DE202005001721U1 - Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff - Google Patents

Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff Download PDF

Info

Publication number
DE202005001721U1
DE202005001721U1 DE200520001721 DE202005001721U DE202005001721U1 DE 202005001721 U1 DE202005001721 U1 DE 202005001721U1 DE 200520001721 DE200520001721 DE 200520001721 DE 202005001721 U DE202005001721 U DE 202005001721U DE 202005001721 U1 DE202005001721 U1 DE 202005001721U1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
end plate
vertical
locking elements
hanger according
recess
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE200520001721
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Original Assignee
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG filed Critical Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Priority to DE200520001721 priority Critical patent/DE202005001721U1/de
Publication of DE202005001721U1 publication Critical patent/DE202005001721U1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff, mit einer unteren kreisförmigen Abschlussplatte (1), die mittels mindestens dreier parallel zueinander verlaufender Querstäbe (3), die Schlitze (4) für die Aufnahme der Substrate aufweisen, mit einer oberen kreisförmigen Abschlussplatte (2) verbunden ist, wobei die den Querstäben (3) abgewandte Unterseite der unteren Abschlussplatte (1) mit mindestens zwei Rastelementen (6, 7, 8) versehen ist, die sich in Richtung der Vertikalhorden-Längsachse (5) nach außen erstrecken, und die mit mindestens einer Ausnehmung (32) korrespondieren, welche in einem Lagerteil (30) für die Lagerung der Vertikalhorde in einem Behandlungsraum vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Rastelemente (6, 7, 8) an der unteren Abschlussplatte (1) angefügt sind, und dass die untere Abschlussplatte (1) eine Dicke von weniger als 10 mm aufweist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff, mit einer unteren kreisförmigen Abschlussplatte, die mittels mindestens dreier parallel zueinander verlaufender Querstäbe, die Schlitze für die Aufnahme der Substrate aufweisen, mit einer oberen kreisförmigen Abschlussplatte verbunden ist, wobei die den Querstäben abgewandte Unterseite der unteren Abschlussplatte mit mindestens zwei Rastelementen versehen ist, die sich in Richtung der Vertikalhorden-Längsachse nach außen erstrecken, und die mit mindestens einer Ausnehmung korrespondieren, welche in einem Lagerteil für die Lagerung der Vertikalhorde in einem Behandlungsraum vorgesehen sind.
  • Eine derartige Vertikalhorde ist aus der DE 36 34 935 C2 bekannt. Die Horde besteht im Wesentlichen aus einer oberen und einer unteren Begrenzungsplatte, welche durch mehrere geschlitzte Querstege miteinander verbunden sind. Bei der halbleitertechnologischen Prozessierung von Wafern werden derartige Horden für den Transport der Wafer und für die Aufbewahrung im Reaktor einer Prozessanlage eingesetzt, wie etwa einem Ofen oder einer Beschichtungs- oder Ätzanlage. Hierbei wird die Vertikalhorde innerhalb des Reaktors auf einem sogenannten „Pedestal" platziert, bei dem es sich in der Regel um ein zylinderförmiges Quarzglas-Bauteil handelt, dessen Oberseite eine kreis- oder ringförmige Aufnahme sowie ein zusätzliches Orientierungselement aufweist, in welche korrespondierende Rastelemente der Vertikalhorde eingreifen. Durch die Anordnung auf dem Pedestal wird eine axiale Fixierung der Horde und eine reproduzierbare radiale Ausrichtung innerhalb der Prozessanlage erreicht.
  • Die Rastelemente sind an der unteren Abschlussplatte der Vertikalhorde in Form eines umlaufenden Rings und eines zusätzlichen Orientierungspins ausgebildet. Sie erstrecken sich etwa 20 bis 25 mm nach Außen in Richtung der Horden-Längsachse und dienen sowohl zur Auflage der Vertikalhorde auf dem Pedestal als auch zur exakten Orientierung. Sie werden durch Fräsen aus einer etwa 25 mm bis 35 mm dicken Quarzglasplatte erzeugt. Diese Herstellung der Abschlussplatte ist sehr zeit- und materialaufwändig.
  • Grundsätzlich stellt sich beim Einsatz von Horden aus Quarzglas das Problem, dass sich diese beim Hochtemperatureinsatz verbiegen und dadurch frühzeitig unbrauchbar werden können. Die Wandstärken der einzelnen Bauteile der Vertikalhorde müssen daher ausreichend stark ausgebildet sein, was sich jedoch in hohen Materialkosten niederschlägt.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vertikalhorde aus Quarzglas mit hoher thermischer Stabilität anzugeben, die gleichzeitig mit niedrigem Fertigungs- und Materialaufwand herstellbar ist.
  • Diese Aufgabe wird ausgehend von einer Vertikalhorde mit den eingangs genannten Merkmalen erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Rastelemente an der unteren Abschlussplatte angefügt sind, und dass die untere Abschlussplatte eine Dicke von weniger als 10 mm aufweist.
  • Bei der erfindungsgemäßen Vertikalhorde werden die Rastelemente nicht – wie bisher üblich – aus einer entsprechenden großvolumigen Quarzglasplatte herausgefräst, sondern an der unteren Abschlussplatte angesetzt. Hierzu werden die Abschlussplatte und die Rastelemente in separaten Verfahrensschritten erzeugt, und anschließend werden die Rastelemente an die untere Abschlußplatte angefügt, beispielsweise durch Kleben oder durch Verschweißen. Der Fertigungsaufwand dafür ist im Vergleich zum Ausfräsen aus dem Vollen gering.
  • Hinzukommt, dass die untere Abschlussplatte erfindungsgemäß eine Dicke von weniger als 10 mm aufweist. Es hat sich gezeigt, dass diese vergleichsweise geringe Dicke der Abschlussplatte den Anforderungen an die thermische Stabilität der Vertikalhorde genügt. Dies führt im Vergleich zu der bekannten Vertikalhorde zu einer deutlichen Materialersparnis, so dass die Fertigungskosten der erfindungsgemäßen Vertikalhorde insgesamt vergleichsweise niedrig sind.
  • Vorzugsweise weisen die Rastelemente in Richtung der Vertikalhorden-Längsachse jeweils eine Länge auf, die größer ist als die Tiefe der mit dem jeweiligen Rastelement korrespondierenden Ausnehmung des Lagerteils.
  • Die erfindungsgemäße Vertikalhorde ruht dadurch nicht etwa flächig auf der Unterseite der unteren Abschlussplatte, sondern sie steht auf den Rastelementen in den Ausnehmungen des Lagerteils auf. Die Auflagefläche der Rastelemente kann vergleichsweise klein gehalten und daher ohne großen Aufwand sehr genau eingestellt werden. Die übliche Länge der Rastelemente gemäß der Erfindung liegt im Bereich zwischen 20 und 28 mm.
  • Im Hinblick hierauf liegen die Rastelemente in einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vertikalhorde jeweils über eine Kontaktfläche auf einer Auflagefläche der Ausnehmung auf, wobei die Kontaktflächen aller Rastelemente zusammen kleiner als 850 mm2 sind.
  • Die Rastelemente sind hierbei als räumlich voneinander getrennte, kleinvolumige Stützteile ausgebildet, die mit der Auflagefläche der Ausnehmung eine nur geringe Kontaktfläche aufweisen. Daraus resultiert nicht nur eine Materialersparnis gegenüber Rastelementen mit größeren Auflageflächen, wie beispielsweise dem aus dem Stand der Technik bekannten ringförmigen Rastelement, sondern es ergibt auch ein vergleichsweise geringer Fertigungsaufwand für eine exakte Höhenbearbeitung der Rastelemente.
  • Eine weitere Verbesserung wird erreicht, wenn genau drei um den Außenumfang der unteren Abschlussplatte verteilte Rastelemente vorgesehen sind.
  • Die drei Rastelemente gewährleisten eine Drei-Punkt-Lagerung und damit Beine verkippsichere Lagerung der Vertikalhorde.
  • In einer besonders bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vertikalhorde sind die Rastelemente durch Schweißen an der unteren Abschlussplatte angefügt.
  • Durch Schweißen ergibt sich eine besonders feste Verbindung zwischen der Abschlussplatte und dem Rastelement und damit einhergehend eine hohe Betriebssicherheit der Vertikalhorde. Der Fertigungsaufwand ist vergleichsweise gering, wenn die Rastelemente als kleinvolumige Stützkörper ausgeführt sind.
  • Bei einer anderen, jedoch gleichermaßen bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vertikalhorde sind die Rastelemente durch Kleben an der unteren Abschlussplatte angefügt.
  • Das Kleben der Rastelemente erfordert – abgesehen von einer thermischen Verfestigung der Klebemasse – keinerlei Heißbearbeitung, und insbesondere keinen Heißverformungsschritt, der zu einem Verziehen der Vertikalhorde führen kann und der im jedem Fall ein anschließendes aufwändiges Spannungsfreiglühen erfordern würde. Die Fertigung der erfindungsgemäßen Vertikalhorde wird dadurch vereinfacht und preiswerter.
  • Es hat sich als günstig erwiesen, wenn die Ausnehmung des Lagerteils kreis- oder ringförmig ausgebildet ist, und dass mindestens zwei der Rastelemente in die Ausnehmung hineinragende zylinderförmige Zapfen mit konvex gekrümmter Zylindermantelfläche bilden.
  • Die mindestens zwei Rastelemente sind hierbei als ringsektorförmige, im Wesentlichen zylinderförmige Zapfen ausgebildet, die in die kreis- oder ringförmige Ausnehmung des Lagerteils hineinragen und dabei an die Ringform der Ausnehmung des Lagerteils angepasst sind. Dadurch wird die genaue Fixierung der Vertikalhorde auf dem Lagerteil erleichtert.
  • Eine weitere Verbesserung dieser Ausführungsform wird erreicht, wenn sich die gekrümmte Zylinderaußenmantelfläche der Rastelemente jeweils an den äußeren Kreisrand der Ausnehmung anschmiegt.
  • Eine Anordnung, bei der sich die Rastelemente am äußeren Kreisrand der Ausnehmung anschmiegen, erlaubt eine Platzierung der Rastelemente, bei der diese möglichst weit auseinander und so weit außen wie möglich angeordnet sind. Dadurch ergibt sich ein stabilerer Stand der Vertikalhorde und eine geringere Verkippungsneigung.
  • Es hat sich als günstig erwiesen, wenn der Abstand zwischen der unteren Kante des jeweils untersten Schlitzes der Querstäbe und dem freien stirnseitigen Ende der Rastelemente im Bereich zwischen 50 mm und 52 mm liegt.
  • Diese Maßnahme ergibt sich als Kompromiss zwischen einem möglichst weit unten liegenden Schwerpunkt der vertikal orientierten beladenen Horde und einem noch ausreichenden Abstand des untersten Wafers von der unteren Abschlussplatte.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen und einer Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigen
  • 1 eine Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vertikalhorde in einer Seitenansicht,
  • 2 eine vergrößerte Darstellung der unteren Abschlussplatte der Vertikalhorde von 1 in einer Draufsicht entlang der Linie A–A, und
  • 3 eine Draufsicht auf ein zur Lagerung der erfindungsgemäßen Vertikalhorde geeignetes Lagerteil (Pedestal) in einer Draufsicht von oben.
  • Die Seitenansicht einer erfindungsgemäßen Vertikalhorde nach 1 zeigt zwei Abschlussplatten 1, 2, welche die Horde stirnseitig abschließen und die jeweils aus einer kreisförmigen, 6 mm dicken Quarzglasscheibe mit einem Außendurchmesser von 300 mm bestehen. Die Abschlussplatten 1, 2 sind mittels dreier parallel zur Horden-Längsachse 5 verlaufender Querstäbe 3 aus Quarzglas miteinander verbunden. Die Querstäbe 3 haben jeweils einen radial kreisförmigen Querschnitt und sind mit ca. 130 Schlitzen 4 für die Aufnahme von Halbleiter scheiben versehen. Die Schlitze 4 sind in Richtung der Längsachse 5 der Vertikalhorde offen, ihre Schlitztiefe beträgt 6,5 mm, die Schlitzweite 4 mm und der Schlitzabstand etwa 7,7 mm. Die Querstäbe 3 sind am Außenumfang der Abschlussplatten 1, 2 so angeordnet, dass sie deren Außenrand 11 an keiner Stelle überragen.
  • An der unteren Abschlussplatte 1 der Vertikalhorde sind drei zylinderförmige Zapfen 6, 7 und 8 aus Quarzglas angeschweißt, die mit Ausnehmungen des sogenannten Pedestals, das weiter unten anhand 3 noch näher erläutert wird, korrespondieren. Die Länge der Zapfen 6, 7, 8 – in Richtung der Längsachse 5 gesehen – beträgt 26 mm. Der Abstand zwischen dem freien Ende der Zapfen 6, 7, 8 und dem untersten Schlitz 4a der Querstäbe 3 beträgt etwa 52 mm.
  • Einer der Zapfen 8 ist mit einem U-förmigen Ausschnitt 12 versehen, der mit einem auf dem Pedestal (siehe 3) vorgesehenen Orientierungs-Pin korrespondiert.
  • Die Anordnung der Zapfen 6, 7, 8 auf der unteren Abschlussplatte 1 und ihre Querschnittsform in Richtung der Längsachse 5 sind aus der Draufsicht von 2 erkennbar. Die drei Zapfen 6, 7, 8 sind über den äußeren Rand der Abschlussplatte 1 im 120 Grad-Winkel gleichmäßig verteilt. Sie weisen in der Draufsicht einen ringsektorförmigen Querschnitt auf, wobei die in Richtung der Längsachse 5 weisenden Begrenzungsflächen jeweils konkav und die gegenüberliegenden, nach außen weisenden Begrenzungsflächen 10 jeweils konvex gekrümmt sind und sich an den Außenrand 7 der Abschlussplatte 1 anschmiegen. Die Dicke der Zapfen 6, 7, 8 – in radialer Richtung gesehen – beträgt jeweils 8 mm und ihre Breite – in Umfangsrichtung gesehen – beträgt etwa 35 mm. Die Vertikalhorde ruht auf den Zapfen 6, 7, 8, wobei diese mit einer Aufnahmefläche eines Lagerteils in Kontakt sind. Die Draufsicht von 2 zeigt die Kontaktflächen 9 der Zapfen 6, 7, 8, die zusammen eine Fläche von 840 mm2 aufweisen.
  • Ein zur Lagerung der erfindungsgemäßen Vertikalhorde geeignetes Lagerteil liegt als zylinderförmiger Quarzglasblock 30 mit kreisförmigem Querschnitt und einer wannenartig ausgeformten Oberseite vor. Die Draufsicht gemäß 3 zeigt, dass die Oberseite von einer ebenen Kreisfläche 32 gebildet wird, die von einem umlaufenden erhöhten Rand 31 umschlossen ist. Die Höhe des Randes 31 beträgt 10 mm. An einer Stelle ist dem Rand 31 ein Absatz vorgelagert, der als Orientierungs-Pin 33 für den U-förmigen Ausschnitt 12 des Zapfens 8 dient.
  • Der Innendurchmesser des Randes 31 liegt bei etwas mehr als 300 mm, so dass sich die nach außen weisenden Begrenzungsflächen 10 der Zapfen 6, 7, 8 beim Aufsetzen der Vertikalhorde auf das Lagerteil 30 exakt in die wannenförmige Vertiefung einpassen und sich dabei an die Innenwandung 34 des Randes 31 anschmiegen und mit ihren Kontaktflächen 9 auf der ebenen Kreisfläche 32 aufsitzen.
  • Da bei der erfindungsgemäßen Vertikalhorde die Zapfen 6, 7 und 8 mit der unteren Abschlussplatte 1 verschweißt sind, ergibt sich ein verhältnismäßig geringer Fertigungs- und Materialaufwand.

Claims (9)

  1. Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff, mit einer unteren kreisförmigen Abschlussplatte (1), die mittels mindestens dreier parallel zueinander verlaufender Querstäbe (3), die Schlitze (4) für die Aufnahme der Substrate aufweisen, mit einer oberen kreisförmigen Abschlussplatte (2) verbunden ist, wobei die den Querstäben (3) abgewandte Unterseite der unteren Abschlussplatte (1) mit mindestens zwei Rastelementen (6, 7, 8) versehen ist, die sich in Richtung der Vertikalhorden-Längsachse (5) nach außen erstrecken, und die mit mindestens einer Ausnehmung (32) korrespondieren, welche in einem Lagerteil (30) für die Lagerung der Vertikalhorde in einem Behandlungsraum vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Rastelemente (6, 7, 8) an der unteren Abschlussplatte (1) angefügt sind, und dass die untere Abschlussplatte (1) eine Dicke von weniger als 10 mm aufweist.
  2. Vertikalhorde nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Rastelemente (6, 7, 8) in Richtung der Vertikalhorden-Längsachse (5) jeweils eine Länge aufweisen, die größer ist als die Tiefe der mit dem jeweiligen Rastelement (6, 7, 8) korrespondierenden Ausnehmung (32) des Lagerteils (30).
  3. Vertikalhorde nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Rastelemente (6, 7, 8) jeweils über eine Kontaktfläche (9) auf einer Auflagefläche (32) der Ausnehmung aufliegen, wobei die Kontaktflächen (9) aller Rastelemente (6, 7, 8) zusammen kleiner als 850 mm2 sind.
  4. Vertikalhorde nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass drei um den Außenumfang (11) der unteren Abschlussplatte (1) verteilte Rastelemente (6, 7, 8) vorgesehen sind.
  5. Vertikalhorde nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rastelemente (6, 7, 8) durch Schweißen an der unteren Abschlussplatte (1) angefügt sind.
  6. Vertikalhorde nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rastelemente durch Kleben an der unteren Abschlussplatte angefügt sind.
  7. Vertikalhorde nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausnehmung (32) des Lagerteils kreis- oder ringförmig ausgebildet ist, und dass mindestens zwei der Rastelemente (6, 7, 8) in die Ausnehmung hineinragende zylinderförmige Zapfen mit konvex gekrümmter Zylindermantelfläche (10) bilden.
  8. Vertikalhorde nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass sich die gekrümmte Zylindermantelfläche (10) der Rastelemente (6, 7, 8) an den inneren Kreisrand (34) der Ausnehmung (32) anschmiegt.
  9. Vertikalhorde nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand zwischen der unteren Kante des jeweils untersten Schlitzes (4a) der Querstäbe (3) und dem freien stirnseitigen Ende der Rastelemente (6, 7, 8) im Bereich zwischen 50 mm und 52 mm liegt.
DE200520001721 2005-01-20 2005-02-03 Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff Expired - Lifetime DE202005001721U1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200520001721 DE202005001721U1 (de) 2005-01-20 2005-02-03 Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE202005000908.3 2005-01-20
DE202005000908 2005-01-20
DE200520001721 DE202005001721U1 (de) 2005-01-20 2005-02-03 Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE202005001721U1 true DE202005001721U1 (de) 2005-05-25

Family

ID=34625989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE200520001721 Expired - Lifetime DE202005001721U1 (de) 2005-01-20 2005-02-03 Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE202005001721U1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016111234A1 (de) 2016-06-20 2017-12-21 Heraeus Noblelight Gmbh Vorrichtung für die thermische Behandlung eines Substrats sowie Trägerhorde und Substrat-Trägerelement dafür
DE102016111236A1 (de) 2016-06-20 2017-12-21 Heraeus Noblelight Gmbh Substrat-Trägerelement für eine Trägerhorde, sowie Trägerhorde und Vorrichtung mit dem Substrat-Trägerelement

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016111234A1 (de) 2016-06-20 2017-12-21 Heraeus Noblelight Gmbh Vorrichtung für die thermische Behandlung eines Substrats sowie Trägerhorde und Substrat-Trägerelement dafür
DE102016111236A1 (de) 2016-06-20 2017-12-21 Heraeus Noblelight Gmbh Substrat-Trägerelement für eine Trägerhorde, sowie Trägerhorde und Vorrichtung mit dem Substrat-Trägerelement
WO2017220268A1 (de) 2016-06-20 2017-12-28 Heraeus Noblelight Gmbh Vorrichtung für die thermische behandlung eines substrats sowie trägerhorde und substrat-trägerelement dafür
WO2017220272A1 (de) 2016-06-20 2017-12-28 Heraeus Noblelight Gmbh Substrat-trägerelement für eine trägerhorde
RU2664559C1 (ru) * 2016-06-20 2018-08-21 Хераеус Ноубллайт Гмбх Устройство для термической обработки подложки, носитель и элемент для поддержки подложки для этого устройства

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69123508T2 (de) Vorrichtung zur Bearbeitung von Halbleiterscheiben
EP3601631B1 (de) Suszeptor für einen cvd-reaktor
DE19715460A1 (de) Poliervorrichtung mit verbesserter Führung eines flüssigen Poliermediums
DE10259376A1 (de) Halbleiterherstellungsvorrichtung
EP3497712B1 (de) Verfahren und probenhalter zum gesteuerten bonden von substraten
DE19606254A1 (de) Vorrichtung zum Ausgleichen von Längenänderungen
DE69400142T2 (de) Trägerkassette für Siliziumscheiben
EP3569352B1 (de) Spannelement eines spannsystems, insbesondere eines nullpunktspannsystems, und spannsystem
DE112007002816B4 (de) Vertikales Boot für eine Wärmebehandlung und Wärmebehandlungsverfahren von Halbleiter-Wafern unter Verwendung desselben
DE3440111C1 (de) Traegerhorde
DE19920301C2 (de) Streustrahlenraster, insbesondere für eine medizinische Röntgeneinrichtung, sowie Verfahren zu dessen Herstellung
DE102019212796A1 (de) Waferboot
DE202005001721U1 (de) Vertikalhorde aus Quarzglas für die Aufnahme von scheibenförmigen Substraten aus Halbleiterwerkstoff
DE2422527A1 (de) Vorrichtung zum gleichzeitigen, beiderseitigen beschichten mehrerer halbleiterscheiben mit einem schutzlack
EP4285402A1 (de) Substrathalter und verfahren zur herstellung eines substrathalters zum bonden
DE19600393B4 (de) Leiterrahmen
CH683717A5 (de) Präzisionswaage.
CH691839A5 (de) Verfahren zum Herstellen einer Quadrupol-Elektrodenanordnung.
DE10191531T5 (de) Scherstab-Kraftmeßzelle und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2626609C3 (de) Axialdrucklager mit Kippsegmenten
DE10026974A1 (de) Kanalplatte aus Glas für Flachbildschirme und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3634935C2 (de)
DE102014108514B4 (de) Ofengestell zur Beschickung einer Ofenanlage mit einem Warmbehandlungsgut
DE19637497A1 (de) Waferaufnahmevorrichtung, insbesondere zur Verwendung in einem vertikalen Diffusionsofen
DE69013456T2 (de) Regelbare Vorrichtung für Maschinenisolierung.

Legal Events

Date Code Title Description
R207 Utility model specification

Effective date: 20050630

R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: H01L0021680000

Ipc: H01L0021673000

R150 Term of protection extended to 6 years

Effective date: 20080229

R157 Lapse of ip right after 6 years

Effective date: 20110901