DE19956354A1 - Optisches System sowie Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern in einem optischen System - Google Patents
Optisches System sowie Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern in einem optischen SystemInfo
- Publication number
- DE19956354A1 DE19956354A1 DE19956354A DE19956354A DE19956354A1 DE 19956354 A1 DE19956354 A1 DE 19956354A1 DE 19956354 A DE19956354 A DE 19956354A DE 19956354 A DE19956354 A DE 19956354A DE 19956354 A1 DE19956354 A1 DE 19956354A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- optical element
- optical system
- rotation
- rotationally symmetrical
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Ein optisches System, insbesondere eine Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie, weist insbesondere ein schlitzförmiges Bildfeld oder eine nicht rotationssymmetrische Beleuchtung auf. Es umfaßt eine Lichtquelle (30) sowie mindestens ein optisches Element, insbesondere eine Linse oder einen Spiegel. Im Bereich mindestens einer mit der Strahlung (1) der Lichtquelle (30) beaufschlagten Oberfläche ist das optische Element bezüglich einer Rotations-Symmetrieachse (5) im wesentlichen symmetrisch. Das optische Element oder dessen Gehäuse (6) ist verdrehbar mit einem Rahmen (7) über mindestens ein Lager (8, 9, 10) verbunden. Ein Aktuator (18) greift an dem optischen Element (25) oder dessen Gehäuse (6) zu dessen Verdrehung um die Rotations-Symmetrisches (5) an. Er arbeitet mit einer Steuereinrichtung (23) zusammen. Diese steuert den Aktuator (18) zur Verdrehung des optischen Elements zumindest zeitweise in dem Zeitraum an, in dem das optische Element einer Belichtung ausgesetzt ist. Auf diese Weise werden nicht rotationssymmetrische Abbildungsfehler kompensiert.
Description
Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere
eine Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie,
insbesondere mit schlitzförmigem Bildfeld oder nicht
rotationssymmetrischer Beleuchtung,
- a) mit einer Lichtquelle;
- b) mit mindestens einem optischen Element, insbesondere
einer Linse oder einem Spiegel, das
- a) mindestens eine mit Strahlung der Lichtquelle beaufschlagte Oberfläche aufweist; und
- b) dessen Grundform zumindest im Bereich der minde stens einen mit Strahlung beaufschlagten Ober fläche bezüglich einer Rotations-Symmetrieachse im wesentlichen symmetrisch ist.
Weiterhin betrifft die Erfindung Verfahren zum Ausgleich
von nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern in
einem derartigen optischen System, durch welches ein
Lichtbündel geführt wird.
Die Abbildungsqualität eines derartigen optischen Systems
wird oftmals durch nicht rotationssymmetrische Abbildungs
fehler gemindert. Derartige Abbildungsfehler entstehen z. B.
durch eine nicht rotationssymmetrische Erwärmung des
mindestens einen optischen Elements des optischen Systems,
oder durch andere Effekte wie z. B. "compaction", die eine
entsprechende nicht rotationssymmetrische Ausdehnung bzw.
Brechungsindexverteilung im optischen Element zur Folge
haben. Eine derartige nicht rotationssymmetrische Erwärmung
kann belichtungsinduziert sein, aber auch andere Ursachen
haben, z. B. eine nicht rotationssymmetrische thermische
Ankopplung des optischen Elements an seine Umgebung oder
eine sonstige nicht rotationssymmetrische thermische
Beeinflussung des optischen Elements. Andere Ursachen für
nicht rotationssymmetrische Abbildungsfehler können z. B.
Materialinhomogenitäten oder Abweichungen in der Form der
lichtbeaufschlagten Oberfläche des optischen Elements
sein.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, nicht
rotationssymmetrische Abbildungsfehler des mindestens
einen optischen Elements des optischen Systems zur Ver
besserung der Abbildungsqualität auszugleichen bzw. zu
symmetrisieren.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß:
- a) das optische Element oder dessen Gehäuse verdrehbar mit einem Rahmen über mindestens ein Lager verbun den ist;
- b) ein Aktuator vorgesehen ist, der an dem optischen Element oder dessen Gehäuse zu dessen Verdrehung um die Rotations-Symmetrieachse angreift; wobei
- c) der Aktuator mit einer Steuereinrichtung zusammen arbeitet, die den Aktuator zumindest zeitweise in dem Zeitraum, in dem das optische Element einer Belichtung ausgesetzt ist, zur Verdrehung des optischen Elements ansteuert.
Soweit die nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehler
licht- oder wärmeinduziert sind, kann durch die erfindungs
gemäße Anordnung bereits die Entstehung durch die Ver
drehung des optischen Elements verhindert oder zumindest
reduziert werden. Die Verdrehung hat dabei innerhalb einer
Zeit zu erfolgen, die kurz ist, gemessen an der Zeitkon
stante der Entstehung belichtungsinduzierter Abbildungs
fehler.
Soweit nicht rotationssymmetrische Abbildungsfehler
nicht licht- oder wärmeinduziert sind, können diese
durch die erfindungsgemäße Anordnung kompensiert werden,
sofern die Verdrehung verglichen mit der Belichtungszeit
schnell erfolgt.
Insgesamt ergeben sich dadurch zumindest im wesentlichen
rotationssymmetrische Abbildungseigenschaften. Durch eine
solche Symmetrisierung der Abbildungseigenschaften hat
entweder das optische System ohne weitere Korrekturen
eine ausreichend gute Abbildungsqualität, oder eine relativ
einfache Korrektur mit zusätzlichen rotationssymmetrischen
optischen Korrekturelementen wird möglich.
Der Aktuator kann durch einen Elektroantrieb mit einem
rahmenfesten Stator und einem Rotor, der drehfest mit dem
optischen Element verbunden ist, gebildet sein, wobei
zwischen dem Rotor und einem mit dem Rahmen drehfest
verbundenen Stator ein Luftspalt verbleibt. Ein derartiger
Elektroantrieb ermöglicht eine präzise Verdrehung des
optischen Elements, ohne daß dabei Vibrationen entstehen.
Elektrische Einrichtungen, die sich mit dem optischen
Element mitdrehen, können über Kabel mit einer Strom
versorgung verbunden sein. Eine derartige Stromversor
gung, die natürlich nur dann möglich ist, wenn das optische
Element nicht ständig in einer Drehrichtung verdreht wird,
ist kostengünstig.
Alternativ können elektrische Einrichtungen, die sich mit
dem optischen Element mitdrehen, über eine induktive
Koppeleinrichtung mit einer Stromversorgung verbunden
sein. Eine derartige elektrische Versorgung ist auch bei
einem sich ständig in einer Drehrichtung drehenden opti
schen Element möglich und weist im Gegensatz zu in einer
solchen Situation ebenfalls möglichen Schleifkontakten
keinen Verschleiß auf. Auch über einen Schleifkontakt
gegebenenfalls übertragene Vibrationen auf das optische
Element, die dessen Abbildungsqualität beeinträchtigen
würden, entfallen.
Mindestens ein Lager kann ein Magnetlager sein. Derar
tige Lager können zu einer berührungslosen Lagerung
eingesetzt werden, wobei ebenfalls Vibrationen bei der
Verdrehung vermieden werden.
Alternativ oder zusätzlich kann auch mindestens ein
hydrostatisches Lager oder ein Luftlager vorgesehen
sein. Auch bei derartigen Lagern werden bei der Ver
drehung kaum oder überhaupt keine Vibrationen über
tragen.
Alternativ zu einem Elektroantrieb kann der Aktuator
auch durch einen mit mechanischem Eingriff arbeitenden
Antrieb mit einem Getriebe gebildet sein. Ein derartiger
Aktuator ist kostengünstig und ermöglicht, abhängig von
den Fertigungstoleranzen, ebenfalls eine präzise Verdrehung
des optischen Elements.
Wird als Getriebe ein Schneckengetriebe eingesetzt,
kann mit einer relativ hohen Antriebsdrehzahl ein langsames
Verdrehen des optischen Elements erzielt werden. Dies
ist zur Schwingungsentkopplung des optischen Elements
von den Antriebsschwingungen nützlich.
Alternativ kann das Getriebe ein Kegelradgetriebe sein.
Mit einem derartigen Getriebe sind hohe Drehzahlen beim
Verdrehen des optischen Elements realisierbar, so daß
auch bei kurzer Belichtungszeit eine erfindungsgemäße
Symmetrisierung von Abbildungsfehlern möglich ist.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Ver
fahren der eingangs genannten Art derart weiterzubilden,
daß nicht rotationssymmetrische Abbildungsfehler besonders
wirksam symmetrisiert werden.
Diese Aufgabe wird bei einer Variante des erfindungsgemäßen
Verfahrens gelöst durch folgende Verfahrensschritte:
- a) Verdrehen des optischen Elements um einen bestimm ten Drehwinkel;
- b) entgegengesetztes Verdrehen des optischen Elements um einen bestimmten Gegen-Drehwinkel.
In den meisten Fällen ist zur Symmetrisierung nicht
rotationssymmetrischer Abbildungsfehler kein fortlau
fendes Verdrehen des optischen Elements in einer Drehrich
tung erforderlich. Wird nur um bestimmte Drehwinkel hin-
und hergedreht, kann das optische System mechanisch
vereinfacht ausgeführt sein. Zusätzlich ist eine Stromver
sorgung von elektrischen Einrichtungen, die sich mit dem
optischen Element mitdrehen, vereinfacht, da in der Regel
Schleppkabel eingesetzt werden können.
Die Steuereinrichtung kann die Umkehrpunkte zwischen
den beiden Drehrichtungen innerhalb eines Drehwinkel
bereichs mit gleicher relativer Häufigkeit ansteuern.
Dadurch wird vermieden, daß das optische Element seine
Drehrichtung immer am gleichen Umkehrpunkt wechselt,
woraus einseitige mechanische Belastungen des optischen
Systems resultieren können.
Das optische Element kann bezogen auf eine Ausgangs
stellung entsprechend der Symmetrie der Strahlungs
leistungsverteilung im Lichtbündel um einen Bruchteil
einer vollen Umdrehung verdreht werden. Je höher die
Zähligkeit dieser Symmetrie ist, desto geringer ist der
zur Symmetrisierung der Abbildungsfehler erforderliche
Drehwinkel. Entsprechend einfacher wird die mechanische
Auslegung sowie die elektrische Versorgung des optischen
Systems.
Ein alternatives Verfahren zum erfindungsgemäßen Ausgleich
nicht rotationssymmetrischer Abbildungsfehler weist
folgende Verfahrensschritte auf:
- a) gemessen an der Zeitkonstante der Entstehung von durch die Strahlung der Lichtquelle induzierten Abbil dungsfehlern schnelles Verdrehen des optischen Elements um einen bestimmten Drehwinkel;
- b) Beibehalten der Position des optischen Elements für eine Verweildauer, die lang gemessen an der Dauer des Verdrehens und kurz gemessen an der Zeitkonstante der Entstehung von durch die Strahlung der Lichtquelle induzierten Abbildungsfehlern ist;
- c) entgegengesetztes, gemessen an der Zeitkonstante der Entstehung von durch die Strahlung der Licht quelle induzierten Abbildungsfehlern schnelles Verdrehen des optischen Elements um einen bestimmten Gegen- Drehwinkel.
Eine derartige Dreh-Sequenz zum Ausgleich belichtungsin
duzierter Abbildungsfehler führt, eine entsprechende
Symmetrie der Abbildungsfehler vorausgesetzt, zu einer
nochmaligen Verringerung des Drehwinkels, der zur Erzeugung
von im wesentlichen rotationssymmetrischen Abbildungseigen
schaften des optischen Systems erforderlich ist. Durch
das gemessen an der Verweildauer schnelle Verdrehen des
optischen Elements wird erreicht, daß Abbildungsände
rungen des optischen Elements, die durch Bestrahlung der
nur beim Verdrehen bestrahlten Bereiche des optischen
Elements entstehen, gegenüber Abbildungsänderungen, die
in den während der Verweildauer bestrahlten Bereichen des
optischen Elements entstehen, nicht ins Gewicht fallen.
Die während der Verweildauer in den Extrempositionen
zwischen den Verdrehungen induzierten Abbildungsfehler
heben sich, bei entsprechender Anpassung der Verweilzeit
und des Drehwinkels an die Zeitkonstante der Entstehung des
belichtungsinduzierten Abbildungsfehlers und an die
Symmetrie von diesem, gegenseitig derart auf, daß insgesamt
im wesentlichen rotationssymmetrische Abbildungseigen
schaften resultieren.
Das optische Element kann bezogen auf eine Ausgangs
stellung entsprechender Symmetrie der Strahlungslei
stungsverteilung im Lichtbündel um einen Bruchteil einer
vollen Umdrehung verdreht werden. Auch bei dem alternativen.
Verfahren ist bei mehrzähliger Symmetrie der belichtungs
induzierten Abbildungsfehler die schon oben beschriebene
zusätzliche Verringerung des absoluten Drehwinkels möglich.
Bei einem nochmals alternativen Verfahren zum erfin
dungsgemäßen Ausgleich von nicht rotationssymmetri
schen Abbildungsfehlern wird das optische Element mit
vorgegebener Drehzahl verdreht. Eine derartige Verdrehung
ist mit einer einfachen Antriebssteuerung möglich.
Während der Beaufschlagung mit dem Lichtbündel kann
das optische Element um eine Mehrzahl von Umdrehungen
verdreht werden. Dadurch ist auch eine Symmetrisie
rung von Abbildungsfehlern, die lichtinduziert mit relativ
kurzer Zeitkonstante entstehen oder nicht lichtinduziert
sind, gegeben. Auch mehrere voneinander unabhängige, nicht
rotationssymmetrische Abbildungsfehler werden auf diese
Weise sicher symmetrisiert.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend
anhand der Zeichnung näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 ein teilweise geschnittenes, drehbar gelagertes
Projektionsobjektiv in einem erfindungsgemäßen
optischen System; und
Fig. 2 eine Aufsicht auf das Projektionsobjektiv gemäß
Linie II-II von Fig. 1.
Fig. 1 zeigt einen Ausschnitt einer Projektions-Belich
tungsanlage für die Mikrolithographie. Ein Projektions-
Lichtbündel 1 wird von einer Lichtquelle 30, in der
Regel von einem Laser mit kurzer Emissionswellenlänge, z. B.
einem Argon-Fluorid-Excimerlaser, erzeugt und von einer
Fokussieroptik 31 fokussiert. Der Bündelquerschnitt des
Projektions-Lichtbündels 1, der später noch beschrieben
wird, wird von einer der Fokussieroptik 31 nachgeordneten
Maske 32 zur Vorgabe eines schlitzförmigen Bildfelds der
Projektions-Belichtungsanlage begrenzt.
Ein von dem Projektions-Lichtbündel 1 beleuchtetes, der
Maske 32 nachgeordnetes Retikel 2, das die zu projizierende
Strukturinformation trägt, wird auf einen Wafer 3 abgebil
det. Die Maske 32, das Retikel 2 sowie der Wafer 3 sind
in Fig. 1 nur schematisch dargestellt.
Als optische Einheit für die Abbildung des Retikels 2 auf
den Wafer 3 dient ein Projektionsobjektiv 4. Dieses umfaßt
eine Mehrzahl von rotationssymmetrisch zu einer optischen
Achse 5 des Projektionsobjektivs 4 angeordneten Linsen
(vgl. Linse 25 in Fig. 2), die innerhalb eines Objektivge
häuses 6 gehaltert sind. Diese Linsen bestehen aus für UV-
Licht gut transparentem Material, wie z. B. Quarzglas
oder CaF2.
Das Objektivgehäuse 6 ist um die optische Achse 5 drehbar
in einem Objektivrahmen 7 gelagert. Sowohl das Objektiv
gehäuse 6 als auch der Objektivrahmen 7 sind, was ihre
mechanischen Komponenten betrifft, um die optische Achse
5 rotationssymmetrisch. Der Objektivrahmen 7 wird seiner
seits von einem Tragrahmen 17 getragen, der in Fig. 1
nur ausschnittsweise dargestellt ist.
Zur drehbaren Lagerung des Objektivgehäuses 6 dienen drei
Lager: Ein oberes Radiallager 8, ein unteres Radiallager
9 sowie ein Axiallager 10. Auch diese drei Lagereinheiten
sind um die optische Achse 5 rotationssymmetrisch.
Das obere Radiallager 8 ist bezüglich des Objektivge
häuses 6 auf einem Niveau angeordnet, das der Eintritts
ebene des Projektionslichtbündels 1 in das Objektivge
häuse 6 benachbart ist. Mit dem Objektivgehäuse 6 ist
das obere Radiallager 8 über einen oberen Gehäusering
11 verbunden, der sich drehfest um das Objektivgehäuse 6
schließt. Das obere Radiallager 8 liegt mit seinem radial
äußeren Bereich in einer Aufnahme 12 des Objektivrahmens
7.
Das untere Radiallager 9 ist bezüglich des Objektivge
häuses 6 auf einem Niveau angeordnet, das der Austritts
ebene des Projektionslichtbündels 1 aus dem Objektivge
häuse 6 benachbart ist. Analog zum oberen Radiallager
8 ist das untere Radiallager 9 mit dem Objektivgehäuse 6
über einen unteren Gehäusering 13 verbunden, der sich
drehfest um das Objektivgehäuse 6 schließt. Das untere
Radiallager 9 liegt mit seinem radial äußeren Bereich in
einer Aufnahme 14 des Objektivrahmens 7.
Der untere Gehäusering 13 stützt sich axial über das Axial
lager 10 gegen eine Umfangsstufe 15 des Objektivrahmens 7
ab. Die Umfangsstufe 15 ist Teil einer ringförmigen Umfangs
ausnehmung 34 in der inneren Mantelfläche des Objektiv
rahmens 7 im Bereich des unteren Gehäuserings 13. In der
Umfangsstufe 15 ist eine Aufnahme 16 ausgebildet, in der
das Axiallager 10 teilweise aufgenommen ist.
Für die meisten Anwendungen der Projektionsbelichtung
reicht die Lagegenauigkeit, die beim Verdrehen des Ob
jektivgehäuses 6 mit Kugel- oder Wälzlagern als Lager
einheiten 8, 9, 10 erzielt werden kann, nicht aus. Daher
werden als Lagereinheiten 8, 9, 10 berührungslos arbei
tende Magnetlager eingesetzt, bei denen sich die zu
lagernden Komponenten über Magnetkräfte abstoßen. Alter
nativ können auch hydrostatische Lager oder Luftlager
eingesetzt sein.
Zur Verdrehung des Objektivgehäuses 6 um die optische
Achse 5 dient ein Elektroantrieb 18, der in Fig. 1 schema
tisch dargestellt ist. In einer Aufnahme 19 des Objektiv
rahmens 7 ist dazu ein Statorring 20 angeordnet, in dessen
Drehfeld ein mit Permanentmagneten ausgestatteter Rotorring
21 angeordnet ist. Dieser ist drehfest mit dem Objektiv
gehäuse 6 verbunden. Der Statorring 20 ist dabei in
bekannter Weise koaxial um den Rotorring 21 herum angeord
net, wobei zwischen beiden ein Luftspalt 22 verbleibt,
so daß ein berührungsloser Antrieb resultiert. Im Stator
ring 21 ausgeführte Leitungswicklungen 33 sind in Fig. 1
schematisch angedeutet.
Der Elektroantrieb 18 wird mittels einer Antriebssteue
rung 23 betrieben. Die Antriebsteuerung 23 steht mit einer
Belichtungssteuerung 24 in Signalverbindung.
Alternativ zum beschriebenen berührungslosen Elektroantrieb
ist auch ein mit mechanischem Eingriff arbeitender Antrieb
des Objektivgehäuses 6 im Objektivrahmen 7, z. B. über ein
Schneckengetriebe oder ein Kegelradgetriebe (beide in der
Zeichnung nicht dargestellt) möglich. Ein derartiges
Schneckengetriebe umfaßt eine Schnecke, deren zum Objektiv
rahmen 7 feste Drehachse tangential zum Umfang des Objek
tivgehäuses 6 verläuft. Die Schnecke greift in ein Schnec
kenrad ein, das als Ring um das Objektivgehäuse 6 herum
ausgebildet und mit diesem fest verbunden ist.
Zur Stromversorgung der sich mit dem Projektionsobjektiv
4 drehenden elektrischen Einrichtungen dient eine ringför
mige induktive Koppeleinrichtung 28. Alternativ kann die
Stromversorgung auch über Schleifkontakte erfolgen.
Die in Fig. 2 dargestellte Aufsicht auf den Teil des
optischen Systems mit dem Projektionsobjektiv 4 verdeutlicht
dessen rotationssymmetrischen Aufbau. Im Objektivgehäuse 6
ist eine im Strahlengang des Projektions-Lichtbündels 1
erste Linse 25 des Projektionsobjektivs 4 angeordnet. Das
Projektions-Lichtbündel 1 durchtritt die Linse 25 mit einer
rechteckigen Querschnittsfläche 26, die in Fig. 2 als
schraffierte Fläche dargestellt ist. Die in Fig. 2
gezeigte Querschnittsfläche 26 hat ein Seitenlängenverhält
nis der Längs- zur Schmalseite von ungefähr 2 : 1.
Die Projektions-Belichtungsanlage wird wie folgt betrieben:
Die Linsen im Objektivgehäuse, z. B. die Linse 25, erwärmen sich aufgrund der Restabsorption, die das Material, aus dem sie gefertigt sind, im Bereich der Wellenlänge des Projektions-Lichtbündels 1 noch aufweist. Diese Erwärmung, deren Temperaturverteilung in erster Näherung der absor bierten Strahlungsleistungsverteilung in den Linsen folgt, führt sowohl zu einer thermischen Ausdehnung des Materials als auch zu einer Brechungsindexänderung und daher, bedingt durch die geänderten Brechungseigenschaften, zu einer Änderung der Abbildungseigenschaften der Linsen. Ziel der Verdrehung des Projektionsobjektivs 4 ist es, durch eine Symmetrisierung der Absorption des Projektions-Lichtbündels 1 in den Linsen im zeitlichen Mittel eine Symmetrisierung der Temperaturverteilung in diesen zu erreichen. Eine daraus resultierende rotationssymmetrische, thermische Ausdehnung führt zu vernachlässigbaren bzw. gut beherrsch baren Abbildungsfehlern.
Die Linsen im Objektivgehäuse, z. B. die Linse 25, erwärmen sich aufgrund der Restabsorption, die das Material, aus dem sie gefertigt sind, im Bereich der Wellenlänge des Projektions-Lichtbündels 1 noch aufweist. Diese Erwärmung, deren Temperaturverteilung in erster Näherung der absor bierten Strahlungsleistungsverteilung in den Linsen folgt, führt sowohl zu einer thermischen Ausdehnung des Materials als auch zu einer Brechungsindexänderung und daher, bedingt durch die geänderten Brechungseigenschaften, zu einer Änderung der Abbildungseigenschaften der Linsen. Ziel der Verdrehung des Projektionsobjektivs 4 ist es, durch eine Symmetrisierung der Absorption des Projektions-Lichtbündels 1 in den Linsen im zeitlichen Mittel eine Symmetrisierung der Temperaturverteilung in diesen zu erreichen. Eine daraus resultierende rotationssymmetrische, thermische Ausdehnung führt zu vernachlässigbaren bzw. gut beherrsch baren Abbildungsfehlern.
Während eines Belichtungsvorgangs wird das Objektivge
häuse 6 mit dem Elektroantrieb 18 verdreht, wobei die
Drehachse des Objektivgehäuses 6 mit der optischen Achse 5
zusammenfällt. Der noch zu beschreibende Ablauf der Ver
drehung wird von der Belichtungssteuerung 24 vorgegeben und
über die Antriebssteuerung 23 gesteuert.
Aufgrund der Verdrehung wird im zeitlichen Mittel ein
um die optische Achse 5 rotationssymmetrischer Bereich
der Linsen des Projektionsobjektivs 4 von dem Projektions-
Lichtbündel 1 durchsetzt. Die Randkontur dieses rotations
symmetrischen Bereichs ist in Fig. 2 durch eine gestrichel
te Linie 27 angedeutet.
Falls die Strahlungsleistungsverteilung des Projektions-
Lichtbündels 1 über die Querschnittsfläche 26 spiegelsym
metrisch ist, gilt folgendes: Führen die Linsen eine halbe
Drehung aus, so ist die Verteilung der über die entsprechen
de Zeit integrierten, in den Linsen absorbierten Strahlungs
leistung homogen.
Bei beliebiger Strahlungsleistungsverteilung über die
Querschnittsfläche 26 des Projektions-Lichtbündels 1
ergibt sich eine gleichmäßige Bestrahlung bei Integration
über die einer vollen Drehung des Projektionsobjektivs 4
entsprechenden Zeit.
Zur Erzielung einer derartigen gleichmäßigen Bestrahlung
existieren mehrere alternative Möglichkeiten der Ver
drehung des Projektionsobjektivs 4:
Bei einer ersten Ausführungsform wird das Projektions objektiv 4 um einen bestimmten Drehwinkel hin- und zurück gedreht.
Bei einer ersten Ausführungsform wird das Projektions objektiv 4 um einen bestimmten Drehwinkel hin- und zurück gedreht.
Die Linsen absorbieren innerhalb des Projektionsobjektivs
4 nur einen geringen Teil des Projektions-Lichtbündels 1
und erwärmen sich daher nur relativ langsam. Aus dieser
Erwärmung entstehende Abbildungsfehler werden auch schon
durch eine relativ langsame Verdrehung ausgeglichen, da
schon hier eine ausreichend gute Symmetrisierung der
Temperaturverteilung in den Linsen resultiert. Bei einer
typischen Zeitkonstante für die einer Belichtung mit einem
Projektions-Lichtbündel folgende Erwärmung einer Linse
von 100 Sekunden reicht ein zeitlicher Abstand zwischen
den Endstellungen bzw. Extrempositionen bei der Verdrehung
um einen bestimmten Drehwinkel von typischerweise 30 Sekunden,
um eine ausreichend gute Symmetrisierung zu
erzielen.
Der Drehwinkel kann für eine spiegelsymmetrische Strah
lungsleistungsverteilung in der Querschnittsfläche 26,
wie oben erwähnt, 180° sein.
Ist die Strahlungsleistungsverteilung zu zwei senkrecht
aufeinander stehenden Symmetrieebenen symmetrisch, kann
der Drehwinkel auch nur 90° betragen. Die 90°-Verdrehung
muß dann so schnell erfolgen, daß die Absorption des
Materials der Linsen des Projektionsobjektivs 4 während
dieses Drehvorgangs verglichen mit der Absorption in den
Endstellungen vernachlässigbar gering ist. Eine typische
Sequenz eines derartigen Verdrehprogramms wäre, wieder
eine typische Erwärmungs-Zeitkonstante von 100 Sekunden
vorausgesetzt: Verdrehen um 90° in 5 s, Verweilen des
Projektionsobjektivs für 30 s, Zurückdrehen um 90° in 5 s,
Verweilen des Projektionsobjektivs für 30 s.
Die Verteilung der über eine derartige Sequenz absorbierten
Strahlungsleistung ist zwar nicht rotationssymmetrisch,
jedoch besser an eine rotationssymmetrische Verteilung
angenähert, als die Verteilung der Strahlungsleistung, die
ohne Verdrehung des Projektionsobjektivs 4 absorbiert
würde. Im Falle der in Fig. 1 dargestellten Querschnitts
fläche 26 des Projektions-Lichtbündels auf der Linse 25
ergibt sich eine kreuzförmige Strahlungsleistungsverteilung.
Entsprechend sind die Abbildungseigenschaften eines
derartig verdrehten Projektionsobjektivs 4 gegenüber
einem nicht verdrehten verbessert.
Wird nur um einen bestimmten Drehwinkel verdreht, lassen
sich anstelle der oder zusätzlich zur oben beschriebenen
induktiven Versorgung elektrische Versorgungsleitungen
zum Objektivgehäuse 6 als mit entsprechendem Spiel verlegte
normale elektrische Schleppkabel ausführen.
Alternativ zu einer Verdrehung um bestimmte Drehwinkel
kann das Objektivgehäuse 6 im Objektivrahmen 7 mit einer
bestimmten Drehzahl rotieren. Beim oben beschriebenen
Zeitverhalten der Erwärmung der Linsen des Projektions
objektivs 4 reicht analog eine vollständige Umdrehung in
30 Sekunden zur ausreichenden Symmetrisierung der Tempe
raturverteilung in den Linsen des Projektionsobjektivs 4.
Eine Rotation des Projektionsobjektivs 4 mit höherer
Drehzahl bringt die Möglichkeit, sonstige nicht rotations
symmetrischer Bildfehler auszugleichen, die z. B. aus der
Justage des Projektionsobjektivs, aus Aberrationen oder
aus Inhomogenitäten in den Linsen resultieren. Zum Aus
gleich derartiger Bildfehler muß die Rotationsdrehzahl
so hoch sein, daß das Objektivgehäuse 6 während eines
Belichtungsvorgangs mehrere, z. B. mehr als fünf Umdrehungen
macht.
Bei der hin- und hergehenden Verdrehung des Projektions
objektivs 4 um einen bestimmten Drehwinkel kann es vorteil
haft sein, den Umkehrpunkt der Verdrehung nicht immer an
derselben relativen Drehwinkelposition des Objektivgehäuses
6 zum Objektivrahmen 7 zu wählen, um mechanische oder
thermische Belastungen, die während der Totzeit dieses
Umkehrvorgangs auftreten, gleichmäßiger auf die möglichen
Drehpositionen des Objektivgehäuses 6 zu verteilen. Dazu
erfolgt eine Vorgabe des jeweiligen Drehwinkels durch
die Antriebssteuerung 23 derart, daß der Umkehrpunkt
innerhalb eines vorgegebenen Drehwinkelbereichs variiert.
Zur Gewährleistung einer möglichst rotationssymmetrischen
Strahlungsleistungsverteilung sollte dieser Drehwinkelbe
reich relativ klein sein, z. B. einige Winkelgrad umfassen.
Die in diesem Drehwinkelbereich möglichen Umkehrpunkte
sollten zur Verteilung der mechanischen Belastung möglichst
mit gleicher relativer Häufigkeit angesteuert werden, z. B.
durch lückenloses Abrastern bei aufeinanderfolgenden
Umkehrvorgängen in einem Drehwinkelbereich.
Eine derartige Kompensation thermisch bedingter Abbildungs
fehler durch Verdrehen ist nicht auf refraktive optische
Elemente beschränkt, sondern analog auch auf reflektierende
optische Elemente, wie Spiegel, übertragbar. Die Drehachse
eines reflektierenden optischen Elements muß, damit die
Reflexion unabhängig von der Verdrehung ist, mit dessen
Rotations-Symmetrieachse zusammenfallen.
Claims (17)
1. Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungs
anlage der Mikrolithographie, insbesondere mit schlitz
förmigem Bildfeld oder nicht rotationssymmetrischer Beleuch
tung,
- a) mit einer Lichtquelle;
- b) mit einem optischen Element, insbesondere einer
Linse oder einem Spiegel, das
- a) mindestens eine, mit Strahlung der Lichtquelle beaufschlagte Oberfläche aufweist; und
- b) dessen Grundform zumindest im Bereich der min destens einen, mit Strahlung beaufschlagten Oberfläche bezüglich einer Rotations-Symmetrie achse im wesentlichen symmetrisch ist,
- a) das optische Element (25) oder dessen Gehäuse (6) verdrehbar mit einem Rahmen (7) über mindestens ein Lager (8, 9, 10) verbunden ist;
- b) ein Aktuator (18) vorgesehen ist, der an dem optischen Element (25) oder dessen Gehäuse (6) zu dessen Ver drehung um die Rotations-Symmetrieachse angreift; wobei
- c) der Aktuator (18) mit einer Steuereinrichtung (23) zusammenarbeitet, die den Aktuator (18) zumindest zeitweise in dem Zeitraum, in dem das optische Element (25) einer Belichtung ausgesetzt ist, zur Verdrehung des optischen Elements (25) ansteuert.
2. Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß der Aktuator durch einen Elektroantrieb
(18) gebildet ist mit einem rahmenfesten Stator (20) und
einem Rotor (21), der drehfest mit dem optischen Element
(25) verbünden ist, wobei zwischen dem Rotor (21) und
einem mit dem Rahmen (7) drehfest verbundenen Stator (20)
ein Luftspalt (22) verbleibt.
3. Optisches System nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich
net, daß sich mit dem optischen Element (4) mitdrehende
elektrische Einrichtungen über Kabel mit einer Stromver
sorgung verbunden sind.
4. Optisches System nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich
net, daß sich mit dem optischen Element (4) mitdrehende
elektrische Einrichtungen über eine induktive Koppelein
richtung (28) mit einer Stromversorgung verbunden sind.
5. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein
Lager (8, 9, 10) ein Magnetlager ist.
6. Optisches System nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens
ein Lager (8, 9, 10) ein hydrostatisches Lager ist.
7. Optisches System nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens
ein Lager (8, 9, 10) ein Luftlager ist.
8. Optisches System nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Aktuator
durch einen mechanischen Antrieb mit einem Getriebe
gebildet ist.
9. Optisches System nach Anspruch 8, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Getriebe ein Schneckengetriebe ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß das Getriebe ein Kegelradgetriebe ist.
11. Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymme
trischen Abbildungsfehlern in einem optischen System,
durch welches ein Lichtbündel geführt wird, nach einem
der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet durch folgende
Verfahrensschritte:
- a) Verdrehen des optischen Elements (25) um einen be stimmten Drehwinkel;
- b) entgegengesetztes Verdrehen des optischen Elements (25) um einen bestimmten Gegen-Drehwinkel.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß durch die Steuereinrichtung (23) die Umkehrpunkte
zwischen den beiden Drehrichtungen innerhalb eines Dreh
winkelbereichs mit gleicher relativer Häufigkeit angesteu
ert werden.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 oder 12, dadurch
gekennzeichnet, daß das optische Element (25), bezogen
auf eine Ausgangsstellung entsprechend der Symmetrie der
Strahlungsleistungsverteilung ist Lichtbündel um einen
Bruchteil einer vollen Umdrehung verdreht wird.
14. Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymme
trischen Abbildungsfehlern in einem optischen System,
durch welches ein Lichtbündel geführt wird, nach einem
der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet durch folgende
Verfahrensschritte:
- a) gemessen an der Zeitkonstante der Entstehung von durch die Strahlung (1) der Lichtquelle (30) induzierten Abbildungsfehlern schnelles Verdrehen des optischen Elements (25) um einen bestimmten Drehwinkel;
- b) Beibehalten der Position des optischen Elements (25) für eine Verweildauer, die lang gemessen an der Dauer des Verdrehens und kurz gemessen an der Zeitkonstante der Entstehung von durch die Strahlung (1) der Lichtquelle (30) induzierten Abbildungsfehlern ist;
- c) entgegengesetztes, gemessen an der Zeitkonstante der Entstehung von durch die Strahlung (1) der Lichtquelle (30) induzierten Abbildungsfehlern schnelles Verdrehen des optischen Elements (25) um einen bestimmten Gegen- Drehwinkel.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß das optische Element (25), bezogen auf eine Ausgangs
stellung entsprechend der Symmetrie der Strahlungsleistungs
verteilung im Lichtbündel um einen Bruchteil einer vollen
Umdrehung verdreht wird.
16. Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymme
trischen Abbildungsfehlern in einem optischen System,
durch welches ein Lichtbündel geführt wird, nach einem
der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet durch das Verdrehen
des optischen Elements (25) mit vorgegebener Drehzahl.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
daß während der Beaufschlagung mit dem Lichtbündel
(1) das optische Element (25) um eine Mehrzahl von Um
drehungen verdreht wird.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19956354A DE19956354B4 (de) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern in einem optischen System |
JP2000355496A JP2001185484A (ja) | 1999-11-24 | 2000-11-22 | 光学システムにおける回転非対称画像の欠陥を補正する光学システムおよび方法 |
US09/721,452 US6522392B1 (en) | 1999-11-24 | 2000-11-22 | Optical systems and methods of compensating rotationally non-symmetrical image defects in an optical system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19956354A DE19956354B4 (de) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern in einem optischen System |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19956354A1 true DE19956354A1 (de) | 2001-06-13 |
DE19956354B4 DE19956354B4 (de) | 2004-02-19 |
Family
ID=7930057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19956354A Expired - Fee Related DE19956354B4 (de) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern in einem optischen System |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6522392B1 (de) |
JP (1) | JP2001185484A (de) |
DE (1) | DE19956354B4 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007047109A1 (de) * | 2007-10-01 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv der Mikrolithographie |
US7808615B2 (en) | 2005-07-05 | 2010-10-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure apparatus and method for operating the same |
US8339575B2 (en) | 2006-03-07 | 2012-12-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Off-axis objectives with rotatable optical element |
DE102015201249A1 (de) * | 2015-01-26 | 2016-07-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beweglich gelagertes Bauteil einer Projektionsbelichtungsanlage sowie Vorrichtung und Verfahren zur Bewegungsbegrenzung hierfür |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10050125A1 (de) | 2000-10-11 | 2002-04-25 | Zeiss Carl | Vorrichtung zum Temperaturausgleich für thermisch belastete Körper mit niederer Wärmeleitfähigkeit, insbesondere für Träger reflektierender Schichten oder Substrate in der Optik |
DE10146499B4 (de) * | 2001-09-21 | 2006-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens drei optischen Elementen |
JP2003303751A (ja) * | 2002-04-05 | 2003-10-24 | Canon Inc | 投影光学系、該投影光学系を有する露光装置及び方法 |
JPWO2005022614A1 (ja) | 2003-08-28 | 2007-11-01 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
US6970233B2 (en) * | 2003-12-03 | 2005-11-29 | Texas Instruments Incorporated | System and method for custom-polarized photolithography illumination |
US8111378B2 (en) * | 2004-02-13 | 2012-02-07 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus, and device production method |
US20080204682A1 (en) * | 2005-06-28 | 2008-08-28 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method |
US20070071303A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Thomas Stammler | Optical system and method for improving imaging properties thereof |
US7605914B2 (en) * | 2005-09-29 | 2009-10-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical system and method for improving imaging properties thereof |
WO2008116886A1 (de) | 2007-03-27 | 2008-10-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Korrektur optischer elemente mittels flach eingestrahltem korrekturlicht |
DE102008040218A1 (de) | 2007-07-11 | 2009-01-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Drehbares optisches Element |
TW200949454A (en) * | 2008-05-26 | 2009-12-01 | Nanya Technology Corp | Exposure method |
DE102018201998B4 (de) * | 2018-02-08 | 2021-03-04 | Minebea Mitsumi Inc. | Optische Vorrichtung und Zoomobjektiv mit wenigstens zwei relativ zueinander verdrehbaren Linsen |
US10775700B2 (en) * | 2018-08-14 | 2020-09-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Lithography system and method for exposing wafer |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442184A (en) * | 1993-12-10 | 1995-08-15 | Texas Instruments Incorporated | System and method for semiconductor processing using polarized radiant energy |
JPH08181058A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-07-12 | Sony Corp | 投影露光方法およびこれに用いる投影露光装置 |
EP0532236B1 (de) * | 1991-09-07 | 1997-07-16 | Canon Kabushiki Kaisha | System zur Stabilisierung der Formen von optischen Elementen, Belichtungsvorrichtung unter Verwendung dieses Systems und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen |
DE19827603A1 (de) * | 1998-06-20 | 1999-12-23 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08327895A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-13 | Nikon Corp | 投影光学装置 |
US5883704A (en) | 1995-08-07 | 1999-03-16 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus wherein focusing of the apparatus is changed by controlling the temperature of a lens element of the projection optical system |
-
1999
- 1999-11-24 DE DE19956354A patent/DE19956354B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-11-22 JP JP2000355496A patent/JP2001185484A/ja active Pending
- 2000-11-22 US US09/721,452 patent/US6522392B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0532236B1 (de) * | 1991-09-07 | 1997-07-16 | Canon Kabushiki Kaisha | System zur Stabilisierung der Formen von optischen Elementen, Belichtungsvorrichtung unter Verwendung dieses Systems und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen |
US5442184A (en) * | 1993-12-10 | 1995-08-15 | Texas Instruments Incorporated | System and method for semiconductor processing using polarized radiant energy |
JPH08181058A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-07-12 | Sony Corp | 投影露光方法およびこれに用いる投影露光装置 |
DE19827603A1 (de) * | 1998-06-20 | 1999-12-23 | Zeiss Carl Fa | Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7808615B2 (en) | 2005-07-05 | 2010-10-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure apparatus and method for operating the same |
US8339575B2 (en) | 2006-03-07 | 2012-12-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Off-axis objectives with rotatable optical element |
DE102007047109A1 (de) * | 2007-10-01 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv der Mikrolithographie |
US8553202B2 (en) | 2007-10-01 | 2013-10-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective for microlithography |
DE102015201249A1 (de) * | 2015-01-26 | 2016-07-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beweglich gelagertes Bauteil einer Projektionsbelichtungsanlage sowie Vorrichtung und Verfahren zur Bewegungsbegrenzung hierfür |
US10095126B2 (en) | 2015-01-26 | 2018-10-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Moveably mounted component of projection exposure system, as well as device and method for movement limitation for same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001185484A (ja) | 2001-07-06 |
US6522392B1 (en) | 2003-02-18 |
DE19956354B4 (de) | 2004-02-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19956354A1 (de) | Optisches System sowie Verfahren zum Ausgleich von nicht rotationssymmetrischen Abbildungsfehlern in einem optischen System | |
DE602004002775T2 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung eines rotierenden Laserstrahls mit einer neigbaren Linse | |
DE102009029776B3 (de) | Optisches Element | |
DE102008001553B4 (de) | Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102010029905A1 (de) | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE19827603A1 (de) | Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie | |
DE1427531A1 (de) | Vorrichtung zur Herstellung von asphaerischen Oberflaechen | |
EP1052545A2 (de) | Projektions-Belichtungsanlage und Belichtungsverfahren der Mikrolithographie | |
EP1932061A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur beeinflussung der polarisationsverteilung in einem optischen system, insbesondere in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage | |
DE10132360C1 (de) | Vorrichtung zur farbneutralen Helligkeitseinstellung im Beleuchtungsstrahlengang eines Mikroskops | |
DE102008049365A1 (de) | Maskeninspektionsmikroskop mit variabler Beleuchtungseinstellung | |
DE102008001892A1 (de) | Optisches System für die Mikrolithographie | |
DE102007042047A1 (de) | Teilsystem einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102008040058B9 (de) | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente | |
DE102008040218A1 (de) | Drehbares optisches Element | |
DE3915868C2 (de) | UV-taugliches Trockenobjektiv für Mikroskope | |
DE102007046419A1 (de) | Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie derartiges optisches System | |
DE10360414A1 (de) | EUV-Projektionsobjektiv sowie Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE102012212194B4 (de) | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Veränderung einer optischen Wellenfront in einem katoptrischen Objektiv einer solchen Anlage | |
EP1217450A2 (de) | Lichtintegrator für eine Beleuchtungseinrichtung | |
DE2917283A1 (de) | Kopierer mit einem optischen abbildungssystem | |
EP1129381B1 (de) | Varioobjektiv | |
DE102006027787A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage und Betriebsmethode dieser | |
DE102006010337B4 (de) | Off-axis-Objektive mit drehbarem optischen Element | |
DE102011003035A1 (de) | Polarisationsbeeinflussende optische Anordnung, sowie optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: CARL ZEISS SMT AG, 73447 OBERKOCHEN, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |