DE2008340B2 - Elektrofotografisches Aufzeichimgsmaterial - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein elektrofotografisches Aufzeichnungsmaterial aus einem elektrisch leitenden oder isolierenden F :hichtträger, gegebenenfalls einer isolierenden Zwischenschicht, einer fotoleitfähigen Schicht und einer isolierenden Deckschicht.

Auf derartigen Aufzeichnurigsmaterialien werden gewöhnlich Ladungsbilder ausgebildet, indem sie beispielsweise einer primären Koronaentladung, dann einer sekundären Koronaentladung oder einer ■Wechselstromentladung unter gleichzeitiger BiIdtoelichtung und anschließend einer Totalbelichtung ausgesetzt werden.

Die isolierende Deckschicht über der fotoleitfähigen Schicht soll die fotoleitiähige Schicht vor Beschädigung schützen und die Haltbarkeit des Aufzeichnungsmatcrials verbessern. Als Materialien für diese Deckschicht werden im allgemeinen organische Isoliermaterialien, die aus Polyethylenterephthalat oder anderen hochpolymeren Verbindungen bestehen. Diese Materialien sind in der Lage, ein äußerst kontrastreiches Ladungsbild aufrechtzuerhalten. Die Übertragung des sichtbaren Bildes nach dem Entwickeln des Ladungsbildes erfolgt dann unter Anwendung eines äußeren hohen elektrischen Feldes. Es hat sich dabei herausgestellt, daß die dielektrische Durchschlagsfestigkeit dieser organischen Isoliermaterialien [ür die zur Anwendung gelangenden hohen Feldstärken vielfach nicht ausreicht und elektrische Durchschlage der isolierenden Schicht auftreten, die das Entstehen winziger Lücher tür Folge haben. Diese stellen eine schwere Schädigung des Aufzeichnungsmaterials dar und führen zu einer erheblich herabgesetzten Bildqualität.

In der DT-AS 1 109 031 ist ein elektrofotografisches Aufzeichnungsmaterial der eingangs genannten Art beschrieben, bei dem die Oberfläche der lotoleitfähigen Schicht mit einer anorganischen Isolierschicht überzogen ist, die die extrem lichtempfindliche und mechanisch sehr weiche foioleitfäbige Schicht gegen physikalische und chemische Einwirkungen von außen schützt. Derartige anorgantsche Isolierschichten bieten zwar insbesondere bei der Reinigung des Aufzeichnungsmaterials nach der Entwicklung des Ladungsbildes ausgezeichneten mechanischen Schutz des Aufzeichnungsmaterials und besitzen darüber hinaus eine höhere Durch-

_lQ Schlagsfestigkeit als anorganische isolierende Schichten, sie sind jedoch nur in begrenztem Umfang wasserabstoßend und feuchtigkeitsundurchlässig, was die Qualität des Aufzeichnungsmaterials auf die Dauer beeinträchtigt.

,₅ Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Aufzeichnungsmaterial der eingangs genannten Art zu schaffen, bei dem die fotoleitfähige Schicht einerseits optimal gegenüber äußeren physikalischen und chemischen Einwirkungen geschützt --.La und an-

_2Q dererseits die elektrostatischen Eigenschaften der geschützten lotoleitfähigen Schicht nicht beeinträchtigt werden.

Diese Aufgabe wird erfindungsgeruäß dadurch gelöst, daß das Aufzeichnungsmaterial auf der fotoleitfähigen Schicht eine isolierende Schicht aus einer anorganischen Verbindung und daraui eine isolierende Deckschicht aas einer organischen Verbindung enthält.

Auf diese Weise wird eine sehr zuverlässige und sichere Schutziunktion gegenüber allen äußeren physikalischen und chemischen Angriffen erzielt, indem die positiven Eigenschaften sowohl der organischen Isoliermaterialien als auch der anorganischen gleichzeitig ausgenützt werden, insbesondere läßt sich eine ausreichende Durchschlagfestigkeit der Doppclschicht erzielen, so daß die Entstellung von Nadellöchcrn sicher vermieder, wird. Darüber hinaus ist die Anordnung aus den beiden isolierenden Schichten feuchtigkeitsundurchiässig und infolge der

_4D isolierenden Deckschicht aus einer organischen Verbindung wasserabstoßend. Auch ist die Neigung zum Anhaften von Entwickler- bzw. Tonerteilchen ausgesprochen gering.

Eine weitere, auf demselben Prinzip beruhende Lösung der der Erfindung zugrundeliegenden Aufgabe ist dadurch gekennzeichnet, daß das Aufzeichnungsmaterial aul der fotoleitfähigen Schicht eine isolierende Schicht aus einer organischen Verbindung und darauf eine isolierende Deckschicht aus

^₀ einer anorganischen V erbindung enthält.

Vorteilhaft enthält das Aufzeichnungsmaterial einen elektrisch leitenden Schichtträger unü eine isolierende Zwischenschicht. Hierdurch weiden die Durchschlagsfestigkeit des Aufzeichnungsmaterial* und der erreichbare Kontrast der zu erzeugenden Ladungsbilder weiter ei höht.

Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von Ausfühi ungsbeispielen anhand der Zeichnung. Darin zeigen:

F i g. 1, 3, 4, 5 und 6 vergrößerte Queisehnittsansichtcn von Austührungsioimcn eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials und

Fig. 2A bis 2D schematische Ansichten eines Beispiels zur Herstellung des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial.

Das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial weist grundsätzlich einen Schichtträger I. eine auf dem

Schichtträger 1 liegende fotoleitfähige Schicht 2 und eine anorganische isolierende Schicht 3 auf, die auf der fotoleitfähigeo Schicht 2 liegt, wie aus F i g. 1 ersichtlich ist. Man kanu z. B, die mechanische Festigkeit der Oberfläche auffallend verbessern und die Beständigkeit gegen dielektrische Beanspruchung, verglichen mit herkömmlichen Isoliermaterialien, stark erhöhen, wenn der Überzug aus der anorganischen Schicht 3 ani der fotoleitfähigen Schicht 2 aus anorganischen Isoliersteffen, wie Glas und keramischen Materialien besteht.

Das Überziehen der fotoleitfähigea Schicht mit der oben erwähnten anorganischen isolierenden Schicht ist manchmal gewissen Einschränkungen in Bezug auf das Material oder das Überziehverfahren hinsichtlich der Oberflächengüte, der Hitzebeständigkeit usw. des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials unterworfen.. Diese Einschränkungen lassen sich beseitigen, wenn das Übereinanderschichten 2. B. in der Weise durchgeführt wird, daß man die isolierende Schicht und die fotoleitfähige Schicht gesondert hergestellt und sie anschließend, wie in F i g· 2 gezeigt, übereinanderschichtti.

Bei der Anordnung gemäß Fig. 2A ist eine an- ©rganische isolierende Schicht 3 auf einer Unterlage H vorgesehen, während zwischen der Schicht 3 und tier Unterlage 11 eine Abziehschicht 12 angeordnet Und ein Polymerfilm 4 mit Hüte einer Haftschicht 13 iin der anorganischen isolierenden Schicht 3 haftend angebracht ist. Nun wird andererseits eine lichtempfindliche Schicht, die einen Schichtträger 1 und tine fotoleitfähige Schicht 2 aufweist, gesondert hergestellt (Fig. 2B) und die oben erwähnte isolierende Schicht 3 auf die fotoleitfähige Schicht 2 aufgeschichtet. Mit anderen Worten, die in F i g. 2 A gezeigte isolierende Schicht wird mittels der Abziehschicht 12 abgezogen und auf die in F i g. 2 B gegeigte totoleitfähige Schicht 2 aufgeschichtet. Bei diesem Aafbau ist die erwähnte abgezogene isolierende Schicht mit der fotoleitfähigen Schicht 2 haftend verbunden, wie in Fig. 2C eindeutig zu sehen ist. Die Bezugszahl 13' bezieht sich auf dit- zur Haflverbindungen der beiden Schichtgebilde verwendete Haftschicht.

Aul diese Weise ist eir.e anorganische Isolierschicht auf der Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials gebildet.

Wird ein Po'ymerfilm 4 lediglich als vorübergehende Schutzschicht der anorganischen isolierenden Schicht 3 verwendet, so wird er als Zwischenschicht zwischen der anorganischen isolierenden Schicht 3 und der Abziehschicht 12 angcordaet (Fig. 2D), wobei nach dem Befestigen der anorganischen isolierenden Schicht 3 an der in F i g. 2 B gezeigten fotoleitfähigen Schicht 2 der Polymerfilm 4 abgezogen wird.

Wie oben beschrieben, kann durch die Verwendung einer anorganischen isolierenden Schicht mit Iioliercigenschaften, wie hoher dielektrischer Durchschlagfestigkeit, nicht nur beispielsweise das Durchschlagen der Isolierung und die Entstehung winziger Löcher und damit eine Verschlechterung des lichtempfindlichf,ii Aufzeichnungsmaterials vermieden, sondern auch die mechanische und physikalische Festigkeit des '.ichtempfindlichen Auf/.cichnungsmaterials erhöht werden.

Die Oberfläche der isolierenden Schicht wird ferner zur Verbesserung der Eigenschaften des licht

empfindliche» Aufzeichnungsmaterials, wie z, B. der Wasserabstoüung, der Feuchlißkeitsundurchlässigkeit und des Nichthafteiis von Entwicklcrkornteilcnen, mit einem organischen isoliermaterial versehen.

Durch die Verwendung eines solchen organischen Isoliermaterial kann beim elektrofotografischen Verfahren ein kontrastreiches Ladungsbild erzeugt werden, was die Qualität des übertragenen sientbu-en Bildes erhönt.

hs ist also möglich, ein wirksameres lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zu erhalten, indem sowohl eine anorganische als auch eine organische isolierende Schicht gleichzeitig verwendet werden. Diese Arbeitsweise wird nachfolgend beschrieben. Uas in F i g. 3 gezeigte lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial weist vier Schichten aut, nämlich eine leitende Schicht 21, eme lotoleitfähige Schicht 2, eine anorganische isolierende Schicüt 3 und eine organische isolierende Schicht 5. Als isolierten ouer -sektor des iichiemptinu.hcb.en Autzeichnungsniaterials werden dabei entweder die aus der anorganischen isolierenden Schicht 3 uuü üer organischen isolierenden Schicht 5 bestehende Aufschichtung, oder die leitende Schicht 21, die iiir Strahlungen, aut welche die iotoleiuahige Schiebt 2 anspricht, durchlässig ist, und die anorganische Loiierende Schicht 3 sowie die organische isolierende Schicht 5 verwendet.

Line andere Ausführungiform des lichtempfindlichen Aulzeicnnungsmateiials ist in F i g. 4 gezeigt. Dieses lichtemplindliche Aufzeichnungsmaterial ist aus liinl bchicnteu zusammengesetzt, narnlieh einer leitenden Schicht 2i, einer anorgan acheu lsolierenden Zwischenschicht 14, einer lololeitlähigen Schicht 2, einer anorganischen isolierenden Schicht 3 und einer organischen isolierenden Schicht 5. Hierbei sind entweder die anorganische isolierende Schicht 3 und die organische lsoiieiende Schicht 5 oder die leitende Schicht 21 und uie isolierende Zwischenschicht 14 iur Strahlungen durchlässig, aut welche die lotoleitende Schicht 2 anspricht. Daher weist dieses lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial genau wie das in i-ig. J ^zeigte lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial als lsolierscKtor die Schichtung aus der anorganischen isolierenden Schicht 3 und der organischen isolierenden Schicht 5 sowie ais Oberflächenschicht die organische isolierende Seiiicht 5 auf, um ein Schichtengebilde /m erhallen und dasselbe Ziel zu erreichen, wie bei dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial nach I- ι g. 3.

Darüber hinaus ist dieses lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Schichten, zwischen welcher die lotoleitfähige Schicht eingebettet ist, Isolierschichten sind von denen die isolierende Zwischenschicht 14 bein: Ladevo-gang mit Hilfe einer Hochspannung zum Inhalt eines Ladungsbildes mit einer Polaritäi geladei: wird, die derjenigen der Ladung der organische! isolierenden Schicht 5 entgegengesetzt ist, wöbe durch Aufrechterhaltung eintr hohen LadungsdiehU an der organischen isolierenden Schicht em kon trastreiches Ladungsbild erhalten werden kann. Da her weist die isolierende Zwischenschicht 14 vor zugsweise die oben genannten anorganischen Isolier substanzen auf, die als Isoliereigenschaften eim hohe dielektrische Durchschlagsfestigkeit besitzen um die hohe Dichte der Ladung aufrechtzuerhalten

Allerdings reichen auch die oben erwähnten üblichen organischen Isolierstoffe aus.

Nachfolgend werden Materialien beschrieben, aus welchen die jeweiligen Schichten des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials bestehen.

Die anorganischen Isoliermaterialien müssen bei normalen Temperaturen und normaler Feuchtigkeit eine relative Dielektrizitätskonstante von 2 oder darüber haben, ferner einen spezifischen Widerstand von 1O¹²UCtH oder darüber, eine Durchschlagsfestigkeit von 120 kV/mm und eine Schichtdicke zwischen 1 bis 40 |tm. Die Schicht ist schwach, wenn sie dünner als 1 μ ist, und ihre Biegsamkeit oder Geschmeidigkeit ist verringert, wenn sie dicker als 40 fim ist. Geeignete Werkstoffe sind Glas und keramische Materialien, wie hochprozentiges Silikatglas, Kronglas, Borsilikatglas, SiO₂, Al₂O₃, CaFe₂. BN, To₂O₃ und Gemische aus diesen. Aus Fertigungsgründen können Substanzen wie Se, PbO, CaO, B₂O₃, SrO und MgO enthalten sein, um die Schicht zu färben und gleichzeitig eine Filtenvirkung zu erzielen.

Als Materialien für die Substanzen der organischen isolierenden Schichten mit einem Isolierwiderstand von mehr als 10¹² Qcm können z. B. Polyäthylen, Polypropylen, Polyethylenterephthalat, Polystyrol, Polyester, Polycarbonat, Polyvinylchlorid, Äthylcellulose und Celluloseacetat verwendet werden.

Was die fotoleitfähigen Substanzen anbetrifft, müssen sie eine annähernd 5 bis 200 μΐη dicke Schicht bilden. Die fotoleitfähige Schicht beispielsweise ist hauptsächlich aus Schwefel, Zinkoxid, einer Zinkkadmiumlegierung, Sulfidfluoreszenzsubstanzen, amorphem Selen, einer Selentellurlegierung, mit Kupfer aktiviertem Kadiumsulfid CdS-CdSe oder anderen anorganischen fotoleitfähigen Substanzen in Form einer Einzelschicht oder eines Bindemitteldispersionssystems zusammengesetzt oder sie kann hauptsächlich aus Anthrazen, 3,6-Dibrompoly-N-vinylcarbozol. nitriertem Poly-N-vinylcarbenzol, bromiertem Poly-N-vinylcarbazol, Polyyinylanthracen oder anderen organischen fotoleitfähigen Substanzen bestehen.

Was die Unterlage bzw. den Schichtträger anbetrifft, so können Metalle wie Kupfer, Aluminium, Eisen, rostfreier Stahl und Zinn oder leitendes Glas verwendet werden, das durch Auftragen einer Zinn oxidschicht zum Erhalt des sogenannten Nesaglascs hergestellt werden kann, sowie andere Substanzen, die als leitende Schicht des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials geeignet sind.

Als Materialien für die bei dem in Fig. 2 gezeigten Beispiel verwendete Abziehschicht kann Silikonharzöl, das z. B. bis 250° C hitzebeständig ist, Dimethylsiloxan (100 bis 10 000 Hz) oder Tetrafluoräthylen, das bis mehr als 300° C hitzebeständig ist, sowie fluoriniertes Äthylen-Propylen Verwendung finden. Diese Substanzen sind unter Verwendung einer minimalen Menge genügend wirksam.

Für die Haftstoffe können durchsichtige lösungsndttellose Haftmaterialien wie Epoxydharz, Polyesterharz, mischpolymerisatartige Vinylacetatpolyäthylett-AufSchmelzüberzüge verwendet werden, die gleichmäßig aufgetragen werden müssen und deren Dicke S μ» nicht übersteigen darf.

©ie eben beschriebenen Materialien für die Zusaeifflensetzung der jeweiligen Schichten stellen nur einige der verwendbaren Stoffe dar, wobei selbstverständlieh beliebige andere geeignete Materialien eingesetzt werden können.

Bei den oben beschriebenen Ausführungsbeispielen ist der zahlenmäßige Wert der dielektrischen Durchschlagsfestigkeit der oben beschriebenen anorganischen isolierenden Schicht z. B. wenigstens annähernd 180 kV/mm. wenn die obenerwähnte anorganische Substanz Glimmer ist. Andererseits beträgt die dielektrische Durchschlagsfestigkeit

ίο 120kV/rnm im Fall des Polyäthylenterephthalats. das hinsichtlich der dielektrischen Durchschlagsfestigkeit zur Verwendung als organische Isoliersubstanz bei der obengenannten organischen isolierenden Schicht als ausgezeichnet zu bezeichnen ist. Daher beträgt die gesamte dielektrische Durchschlagsspannung etwa über 4000 V bei dem Schichtengebilde des Isoliersektors eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials. das durch das Übereinanderschichten der obenerwähnten anorganischen isolierenden Schicht und der organischen isolierenden Schicht gebildet wurde, z. B. im Fall einer 20 inn dicken anorganischen isolierenden Schicht aus Glimmer und einer 10 um dicken organischen isolierenden Schicht aus Polyäthylenterephthalat, was sich aus einer einfachen arithmetischen Berechnung auf Grund der zahlenmäßigen Werte der dielektrischen Durchschlagsfestigkeit des obenerwähnten Glimmers und des Polyäthylenterephthalats ergibt. Dies zeigt, daß die isolierende Schicht des lichtempfindlichen Auf-Zeichnungsmaterials eine höhere dielektrische Durchschlagsfestigkeit hat, als in dem Fall, in welchem nur eine organische Isoliersubstanz als isolierende Schicht verwendet wird. Was ferner die Dielektrizitätskonstante im System des lichtempfindlichen Auf-Zeichnungsmaterial anbetrifft, ist die Dielektrizitätskonstante von Glimmer annähernd 9, jene von Polyäthylenterephthalat annähernd 3 und jene des Isoliersektors annähernd 5,4. Diese Werte der Dielektrizitätskonstante sind dann zum Erhalt eines Ladungsbildes zu bevorzugen, wenn das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial einer Hochspannung ausgesetzt wird.

Darüber hinaus können die obenerwähnten anorganischen Isoliersubstanzen und organische Isoliersubstanzen selbstverständlich in Abhängigkeit von den betrieblichen Umgebungsbedingungen des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials .'/ei gewählt werden, so daß der Isoliersektor des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials mit einer beliebi- gen dielektrischen Durchschlagsfestigkeit und Dielektrizitätskonstante innerhalb optimaler Bereiche gebildet werden kann.

Das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial ist nicht auf das oben beschriebene beschränkt, sondern umfaßt sämtliche lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterialien für elektrofotografische Verfahren zur Herstellung eines Ladungsbildes, die die beschriebene isolierende Schicht besitzen.

Zusammenfassend handelt es sich beim beschrie-

benen elektrofotografischen Aufzeichnungsmaterial um eine Übereinanderschichtung von drei Schichten, und zwar einer isolierenden Schicht, einer fotoleitfähigen Schicht und einer leitenden oder isolierenden Schicht oder aber um ein Vierschichtengebilde aus einer isolierenden Schicht, einer fototehYähigen Schicht, einer isolierenden Zwischenschicht und einer leitenden Schicht, wobei die isolierende Zwischenschicht entweder aus einer einzigen anorganischen

• r ι <; ι,ί,-hi hrsteht oder 3der organischen isolierenden Schicht besteht oder

,ie auch di, isolierende Schicht »«den oben- «wähnten zwei übercinandergcbrachtcn Schuhten-

der organischen isolierenden Schicht und utr organischen isolierenden Schicht.

Wie oben erwähnt weist das ^L ^ Aufeeichnungsmater.al grundsatzluh die

Schichten auf. In n*^*"™*^ Zusammensetzung des
d

U) Gcwichtslcilcn eines Vinylchloridvinylacctathar-_{F tstoflf) und i0}0 Gewichtsteilen Methyl-

z5 ammSngesctzt war. Die Folie wurde ^ ^ _q ^.^ _{Luf{ gctrocknc}, _{und cinc}

^ ^ ^^ _liclltcmp_findi_iche Schicht hergestellt.

Andererseits wurden eine 12 um dicke Polyäthylentcrcphthalatfolic und eine 20 ,im dicke Glimmer-Haftstoffcs aus Polyacrylvinyl miteinander haftend verbunden. Diese Schichten

Schichten au ^^^ miteinander haftend verbunden. Diese S

Hc Zusammensetzung des Sch.cn¹¹'^^ΙΝ ""^c _{ejncs Epoxidharzcs zum} Er-

.chiedlich ist, kann das hchtempfind ,ehe Ab .el- wurden^ ^ _{rindlichcn P} ^l _lalle auf die Ober-•ungsmaterial einen komplizierten λπΓΚ ™ _{d nä} , _dc,. _obenerwähntcn lichtempfindlichen Schicht

Um dies zu veranschaulichen weist der Sch.ch ι jene Haftschicht aus PoIy-

Iräger 1 gemäß F i g. 5 im Fall einer cm/igen ^e- au ,kleb · De ^ ^ ^ _Haft5chicht

renden Schicht 6 aus emer anorga. i, sch ei^»'^J _ ^ J _Epoxit,_harz 2 bis 5 .,m. während die Gesamt-S;Sr^:nz:nⁱⁿund t SÄ -**f-—^ P.atte im Durchschnitt Stanzen auf. Obwohl in F ig. 5 ehe e.wndc Sch eh
mit 22 und die isolierende Schicht mit 21. nfeed J
ist, ist das Schichtengebilde selbstverständlich mehl
auf diesen Schichtenaufbau beschrankt.

Weist die isolierende Schicht 6 ei nc ^s^¹^

tenaufl.au auf, der durch die kombiη tion^.κ an

organischen und einer oig. η:ischui ohc ena

Schicht erhalten ist, wie in F ig. ö gc^fc ' ^s^ ^J

auch der Schichtträger 1 auf cheselh ^e « zu . m

mcngesetzt scm Kurzum, es kann de ^htenau

hau des Schichtträger nach Bedarf Ire. _ecwani

werden. . .

Das beschriebene lichtempfindhe:Jc

nungsmaterial besitzt hohe d, J^"^

schlagfestigkeit und halt beim ^ Γ I Vdvm "sdicine

Erhalt des Ladungsbildes eine hohe Ladung« 1.et,

aufrecht. Dies führt demgemäß zum U J obenerwähnten Schicht gleichmäßig

kontrastreichen Ladungsbildes und ruft Jannxr Hache ₁₀-_W-Wolframlampc ausgesetzt und

aus sogar bei Verwendung hoher Spamlungcn η _{dn Ladu bj},_{d zu erhaUeRi das mlt}

Durchschlagen der Isolierung oder da^ Lntstehen Vl übiit

winziger Nadellöcher hervor^ welch ^d,e Ruptur

sache für dic sonst auftretende Veisehleüiteiungae

lichtempfindlichen Aufzeichnungsmatena s^ nd M«-

hin ist selbst nach langer Zeit und w ede rho\urau

brauch keine Verschlechterung esmstelkn. Da _

über hinaus kann man mittels des ^nnaun

gemäßen lichtempnndhchen Aufzeich ηung ma ^ £_e,_cktrischen Festigkeit unte g

ein kontrastreiches Ladungsbild .η e η ^bares ae _{aduncsvoreäniicn} zeigte das bei Durchfüh-

BiId getreu der Vorlage umwände η und eine aus 4o Λ UUU ^ ^ ;_{lcktrufotogranscncn} Verfah-

gezeichnete Bildkopie erhalten, wc, d,_c Dec^chicht rung g ^ ^.^ _{Veischlechterung der}

ScMhi:S^"e SSS iluer^S- B.ldgüte. und es ergaben sich sehr gute Bildkop.en.

abstoßenden Eigenschaften, der Feuchtigkeit- Beispiel 2

undurchlässigkeit und des Nichthaftens; von^Entwick- ₃o Aluminiumfolie wurde ein

lerpulver sowie ihrer mechanischen Feshgkeit am Am e _P^_lyäthylenterephthalatfilm mit Hilfe

gezeichnet ist. Durch beliebige Auswahl und^Verwen- 12 μηι dicj: >,^ ^ ^ ^ _£

dung der obigen Matenalien fur die ^Zuf™Jg Ja^eI war etwa 3 um. Dann wurden die lichtempzuni der anorganischen und der organischen Schicht harze* ja' ^ _{die pol}

je n⁸ach den jeweiligen AA«t*ed«yig™^^ » ^^aSchicht auf eine der beim Beispiel 1 be-Aufzichnungsmaterial laßt si.h stete em ^J«^mP schriebenen ähnliche Weise in dieser Reihenfolge

sen yienterephftalatfilm aufgeklebt unc

a^ _lichtemJ_fin(|_{liche platte mit dner durc}hschnitt 60 liehen Gesamtdicke von 160 μΐη hergestellt. Unte Verwendung dieser lichtempfindlichen Platte tarn _{dann nach} |_{em in der USA}.._Patentanmei_dung Serial j^_o 563 899 beschriebenen elektrofotografischei Verfahren ein dem im Beispiel 1 beschriebenen ahn

^j ^ _unter Verwendung dieses licht_cmpr_indlichen Aufzeichnungsmaterials nach dem in _d ^mp _USA ._p.„_entanmcldunp Serial-No. 571538 bcschriebenen elektrofotografischen Verfahren mit _{Hi]f cjncs} , _{n mm obcrhaIb dcT} Oberfläche des l.cht-J_{n flndIichen} Aufzcichnungsma.erials befindlichen _Koi_onacntladungsdraht_Cs eine Spannung von +6 kV _dic oberfläche der aus Polyäthylenterephthalat ^o « isolierenden Schicht des Aufzeichnungs-

^ ^ _{dercp Obcr|lächc glcic imLlßlg}

^^ aufzuladen, worauf ein Vorlagcnbild mit Hilfe einer Wolframlampc von etwa 10 Lux etwa 0.1 ™J _dic Oberfläche der obcncrwähn-

_{en isolicrcnd}en Schicht projiziert und gleichzeitig eine Wechsels! -„.koronaentladung von ft kV ane Anschließend wurde die ganze Ober- * J obenerwähnten Schicht gleichmäßig 1 bis Hache _10WWlfmlampc ausgesetzt und

_{dn Ladu bj},_{d zu erhaUeRi das mlt}

__DunkeI-Muster der Vorlage übereinstimmt, dem ^ ^ ^^^^ _Ladungsbi,_{d durch}

_tbür,_ten entwickelt und ein ausgezeichnetes M ,jetbu _q ^_{5 B},_{Jd hcrgestdU}

liclnemplindliche Aufzeichnungsmaterial J^s ^^ J^^ ^ _{ununterbrocheaer Folgc}

obenerwähnten Ladungsvorgang zum Prüfen £™_e,^l _cktrischen Festigkeit unterworfen. Sogar nach ae i d bi Dhfüh

je nach den jeweiligen AAyg^ Aufzeichnungsmaterial laßt si.h stete em ^JP endliches Aufzeichnungsmaterial mit optmale d elektrischer Durchschlagsfestigkeit und Dielettnzi tätskonstante schaffen. .

Zur weiteren Veranschauhchung d« dienen die nachfolgenden, nicht erasc Beispiele.

Beispiel 1

Lösung aus einem

»leichmäßig positiv aufgeladen wurde. Dann wutd Sn VcUgIuU «wa 0,5 se_{t lmg} mi, »hj*.

Wolframlampe von etwa 10 Lux auf die lichtempfindliche Platte projiziert und gleichzeitig eine Koronaentladung mit umgekehrter Polarität angelegt. Dann wurde die Oberfläche der obenerwähnten isolierenden Schicht einer 10-W-Wolframlampe 1 bis 2 sek lang gleichmäßig ausgesetzt und belichtet und ein Ladungsbild erhalten, das dem Hell-Dunkel-Muster des Vorlagenbildcs entsprach. Daraufhin wurde durch Entwickeln des Ladungsbildes nach eiern Kaskadenentwickhnigsverfahrcn ein originalgetreues Bild guter Qualität erhalten.

Nach dem Prüfen der elektrischen Festigkeit dieser lichtempfindlichen Platte unter denselben Bedingungen wie beim Beispiel 1 ergab sich noch nach 70 000 Ladungsvorgängen eine äußerst gute Bildkopie ohne jede Verschlechterung der Bildgüte.

Beispiel 3

Auf eine Aluminiumträgcrplattc wurde eine fotoleitfähige Schicht aufgetragen, die aus mit Fpoxidharz miteinander haftend verbundenen fe nen CdS-KiJrnern bestand. Die Platte wurde an άκ Anode einer Hochfrequcnz-Kathodenzerstäubungsvorrichtung gebracht und an die Kathode ein 96ⁿ/nige<Quarzglas gebracht. Im Inneren der Vorrichtung wurde ein Vakuum von 10~^:1Torr aufrechterhalten und das obenerwähnte Element aus fololcitfähigem Material mit Hilfe einer Indiumfolic mit einer wassergekühlten Platte in Kontakt gebracht, um die

ίο Temperatur während der Zerstäubung innerhalb eines Bereiches von 100° C bis 150° C zu halten.

Die Wirksamkeit der Zerstäubung wurde fcrnci durch gleichzeitiges Anlegen eines Magnetfeldes erhöht. Auf diese Weise wurde in etwa einer Stunde eine Quarzglasschicht mit der vorgeschriebener Dicke von 8 um auf der fotoleitfähigen Schicht gebildet.

Die so erhaltene isolierende Deckschicht hatte eine ausgezeichnete dielektrische Durchschlagsfestig keit und ausgezeichnete Oberflächeneigenschaf ten.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

Paten tansprüche;

1. Elektrofotografisches Aufzeichnungsmaterial aus eimern elektrisch leitenden oder isolierenden Schichtträger, gegebenenfalls einer isolierenden Zwischenschicht, einer fotoleitfähigen Schicht und einer isolierenden Deckschicht, dadurch gekennzeichnet, daß es auf der fotoleitfähigen Schicht (2) eine isolierende Schicht (3) aus einer anorganischen Verbindung und darauf eine isolierende Deckschicht (5) aus einer organischen Verbindung enthält.

2. Elektrofotografisches Aufzeichnungsmaterial aus einem elektrisch leitenden oder isolierenden Schichtträger, gegebenenfalls einer isolierenden Zwischenschicht, einer fotoleitfähigen Schicht und einer isolierenden Deckschicht, dadurch gekennzeichnet, daß es auf der fotoleitfähigen Schicht (2) eine isolierende Schicht (4) aus einer organischen Verbindung und darauf eine isolierende Deckschicht (3) aus einer anorganischen Verbindung enthält,

3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es einen elektrisch leitenden Schichtträger (22) und eine isolierende Zwischenschicht (14; 22) enthält.