thermal evaporation or sputtering of the application materials. As a rule, the surfaces to be coated must be pretreated for certain layer properties. For example, for a necessary adhesive strength of the deposited layer on the substrate, the substrates must have a temperature which can usually be produced by heating the substrate or in a plasma treatment. The temperature of the substrate must be adjusted within certain limits. For example, substrate temperatures of 280 ° C to 320 ° C are set for adherent aluminum layers on steel strip. When coating wafers with aluminum for solar cells 400 ° C should not be exceeded. In both cases, alloying aluminum into the base material must not occur. Often, coating occurs at variable substrate speeds. The process must be adapted to the substrate thickness, the substrate speed and the thickness of the applied layer. To adjust the process parameters, the temperature of the substrate must be measured before and after the coating. For example, it is possible to deduce from the temperature after the coating on the thickness of applied layers, which leads by their heat of condensation to a further heating of the substrate.

Zur Messung der Substrattemperatur und in der Folge zu deren gezielter Beeinflussung ist der Einsatz von Pyrometern bekannt.The use of pyrometers is known for measuring the substrate temperature and, consequently, for influencing them in a targeted manner.

Das Prinzip der Temperaturmessung mittels Pyrometern besteht darin, dass die von einem Körper, in diesem Falle von dem Substrat, ausgehende Wärmestrahlung gemessen wird und von dem Messsignal auf die Temperatur des Substrates geschlossen wird. Dieses Verfahren setzt die Kenntnis des Emissionsvermögens des zu messenden, das heißt des emittierenden Körpers voraus. Weiterhin ist zur Erzielung eines ausreichenden Messsignals im Pyrometer eine Mindestemission des zu messenden Körpers erforderlich. Hochreflektierende Schichten, wie zum Beispiel gesputterte Metallschichten, sind dafür ungeeignet.The principle of temperature measurement by means of pyrometers is that the thermal radiation emanating from a body, in this case from the substrate, is measured and is closed by the measuring signal to the temperature of the substrate. This method requires knowledge of the emissivity of the body to be measured, that is to say of the emissive body. Furthermore, to obtain a sufficient measurement signal in the pyrometer, a minimum emission of the measured Body required. Highly reflective layers, such as sputtered metal layers, are unsuitable for this.

Das Verfahren der pyrometrischen Temperaturmessung erfordert es daher, dass die Messung der Temperatur eines Substrates in einer Vakuum-Substratbehandlungsanlage so erfolgt, dass das Messergebnis durch die Vakuumbehandlung selbst nicht beeinflusst wird, beispielsweise durch eine Veränderung des Emissionsvermögens infolge des Aufbringens von Schichten. So ändert nämlich die Oberfläche des Substrates seine Emissivität während der Beschichtung von Substraten und/oder deren Modifizierung, etwa der Selenisierung oder Sulfurisierung, in Abhängigkeit vom Ort, an dem sich das Substrat in der Vakuum-Substratbehandlungsanlage befindet. Damit sind nur ungenügende Kenntnisse der örtlich variierenden Emissivität vorhanden, was eine zuverlässige und genaue Temperaturmessung des Substrates verhindert. Bei einer derartigen Temperaturmessung von Substraten behilft man sich damit, dass an Oberflächenteilen des Substrates gemessen wird, das heißt die Strahlung von Oberflächenteilen des Substrates empfangen wird, die nicht durch Vakuumbehandlungsprozesse beeinflusst werden. So wird beispielsweise bei einer Temperaturmessung bei einer Beschichtung eines Substrates mit einer Funktionsschicht die Temperatur des Substrates durch eine Messung von der Substratrückseite erfasst, da sehr oft, beispielsweise durch eine Magnetronzerstäubung, das Substrat nur von einer Seite beschichtet wird. Die Temperaturdifferenzen zwischen der Substratrückseite und der aufzubringenden Schicht sind zumeist vernachlässigbar, insbesondere bei dünnen Gläsern von nur einigen Millimetern.The method of pyrometric temperature measurement therefore requires that the measurement of the temperature of a substrate in a vacuum substrate treatment plant be such that the measurement result is not affected by the vacuum treatment itself, for example by a change in the emissivity due to the application of layers. Namely, the surface of the substrate changes its emissivity during the coating of substrates and / or their modification, such as selenization or sulfurization, depending on the location of the substrate in the vacuum substrate treatment plant. Thus, there is insufficient knowledge of the locally varying emissivity, which prevents a reliable and accurate temperature measurement of the substrate. With such a temperature measurement of substrates, it is possible to measure on surface parts of the substrate, that is to say receive the radiation from surface parts of the substrate which are not influenced by vacuum treatment processes. Thus, for example, in a temperature measurement in a coating of a substrate having a functional layer, the temperature of the substrate is detected by a measurement of the substrate back, since very often, for example, by a magnetron sputtering, the substrate is coated only from one side. The temperature differences between the substrate back and the applied layer are usually negligible, especially with thin glasses of only a few millimeters.

Aus DE 10 2008 026 002 A1 sind ein Verfahren und die zugehörige Einrichtung zur Temperaturmessung beim kontinuierlichen Beschichten von ebenen Substraten oder Bahnen unter Vakuumbedingungen bekannt.Out DE 10 2008 026 002 A1 For example, a method and associated apparatus for measuring temperature in continuous coating of planar substrates or webs under vacuum conditions are known.

Dabei erweist es sich oftmals als problematisch, dass die Pyrometer in Prozessnähe dem Streudampf ausgesetzt sind, wodurch die Messergebnisse verfälscht werden.It often proves to be problematic that the pyrometers are exposed to the stray steam in the process, whereby the measurement results are falsified.

Eine wesentliche Forderung bei der Nutzung von Pyrometern zur Temperaturmessung besteht darin, dass Kontaminationen des Linsensystems des Pyrometers ausgeschlossen werden müssen. Insbesondere Vakuumbeschichtungsprozesse führen immer wieder zu derartigen Kontaminationen. Abscheidungen auf dem Linsensystem des Pyrometers von nur wenigen Nanometern Schichtdicke können das Signal am Strahlungsempfänger des Pyrometers bereits so stark schwächen, dass eine genaue Temperaturerfassung nicht mehr möglich ist.An essential requirement in the use of pyrometers for temperature measurement is that contamination of the lens system of the pyrometer must be excluded. In particular, vacuum coating processes repeatedly lead to such contamination. Deposits on the lens system of the pyrometer only a few nanometers thick layer can already weaken the signal at the radiation receiver of the pyrometer so much that an accurate temperature detection is no longer possible.

Zur Vermeidung dieses Effekts wird in DE 10 2010 040 640 A1 bei einer Substratbehandlungsanlage zur Behandlung von Substraten, die mindestens eine von Kammerwänden begrenzte Anlagenkammer mit mindestens einer Substratbehandlungseinrichtung und mindestens einem Pyrometer zur Bestimmung der Substrattemperatur umfasst, vorgeschlagen, dass im Innern der mindestens einen Anlagenkammer ein Schutzrohr angeordnet ist, welches sich vom Pyrometer aus auf ein Substrat zu erstreckt.To avoid this effect is in DE 10 2010 040 640 A1 in a substrate treatment plant for the treatment of substrates, which comprises at least one chamber chamber bounded by chamber walls with at least one substrate treatment device and at least one pyrometer for determining the substrate temperature, proposed that inside the at least one plant chamber a protective tube is arranged, which extends from the pyrometer on a Substrate to extend.

Es ist bekannt, dass die Pyrometerhersteller zum Schutz der Pyrometeroptik ein Schutzglas vorsehen. Da diese Schutzgläser immer auch eine Signalschwächung verursachen, wird beim Hersteller das Pyrometer zusammen mit dem Schutzglas kalibriert. Mit einem derartigen Schutzglas werden aber nur Kontaminationen vom Linsensystem des Pyrometers ferngehalten. Das Schutzglas selber kontaminiert weiterhin, wenn keine weiteren Maßnahmen getroffen werden. Damit führt die Kontaminierung des Schutzglases wiederum zu einer Beeinträchtigung des Messergebnisses. Die Schutzgläser können zwar ausgetauscht werden, dies kann jedoch nur im Rahmen einer Anlagenwartung geschehen.It is known that the pyrometer manufacturers provide a protective glass to protect the pyrometer optics. Since these protective glasses always cause a signal attenuation, the manufacturer calibrates the pyrometer together with the protective glass. With such a protective glass but only contaminants are kept away from the lens system of the pyrometer. The protective glass itself will continue to contaminate if no further measures are taken. Thus, the contamination of the protective glass again leads to an impairment of the measurement result. Although the protective glasses can be replaced, this can only be done as part of a system maintenance.

Um den Austausch von Schutzgläsern auch außerhalb der Anlagenwartung durchführen zu können und Kontaminationen des Linsensystems oder von Schutzgläsern in Pyrometern, die durch Prozesse in Vakuum-Substratbehandlungsanlagen hervorgerufen werden, zu verringern, wird in DE 20 2012 101 670 U1 für eine Anordnung eines Pyrometers in einer Vakuum-Substratbehandlungsanlage, die einen Vakuumraum, der durch eine Kammerwandung von der Atmosphäre getrennt ist, wobei die Anordnung ein Pyrometer außerhalb des Vakuumraumes umfasst, das über ein Tubusrohr mit der Kammerwandung derart verbunden ist, dass seine Messachse durch das Rohrinnere auf einen Messort in dem Vakuumraum gerichtet ist, wobei das Tubusrohr die Kammerwandung durch eine Wandungsöffnung vakuumdicht durchdringt und mit seiner Tubusrohröffnung in dem Vakuumraum mündet, vorgeschlagen, dass in dem Tubusrohr außerhalb des Vakuumraumes zwischen Kammerwandung und Pyrometer ein Ventil, das den Vakuumraum vor dem Pyrometer vakuumdicht abschließbar ist, angeordnet ist, das beispielsweise als Schieberventil ausgebildet sein kann.In order to be able to carry out the replacement of protective glass even outside the plant maintenance and to reduce contamination of the lens system or protective glass in pyrometers, which are caused by processes in vacuum substrate treatment plants, is in DE 20 2012 101 670 U1 for an arrangement of a pyrometer in a vacuum substrate treatment plant having a vacuum space separated from the atmosphere by a chamber wall, the assembly comprising a pyrometer outside the vacuum space communicating with the chamber wall via a tube tube is connected, that its measuring axis is directed through the tube interior to a measuring location in the vacuum space, wherein the Tubusrohr penetrates the chamber wall through a wall opening vacuum-tight and opens with its Tubusrohröffnung in the vacuum space, proposed that in the Tubusrohr outside the vacuum space between chamber wall and pyrometer a valve which is the vacuum space in front of the pyrometer vacuum-tight lockable, is arranged, which may be formed, for example, as a slide valve.

DE 10 2012 207 510 A1 beschreibt eine Anordnung zur Temperaturmessung von Substraten in einer Vakuum-Substratbehandlungsanlage, die einen Vakuumraum, der durch eine Kammerwandung von der Atmosphäre getrennt ist, und eine Substratauflage aufweist, wobei die Anordnung ein Pyrometer außerhalb des Vakuumraumes umfasst, das über ein Tubusrohr mit der Kammerwandung derart verbunden ist, dass seine Messachse durch das Rohrinnere auf einen Messort an der Substratauflage gerichtet ist, wobei das Tubusrohr die Kammerwandung durch eine Wandungsöffnung durchdringt und mit seiner Tubusrohröffnung in dem Vakuumraum mündet, wobei ein einen Kontaminationseintritt in das Tubusrohr verhinderndes Schutzelement angeordnet ist, das außerhalb der Messzeiten des Pyrometers in die Messachse einschwenkbar ist. Dazu kann beispielsweise seitlich neben der Pyrometer-Tubusrohr-Anordnung ein Schwenkantrieb angeordnet sein, der eine Welle mit einer Drehachse aufweist, die im Wesentlichen parallel zu der Messachse verläuft, die mittels einer vakuumdichten Drehdurchführung die Kammerwandung durchdringt und an deren vakuumseitigem Ende das Schutzelement angeordnet ist, das durch die Welle in die Messachse einschwenkbar ist. DE 10 2012 207 510 A1 describes an arrangement for measuring the temperature of substrates in a vacuum substrate treatment plant having a vacuum space separated from the atmosphere by a chamber wall and a substrate support, the assembly comprising a pyrometer outside the vacuum space communicating with the chamber wall via a tube tube is connected, that its measuring axis is directed through the tube interior to a measuring location on the substrate support, wherein the Tubusrohr penetrates the chamber wall through a wall opening and opens with its Tubusrohröffnung in the vacuum space, wherein a contamination entering the Tubusrohr preventing protective element is arranged outside the measuring times of the pyrometer can be pivoted into the measuring axis. For this purpose, for example, be arranged laterally next to the Pyrometer Tubusrohr arrangement a pivot drive having a shaft with an axis of rotation which is substantially parallel to the measuring axis, which penetrates the chamber wall by means of a vacuum-tight rotary feedthrough and at the vacuum-sided end of the protective element is arranged , which can be pivoted by the shaft in the measuring axis.

Aus JP H03-97859 A ist eine Vakuumbeschichtungsanlage mit einem Sichtfenster bekannt, vor dem rotierende Scheiben angeordnet sind, die Schlitze aufweisen.Out JP H03-97859 A there is known a vacuum coating machine with a viewing window, in front of which rotating disks are arranged, which have slots.

JP 2004-193340 A schlägt vor, über einer direkt unter einem Substrat angeordneten Kammerwandöffnung einer Vakuumkammer, an der ein Pyrometer angebracht ist, eines oder mehrere transparente Elemente anzuordnen und jeweils eines der transparenten Elemente durch Drehen oder Schwenken vor der Kammerwandöffnung zu positionieren. JP 2004-193340 A proposes to arrange one or more transparent elements over a chamber wall opening located directly under a substrate of a vacuum chamber to which a pyrometer is attached, and to position one of the transparent elements by turning or pivoting in front of the chamber wall opening.

Einige Nachteile der bekannten Lösungen bestehen darin, dass das Verschmutzen der Optik des Pyrometers nicht verhindert werden kann, weil bei der Messung stets Streudampfteilchen darauf gelangen können. Dadurch wird wiederholt der Ausbau und die nachträgliche Kalibrierung des Pyrometers notwendig. Hoher Verschleiß der üblichen vakuumtauglichen Schieberventile führt dazu, dass diese im Allgemeinen bereits nach ca. 50.000 bis 100.000 Schaltvorgängen ersetzt werden müssen.Some disadvantages of the known solutions are that the fouling of the optics of the pyrometer can not be prevented, because in the measurement always scattered vapor particles can get on it. This repeatedly requires the removal and subsequent calibration of the pyrometer. High wear of the usual vacuum suitable slide valves means that they generally have to be replaced after about 50,000 to 100,000 switching operations.

Diese Probleme sollen insbesondere für die Temperaturmessung mittels Pyrometer in Vakuumanlagen unter sehr schmutzigen Bedingungen gelöst werden, wobei möglichst 1.000.000 oder mehr Schaltvorgänge bei einem Druck von 10-6 mbar erreichbar sein sollen.These problems should be solved in particular for the temperature measurement by means of pyrometers in vacuum systems under very dirty conditions, with as many as 1,000,000 or more switching operations at a pressure of 10 -6 mbar should be achievable.

Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Verschlusseinrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1, eine Pyrometer-Anordnung mit den Merkmalen des Anspruchs 9 sowie eine Vakuum-Substratbehandlungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 11.This object is achieved by a closure device having the features of claim 1, a pyrometer arrangement having the features of claim 9 and a vacuum substrate treatment system having the features of claim 11.

Vorgeschlagen wird dafür zunächst eine Verschlusseinrichtung mit einem Gehäuse, das zwei gegenüberliegende Öffnungen aufweist, die eine optische Achse durch das Gehäuse hindurch definieren, wobei in dem Gehäuse ein prismatischer Hohlraum mit einer Prismenachse so angeordnet ist, dass die Prismenachse quer zur optischen Achse ausgerichtet ist und in dem prismatischen Hohlraum ein Verschlusselement mit mindestens zwei funktionellen Bereichen, von denen mindestens ein erster funktioneller Bereich für InfrarotStrahlung (IR-Strahlung) durchlässig ist, verschiebbar so angeordnet ist, dass wahlweise genau ein funktioneller Bereich der mindestens zwei funktionellen Bereiche in der optischen Achse angeordnet ist.Proposed for this is first a closure device with a housing having two opposite openings defining an optical axis through the housing, wherein in the housing, a prismatic cavity with a prism axis is arranged so that the prism axis is aligned transversely to the optical axis and in the prismatic cavity a closure element having at least two functional areas, of which at least a first functional area for infrared radiation (IR radiation) is permeable, slidably arranged so that optionally arranged exactly one functional area of the at least two functional areas in the optical axis is.

Der Begriff „optische Achse“ beschreibt eine gerade Linie, die sich zwischen den beiden Öffnungen erstreckt und die die Richtung angibt, in der bestimmungsgemäß IR-Strahlung durch das Gehäuse geleitet wird. Der Begriff „prismatisch“ umfasst dabei jeden Hohlraum, der durch Parallelverschiebung einer ebenen Figur, beispielsweise eines Vielecks, entlang einer nicht in dieser Ebene liegenden Geraden im Raum erzeugt werden kann, wobei ein Kreis als Spezialfall eines Vielecks mit unendlich vielen Ecken davon ebenso umfasst ist wie andere ebene Figuren, beispielsweise eine Ellipse. Ein zylindrischer Hohlraum mit kreis- oder ellipsenförmigem Querschnitt ist demnach auch als prismatischer Hohlraum im Sinne der offenbarten Lehre anzusehen.The term "optical axis" describes a straight line extending between the two openings and indicating the direction in which IR radiation is directed through the housing as intended. The term "prismatic" encompasses any cavity which can be generated by parallel displacement of a planar figure, for example a polygon, along a straight line not lying in this plane in space, wherein a circle as a special case of a polygon with an infinite number of corners thereof is also included like other flat figures, for example an ellipse. A cylindrical cavity with a circular or elliptical cross section is therefore also to be regarded as a prismatic cavity in the sense of the disclosed teaching.

Die vorgeschlagene Verschlusseinrichtung kann beispielsweise so mit einem Pyrometer verbunden werden, dass die optische Achse der Verschlusseinrichtung mit der Messachse des Pyrometers identisch ist. Die Verschlusseinrichtung verschließt durch das darin angeordnete Verschlusselement, das stets mit einem seiner funktionellen Bereiche in der optischen Achse liegt, für Streudampfteilchen den Zugang zum Pyrometer, insbesondere zu den optischen Komponenten des Pyrometers. Dadurch, dass von den mindestens zwei funktionellen Bereichen des Verschlusselements mindestens ein funktioneller Bereich für IR-Strahlung durchlässig ist, wird die Funktionsfähigkeit des Pyrometers für den Fall sichergestellt, dass der mindestens eine für IR-Strahlung durchlässige funktionelle Bereich in der optischen Achse angeordnet ist. Ist ein anderer funktioneller Bereich des Verschlusselements nicht für IR-Strahlung durchlässig und ist dieser funktionelle Bereich in der optischen Achse, d.h. zwischen den beiden Öffnungen des Gehäuses, angeordnet, so kann mit dem Pyrometer keine Messung durchgeführt werden. Da Messungen mit dem Pyrometer bei der Anwendung an einer Vakuum-Substratbehandlungsanlage häufig nicht ununterbrochen, sondern zyklisch erfolgen, ist dies jedoch unschädlich.The proposed closure device can for example be connected to a pyrometer so that the optical axis of the closure device is identical to the measuring axis of the pyrometer. The closure device closes the access to the pyrometer, in particular to the optical components of the pyrometer, by means of the closure element arranged therein, which always lies with one of its functional regions in the optical axis, for scattered vapor particles. Since at least one functional region of the at least two functional regions of the closure element is permeable to IR radiation, the functionality of the pyrometer is ensured in the event that the at least one functional region permeable to IR radiation is arranged in the optical axis. If another functional region of the closure element is not transparent to IR radiation and this functional region is in the optical axis, i. arranged between the two openings of the housing, so no measurement can be performed with the pyrometer. Since measurements with the pyrometer are often not continuous but cyclical when used on a vacuum substrate treatment plant, this is harmless.

Soll gerade keine Messung durchgeführt werden, so ist nur der funktionelle Bereich des Verschlusselements auftreffenden Streudampfteilchen ausgesetzt, der ohnehin für IR-Strahlung undurchlässig ist. Soll dagegen eine Messung durchgeführt werden, so wird das Verschlusselement in dem Gehäuse so verschoben, dass für die Dauer der Messung der oder ein funktioneller Bereich, der für IR-Strahlung durchlässig ist, in der optischen Achse angeordnet ist, so dass die empfangene IR-Strahlung zum Pyrometer vordringen kann. Da eine solche Messung wenig Zeit erfordert, können nur wenige Streudampfteilchen auf den IR-durchlässigen funktionellen Bereich treffen. Ist die Messung beendet, so wird das Verschlusselement wieder verschoben, so dass der nicht IR-durchlässige funktionelle Bereich in der optischen Achse liegt.If no measurement is currently being carried out, only the scattered vapor particles incident on the functional region of the closure element are exposed, which in any case is for IR radiation is impermeable. If, on the other hand, a measurement is to be carried out, the closure element in the housing is displaced in such a way that, for the duration of the measurement, the or a functional region which is permeable to IR radiation is arranged in the optical axis, so that the IR radiation received is Radiation can penetrate to the pyrometer. Since such a measurement requires little time, only a few scattered vapor particles can strike the IR-transmissive functional region. When the measurement is complete, the closure element is displaced again so that the non-IR-permeable functional region lies in the optical axis.

Das Verschlusselement kann beispielsweise auch zwei oder mehr funktionelle Bereiche aufweisen, die alle IR-durchlässig sind. Ist ein funktioneller Bereich durch Streudampfteilchen zu stark verschmutzt, so kann das Verschlusselement verschoben werden, so dass ein anderer, nicht verschmutzter IR-durchlässiger funktioneller Bereich in der optischen Achse liegt. Vorteilhaft kann das Verschlusselement einen nicht IR-durchlässigen funktionellen Bereich und zwei oder mehr IR-durchlässige funktionelle Bereiche aufweisen. Der nicht IR-durchlässige funktionelle Bereich kann dann immer in der optischen Achse angeordnet sein, wenn keine Messung erfolgt, und im Falle einer Messung wird einer der IR-durchlässigen funktionellen Bereiche in die optische Achse bewegt. Mehrere IR-durchlässige funktionelle Bereiche ermöglichen den Wechsel zu einem sauberen IR-durchlässigen funktionellen Bereich, wenn der zuvor benutzte IR-durchlässige funktionelle Bereich bereits verschmutzt ist.For example, the closure element may also have two or more functional regions, all of which are IR-transmissive. If a functional area is excessively contaminated by scattered vapor particles, the closure element can be displaced so that another, non-contaminated, IR-transmissive functional area lies in the optical axis. Advantageously, the closure element may have a non-IR transmissive functional region and two or more IR-transmissive functional regions. The non-IR transmissive functional region may then always be located in the optical axis when no measurement is taken, and in the case of a measurement one of the IR-transmissive functional regions is moved into the optical axis. Multiple IR-transmissive functional regions allow the switch to a clean IR-transmissive functional region when the previously-used IR-transmissive functional region is already contaminated.

Gemäß einer Ausgestaltung kann vorgesehen sein, dass mindestens ein funktioneller Bereich des Verschlusselements eine Vertiefung aufweist, die einer der beiden Öffnungen des Gehäuses zugewandt ist. Beispielsweise kann ein nicht IR-durchlässiger funktioneller Bereich eine solche Vertiefung aufweisen. In dieser Vertiefung sammeln sich die auftreffenden Streudampfteilchen, so dass die Beweglichkeit des Verschlusselements in dem Hohlraum des Gehäuses nicht mit zunehmender Dicke der entstehenden Streudampfschicht eingeschränkt wird. Für viele Anwendungen reicht es, eine Vertiefung bei einem nicht IR-durchlässigen funktionellen Bereich anzuordnen, da dieser in der überwiegenden Zeit dem Streudampf ausgesetzt ist. Besonders vorteilhaft kann jedoch auch in IR-durchlässigen funktionellen Bereichen eine solche Vertiefung angeordnet sein.According to one embodiment, it can be provided that at least one functional region of the closure element has a depression which faces one of the two openings of the housing. For example, a non-IR transmissive functional region may have such a depression. In this depression, the incident scattering vapor particles collect, so that the mobility of the closure element in the cavity of the housing is not limited with increasing thickness of the resulting scattered vapor layer. For many applications, it is sufficient to arrange a depression in a non-IR-permeable functional region, since this is exposed to the scattering vapor for the most part. However, such a depression can also be arranged particularly advantageously in IR-transmissive functional regions.

Letzteres ergibt sich von selbst bei einer Ausgestaltung, in der das Verschlusselement aus einem für IR-Strahlung undurchlässigen Material besteht, wobei das Verschlusselement in dem mindestens einen funktionellen Bereich, der für IR-Strahlung durchlässig ist, eine parallel zur optischen Achse verlaufende durchgehende Öffnung aufweist und die Öffnung durch ein IR-Fensterelement, das aus einem für IR-Strahlung durchlässigen Material besteht, verschlossen ist.The latter arises automatically in a configuration in which the closure element consists of a material that is impermeable to IR radiation, wherein the closure element in the at least one functional region, which is transparent to IR radiation, has a continuous opening running parallel to the optical axis and the opening is closed by an IR window element made of an IR radiation transmissive material.

Für das Verschlusselement kann vorzugsweise ein Kunststoff wie der Murtfeldt-Werkstoff „S“ grün, der eine extreme Verschleißfestigkeit, hervorragende Gleiteigenschaften, gute Antihafteigenschaften, sehr gute Chemikalienbeständigkeit und keine Feuchtigkeitsaufnahme aufweist, oder ein vergleichbarer Kunststoff verwendet werden.For the closure member, a plastic such as the Murtfeldt "S" green material having extreme wear resistance, excellent sliding properties, good non-stick properties, very good chemical resistance and moisture absorption, or a comparable plastic can be preferably used.

Das IR-Fensterelement kann dabei vorteilhaft ein IRdurchlässiges Plättchen, beispielsweise aus Calciumfluorid, sein, das in der durchgehenden Öffnung des Verschlusselements angeordnet und befestigt, beispielsweise eingeklebt ist. Vorteilhaft ist das IR-Fensterelement mittels eins O-Rings auf einem in der durchgehenden Öffnung angeordneten Absatz oder Sims lösbar fixiert, um ein schnelles und einfaches Austauschen verschmutzter IR-Fensterelemente zu ermöglichen. Die beiderseits des IR-Fensterelements verbleibenden funktionellen Bereiche der durchgehenden Öffnung bilden Vertiefungen, von denen die vom Pyrometer abgewandte Vertiefung den beschriebenen Zweck des Auffangens von Streudampfteilchen erfüllt.The IR window element can advantageously be an IR-permeable plate, for example made of calcium fluoride, which is arranged and fixed in the through opening of the closure element, for example glued. Advantageously, the IR window element is releasably fixed by means of a O-ring on a arranged in the through hole paragraph or ledge to allow quick and easy replacement of soiled IR window elements. The remaining on both sides of the IR window element functional areas of the through hole form recesses, of which the remote from the pyrometer depression fulfills the described purpose of collecting scattered vapor particles.

Vorteilhaft kann weiterhin vorgesehen sein, dass das Verschlusselement in dem Hohlraum des Gehäuses verdrehgesichert ist. Eine Verdrehsicherung kann beispielsweise dadurch realisiert sein, dass der prismatische Hohlraum und das Verschlusselement unrunde Querschnitte aufweisen. Da jedoch runde Querschnitte von Hohlraum und Verschlusselement besonders fertigungsfreundlich sind, kann eine Verdrehsicherung auch bei kreisrunden Querschnitten beispielsweise dadurch realisiert sein, dass das Verschlusselement mindestens eine parallel zur Prismenachse verlaufende Bohrung aufweist und in dem Hohlraum ein in die Bohrung eingreifender Führungsstab angeordnet ist.Advantageously, it can further be provided that the closure element is secured against rotation in the cavity of the housing. An anti-rotation device can be realized, for example, in that the prismatic cavity and the closure element have non-circular cross-sections. However, since round cross-sections of cavity and closure element are particularly easy to manufacture, an anti-rotation can be realized even with circular cross-sections, for example, that the closure element has at least one parallel to the prism axis extending bore and in the cavity an engaging into the bore guide rod is arranged.

Ein Ziel besteht darin, das Verschlusselement in dem Hohlraum so gut wie möglich dichtend anzuordnen. Dies kann beispielsweise durch eine eng tolerierte Passung zwischen Verschlusselement und Hohlraum erreicht werden, jedoch wird die Beweglichkeit des Verschlusselements in dem Hohlraum mit enger werdender Passung immer weiter eingeschränkt. Deshalb ist in einer weiteren Ausgestaltung vorgesehen, dass das Verschlusselement an seiner Außenseite mindestens einen auf Wände des Hohlraums des Gehäuses wirkenden Dichtring aufweist. Beispielsweise können mehrere Dichtringe aus einem geeigneten Elastomer wie DuPont Viton oder dergleichen so auf dem Verschlusselement angeordnet sein, dass jeder funktionelle Bereich von zwei Dichtringen begrenzt ist.One goal is to seal the closure element in the cavity as much as possible. This can be achieved, for example, by a tight tolerance between the closure element and the cavity, but the mobility of the closure element in the cavity becomes narrower and narrower. Therefore, it is provided in a further embodiment that the closure element has on its outer side at least one acting on walls of the cavity of the housing sealing ring. For example, multiple sealing rings of a suitable elastomer such as DuPont Viton or the like may be disposed on the closure member such that each functional region is bounded by two sealing rings.

Gemäß einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass das Verschlusselement mit einer Stelleinrichtung wirkverbunden ist, die dafür eingerichtet ist, jeden funktionellen Bereich des Verschlusselements in die optische Achse zu bewegen. According to a further embodiment it is provided that the closure element is operatively connected to an adjusting device which is adapted to move each functional area of the closure element in the optical axis.

Eine solche Stelleinrichtung kann beispielsweise ein so genannter Mehrstellungszylinder sein, beispielsweise ein pneumatischer Mehrstellungszylinder, wie er von Festo vertrieben wird. Das Verschlusselement ist dabei so auf die Stelleinrichtung abgestimmt (oder umgekehrt) dass jede der möglichen Stellungen des Mehrstellungszylinders bewirkt, dass einer der funktionellen Bereiche des Verschlusselements in der optischen Achse der Verschlusseinrichtung, d.h. zwischen den beiden Öffnungen des Gehäuses, angeordnet ist.Such a control device may for example be a so-called multi-position cylinder, such as a pneumatic multi-position cylinder, as sold by Festo. The closure element is adapted to the actuator (or vice versa) so that each of the possible positions of the multi-position cylinder causes one of the functional regions of the closure element in the optical axis of the closure device, i. between the two openings of the housing, is arranged.

Weiterhin wird eine Pyrometer-Anordnung vorgeschlagen mit einem Pyrometer, das eine Messachse aufweist, und einem an dem Pyrometer befestigten Messkanal mit einer Längsachse, die mit der Messachse des Pyrometers identisch ist, wobei ein Teil des Messkanals durch eine Verschlusseinrichtung der beschriebenen Art gebildet ist, die so angeordnet ist, dass ihre optische Achse ebenfalls mit der Messachse des Pyrometers identisch ist. Der Messkanal kann beispielsweise durch ein Rohr gebildet sein, das auf einen Messort gerichtet werden kann, dessen Temperatur ermittelt werden soll. Das Rohr kann ein- oder mehrteilig ausgeführt sein, wobei die vorgeschlagene Verschlusseinrichtung zwischen zwei Teilen des Rohres oder zwischen dem Pyrometer und dem Rohr angeordnet ist. Dazu können beispielsweise alle Teile über Flanschverbindungen miteinander verbunden sein.Furthermore, a pyrometer arrangement is proposed with a pyrometer having a measuring axis, and a measuring channel attached to the pyrometer with a longitudinal axis that is identical to the measuring axis of the pyrometer, wherein a part of the measuring channel is formed by a closure device of the type described, which is arranged so that its optical axis is also identical to the measuring axis of the pyrometer. The measuring channel can be formed, for example, by a tube which can be directed to a measuring location whose temperature is to be determined. The tube can be made in one or more parts, wherein the proposed closure device between two parts of the tube or between the pyrometer and the tube is arranged. For this example, all parts can be connected to each other via flange.

Die vorgeschlagene Pyrometer-Anordnung kann dadurch weitergebildet sein, dass auf der dem Pyrometer abgewandten Seite der Verschlusseinrichtung ein Teil des Messkanals durch ein Schieberventil gebildet ist. Das Schieberventil kann dabei ebenso durch Flanschverbindungen in den Messkanal eingebunden sein, wie oben bereits beschrieben. Insbesondere für Vakuumanwendungen wird durch das Schieberventil ermöglicht, das Pyrometer (beispielsweise zum Nachkalibrieren) oder/und die Verschlusseinrichtung (beispielsweise zum Austauschen des Verschlusselements oder der IR-Fensterelemente) im laufenden Betrieb zu entnehmen, ohne dass die Vakuumkammer belüftet werden muss. Das Schieberventil muss nur in diesen Fällen, und damit sehr selten betätigt werden, so dass über einen sehr langen Zeitraum nur wenige Schaltvorgänge erforderlich sind. Im normalen Betrieb hingegen kann das Schieberventil ständig offen sein, weil das Pyrometer durch die Verschlusseinrichtung permanent vor Streudampf geschützt ist, entweder durch einen IR-durchlässigen funktionellen Bereich des Verschlusselements, der eine Messung durch das Pyrometer ermöglicht, oder durch einen nicht IR-durchlässigen funktionellen Bereich, der eine Messung des Pyrometers zwar nicht ermöglicht, das Pyrometer aber vor ungewollter Verschmutzung durch Streudampf schützt.The proposed pyrometer arrangement can be further developed in that on the side facing away from the pyrometer of the closure device, a part of the measuring channel is formed by a slide valve. The slide valve can also be incorporated by flange into the measuring channel, as already described above. In particular, for vacuum applications, the spool valve allows the pyrometer (for example, for recalibration) or / and the closure device (for example, to replace the closure element or the IR window elements) to be removed during operation without having to ventilate the vacuum chamber. The slide valve must be operated only in these cases, and thus very rarely, so that over a very long period of time only a few switching operations are required. In normal operation, however, the gate valve may be permanently open because the pyrometer is permanently protected from stray vapor by the shutter, either by an IR-transmissive functional area of the shutter which allows measurement by the pyrometer or by a non-IR-transmissive functional one Range that does not allow a measurement of the pyrometer, but protects the pyrometer from unwanted pollution by scattered vapor.

Die beschriebene Verschlusseinrichtung sowie die Pyrometer-Anordnung sind vorteilhaft bei einer Vakuum-Substratbehandlungsanlage mit einer von Kammerwänden begrenzten Vakuumkammer verwendbar, in der mindestens eine Substratbehandlungseinrichtung angeordnet ist, wobei eine Pyrometer-Anordnung der oben beschriebenen Art an der Vakuumkammer so angebracht ist, dass das Pyrometer und die Verschlusseinrichtung außerhalb der Vakuumkammer angeordnet sind und ein dem Pyrometer gegenüberliegendes Ende des Messkanals innerhalb der Vakuumkammer angeordnet ist.The described closure device and the pyrometer arrangement are advantageously used in a vacuum substrate treatment plant with a vacuum chamber bounded by chamber walls, in which at least one substrate treatment device is arranged, wherein a pyrometer arrangement of the type described above is attached to the vacuum chamber such that the pyrometer and the closure means are disposed outside the vacuum chamber and a pyrometer-opposed end of the measurement channel is disposed within the vacuum chamber.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und zugehöriger Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen

  • 1 eine perspektivische Ansicht eines Ausführungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Pyrometer-Anordnung,
  • 2 die Pyrometer-Anordnung aus 1 in einer Seitenansicht,
  • 3 die Pyrometer-Anordnung aus 1 in einer vertikalen Schnittdarstellung, und
  • 4 die Pyrometer-Anordnung aus 1 in einer horizontalen Schnittdarstellung.
The invention will be explained in more detail with reference to an embodiment and associated drawings. Show
  • 1 a perspective view of an embodiment of a pyrometer arrangement according to the invention,
  • 2 the pyrometer arrangement off 1 in a side view,
  • 3 the pyrometer arrangement off 1 in a vertical sectional view, and
  • 4 the pyrometer arrangement off 1 in a horizontal sectional view.

In dem beispielhaften Ausführungsbeispiel umfasst die Pyrometer-Anordnung von oben nach unten ein horizontal angeordnetes Schieberventil 12, ein Rohrstück 13, eine Verschlusseinrichtung mit einer Stelleinrichtung 10, und ein Pyrometer 14.In the exemplary embodiment, the pyrometer assembly includes a horizontally disposed spool valve from top to bottom 12 , a piece of pipe 13 , a closure device with an adjusting device 10 , and a pyrometer 14 ,

Das Schieberventil 12, das Rohrstück 13 und die Verschlusseinrichtung weisen in der gewählten Darstellung an ihrer jeweiligen Oberseite und an ihrer jeweiligen Unterseite je einen Flansch auf. Das Pyrometer 14 weist in der gewählten Darstellung an seiner Oberseite ebenfalls einen Flansch auf. Die aneinandergrenzenden Bauteile sind jeweils über Flanschverbindungen 15 ihrer einander zugewandten Flansche, die in an sich bekannter Weise als Klemmringe, Pratzen oder dergleichen ausgeführt sein können, miteinander verbunden.The slide valve 12 , the piece of pipe 13 and the closure device each have a flange in the selected representation on their respective upper side and on their respective lower side. The pyrometer 14 also has a flange on its upper side in the selected representation. The adjacent components are each via flange connections 15 their mutually facing flanges, which can be designed in a manner known per se as clamping rings, claws or the like, connected to each other.

Der obere Flansch des Schieberventils 12 ist offen. Er kann dazu verwendet werden, die Pyrometer-Anordnung an einem Flansch anzubringen, der beispielsweise an einer Öffnung einer Kammerwand der Vakuumkammer einer Vakuum-Substratbehandlungsanlage zu befestigen. Dieser Flansch kann auch zu einem Pyrometer-Schutzrohr gehören, das fest oder beweglich an der Kammerwand angebracht ist und in die Vakuumkammer hineinragt und auf einen Messort im Inneren der Vakuumkammer gerichtet ist bzw. gerichtet werden kann.The upper flange of the slide valve 12 is open. It may be used to attach the pyrometer assembly to a flange that attaches to, for example, an opening in a chamber wall of the vacuum chamber of a vacuum substrate treatment facility. This flange may also belong to a pyrometer thermowell fixedly or movably attached to the chamber wall and projects into the vacuum chamber and is directed to a measuring location in the interior of the vacuum chamber or can be addressed.

Der Ventilschieber des Schieberventils 12 ist horizontal angeordnet und damit geeignet, die Passage zwischen den beiden Flanschen des Schieberventils 12 wahlweise freizugeben oder zu verschließen.The valve spool of the slide valve 12 is horizontally arranged and thus suitable, the passage between the two flanges of the slide valve 12 optionally release or close.

Unterhalb des Schieberventils 12 und des darunter angeordneten Rohrstücks 13 ist die Verschlusseinrichtung angeordnet. Diese weist ein Gehäuse 1 mit einem darin angeordneten prismatischen Hohlraum 3 auf. Das Gehäuse ist aus Vollmaterial mit quadratischem Querschnitt gefertigt, in das eine Bohrung eingebracht wurde, die den Hohlraum 3 bildet. Die Prismenachse dieser Bohrung verläuft in den gewählten Darstellungen horizontal und damit rechtwinklig zu der Messachse des Pyrometers 14, die in den gewählten Darstellungen vertikal verläuft. In der Messachse des Pyrometers 14 liegt die optische Achse der Verschlusseinrichtung, d.h. die Verbindungslinie zwischen der oberen und der unteren Öffnung 2 des Gehäuses.Below the slide valve 12 and the tube piece arranged underneath 13 the closure device is arranged. This has a housing 1 with a prismatic cavity disposed therein 3 on. The housing is made of solid material with a square cross-section into which a hole has been made, which is the cavity 3 forms. The prism axis of this bore extends horizontally in the selected representations and thus at right angles to the measuring axis of the pyrometer 14 which runs vertically in the selected representations. In the measuring axis of the pyrometer 14 is the optical axis of the closure device, ie the connecting line between the upper and the lower opening 2 of the housing.

In dem Hohlraum 3 ist ein Verschlusselement 4 angeordnet, das aus einem Körper mit generell zylindrischer Gestalt gebildet ist, so dass das Verschlusselement 4 in dem Hohlraum 3 verschiebbar ist. Das Verschlusselement 4 ist aus einem Kunststoff gebildet, der nicht IR-durchlässig ist. Das Verschlusselement 4 weist beispielhaft drei unterschiedliche funktionelle Bereiche 5 auf. Jeder der drei funktionellen Bereiche 5 weist Vertiefungen 6 auf, von denen je eine dem Pyrometer 14 und je eine dem Schieberventil 12 zugewandt ist.In the cavity 3 is a closure element 4 arranged, which is formed from a body having a generally cylindrical shape, so that the closure element 4 in the cavity 3 is displaceable. The closure element 4 is made of a plastic that is not permeable to IR. The closure element 4 exemplifies three different functional areas 5 on. Each of the three functional areas 5 has depressions 6 on each of which one the pyrometer 14 and one each the slide valve 12 is facing.

Der in den Darstellungen der 3 und 4 ganz links angeordnete funktionelle Bereich 5 des Verschlusselements 4, der in den dortigen Darstellungen gerade in der optischen Achse, d.h. zwischen den beiden Öffnungen 2 des Gehäuses 1 angeordnet ist, ist ein nicht IR-durchlässiger funktioneller Bereich 5. Seine Vertiefungen 6 sind durch zwei Sacklochbohrungen gebildet, die zwischen sich einen Bereich des nicht IR-durchlässigen Kunststoffmaterials einschließen. Die beiden rechts davon angeordneten funktionellen Bereiche 5 sind IR-durchlässig. Sie sind als Durchgangsbohrungen des Verschlusselements 4 ausgebildet, in denen jeweils ein IR-Fensterelement 7 in Form eines transparenten Plättchens aus Calciumfluorid angeordnet und auf einem Absatz der Bohrung mit einem O-Ring 8 fixiert ist.The in the representations of the 3 and 4 leftmost functional area 5 the closure element 4 , in the local representations straight in the optical axis, ie between the two openings 2 of the housing 1 is a non-IR transmissive functional region 5 , His pits 6 are formed by two blind holes, which enclose between them a portion of the non-IR-permeable plastic material. The two functional areas arranged to the right 5 are IR-transparent. They are as through holes of the closure element 4 formed, in each of which an IR window element 7 arranged in the form of a transparent plate made of calcium fluoride and on a shoulder of the bore with an O-ring 8th is fixed.

Mit dem Verschlusselement 4 ist eine Stelleinrichtung 10 wirkverbunden, die als pneumatischer Mehrstellungszylinder ausgeführt ist, der über drei mögliche Stellungen verfügt. Damit ist es möglich, jeden der drei funktionellen Bereiche 5 in die optische Achse hinein zu bewegen.With the closure element 4 is an adjusting device 10 operatively connected, which is designed as a pneumatic multi-position cylinder, which has three possible positions. This makes it possible for each of the three functional areas 5 to move into the optical axis.

Im Grundzustand, der in den 3 und 4 dargestellt ist, befindet sich der nicht IR-durchlässige funktionelle Bereich 5 in der optischen Achse, so dass keine Messung möglich ist, aber das Pyrometer 14 vor Streudampf geschützt ist. Soll eine Messung durchgeführt werden, so wird das Verschlusselement 4 durch die Stelleinrichtung 10 so bewegt, dass der erste funktionelle Bereich 5, der IR-durchlässig ist, in die optische Achse bewegt wird. Die von oben eintretende IR-Strahlung kann zum Pyrometer 14 vordringen, wobei das Pyrometer 14 jedoch weiterhin vor Streudampf geschützt bleibt. Nach Beendigung der Messung wird das Verschlusselement 4 durch die Stelleinrichtung 10 wieder so bewegt, dass der nicht IR-durchlässige funktionelle Bereich 5 in der optischen Achse angeordnet ist. Wurden mehrere Messungen durchgeführt und ist daher der erste IR-durchlässige funktionelle Bereich 5 verschmutzt, so wird vor der nächsten Messung das Verschlusselement 4 durch die Stelleinrichtung 10 so bewegt, dass für die Messung der nächste IR-durchlässige funktionelle Bereich 5 in die optische Achse bewegt wird.In the ground state, in the 3 and 4 is shown, is the non-IR-permeable functional region 5 in the optical axis, so that no measurement is possible, but the pyrometer 14 is protected from stray steam. If a measurement is to be carried out, then the closure element 4 through the adjusting device 10 so moved that the first functional area 5 which is IR transmissive, is moved in the optical axis. The incoming IR radiation from above can become a pyrometer 14 penetrate, with the pyrometer 14 However, it remains protected from scattered vapor. After completion of the measurement, the closure element 4 through the adjusting device 10 again so moved that the non-IR permeable functional area 5 is arranged in the optical axis. When several measurements were taken, it is the first IR-transmissive functional area 5 dirty, so before the next measurement, the closure element 4 through the adjusting device 10 so moved that for the measurement of the next IR-transmissive functional area 5 is moved in the optical axis.

Im Verbindungsbereich zwischen der Verschlusseinrichtung und der Stelleinrichtung 10 ist eine Zwischenabsaugung angeordnet, um Leckströme von der umgebenden Atmosphäre in den Vakuumbereich zu verhindern.In the connection area between the closure device and the adjusting device 10 An intermediate suction is arranged to prevent leakage from the surrounding atmosphere to the vacuum area.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Gehäusecasing
22
Öffnungopening
33
Hohlraumcavity
44
Verschlusselementclosure element
55
funktioneller Bereichfunctional area
66
Vertiefungdeepening
77
IR-FensterelementIR window element
88th
O-RingO-ring
99
FührungsstabCorporate Office
1010
Stelleinrichtungsetting device
1111
Zwischenabsaugunginterstage
1212
Schieberventilspool valve
1313
Rohrstückpipe section
1414
Pyrometerpyrometer
1515
Flanschverbindungflange

Claims (11)

Verschlusseinrichtung mit einem Gehäuse (1), das zwei gegenüberliegende Öffnungen (2) aufweist, die eine optische Achse durch das Gehäuse (1) hindurch definieren, wobei in dem Gehäuse (1) ein prismatischer Hohlraum (3) mit einer Prismenachse so angeordnet ist, dass die Prismenachse quer zur optischen Achse ausgerichtet ist und in dem Hohlraum (3) ein Verschlusselement (4) mit mindestens zwei funktionellen Bereichen (5), von denen mindestens ein erster funktioneller Bereich (5) für IR-Strahlung durchlässig ist, verschiebbar so angeordnet ist, dass wahlweise genau ein funktioneller Bereich (5) der mindestens zwei funktionellen Bereiche (5) in der optischen Achse angeordnet ist.A closure device comprising a housing (1) having two opposing openings (2) defining an optical axis through the housing (1), wherein in the housing (1) a prismatic cavity (3) having a prism axis is arranged, in that the prism axis is aligned transversely to the optical axis and in the cavity (3) a closure element (4) with at least two functional areas (5), of which at least one first functional area (5) is permeable to IR radiation, is displaceably arranged is that optionally exactly one functional area (5) of the at least two functional areas (5) is arranged in the optical axis. Verschlusseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein funktioneller Bereich (5) des Verschlusselements (4) eine Vertiefung (6) aufweist, die einer der beiden Öffnungen (2) des Gehäuses (1) zugewandt ist.Locking device after Claim 1 , characterized in that at least one functional region (5) of the closure element (4) has a recess (6) which faces one of the two openings (2) of the housing (1). Verschlusseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Verschlusselement (4) aus einem für IR-Strahlung undurchlässigen Material besteht, wobei das Verschlusselement (4) in dem mindestens einen funktionellen Bereich (5), der für IR-Strahlung durchlässig ist, eine parallel zur optischen Achse verlaufende durchgehende Öffnung aufweist und die Öffnung durch ein IR-Fensterelement (7), das aus einem für IR-Strahlung durchlässigen Material besteht, verschlossen ist.Locking device after Claim 1 or 2 , characterized in that the closure element (4) consists of an IR radiation-impermeable material, wherein the closure element (4) in the at least one functional region (5), which is transparent to IR radiation, extending parallel to the optical axis has through opening and the opening is closed by an IR window element (7), which consists of a permeable to IR radiation material. Verschlusseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Verschlusselement (4) in dem Hohlraum (3) des Gehäuses (1) verdrehgesichert ist.Locking device according to one of Claims 1 to 3 , characterized in that the closure element (4) in the cavity (3) of the housing (1) is secured against rotation. Verschlusseinrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Verschlusselement (4) mindestens eine parallel zur Prismenachse verlaufende Bohrung aufweist und in dem Hohlraum (3) ein in die Bohrung eingreifender Führungsstab (9) angeordnet ist.Locking device after Claim 4 , characterized in that the closure element (4) has at least one bore extending parallel to the prism axis and in the cavity (3) a guide rod (9) engaging in the bore is arranged. Verschlusseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Verschlusselement (4) an seiner Außenseite mindestens einen auf Wände des Hohlraums (3) des Gehäuses (1) wirkenden Dichtring aufweist.Locking device according to one of Claims 1 to 5 , characterized in that the closure element (4) has on its outer side at least one on walls of the cavity (3) of the housing (1) acting sealing ring. Verschlusseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Verschlusselement (4) mit einer Stelleinrichtung (10) wirkverbunden ist, die dafür eingerichtet ist, jeden funktionellen Bereich (5) des Verschlusselements (4) in die optische Achse zu bewegen.Locking device according to one of Claims 1 to 6 , characterized in that the closure element (4) is operatively connected to an actuating device (10) which is adapted to move each functional region (5) of the closure element (4) in the optical axis. Verschlusseinrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Stelleinrichtung (10) ein Mehrstellungszylinder ist.Locking device after Claim 7 , characterized in that the adjusting device (10) is a multi-position cylinder. Pyrometer-Anordnung mit einem Pyrometer (14), das eine Messachse aufweist, und einem an dem Pyrometer (14) befestigten Messkanal mit einer Längsachse, die mit der Messachse des Pyrometers (14) identisch ist, wobei ein Teil des Messkanals durch eine Verschlusseinrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8 gebildet ist, die so angeordnet ist, dass ihre optische Achse ebenfalls mit der Messachse des Pyrometers (14) identisch ist.Pyrometer arrangement comprising a pyrometer (14) having a measuring axis, and a measuring channel fixed to the pyrometer (14) with a longitudinal axis which is identical to the measuring axis of the pyrometer (14), wherein a part of the measuring channel by a closure device according to one of the Claims 1 to 8th is formed, which is arranged so that its optical axis is also identical to the measuring axis of the pyrometer (14). Pyrometer-Anordnung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass auf der dem Pyrometer (14) abgewandten Seite der Verschlusseinrichtung ein Teil des Messkanals durch ein Schieberventil (12) gebildet ist.Pyrometer arrangement after Claim 9 , characterized in that on the side facing away from the pyrometer (14) of the closure device, a part of the measuring channel is formed by a slide valve (12). Vakuum-Substratbehandlungsanlage mit einer von Kammerwänden begrenzten Vakuumkammer, in der mindestens eine Substratbehandlungseinrichtung angeordnet ist, wobei eine Pyrometer-Anordnung nach Anspruch 9 oder 10 an der Vakuumkammer so angebracht ist, dass das Pyrometer (14) und die Verschlusseinrichtung außerhalb der Vakuumkammer angeordnet sind und ein dem Pyrometer (14) gegenüberliegendes Ende des Messkanals innerhalb der Vakuumkammer angeordnet ist.Vacuum substrate treatment plant with a vacuum chamber bounded by chamber walls, in which at least one substrate treatment device is arranged, wherein a pyrometer arrangement according to Claim 9 or 10 is attached to the vacuum chamber so that the pyrometer (14) and the closure device are arranged outside the vacuum chamber and a pyrometer (14) opposite the end of the measuring channel is disposed within the vacuum chamber.
DE102015105844.8A 2015-04-16 2015-04-16 Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system Active DE102015105844B4 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015105844.8A DE102015105844B4 (en) 2015-04-16 2015-04-16 Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015105844.8A DE102015105844B4 (en) 2015-04-16 2015-04-16 Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102015105844A1 DE102015105844A1 (en) 2016-10-20
DE102015105844B4 true DE102015105844B4 (en) 2019-08-14

Family

ID=57043784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102015105844.8A Active DE102015105844B4 (en) 2015-04-16 2015-04-16 Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102015105844B4 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0397859A (en) 1989-09-08 1991-04-23 Toshiba Corp Evaporating device
JPH0544032A (en) * 1991-08-13 1993-02-23 Fujitsu Ltd Film forming device
JP2004193340A (en) 2002-12-11 2004-07-08 Sharp Corp Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method using it
DE102008026002A1 (en) 2008-05-29 2009-12-17 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substrate's temperature measuring method for vacuum deposition system, involves continuously calibrating pyrometers for determining temperature of substrate at different points on vacuum chamber
DE102010040640A1 (en) 2010-09-13 2012-03-15 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substrate treatment plant has pyrometer that is provided to determine temperature of substrate, and protective tube that is arranged in inner portion of plant chamber
DE202012101670U1 (en) 2011-07-15 2012-06-13 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Arrangement of a pyrometer in a vacuum treatment plant

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0397859A (en) 1989-09-08 1991-04-23 Toshiba Corp Evaporating device
JPH0544032A (en) * 1991-08-13 1993-02-23 Fujitsu Ltd Film forming device
JP2004193340A (en) 2002-12-11 2004-07-08 Sharp Corp Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method using it
DE102008026002A1 (en) 2008-05-29 2009-12-17 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substrate's temperature measuring method for vacuum deposition system, involves continuously calibrating pyrometers for determining temperature of substrate at different points on vacuum chamber
DE102010040640A1 (en) 2010-09-13 2012-03-15 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substrate treatment plant has pyrometer that is provided to determine temperature of substrate, and protective tube that is arranged in inner portion of plant chamber
DE202012101670U1 (en) 2011-07-15 2012-06-13 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Arrangement of a pyrometer in a vacuum treatment plant
DE102012207510A1 (en) 2011-07-15 2013-01-17 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Pyrometer arrangement for use in vacuum treatment plant, has slide valve arranged in tube outer side of vacuum chamber between chamber wall and pyrometer and vacuum-tightly locking vacuum chamber before pyrometer

Also Published As

Publication number Publication date
DE102015105844A1 (en) 2016-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102012207510B4 (en) Arrangement for measuring the temperature of substrates in a vacuum treatment plant
EP1788112A1 (en) Vapour deposition apparatus
DE102016103578A1 (en) Device and method for roughening substrates
DE102012004505B3 (en) Pyrometer pipe for measuring temperatures at measurement point within chambers in vacuum treatment plant, comprises a pyrometer having a specific end which is set with a transparent partition wall as particle shield, in measuring range
DE102005045718B4 (en) Carrier for a substrate
DE102014117388A1 (en) Method for calibrating a pyrometer arrangement of a CVD or PVD reactor
EP2163298A2 (en) Window attachment to a pressure tube
DE102015105844B4 (en) Closure device, pyrometer arrangement and vacuum substrate treatment system
DE102012201061A1 (en) Method for calibration of pyrometer, involves detecting thermal radiation emitted from measuring object in measuring direction with pyrometer, where pyrometer is aligned on object receiver of measuring object in measuring direction
EP0740139B1 (en) Device for in situ measurement of stress in films
DE102008056125A1 (en) Test glass changing system for the selective coating and optical measurement of coating properties in a vacuum coating plant
DE102010040640B4 (en) Substrate treatment plant
DE102013106788B4 (en) Vacuum treatment plant with vacuum chamber feedthrough
DE69838634T2 (en) MECHANISM TO MAKE TWO SIDES WATER-RESISTANT AT THE SAME TIME
EP2108937B1 (en) Gas measuring cell for calibration of gas analysers for high temperatures
DE2163937C3 (en) Condensation protection device for a radiation sensor
DE102008045416A1 (en) Apparatus and method for producing thermally toughened glass sheets and thermally toughened glass sheet
DE102022200914B3 (en) Coating chamber with detection of the substrate distance and method for coating substrates
DE102013100443A1 (en) Protective window device for a coating installation
EP3365659B1 (en) Infrared measuring device
DE102010003413B4 (en) Method for cleaning an optical position measuring system, optical position measuring system and coating system
DE102017130943B4 (en) vacuum chamber assembly
DE102014118878A1 (en) Process control method and associated arrangement for the production of a thin-film system
DE102012201054A1 (en) Method for checking accuracy of pyrometer for treatment system of e.g. glass, involves correcting emissivity of pyrometer based on difference between measured temperature of heat absorbing surface and temperature measured by pyrometer
WO2007140901A1 (en) Apparatus for suppressing radiation components which corrupt measured values in contactlessly operating ir measuring devices in high-temperature ovens

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: VON ARDENNE ASSET GMBH & CO. KG, DE

Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE GMBH, 01324 DRESDEN, DE

R082 Change of representative

Representative=s name: LIPPERT STACHOW PATENTANWAELTE RECHTSANWAELTE , DE

R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R082 Change of representative