DE19900158A1 - Geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer mit einstellbarem Bereich der Meßtiefe - Google Patents
Geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer mit einstellbarem Bereich der MeßtiefeInfo
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Description
Die Erfindung betrifft Interferometer und insbesondere betrifft sie ein geometrisch un
empfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmessung. Noch genauer betrifft
die Erfindung ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer, das einen ein
stellbaren Bereich der Meßtiefe aufweist, und ein Verfahren und eine Vorrichtung, um
den Bereich der Meßtiefe des geometrisch unempfindlich gemachten Interferometers
einzustellen. Die Erfindung betrifft des weiteren ein geometrisch unempfindlich gemach
tes Interferometer, das Mittel enthält, um die Fähigkeit der Bildgebungseinrichtung des
Interferometers für rauhe Oberflächen zu vermessen, dadurch zu verbessern, daß re
flektiertes Licht beschränkt wird, zu der Bildgebungseinrichtung zurückzukehren.
Die optische Meßtechnik zur Oberflächenmessung kann allgemein in zwei Gruppen un
terteilt werden, nämlich eine mit Interferenzmessung und eine geometrische. Die geo
metrische Technik umfaßt Triangulierung und Analyse von Moiré-Beugungsmustem, die
die Projektion und Abbildung einer periodischen Struktur, wie eines Ronchi-Lineals, ein
schließt. Die geometrischen Techniken sind relativ unempfindlich gegenüber Oberflä
chenrauhigkeit und Verformungen, besitzen aber eine relativ geringe Auflösung - tat
sächlich so niedrig, daß sie für viele Anwendungen ungeeignet sind, bei denen Oberflä
chenprofile mit hoher Genauigkeit gemessen werden müssen.
Die Interferenzmeßtechnik verläßt sich andererseits auf die Wellennatur des Lichts, um
mit hoher Genauigkeit das Oberflächenprofil eines Prüfgegenstands zu gewährleisten.
Ein typisches herkömmliches Interferometer enthält einen Lichtgenerator, der ein Licht
bündel erzeugt, ein Raumfilter-Bündeldivergenzelement, das das Lichtbündel zu einer
divergierenden, sphärischen Wellenfront divergent macht, einen Strahlteiler, der einen
Teil der divergierenden, sphärischen Wellenfront von dem gefilterten Bündel ablenkt,
und eine Kollimatorlinse, die die Wellenfront parallel richtet, um eine ebene Wellenfront
kohärenten Lichts zu erzeugen. Diese Wellenfront kohärenten Lichts wird dann von der
Prüf- und Bezugsoberfläche reflektiert und erzeugt eine erste und zweite, reflektierte
Wellenfront, die sich miteinander kombinieren, wobei beide konstruktiv und destruktiv
interferieren und ein Interferenzstreifenmuster erzeugen. Eine Bildgebungseinrichtung,
wie eine Festkörperkamera, erhält die rekombinierten Wellenfronten und erlangt Bilder
des Interferenzstreifenmusters. Das Interferenzstreifenmuster wird dann analysiert, um
Informationen über das Oberflächenprofil des Prüfgegenstands zu erhalten.
Die Analyse des Streifenmusters bei der Oberflächenmessung wird häufig durch die gut
bekannte Technik der Phasenverschiebungs-Interferenzmessung durchgeführt. Bei der
Phasenverschiebungs-Interferenzmessung wird die Höhendifferenz zwischen Orten auf
einer Oberfläche, die durch erste und zweite Pixel in der Bildgebungseinrichtung bild
mäßig erzeugt wird, bestimmt, indem zuerst die Phasendifferenz zwischen Licht be
stimmt wird, das bei den ersten und zweiten Pixeln erhalten wird, und dann die Pha
sendifferenz verwendet wird, eine Höhendifferenz zu berechnen. Ein Hauptvorteil der
Phasenverschiebungs-Interferenzmessung ist, daß sie äußerst genau ist. Die vertikale
Höhengenauigkeit bei der Phasenverschiebungs-Interferenzmessung ist ein Bruchteil
(z. B. 1/100) der optischen Wellenlänge der Lichtquelle, die verwendet wurde, die Mes
sung auszuführen. Ein zweiter Vorteil der Phasenverschiebungs-Interferenzmessung
ist, daß sie gute Unabhängigkeitseigenschaften gegenüber Vibrationen aufweist, weil
die Phasendaten für alle Pixel gleichzeitig erfaßt werden und die Datengewinnungszeit
relativ kurz ist.
Jedoch kann, allgemein gesagt, die herkömmliche Methode der Phasenverschiebungs-
Interferenzmessung nur glatte Oberflächen oberflächenmäßig messen, die relativ kleine
Höhenänderungen oder "Oberflächenabweichungen" zwischen benachbarten Meßorten
aufweisen. Diese Beschränkung ergibt sich aus der Tatsache, daß die Phasenverschie
bungs-Interferenzmessung eine Phasenmehrdeutigkeitseinschränkung aufweist. Insbe
sondere muß die maximale physikalische Abweichung zwischen benachbarten Meßor
ten auf der Oberfläche weniger als 1/4 der Quellenwellenlänge sein. Anders gesagt muß
die maximale Phasendifferenz zwischen dem Bezugs- und dem Prüflichtbündel einen
Absolutwert haben, der kleiner als π ist. Diese Beschränkung, die manchmal als "zwei π
Mehrdeutigkeit" bezeichnet wird, tritt auf, weil die Funktion des Arcustangens, die ver
wendet wird, die Phase in Abstand umzuwandeln, nur innerhalb des Bereiches von ± π
eindeutig ist. Obgleich die Verwendung von Phasenmessungen vorteilhaft erlaubt, daß
eine sehr hohe Genauigkeit erhalten wird, begrenzt sie nachteilig die maximale Oberflä
chenabweichung zwischen benachbarten Meßorten auf ein Viertel der optischen Wellen
länge der Quelle. Eine weitere Schwierigkeit mit der Phasenverschiebungs-Interfe
renzmessung tritt auf, wenn die Oberflächensteigung so groß ist, daß es schwierig wird,
die Interferenzstreifen aufzulösen oder zu unterscheiden, weil die Streifendichte zu hoch
ist. Deshalb ist, während die Phasenverschiebungs-Interferenzmessung viel genauer
als die geometrische, optische Oberflächenmeßtechnik ist, sie historisch als ungeeignet
zur Verwendung bei rauhen Gegenständen oder Gegenständen mit starken Oberflä
chenverformungen angesehen worden. Interferometer, die die Analyse der Phasenver
schiebungs-Interferenzmessung verwenden, sind deshalb historisch für einige Oberflä
chenmeßanwendungen als nicht geeignet betrachtet worden.
Eine Interferenzmeßtechnik, der die Viertelwellenlängenbschränkung der Phasenver
schiebungs-Interferenzmessung fehlt, ist die sogenannte Interferenzmessung mit Abta
stung im weißen Licht. Bei der Interferenzmessung mit Abtastung im weißen Licht er
zeugt eine weiße Lichtquelle oder allgemein eine mit einem breiten Band im Gegensatz
zu einer mit einem schmalen Band, ein Interferenzmuster, das Bereiche hohen Kon
trasts an jedem Ort der Prüfoberfläche als Funktion der Abtastposition enthält. Die Ab
tastposition mit hohem Kontrast für ein gegebenes Pixel gibt die Höhe des entspre
chenden Orts auf der Prüfoberfläche an. Deshalb kann, indem die momentanen Eigen
schaften dieser Bereiche hohen Kontrasts miteinander verglichen werden, eine Hö
hendifferenz zwischen zwei Orten auf der Profiloberfläche bestimmt werden. Anders als
bei der Phasenverschiebungs-Interferenzmessung berechnet die Interferenzmessung
mit Abtastung im weißen Licht keine Höhendifferenzen auf der Grundlage von Phasen
differenzen, und die Phasenbeschränkung bei der Phasenverschiebungs-
Interferenzmessung trifft deshalb bei der Interferenzmessung mit Abtastung im weißen
Licht nicht zu. Die maximale physikalische Abweichung zwischen benachbarten Meßor
ten auf einer profilierten Oberfläche kann deshalb bei der Interferenzmessung mit Abta
stung im weißen Licht viel größer als bei der Phasenverschiebungs-Interferenzmessung
sein.
Jedoch besitzt die Interferenzmessung mit Abtastung im weißen Licht eigene Nachteile,
die ihre Verwendung bei industriellen Anwendungen behindert. Beispielsweise ist das
Sichtfeld im allgemeinen nicht größer als mit üblichen Mikroskopobjektiven erreicht wer
den kann. Um richtig zu arbeiten, muß die Bildgebungseinrichtung des Instruments eine
hohe Auflösung haben, wenn mit der entsprechenden Beugungsstreifendichte vergli
chen wird. Wenn das Sichtfeld des Instruments bei der typischen Interferenzmessung
mit Abtastung im weißen Licht erhöht wird, kann es ohne weiteres schwierig werden, die
Streifendichte sogar mit Bildgebungseinrichtungen sehr hoher Auflösung aufzulösen.
Dieses Problem tritt insbesondere während der Oberflächenmessung rauher Oberflä
chen auf. Des weiteren nimmt die Neigungstoleranz für Spiegelflächen linear mit der
Feldgröße ab, und die Fleckeneffekte, die bei Messungen rauher Oberflächen verlangt
werden, können nur aufgelöst werden, wenn die numerische Apertur des Objektivs line
ar abnimmt, wenn das Feld zunimmt. Die Notwendigkeit, das Fleckenmuster von rauhen
Oberflächen aufzulösen, ist äußerst entmutigend, da die gesammelte Lichtmenge mit
dem Quadrat der numerischen Apertur abnimmt. Lichtverlust bedeutet, daß größere
Oberflächen eine leistungsstärkere Beleuchtungseinrichtung verlangen. Noch schlim
mer, der Streifenkontrast ist nun ein stark veränderbarer Parameter, und die Qualität der
Messung hängt kritisch von dem Ausgleich zwischen der Bezugs- und Gegenstands
bündelintensität ab.
Ein anderer Nachteil der Technik der typischen Interferenzmessung mit Abtastung im
weißen Licht ist, daß die Datengewinnung sehr langsam ist. Die langsame Geschwin
digkeit ist eine Folge des sich als Funktion der Abtastposition schnell ändernden Interfe
renzeffekts. Genaue Messungen verlangen, daß diese Änderungen im einzelnen aufge
zeichnet werden, üblicherweise mit der Rate von einer Messung pro Pixel pro 75 nm der
Abtastbewegung. Die geringe Geschwindigkeit erzeugt zusätzliche Probleme, wie eine
hohe Empfindlichkeit gegenüber Wärmeverformungen und mechanischen Spannungen
während der Messungen.
Ein noch anderer Nachteil der typischen Interferenzmessung mit Abtastung im weißen
Licht ist ihre große Empfindlichkeit gegenüber Vibrationen, die sich teilweise aus der
langsamen Datengewinnungsgeschwindigkeit und teilweise aus der äußerst hohen
Empfindlichkeit des Interferenzstreifenmusters ergibt, die leicht durch sehr kleine Vibra
tionsgrößen verschlechtert wird. Ein für die Analyse durch Interferenzmessung mit Ab
tastung im weißen Licht ausgelegtes Instrument verlangt im allgemeinen eine massive
Montagebefestigung und kostspielige Vibrationsisolierung. Selbst mit diesen Vorsichts
maßnahmen sind solche Instrumente weiterhin auf ein relativ vibrationsfreies Umfeld
beschränkt, verglichen mit normalen Produktionsumfeldern.
Die letzten Jahre haben eine erhöhte Anforderung nach Techniken mit hoher Geschwin
digkeit und hoher Genauigkeit für Oberflächenprofile von hergestellten Teilen gesehen,
die große Oberflächenabweichungen besitzen, d. h., die rauhe Oberflächen oder Ober
flächen mit starken Oberflächenverformungen aufweisen. Eine entsprechende Anforde
rung ist bei der Datengewinnung während der Produktion im Gegensatz zum Labor auf
getreten. Beispielsweise müssen Präzisionsprodukte, wie Festplatten für Computerplat
tenlaufwerke mit hoher Genauigkeit bei hohen Geschwindigkeiten und unter Bedingun
gen oberflächenmäßig vermessen werden, bei denen der Prüfgegenstand beträchtli
chen Vibrationen während der Herstellungsverfahren ausgesetzt sein kann. Weder die
herkömmlichen Techniken der Phasenverschiebungs-Interferenzmessung noch die her
kömmlichen Techniken der Interferenzmessung mit Abtastung im weißen Licht sind für
diesen Zweck geeignet.
Dieses Bedürfnis ist im großen Maße in der Entwicklung des geometrisch unempfindlich
gemachten Interferometers erfüllt worden. Ein geometrisch unempfindlich gemachtes
Interferometer ist durch den Austausch des Strahlteilers des herkömmlichen Instruments
gegen eine optische Baueinheit gekennzeichnet, die zwischen der Kollimatorlinse und
dem Prüfgegenstand angeordnet ist. Die optische Baueinheit, die typischerweise (aber
nicht notwendigerweise) eine Beugungsgittereinheit, ein Hologramm oder eine Beu
gungsoptik in Kombination mit herkömmlicher Optik, wie Spiegel und Linsen, umfaßt,
teilt das parallel gemachte Quellenlicht in zwei Bündel auf, die sich in zwei unterschiedli
che Richtungen fortpflanzen und auf die profilierte Oberfläche an demselben Ort, aber
unter unterschiedlichen Einfallswinkeln, auftreffen. Die Bündel werden von der profilier
ten Oberfläche reflektiert und laufen durch die optische Baueinheit in unterschiedlichen
Richtungen zurück, wonach sie miteinander kombiniert werden. Konstruktive und de
struktive Interferenz des reflektierten und kombinierten Bündels bilden ein Interferenz
streifenmuster, das eine äquivalente Wellenlänge λ aufweist, die Größenordnungen
größer als die Quellenwellenlänge sein kann. Als Ergebnis ist das geometrisch unemp
findlich gemachte Interferometer viel weniger empfindlich gegenüber Höhenänderungen
und Oberflächenverformungen als die herkömmlichen Interferometer, die die Analyse
techniken der Phasenverschiebungs-Interferenzmessung verwenden. Einige Arten der
geometrisch unempfindlich gemachten Interferometer sind auch achromatisch. Das
heißt, der Streifenabstand in einem Interferenzstreifenmuster, das durch ein geome
trisch unempfindlich gemachtes Interferometer erzeugt wird, ist von der Quellenwellen
länge unabhängig. Als Ergebnis und anders als bei Interferometern mit Interferenzmes
sung mit Abtastung im weißen Licht gibt es keine Kohärenzhüllkurve, die mit der Quel
lenbandbreite verbunden ist. Deshalb werden viele Nachteile vermieden, die mit der In
terferenzmessung mit Abtastung im weißen Licht verbunden sind, wie ein begrenztes
Sichtfeld, geringe Gewinnungsgeschwindigkeit und hohe Empfindlichkeit gegenüber Vi
brationen. Die Empfindlichkeit geometrisch unempfindlich gemachter Interferometer liegt
zwischen herkömmlicher Interferenzmessung und Moiré-Streifenanalyse, und ist mit
derjenigen vergleichbar, die bei Interferenzmessung mit streifendem Einfall erhalten
wird. Geometrisch unempfindlich gemachte Interferometer können deshalb bei Herstel
lungsanwendungen und anderen Anwendungen verwendet werden, die für die her
kömmliche Interferenzmessungen ungeeignet sind.
Eine Eigenschaft von geometrisch unempfindlich gemachten Interferometern ist, daß sie
eine merkliche Abnahme des Streifenkontrasts bei einer Zunahme der effektiven Quer
abmessung des Quellenlichts zeigen, d. h. in der physikalischen Dimension des Quellen
lichts in einer Richtung, die sich quer entlang der Ebene der optischen Baueinheit er
streckt. Als Ergebnis ändert sich der Abstandsbereich von dem Lichtgenerator zu der
Prüfoberfläche, über der eine Kontrastintensität einer minimal annehmbaren Schwelle
vorhanden ist, umgekehrt zu der effektiven Querabmessung des Quellenlichts. Anders
gesagt, ist die äquivalente Kohärenzhüllkurve zu der effektiven Seitenabmessung des
Quellenlichts umgekehrt proportional. Ein geometrisch unempfindlich gemachtes Inter
ferometer, das ein physikalisch relativ schmales Quellenlicht erzeugt, kann wesentliche
Änderungen bei dem Abstand zwischen der Prüfoberfläche und der optischen Bauein
heit zulassen, während ein annehmbarer Streifenkontrast beibehalten wird. Ein geome
trisch unempfindlich gemachtes Interferometer, das ein relativ weites Quellenlicht er
zeugt, ist gegenüber Entfernungsänderungen zwischen der Prüfoberfläche und der opti
schen Baueinheit relativ intolerant.
Da sich die effektive Querabmessung des Quellenlichts direkt mit der effektiven Quer
abmessung der Austrittsöffnung des Lichtgenerators ändert, mag die herkömmliche
Überlegung sein, ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer derart zu
konstruieren, daß die effektive Querabmessung der Austrittsöffnung so weit wie prak
tisch möglich minimiert wird, um dadurch die Weite der äquivalenten Kohärenzhüllkurve
und dem effektiven Bereich der Meßtiefe zu maximieren. Jedoch ist festgestellt worden,
daß es Situationen gibt, in denen eine relativ schmale, äquivalente Kohärenzhüllkurve
und ein sich ergebender relativ kleiner Bereich an Meßtiefen erwünscht sind. Diese An
wendungen schließen ein, nur eine Oberfläche eines optisch durchlässigen Elementes
oberflächenmäßig zu messen und zwischen einem interessierenden Merkmal auf einer
Prüfoberfläche, wie einer Rille, und einem benachbarten Merkmal zu unterscheiden, das
von dem interessierenden Merkmal mit einem wesentlichen vertikalen Abstand getrennt
ist. Jedoch sind die Anwendungen, bei denen eine Arbeitsweise mit niedriger Kohärenz
erwünscht ist, im Vergleich mit Anwendungen seltener, bei denen eine Arbeitsweise mit
hoher Kohärenz erwünscht ist, und deshalb ist die Konstruktion eines geometrisch un
empfindlich gemachten Interferometers speziell für die Arbeitsweise bei niedriger Kohä
renz unzweckmäßig. Des weiteren wäre es, selbst wenn ein geometrisch unempfindlich
gemachtes Interferometer einzig für einen Vorgang mit niedriger Kohärenz konstruiert
wäre, unmöglich, zwischen einem niedrigen Kohärenzmodus und einem hohen Kohä
renzmodus zur Fokussierung oder für ähnliche Operationen hin- und herzuschalten.
Ein anderes Problem, das mit vielen optischen Instrumenten und selbst mit vielen geo
metrisch unempfindlich gemachten Interferometern verbunden ist, ist, daß sie Schwie
rigkeit zeigen, eine Oberfläche zu vermessen, die so rauh ist, daß sie reflektiertes Licht
in einem solchen Maße streut, daß die Bildgebungseinrichtung des Instruments keine
Bilder mit annehmbarem Kontrast für die Interferenzmessungsanalyse erzeugen kann.
Dieses Problem könnte verbessert werden, wenn ein Mechanismus verfügbar wäre, auf
irgendeine Weise reflektiertes Licht zu beschränken, zu der Bildgebungseinrichtung zu
rückzulaufen, um die Kohärenz in dem Bild zu optimieren. Bisher stehen keine solche
Einrichtungen zur Verfügung.
Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung ein geometrisch unempfindlich gemachtes Inter
ferometer zu schaffen, das Mittel einschließt, Licht, das zu der optischen Baueinheit des
Instruments oder von ihr fortläuft, zu formen, um die Vielseitigkeit des Instruments zu
verbessern.
Aufgabe der Erfindung ist auch, ein Verfahren zu schaffen, mit dem selektiv der Bereich
der Meßtiefe eines geometrisch unempfindlich gemachten Interferometers eingestellt
werden kann.
Die Aufgabe der Erfindung wird bezüglich des Interferometers durch die unabhängigen
Vorrichtungsansprüche gelöst, insbesondere indem geschaffen wird ein geometrisch
unempfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmessung einer Gegenstands
oberfläche, das umfaßt einen Lichtgenerator, eine optische Baueinheit, die zwischen dem
Lichtgenerator und der Gegenstandsoberfläche angeordnet und derart ausgestaltet ist,
daß sie Licht von dem Lichtgenerator in einem Bereich von Einfallswinkeln Δγ in bezug
auf eine Linie erhält, die sich senkrecht zu der genannten optischen Baueinheit er
streckt, und eine Bildgebungseinrichtung, die auf einer mit dem Lichtgenerator gemein
samen Seite der optischen Baueinheit angeordnet und ausgestaltet ist, daß sie Licht,
das von dem Lichtgenerator durch die optische Baueinheit hindurch übertragen und von
der Gegenstandsoberfläche durch die optische Baueinheit hindurch reflektiert worden
ist, erhält, so daß ein Interferenzmuster mit einer Anzahl äquivalenter Wellenlängenstrei
fen erzeugt wird. Ein Blendenhalteelement ist zwischen der optischen Baueinheit und
dem Lichtgenerator oder der Bildgebungseinrichtung angeordnet ist und das eine Blen
de aufweist, die hindurchgehendes Licht formt. Die die Blende hat eine wirksame Quer
abmessung in bezug auf die Linie. Ein Einstellmechanismus ist selektiv betätigbar, die
effektive Querabmessung der genannten Blende einzustellen.
Ein Fortschritt wird durch die Erfindung erreicht, indem ein geometrisch unempfindlich
gemachtes Interferometer geschaffen wird, das entweder im Modus mit hoher Kohärenz
oder im Modus mit niedriger Kohährenz betrieben werden kann, so daß sich ein einstell
barer Bereich an Meßtiefen ergibt.
Ein Vorteil wird erreicht, indem in das geometrisch unempfindlich gemachte Interferome
ter ein Mechanismus eingesetzt wird, der selektiv die Querabmessung des Quellenlichts
einstellt. Bei einer Ausführungsform umfaßt das Blendenhalteelement ein Austrittsele
ment des Lichtgenerators, die Blende umfaßt eine Austrittsblende des Austrittselements,
und die Größe Δγ hängt von der effektiven Querabmessung der Austrittsblende ab. Die
Größe Δγ steht umgekehrt zu der effektiven Querabmessung der Austrittsblende in Be
ziehung. In diesem Fall ist der Einstellmechanismus betriebsmäßig mit dem Austrittse
lement gekoppelt ist, um das Austrittselement selektiv zu drehen.
Ein weiterer Vorteil der Erfindung ist, daß ein geometrisch unempfindlich gemachtes In
terferometer geschaffen wird, das die Aufgabe der Erfindung erfüllt und bei dem das
Umschalten vom Modus hoher Kohärenz zu dem Modus niederer Kohärenz einfach und
mit minimaler Hardware ausgeführt werden kann.
Dies wird in vorteilhafter Weise durch die Erfindung erreicht, indem ein Drehknopf ver
wendet wird, die Einstellung der Blendenlänge auszuführen.
Ein weiterer Vorteil der Erfindung ist, daß ein geometrisch unempfindlich gemachtes In
terferometer bereitgestellt wird, das Gegenstände mit Oberflächen oberflächenmäßig
genau vermessen kann, die so rauh sind, daß sie die Fähigkeit der Bildgebungseinrich
tung des Instruments behindern, interferierende Wellenformen abzubilden, die von der
Oberfläche reflektiert werden.
Gemäß einem anderen Gesichtspunkt der Erfindung wird ein Instrument geschaffen,
das allgemein wie oben beschrieben konstruiert ist und in dem das Blendenhaltelement
zwischen der optischen Baugruppe und der Bildgebungseinrichtung angeordnet ist. Die
se Blende formt das Licht, das in die Blende von der optischen Baueinheit hereintritt und
begrenzt das Licht, das zu der Bildgebungseinrichtung läuft. In diesem Fall entfernt der
Einstellmechanismus selektiv das Blendenhalteelement aus dem Weg des Lichts, das in
die Bildgebungseinrichtung eintritt.
Im Hinblick auf eine Verfahren wird die Aufgabe gemäß der Erfindung gelöst indem Licht
(1) von einer Austrittsöffnung eines Lichtgenerators auf eine optische Baueinheit in ei
nem Bereich von Einfallswinkeln Δγ in bezug auf eine Linie übertragen wird, die sich
senkrecht in bezug auf die optische Baueinheit erstreckt, (2) weiter durch die optische
Baueinheit hindurch (3) zu einer Oberfläche eines Gegenstands als zwei Bündel, die auf
eine Prüfgegenstandsoberfläche an einem gemeinsamen Ort unter unterschiedlichen
Einfallswinkeln auftreffen, (4) von dort zurück zu der optischen Baueinheit und durch
diese hindurch (5) zu einer Bildgebungseinrichtung als ein Interferenzmuster gelangt,
das eine Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen aufweist, die von der Größe Δγ ab
hängt.
Ein zusätzlicher Schritt umfaßt, die Größe Δγ, die Anzahl äquivalenter Wellenlängen
streifen und die effektive Kohärenztiefe des Interferometers zu ändern.
Vorzugsweise weist die Austrittsöffnung des Lichtgenerators eine wirksame Querab
messung in bezug auf die Linie auf, die sich senkrecht in bezug auf die optische Bau
einheit erstreckt, und die Größe Δγ hängt von der effektive Querabmessung der Aus
trittsöffnung des Lichtgenerators ab. In diesem Fall umfaßt der Änderungsschritt, die
Größe Δγ zu erhöhen, indem die effektive Querabmessung der Ausgangsöffnung des
Lichtgenerators verringert wird. Beispielsweise kann, wenn die Austrittsöffnung des
Lichtgenerators einen Längsschlitz umfaßt, der in einem Ausgangselement des Lichtge
nerators gebildet ist, dann der Änderungsschritt umfassen, das Ausgangselement zu
drehen, um die Ausrichtung des Längsschlitzes in bezug auf die Normale zu ändern.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindungsgegenstände sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Andere Zielsetzungen, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden dem Durchschnitts
fachmann auf dem Gebiet aus der folgenden ausführlichen Beschreibung und den bei
gefügten Zeichnungen offensichtlich. Es versteht sich jedoch, daß die ausführliche Be
schreibung und die besonderen Beispiele, die bevorzugte Ausführungsform der vorlie
genden Erfindung angeben, zur Darstellung und nicht zur Begrenzung gegeben wur
den. Viele Änderungen und Abwandlungen können innerhalb des Bereiches der vorlie
genden Erfindung vorgenommen werden, ohne von ihren Gedanken abzuweichen, und
die Erfindung umfaßt alle solche Abänderungen.
Bevorzugte beispielhafte Ausführungsform der Erfindung sind in den beigefügten Zeich
nungen dargestellt, in denen gleiche Bezugszeichen durchgehend gleiche Teile darstel
len.
Die Erfindungsgegenstände werden im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen
unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert, in denen:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines geometrisch unempfindlich gemachten
Interferometerinstruments ist, das gemäß einer ersten, bevorzugten Aus
führungsform der vorliegenden Erfindung konstruiert ist,
Fig. 2 schematisch die Funktionsteile des geometrisch unempfindlich gemachten
Interferometer der Fig. 1 darstellt,
Fig. 3 eine schematische perspektivische Teilansicht eines Lichtgenerators des
geometrisch unempfindlich gemachten Interferometers in Fig. 1 und 2 ist,
Fig. 4 eine perspektivische Ansicht der Lichtquelle des Lichtgenerators der Fig. 3
und des Eintrittsendes des zugeordneten optischen Faserbündels ist,
Fig. 5 eine perspektivische Ansicht des Austrittsendes des optischen Faserbün
dels der Fig. 3 ist und eine Austrittsöffnung des optischen Faserbündels
der Fig. 3 und 4 in einer ersten Ausrichtung darstellt, in der die effektive
Querabmessung der Austrittsöffnung relativ klein ist,
Fig. 6 der Fig. 5 entspricht, aber die Austrittsöffnung in einer zweiten Ausrichtung
zeigt, in der die effektive Querabmessung der Austrittsöffnung relativ groß
ist,
Fig. 7 eine Kurve der Intensität als Funktion der Wellenlänge für das geome
trisch unempfindlich gemachte Interferometer der Fig. 1 und 2 ist,
Fig. 8 eine Kurve des Streifenkontrasts als Funktion der Anzahl der Streifen bei
dem geometrisch unempfindlich gemachten Interferometer der Fig. 1 und
2 ist,
Fig. 9 und 10 Kurven der Intensität als Funktion der Tiefenposition oder des Tiefenbe
reiches bei dem geometrisch unempfindlich gemachten Interferometer der
Fig. 1 und 2 sind, wobei Fig. 9 die Intensität bei einer Ausgestaltung aufge
tragen ist, bei der das Instrument auf eine niedrige Kohärenz oder einen
kleinen Meßtiefenbereich eingestellt ist, und Fig. 10 die Intensität bei einer
Ausgestaltung aufgetragen ist, bei der das Instrument auf hohe Kohärenz
oder einem großen Meßtiefenbereich eingestellt ist,
Fig. 11 eine perspektivische Ansicht eines geometrisch unempfindlich gemachten
Interferometer ist, das gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfin
dung konstruiert ist, wobei ein entfernbares Blendenhalteelement zwi
schen der optischen Baueinheit des geometrisch unempfindlich gemachte
Interferometer Instruments und einer Bildgebungseinrichtung angeordnet
ist,
Fig. 12 schematisch die Funktionskomponenten des geometrisch unempfindlich
gemachte Interferometer Instruments der Fig. 11 darstellt, und
Fig. 13 eine Draufsicht auf das Blendenhalteelement der Bildgebungseinrichtung
der Fig. 12 ist.
Ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometerinstrument enthält einen Licht
generator, eine optische Baueinheit, eine Bildgebungseinrichtung und einen einstellba
ren Mechanismus, um selektiv den Lichtdurchgang durch oder den Lichtempfang von
der optischen Baueinheit derart zu ändern, daß die Vielseitigkeit des Instruments erhöht
wird. Der Einstellmechanismus kann zwischen dem Lichtgenerator und der optischen
Baueinheit so angeordnet werden, daß er zumindest selektiv die effektive Querabmes
sung des Quellenlichts ändert und daher selektiv den Bereich der Meßtiefe des Instru
ments einstellt. Das Instrument kann deshalb selektiv in einem Modus hoher Kohärenz
oder einem Modus geringer Kohärenz arbeiten. Statt eines oder zusätzlich zu einem
Quellenlichteinstellmechanismus könnte der Einstellmechanismus eine Blende umfas
sen, die das in die Bildgebungseinrichtung eintretende Licht derart formt, daß die Fähig
keit des Instruments verbessert wird, Gegenstände mit
rauhen Oberflächen oberflächenmäßig zu messen.
Die Erfindung behinhaltet die Einstellung der effektiven Querabmessung zumindest 1)
des Quellenlichts, das zu der optischen Baueinheit eines geometrisch unempfindlich
gemachten Interferometers von dem Lichtgenerator dieses Instruments läuft, oder 2)
des Lichts, das zu einer Bildgebungseinrichtung des geometrisch unempfindlich ge
machten Interferometers von der optischen Baueinheit reflektiert wird. Mechanismen zur
Ausführung dieser zwei Einstellungen können einzeln oder in Kombination miteinander
verwendet werden. Nur zur Erläuterung sind hier zwei Ausführungsformen geoffenbart,
von denen die erste Ausführungsform nur einen Einstellmechanismus für die wirksame
Querabmessung der Lichtbündelquelle enthält, das zu der optischen Baueinheit über
tragen wird, und bei der die zweite Ausführungsform einen ersten Mechanismus, um die
effektive Querabmessung der Lichtquelle selektiv einzustellen, die zu der optischen
Baueinheit übertragen wird, und einen zweiten Mechanismus enthält, um die effektive
Querabmessung des reflektierten Lichts selektiv einzustellen, das von der optischen
Baueinheit zu der Bildgebungseinrichtung läuft. Es versteht sich, daß diese Mechanis
men oder andere Mechanismen, die die gleichen oder äquivalenten Funktionen ausfüh
ren, in irgendeiner erwünschten Weise miteinander vermischt und angepaßt werden
könnten.
Es wird nun auf die Fig. 1-6 Bezug genommen, und anfangs insbesondere auf Fig. 1,
wobei ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer 20, das gemäß einer
ersten, bevorzugten Ausführungsform der Erfindung konstruiert ist, ein Hauptgehäuse
teil 22, eine Prüfgegenstands-Haltevorrichtung 24 und einen Computer 26 umfaßt. Der
Computer 26 ist mit zumindest dem Hauptgehäuseteil 22 verbunden und ist bei der dar
gestellten Ausführungsform, bei der die Gegenstandshaltevorrichtung 24 einen Ab
tasttisch 54 (im einzelnen unten) umfaßt, auch mit dem Abtasttisch verbunden, um die
Verschiebung des Prüfgegenstands O in Richtung zu und fort von dem Hauptgehäuse
teil 22 zu steuern.
Der Computer 26 kann irgendeinen programmierbaren Universalcomputer umfassen,
der die Arbeitsweise des Hauptgehäuses 22 und/oder des Abtasttisches 24 steuern
kann. Der Computer 26 umfaßt ein Gehäuse 28, das einen Prozessor, einen RAM, ei
nen ROM, usw. aufnimmt, eine Tastatur 30 zur Dateneingabe und einen Bildschirm 32.
Der Computer 26 könnte durch einen internen, elektronischen Prozessor ersetzt wer
den, der in dem Gehäuse 34 des Hauptgehäuseteils angeordnet wird und alle Daten
verarbeitungsfunktionen des Computers 26 durchführt. In diesem Fall würden die An
zeigefunktionen durch einen eigenständigen Bildschirm durchgeführt werden, der unmit
telbar mit dem Hauptgehäuseteil 22 gekoppelt ist.
Das Hauptgehäuseteil 22 umfaßt ein geschlossenes Gehäuse 34, in dem die Funktion
steile des geometrisch unempfindlich gemachten Interferometers (ausführlich unten)
untergebracht sind. Das Gehäuse 34 umfaßt eine vordere und rückwärtige Endwand 36
bzw. 38, eine obere Wand 40, eine untere Wand 42, eine linke Seitenwand 44 und eine
rechte Seitenwand 46. Ein Einstellknopf 48 ist an der rechten Seitenwand 46 drehbefe
stigt und erstreckt sich von ihr nach außen, damit die wirksame Querabmessung der
Ausgangsöffnung des Lichtgenerators eingestellt werden kann, wie es unten ausführlich
angegeben ist. Eine Öffnung (nicht gezeigt) in der vorderen Endwand 36 des Gehäuses
34 ermöglicht die Übertragung und den Empfang von Licht.
Die Prüfgegenstands-Haltevorrichtung 24 kann irgendeine Konstruktion umfassen, die
einen Prüfgegenstand O in einer Position halten kann, in der eine Oberfläche S, die
oberflächenmäßig gemessen werden soll, Licht erhält, das von dem Hauptgehäuseteil
22 übertragen wird und das Licht zurück zu dem Hauptgehäuseteil 22 reflektiert. Die
Haltevorrichtung 24 kann von dem Hauptgehäuseteil 22 getrennt werden, wie es dar
gestellt ist, oder kann alternativ betriebsmäßig und/oder physikalisch mit dem Hauptteil
gehäuse 22 gekoppelt sein, um eine Einheit zu bilden. Bei der dargestellten Ausfüh
rungsform umfaßt die Haltevorrichtung 24 eine ortsfeste Basis 50, ein Tragbett 52 und
einen Abtasttisch 54 (Fig. 2) der das Tragbett 52 mit der Basis 50 koppelt. Der Ab
tasttisch 54 ist derart angeordnet, daß er das Bett 52 und den Gegenstand O in einer im
wesentlichen zu der Oberfläche S senkrechten Richtung zum Zweck der Fokussierung
oder zum Zweck der Tiefenabtastung verschiebt. Eine Tiefenabtastung ist ausführlich in
dem US Patent Nr. 5,598,265 von P. de Groot DeGroot angegeben, dessen Gegen
stand hier durch Bezugnahme auf seine Offenbarung zur Tiefenabtastung unter Ver
wendung eines geometrisch unempfindlich gemachten Interferometers eingegliedert ist.
Es wird nun auf Fig. 2 Bezug genommen, wobei die Funktionsteile des geometrisch un
empfindlich gemachten Interferometers einen Lichtgenerator 60, der Licht erzeugt, eine
optische Baueinheit 62, die Licht erhält und es beugt, und eine Bildgebungseinrichtung
64 umfaßt. Eine Kollimatorlinse 66 ist zwischen dem Lichtgenerator 60 und der opti
schen Baueinheit 62 angeordnet, damit das in die optische Baueinheit 62 von der Licht
quelle 60 eintretende Licht parallel gemacht wird. Eine ähnliche Linse 68 ist zwischen
der optischen Baueinheit 62 und der Bildgebungseinrichtung 64 angeordnet.
Der Zweck der optischen Baueinheit 62 ist, die äquivalente Wellenlänge des Lichtgene
rators 60 zu erhöhen, damit das Instrument gegenüber 2π Mehrdeutigkeiten und ande
ren Problemen, die mit herkömmlichen Interferometern verbunden sind, unempfindlich
gemacht wird, und daher die Fähigkeit des Instruments verbessert wird, eine Oberflä
chenmeßtechnik bei rauhen Oberflächen durchzuführen. Die optische Baueinheit 62
könnte ein Hologramm, ein Linsensystem oder irgendeine andere Baugruppe aufwei
sen, die ein Lichtbündel von dem Lichtgenerator 60 in zwei konvergierende Bündel A
und B aufteilt, die auf die profilierte Oberfläche S des Prüfgegenstands O an demselben
Ort P, aber unter unterschiedlichen Einfallswinkeln, auftreffen. Die bevorzugte optische
Baueinheit 62 umfaßt eine Beugungsgittereinheit, die ein oder mehrere Beugungsgitter
aufweist, und die Baueinheit 62 wird nachfolgend als "Beugungsgittereinheit" aus Grün
den der Bequemlichkeit bezeichnet.
Die dargestellt Beugungsgittereinheit 62 umfaßt ein erstes und zweites, paralleles, linea
res Beugungsgitter 70 bzw. 72, die sich in der entsprechenden XY Ebene erstrecken
(wo sich die Y Achse in die und aus der Seite in Fig. 2 fortsetzt und sich die X Achse
vertikal in Fig. 2 erstreckt), und diese sind in der Z Richtung oder horizontal in Fig. 2
voneinander beabstandet. Das zweite Beugungsgitter 72 besitzt typischerweise (aber
nicht notwendigerweise) eine doppelt so große Beugungsgitterfrequenz wie die des er
sten Beugungsgitters 70. Bei der dargestellten Ausführungsform weist das erste Beu
gungsgitter 70 eine Beugungsgitterfrequenz von 250 Linien pro Millimeter auf, und das
zweite Beugungsgitter 72 weist eine Beugungsgitterfrequenz von 500 Linien pro Millime
ter auf. Das zweite Beugungsgitter 72 liefert den Vorteil, den Arbeitsabstand W zwi
schen dem Ausgang der Beugungsgittereinheit 62 und der profilierten Oberfläche S des
Prüfgegenstands O von null bis zu nahezu irgendeinem ausgewählten Abstand erhöhen
zu können, indem ein geeigneter Abstand H zwischen dem ersten und zweiten Beu
gungsgitter 70 bzw. 72 eingestellt wird.
Das geometrisch unempfindlich gemachte Interferometer 20 der dargestellten Ausfüh
rungsform enthält auch Mittel, eine Phasendifferenz zwischen Licht, das auf zwei Pixeln
der Bildgebungseinrichtung 64 empfangen wird, hervorzurufen, damit eine Analyse der
Interferenzstreifenmuster durch die Phasenverschiebungs-Interferenzmessung ermög
licht wird. Eine Phasenverschiebung wird üblicherweise erreicht, indem der optische
Weg des Prüflichtbündels während der Bildgewinnung verändert wird. Diese Änderung
wird bei der dargestellten Ausführungsform durch einen Wandler 74 erreicht, der durch
den Computer 26 gesteuert wird, damit er das erste Beugungsgitter 70 in der Z Richtung
in Fig. 2 bewegt. Der Wandler 74 kann vollständig fortgelassen werden, wenn der Ab
tasttisch 24 die profilierte Oberfläche S derart bewegen kann, daß eine Phasenver
schiebungs-Interferenzmessungsanalyse ermöglicht wird, wenn eine Phasenverschie
bung durch eine Quellenwellenlängenmodulation erreicht wird oder wenn eine von der
Phasenverschiebungs-Interferenzmessung verschiedene Datenanalyse verwendet wird.
Es wird nun auf die Fig. 2-6 Bezug genommen. Der Lichtgenerator 60 kann irgendeine
Lichtquelle und eine dazugehörige Konstruktion umfassen, die üblicherweise in geome
trisch unempfindlich gemachte Interferometer Instrumenten verwendet wird, solange sie
gemäß der vorliegenden Ausführungsform einen Mechanismus enthält, den Bereich der
Einfallswinkel Δγ zu verändern, unter dem das Licht auf die Beugungsgittereinheit 62
auftrifft. Beispielsweise könnte der Lichtgenerator 60 ein linienförmiger Lichtgenerator
sein, wie eine lineare Leuchtdiodenanordnung. Alternativ könnte eine weite Lichtquelle
in Verbindung mit einer einstellbaren Blende verwendet werden. Jedoch umfaßt bei der
dargestellten und gegenwärtig bevorzugten Ausführungsform der Lichtgenerator 60 eine
schmalbandige Lichtquelle 80 und ein optisches Faserbündel 82, das ausgebildet ist,
Licht so wirksam, wie es zweckmäßig ist, von der Lichtquelle 80 zu der Beugungsgit
tereinheit 62 zu übertragen. Eine Laserdiode wird als die Lichtquelle 80 bevorzugt, weil
Laserdioden verglichen mit vielen anderen Lasern preisgünstig sind, jedoch eine helle
Beleuchtung rauher Oberflächen liefern.
Eine kleine Fokussierungslinse 84 ist zwischen der Austrittsöffnung der Lichtquelle 80
und dem optischen Faserbündel 82 angeordnet, um eine wirksame Austrittsöffnung 86
der Lichtquelle zu begrenzen. Die effektive Austrittsöffnung 86 ist vorzugsweise relativ
lang und schmal, so daß sich ein großes Seitenverhältnis ergibt. Die dargestellte effekti
ve Austrittsöffnung 86 ist allgemein rechteckig und ungefähr 1 Millimeter breit und 10
Millimeter lang, so daß sie ein Seitenverhältnis von ungefähr 10 : 1 aufweist.
Es mag unter gewissen Umständen wünschenswert sein, die Zufälligkeit der Lichtvertei
lung von der Lichtquelle 80 zu verstärken, indem ein Kohärenzaufheber oder ein
Fleckenzufallserzeuger 85 (am besten in Fig. 4 zu sehen) in den Lichtgenerator 60 einge
bracht wird, um die räumliche Kohärenz der Lichtquelle 80 über die Zeitskala der Bild
gebungseinrichtung 64 aufzubrechen. Die Zufallsverbesserung der Lichtverteilung ist
besonders zweckmäßig, wenn die Lichtquelle 80 einen Laser umfaßt, weil Laserlicht da
zu neigt, ein störendes Fleckenmuster zu erzeugen, das die Qualität des Interferenz
musters verschlechtert. Eine Lichtverteilungsverbesserung kann erreicht werden, indem
der Fleckenzufallserzeuger 85 entweder am Eingang oder dem Ausgang des optischen
Faserbündels 82 angeordnet wird. Bei der dargestellten Ausführungsform ist der
Fleckenzufallserzeuger 85 an dem Eintrittsende des optischen Faserbündels 82 angeordnet
und umfaßt ein kreisförmiges Streuelement 87, das durch einen Elektromotor 89 ange
trieben wird, damit es sich mit einigen hundert Umdrehungen pro Minute dreht. Das
Streuelement 87 besteht aus einer geschliffenen Glasscheibe mit einer geschliffenen
Oberfläche SG. Die Oberfläche SG befindet sich ausreichend nahe einem Eintrittsele
ment 88 des optischen Faserbündels (ausführlich unten), um einen wirksamen Über
gang des zufällig gemachten Lichts in das Eintrittselement 88 zu gewährleisten, befindet
sich aber ausreichend weit von dem Eintrittselement 88 entfernt, damit sich das Streu
element 87 drehen kann, ohne an dem Eintrittselement 88 zu reiben. Ein Abstand von
ungefähr 1 mm wird bevorzugt.
Das optische Faserbündel 82, das ein "Mehrmoden-Faserbündel" sein kann, umfaßt
das Eintrittselement 88, ein Austrittselement 90 und eine Mehrzahl optischer Fasern
(nicht gezeigt), die in einer Umhüllung 92 angeordnet sind und das Eintrittselement 88
mit dem Austrittselement 90 verbinden. Das Eintrittselement 88 weist eine Eintrittsseite
94 auf, die eine Eintrittsblende 96 trägt, die so geformt sein sollte, daß der Wirkungs
grad der Lichtübertragung von der Linse 84 und der Lichtquelle 80 in und durch das op
tische Faserbündel 82 maximal ist. Deshalb sollte die Eintrittsblende 96 eine Größe und
Form haben, die zumindest im wesentlichen zu der Größe und Form der effektiven Aus
trittsapertur 86 der Lichtquelle 80 paßt. Diese Anordnung erreicht einen Übertragungs
wirkungsgrad von mehr als 60%, d. h., mehr als 60% des von der Lichtquelle 80 ausge
sandten Lichts wird in und durch das optische Faserbündel 82 übertragen. Ohne derart
angepaßter Apertur würde der Übertragungswirkungsgrad dramatisch mit einem gleich
zeitigen Abfall der Beleuchtungsleistung und der Bildgebungsfähigkeit abfallen. Der
Übertragungswirkungsgrad kann ferner dadurch verbessert werden, daß die Eintrittssei
te 94 mechanisch feingeschliffen wird, die Eintrittsseite 94 in bezug auf die effektive
Austrittsapertur 86 mechanisch positioniert wird, oder eine Kombination von beiden,
damit die Reflexion des Lichts zurück zu der Lichtquelle 80 von der Eintrittsseite 94 mi
nimiert wird.
Die einzelnen Fasern des optischen Faserbündels 82 weisen unterschiedliche Fort
pflanzungsmoden aufgrund ihrer unterschiedlichen Geometrien und Ausrichtungen in
bezug auf den Einlaß des optischen Faserbündels auf. Um die Gleichförmigkeit des
Ausgangsbündels des optischen Faserbündels 82 zu verbessern und die Abhängigkeit
des Ausgangsbündels bei der Art zu verringern, in der das Licht in das optische Faser
bündel 82 von der Lichtquelle 80 gelenkt wird, ist vorzugsweise ein Modenmischer 91
(am besten in Fig. 3 zu sehen) in den Lichtgenerator 60 eingebracht, um die Fortpflan
zungsmoden innerhalb des optischen Faserbündels 82 zu mischen, indem einige Bie
gungen bei dem optischen Faserbündel 82 eingeführt werden. Das Mischen der Fort
pflanzungsmoden könnte mittels einer Vielfalt Einrichtungen erreicht werden, einschließ
lich eines handelsüblichen Modenmischers. Bei der dargestellten und bevorzugten
Ausführungsform ist der Modenmischer 91 dadurch gebildet, daß ein Abschnitt des opti
schen Faserbündels 82 zu einer Mehrzahl Windungen 93 um einen geeigneten Dorn
herum, wie einem Zylinder 95, gewickelt wird. Die Anzahl und der Durchmesser der
Windungen 93 werden so ausgewählt, daß das Mischen der Moden maximiert wird, oh
ne merklich den Lichtübertragungswirkungsgrad durch das optische Faserbündel 82
hindurch zu verringern. Der gewickelte Abschnitt der dargestellten Ausführungsform
enthält vier bis fünf Windungen 93, von denen jede einen Durchmesser von ungefähr
1,5 cm aufweisen.
Das Austrittselement 90 ist mit den optischen Fasern gekoppelt und weist eine Austritts
seite 98 auf, die als eine Austrittsblende 100 des Lichtgenerators 60 gebildet ist. Die
Austrittsblende 100 hat vorzugsweise, aber nicht notwendigerweise, eine nichtrechtecki
ge (z. B. allgemein elliptische oder rautenförmige) Form, um eine Intensität des ausge
sandten Lichtbündels zu erzeugen, die in der Mitte maximal ist und nach und nach zu
den Rändern abfällt und daher eine glatte Kohärenzhüllkurve erzeugt. Die gleiche Wir
kung könnte erreicht werden, wenn ein Abschwächungselement stromabwärts der Blen
de 100 angeordnet wird. Das Austrittselement 90 ist in seiner Lage lagemäßig einstell
bar oder sonst ausgebildet, eine selektive Änderung der effektiven Querabmessung der
Austrittsblende 100 zu ermöglichen, um den Bereich der Meßtiefen des geometrisch
unempfindlich gemachte Interferometer Instruments 20 in einer Weise einzustellen, wie
sie unten in den Unterabschnitten 2b und 2c ausführlich angegeben ist. Bei der darge
stellten Ausführungsform wird diese Wirkung erreicht, indem die Ausrichtung der Aus
trittsblende 100 in bezug auf die Beugungsgittereinheit 62 durch Drehung verändert
wird, wie es unten im einzelnen erläutert ist. Die Austrittsblende 100 ist viel länger als
breit, so daß die Möglichkeit maximal gemacht wird, ihre effektive Querabmessung zu
verändern und daher den Meßtiefenbereich zu verändern. Die dargestellte Austritts
blende 100 besitzt 1) eine Länge von zwischen ungefähr 5 Millimetern und ungefähr 10
Millimetern und bevorzugt von ungefähr 7,5 Millimetern und 2) eine Weite von zwischen
ungefähr 0,1 Millimetern und ungefähr 1,0 Millimetern und bevorzugter von ungefähr 0,5
Millimetern. Natürlich sind andere Ausgestaltungen als die dargestellte allgemein recht
eckige Ausbildung möglich, solange eine Drehung des Austrittselements 90 die wirksa
me Querabmessung der Austrittsblende 100 ändert. Es ist auch denkbar, daß der Be
reich der Einfallswinkel Δγ durch andere Maßnahmen eingestellt werden kann, als die
wirksame Austrittsblendengeometrie zu ändern.
Ausrichtung der Austrittsblende 100 in bezug auf die Beugungsgittereinheit 62 wird vor
zugsweise durch Drehung des Austrittselements 90 geändert. Hierfür ist das Austrittse
lement 90 in einem festgelegten Ring 102 derart angebracht, daß es in bezug auf den
Ring 102 drehbar ist, aber axial oder radial nicht bewegt werden kann. Als Ergebnis ist
ein Lichtbündel, das von der Austrittsblende 100 ausgesandt wird, gezwungen, durch
die Beugungsgittereinheit 62 unter einem Winkel γ in bezug auf die Z Richtung zu lau
fen, z. B. in bezug auf eine Linie N, die sich senkrecht oder normal zu den XY Ebenen
erstreckt, in denen sich die Beugungsgittereinheit 62 erstreckt. Wie man aus einem
Vergleich der Fig. 5 und 6 erkennen kann, ändert eine Drehung des Austrittselements
90 in dem Ring 102 in Richtung des Pfeils 104 in den Fig. 3 und 5 die Ausrichtung der
Austrittsblende 100 zwischen 1) einer ersten Ausrichtung, in der sich der Längsabschnitt
der Blende 100 in der X Richtung erstreckt, wodurch die effektive Querabmessung der
Blende 100 maximiert wird, und 2) einer zweiten Ausrichtung, in der sich der Längsab
schnitt der Blende 100 senkrecht von der X Richtung fort oder in der Y Richtung (aus
der Zeichenfläche der Fig. 2 heraus) erstreckt, wodurch die effektive Querabmessung
der Austrittsblende 100 minimiert wird. Diese Drehung wird über den Knopf 48 ausge
führt, der, wie es in Fig. 3 dargestellt ist, mit dem Austrittselement 90 über ein Kabel 106,
eine erste an dem Austrittselement 90 befestigte Verbindung 108 und eine zweite Ver
bindung 110 gekoppelt ist, die an dem Knopf 48 befestigt ist. Das Kabel 106 überträgt
eine Drehbewegung des Knopfes 48 auf die erste Verbindung 108, so daß sich das
Austrittselement 90 proportional zu der Drehbewegung des Knopfes 48 mit einer sich
ergebenden Änderung der effektiven Querabmessung der Austrittsblende 100 dreht.
Die Bildgebungseinrichtung 64 kann irgendeine Einrichtung oder ein System umfassen,
das die interferierenden Bündel oder Wellenfronten von der Beugungsgittereinheit 62
empfangen und Biider des sich ergebenden Interferenzmusters erzeugen kann. Die
dargestellte und bevorzugte Bildgebungseinrichtung ist eine Festkörpereinrichtung, wie
eine ladungsgekoppelte Einrichtung (CCD) 112, und eine kleine Abbildungslinse 114,
die den Lichteingang zu der ladungsgekoppelten Einrichtung 112 parallel macht.
Beim Einsatz erzeugt der Lichtgenerator 60 des geometrisch unempfindlich gemachten
Interferometers 20 ein Lichtbündel, das durch die Linse 66 parallel gemacht wird, bevor
es auf das erste Beugungsgitter 70 der Beugungsgittereinheit 62 unter einem Einfalls
winkel y auftrifft. Das erste Beugungsgitter 70 beugt das Einfallsbündel in zwei Bündel A
und B erster Ordnung. Diese Bündel werden dann durch das zweite Beugungsgitter 72
umgelenkt, so daß sie auf die profilierte Oberfläche S des Gegenstands O an demsel
ben Ort P, aber unter unterschiedlichen Winkeln auftreffen. Die Bündel A' und B' werden
von der profilierten Oberfläche S reflektiert und laufen zu dem zweiten und ersten Beu
gungsgitter 72 bzw. 70 zurück, damit sie sich mit konstruktiver und destruktiver Interfe
renz kombinieren. Die interferierenden Bündel oder Wellenfronten werden dann durch
die Linse 68 parallel gemacht, und durch die Bildgebungseinrichtung 64 ein Bild erzeugt.
Das bildmäßig erzeugte Interferenzstreifenmuster wird dann durch den Computer 26
analysiert, z. B. durch eine Phasenverschiebungs-Interferenzmessungsanalyse, um eine
genaue Profilmessung zu erhalten.
Wie es oben erörtert worden ist, besitzt das geometrisch unempfindlich gemachte Inter
ferometer 20 eine äquivalente Kohärenzhüllkurve, deren Weite sich mit der effektiven
Querabmessung des Quellenlichts ändert. Die effektive Querabmessung des Quellen
lichts ändert sich direkt mit den Änderungen der effektiven Querabmessung der Aus
trittsblende 100. Die Gründe und die Wirkungen der Beziehung zwischen der Weite der
äquivalenten Kohärenzhüllkurve und der effektiven Querabmessung der Austrittsblende
werden nun ausführlich für das geometrisch unempfindlich gemachte Interferometer In
strument 20 beschrieben. Der Bequemlichkeit halber werden die folgenden Gleichungen
für ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer mit einer rechteckförmigen
Austrittsblende 100 abgeleitet. Während sich die Gleichungen 2-14, die in diesem Ab
schnitt abgeleitet werden, für ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer
mit einer nichtrechteckförmigen Austrittsblende, wie einer elliptischen Blende, ändern
würden, würde sich die grundsätzliche Schlußfolgerung, d. h., daß sich die Weite der
äquivalenten Kohärenzhüllkurve umgekehrt zu der effektiven Querabmessung der Aus
trittsblende ändert, für Blenden anderer Formen nicht ändern. Die Gleichungen, die fol
gen, werden deshalb nicht als einschränkend betrachtet.
Es wird nun auf die Fig. 7-10 Bezug genommen, wobei bei kleinen Einfallswinkeln γ
(z. B., γ ≦ 30°) die äquivalente Wellenlänge Λ des geometrisch unempfindlich gemachten
Interferometer 20 durch die Formel abgeschätzt werden kann:
worin:
N1 die Beugungsgitterfrequenz des ersten Beugungsgitters 70 ist.
N1 die Beugungsgitterfrequenz des ersten Beugungsgitters 70 ist.
Die Quellenwellenlänge erscheint in Gleichung (1) nicht. Experimentelle Beobachtungen
bestätigen, daß sich der Streifenabstand nicht merklich mit der Farbe ändert und daß
das geometrisch unempfindlich gemachte Interferometer 20 deshalb achromatisch ist.
Deshalb kann das Instrument bei Beleuchtung mit weißem Licht hunderte klarer, farblo
ser Bilder erzeugen. Das Instrument 20 besitzt deshalb keine Kohärenzhüllkurve, die
unmittelbar mit dem Quellenspektrum in Beziehung steht. Es weist jedoch eine äquiva
lente Kohärenzhüllkurve auf, die mit der äquivalenten Wellenlänge Λ in Beziehung
steht. Die Erfindung liegt in der Einstellung der Weite der äquivalenten Kohärenzhüllkur
ve (vorzugsweise durch Einstellung der effektiven Querabmessung der Austrittsblende
100 durch Drehung des Austrittselements 90), um den Bereich der Meßtiefe des geome
trisch unempfindlich gemachten Interferometers einzustellen.
Die äquivalente Kohärenzhüllkurve eines geometrisch unempfindlich gemachten Inter
ferometers 20 ist ein Ergebnis der Überlagerung vieler Interferenzmuster, die unter
schiedliche Streifendichten aufweisen. Die Weite der äquivalente Kohärenzhüllkurve
kann dadurch bestimmt werden, daß erkannt wird, daß das geometrisch unempfindlich
gemachte Interferometer mit der Technik der Interferenzmessung mit Abtastung im
weißen Licht viel gemein hat. Beispielsweise kann eine äquivalente Wellenzahl K definiert
werden als:
K=2π/Λ ≈ 4πN1γ (2)
worin:
Λ die äquivalente Wellenlänge der Lichtquelle des Instruments ist, und
γder Einfallswinkel auf die oder von der Beugungsgittereinheit 62 ist.
Λ die äquivalente Wellenlänge der Lichtquelle des Instruments ist, und
γder Einfallswinkel auf die oder von der Beugungsgittereinheit 62 ist.
Ein ausgedehnter Lichtgenerator weist tatsächlich einen Bereich Δγ von Einfallswinkeln
auf, der ein "Spektrum" äquivalenter Wellenlängen ergibt, das den Streifenkontrast ver
ringert, wie es durch die Kurve 120 in Fig. 7 dargestellt ist. Der Bereich Δγ ist zu einem
mittleren Einfallswinkel γ0 zentriert. Daher:
-Δγ/2 < γ-γ0 < Δγ/2 (3).
Ein Bereich ΔK äquivalenter Wellenzahlen kann deshalb als existierend angenommen
werden:
-ΔK/2 < K' < ΔK/2 (4)
worin:
K = K' + K0 und
K0 = 4πN1γ0.
K0 = 4πN1γ0.
Das Intensitätsmuster der Interferenz von zwei Bündeln bei einer einzigen äquivalenten
Wellenzahl kann angegeben werden:
I(K) = ϑ + ϑcos(KL) (5)
worin für eine normalisierte Quellenintensität I0
ϑ = I0/ΔK und
L ist die optische Wegdifferenz ist.
Alle Interferenzmuster I können über den gesamte Bereich ΔK summiert werden, um die
Gesamtintensität IT zu gewinnen:
Diese Gleichung (6) kann umgeschrieben zu:
Verwendet man als nächstes die Identität:
cos(a+b) = cos(a)cos(b) - sin(a)sin(b) (8)
und betrachtet K0 als eine Konstante, dann verringert sich die Gleichung (7) zu der fol
genden:
IT = I0+ I0Vcos(K0L) (9)
worin:
Der absolute Wert von V ist der Streifenkontrast, und V nähert sich null, wenn sich das
Argument der Sinusgröße ±π nähert. Somit ist V = 0, wenn eine normalisierte optische
Wegdifferenz L0 = 2π/ΔK.
Die Anzahl m0 äquivalenter Wellenlängenstreifen bei einer normalisierten optischen
Wegdifferenz von L0 ist deshalb:
m0 = L0/Λ (10)
somit ist bei einer optischen Wegdifferenz von L0
m0 = 2π/ΛΔK (11).
Kombiniert man die Gleichungen 1-11, so erreicht man das bemerkbare einfache Er
gebnis:
m0 = 2γ0/Δγ (12).
Die Gleichung 12 zeigt, daß bei einer gleichförmigen Verteilung der Einfallswinkel die
Gesamtzahl der Streifen m0 innerhalb der äquivalenten Kohärenzhüllkurve gleich dem
doppelten Verhältnis des mittleren Einfallswinkels γ0 zu dem Bereich der Einfallswinkel
Δγ ist.
Der Bereich der Einfallswinkel Δγ steht unmittelbar mit der Querabmessung Δx der Aus
gangsöffnung 100 zusammen mit der Brennweite f des großen Beleuchtungskollimators
oder der Kollimatorlinse 66 in Beziehung und wird durch sie bestimmt. Daher
Δγ = Δx/f (13).
Gleichung 13 kann deshalb umgeschrieben werden zu:
Gleichung 14 zeigt deshalb, daß bei konstanten Werten von f und γ0 (wie es der Fall bei
einem typischen geometrisch unempfindlich gemachten Interferometer wäre) sich die
Anzahl der äquivalenten Wellenlängenstreifen m0 bei einer gegebenen optischen
Wegdifferenz umgekehrt in bezug auf die effektive Querabmessung Δγ der Austritts
blende 100 ändert. Daher ändert sich die Weite der äquivalenten Kohärenzhüllkurve
und demgemäß der Bereich der Meßtiefe eines geometrisch unempfindlich gemachten
Interferometers 20 umgekehrt zu der effektiven Querabmessung der Ausgangsblende
100 des Lichtgenerators.
Beispielsweise ist bei einem Lichtgenerator, der eine Ausgangsblende mit einer effekti
ven Querabmessung Δx von 9 mm und eine Objektivbrennweite f von 450 mm aufweist,
der Bereich der Einfallswinkel Δγ = 1/50. Wenn der mittlere oder nominale Einfallswinkel
γ0 = 0,16 rad (9°) ist, dann erlöscht die Anzahl m0 äquivalenter Wellenlängenstreifen bei
±8 Streifen von der Position der optischen Wegdifferenz von null (d. h., die Position, an
der die profilierte Oberfläche S von der Beugungsgittereinheit 62 mit der Strecke W in
Fig. 2 beabstandet ist), wie es durch die Kurve 122 der Fig. 8 wiedergegeben ist. Die
Kurve 124 der Fig. 9 stellt den Intensitätsabfall bis auf nahe null innerhalb von ungefähr
30 µm von der Nullposition der optischen Wegdifferenz dar. Ein Instrument, das eine
relativ weite effektive Quellenquerabmessung aufweist, hat deshalb eine ziemlich kleine
äquivalente Kohärenzhüllkurve.
Wenn andererseits die effektive Querabmessung Δx der Austrittsblende 100 relativ klein
ist (bspw. Δx = 1 mm), dann werden äquivalente Wellenlängenstreifen weiterhin bei
mehr als ±70 Streifen von der Nullposition der optischen Wegdifferenz angetroffen, wie
es durch die Kurve 126 der Fig. 10 dargestellt ist. Ein Instrument, das diese Eigenschaf
ten aufweist, besitzt deshalb eine relativ weite äquivalente Kohärenzhüllkurve und dem
gemäß einen großen Bereich Meßtiefen.
Daher kann, indem die effektive Querabmessung der Austrittsblende 100 des Lichtge
nerators durch Drehung des Knopfes 48 oder sonstwie eingestellt wird, der Bereich der
Meßtiefen dramatisch und mit hoher Genauigkeit verändert werden. Diese Einstellung
könnte als entweder schrittweise oder kontinuierlich ausgebildet werden, indem die
Drehmöglichkeit des Knopfes 48 eingestellt wird. Das Instrument 20 könnte für eine
Schritteinstellung zwischen einem hohen Kohärenzmodus und einem niedrigen Kohä
renzmodus eingerichtet sein, indem einfach nur zwei Arretierungen vorgesehen werden,
oder es könnten andere Betriebspositionen für den Knopf 48 vorgesehen werden, eine
für jeden Modus. Das Instrument 20 könnte zur kontinuierlichen Einstellung ausgebildet
werden, indem einfach Arretierungen oder die Äquivalente insgesamt entfernt werden
oder indem zusätzliche Arretierungen zwischen jenen hinzugefügt werden, die dem ho
hen Kohärenzmodus und dem niedrigen Kohärenzmodus entsprechen.
Verschiedene praktische Anwendungen für ein geometrisch unempfindlich gemachtes
Interferometer werden nun beschrieben, das im niedrigen Kohärenzmodus (mit einem
kleinen Bereich Meßtiefen) und/oder in einem hohen Kohärenzmodus (mit einem gro
ßen Bereich Meßtiefen) betreibbar ist.
Eine zweckmäßige Anwendung des Betriebsmodus mit niedriger Kohärenz ist die Ober
flächenmessung eines transparenten oder teiltransparenten Gegenstands. Herkömmli
che Interferometer zeigen Schwierigkeiten bei der Oberflächenmessung transparenter
Gegenstände, weil Störreflexionen von der der profilierten Oberfläche gegenüberliegen
den Oberfläche zu dem Interferenzeffekt beitragen und die Streifenanalyse behindern.
Ein Betrieb im niedrigen Kohärenzmodus kann die Wirkungen von Störreflexionen bei
der Analyse ausschließen, indem der Gegenstand O derart angeordnet wird, daß nur
die profilierte Oberfläche S innerhalb der äquivalenten Kohärenzhüllkurve des Instru
ments 30 ist, und die fernliegende oder gegenüberliegende Oberfläche S' des Gegen
stands O außerhalb der äquivalenten Kohärenzhüllkurve angeordnet ist. Als Ergebnis
werden die Interferenzstreifenmuster, die analysiert werden, nur durch die profilierte
Oberfläche S erzeugt. Daher schließt die Einstellung der Meßtiefe die Notwendigkeit
aus, den Prüfgegenstand O in bezug auf das Instrument 20 physikalisch neu anzuord
nen, damit die gegenüberliegende Oberfläche S' jenseits des Meßbereiches des Instru
ments angeordnet wird.
Ein selektiver Betrieb im niedrigen Kohärenzmodus kann auch für Fokussierungsopera
tionen zweckmäßig sein. Wie es oben erörtert ist, besteht ein optimaler Abstand W für
einen maximalen Kontrast zwischen der profilierten Oberfläche S des Gegenstands O
und der Beugungsgittereinheit 62. Wenn dieser Abstand W im voraus nicht bekannt ist,
kann das Instrument 20 in dem niedrigen Kohärenzmodus eingestellt werden, so daß
Streifen hohen Kontrasts nur in einem kleinen Bewegungsbereich des Prüfgegenstands
O in der Z Richtung in bezug auf das Hauptgehäuseteil 22 erscheinen. Wenn die Be
dienperson den Prüfgegenstand O derart anordnet, daß die Oberfläche S innerhalb die
ser relativ kleinen Hüllkurve ist, erhält sie eine gute Angabe, daß der Gegenstand O bei
oder sehr nahe bei dem optimalen Abstand W von der Beugungsgittereinheit 62 ange
ordnet ist. Die Bedienperson kann dann den Knopf 48 betätigen, um das Instrument 20
in seinen hohen Kohärenzmodus für die Oberflächenvermessung zurückzuschalten.
Ein noch anderes Beispiel, bei dem der selektive Betrieb im niedrigen Kohärenzmodus
erwünscht ist, ist die Oberflächenmessung eines besonderen interessierenden Merk
mals eine Oberfläche S, die einen deutlichen Abstand in der Z Richtung zwischen dem
interessierenden Merkmal und seinen Umgebungsmerkmalen aufweist. Wenn man
bspw. wünscht, eine Nut in der Oberfläche S eines Gegenstands O, wie einer Computer
festplatte, zu vermessen, ohne benachbarte Merkmale auf der Oberfläche S oberflä
chenmäßig zu vermessen, kann der Knopf 48 betätigt werden, die effektive Querab
messung der Quellenblende 100 zu verringern und dadurch das Instrument 20 in den
niedrigen Kohärenzmodus zu bringen. Der Abtasttisch 24 wird dann betätigt, den Ge
genstand O in einer Position anzuordnen, in der die Oberfläche der Nut innerhalb der
relativ schmalen äquivalenten Kohärenzhüllkurve befinden und sich die Umgebungs
merkmale außerhalb dieser Hüllkurve befinden. Interferenzstreifen mit annehmbaren
Kontrast treten deshalb nur auf, wenn die Nute oberflächenmäßig vermessen wird.
Wenn der Abtasttisch 24 dann betätigt wird, die Nut außerhalb der äquivalenten Kohä
renzhüllkurve und die umgebenden Merkmale innerhalb der äquivalenten Kohärenzhüll
kurve anzuordnen, können die Nut und die Umgebungsmerkmale der Reihe nach ober
flächenmäßig vermessen werden. Ein einzelnes Bild der gesamten Oberfläche S könnte
auch bei Verwendung des gleichen Instruments 20 gewonnen werden, indem einfach
der Knopf 48 betätigt wird, das Instrument 20 zurück in seinem hohen Kohärenzmodus
anzuordnen, so daß die Nut und die Umgebungsmerkmale oberflächenmäßig vermes
sen werden können, ohne den Prüfgegenstand O in der Z Richtung zu verschieben.
Rauhe Oberflächen, d. h. Oberflächen, mit einzelnen Höhenschwankungen oder Oberflä
chenabweichungen von mehr als einer Viertelwellenlänge der Lichtquelle bilden eine
Herausforderung für die Interferenz-Oberflächenmessung, weil sie reflektiertes Licht
streuen, so daß die Bildgebungseinrichtung unzureichend Licht erhält, Bilder mit hohem
Kontrast zu erzeugen. Es ist erkannt worden, daß die Gleichungen (12)-(14) ebenso für
die Bildgebungsblende als auch die Quellenblende gelten. Daher ändert sich die effekti
ve Weite der äquivalenten Kohärenzhüllkurve der Bildgebungseinrichtung (und daher
die Fähigkeit der Bildgebungseinrichtung, Bilder mit geeignetem Kontrast aus diffusem
Licht oder anderem Licht mit einer geringeren als der Spitzenintensität zu konstruieren)
umgekehrt zu der effektiven Querabmessung der Eintrittsblende der Bildgebungseinrich
tung. Die Erfindung nutzt den Vorteil dieses Phänomens durch die selektive Verwen
dung einer länglichen Abbildungsblende, um die Fähigkeit der Bildgebungseinrichtung
zu verbessern, Bilder rauher Oberflächen zu erhalten, indem das reflektierte Licht be
grenzt wird, einem Weg zu folgen, der zu der Bildgebungseinrichtung 64 führt.
Es wird insbesondere auf die Fig. 11 und 12 Bezug genommen, in denen ein geome
trisch unempfindlich gemachte Interferometer Instrument 220 dargestellt ist, das sich
von dem geometrisch unempfindlich gemachte Interferometer Instrument 20 der Fig. 1-6
nur dadurch unterscheidet, daß ein zusätzliches bewegbares Element 350, das eine
längliche Blende 352 der Bildgebungseinrichtung trägt, stromaufwärts der Bildgebungs
einrichtung angeordnet ist. Die Bauteile des Instruments 220 der Fig. 11 und 12, die den
Bauteilen des Instrument 20 der Fig. 1-6 entsprechen, sind mit den gleichen um 200 er
höhten Bezugszeichen bezeichnet. Anfangs auf Fig. 11 Bezug nehmend, enthält des
halb das geometrisch unempfindlich gemachte Interferometer Instrument 220 ein
Hauptgehäuseteil 222, eine Prüfgegenstand-Haltevorrichtung 224 und einen Computer
226 umfaßt. Der Computer 226 umfaßt ein Gehäuse 228, das einen Prozessor, einen
RAM, einen ROM, usw. aufnimmt, eine Tastatur 230 zur Dateneingabe und einen Bild
schirm 232. Das Hauptgehäuseteil 222 umfaßt ein geschlossenes Gehäuse 234, das
umfaßt eine vordere und hintere Endwand 236 bzw. 238, eine obere Wand 240, eine
untere Wand 242, eine linke Seitenwand 244 und eine rechte Seitenwand 246. Ein er
ster und ein zweiter Einstellknopf 248 bzw. 249 sind an der rechten Seitenwand 246
drehbefestigt und erstrecken sich von der rechten Seitenwand nach außen. Die Ge
genstands-Haltevorrichtung 224 umfaßt eine ortsfeste Basis 250, ein Tragbett 252 und
einen Abtasttisch 254, wie es am besten in Fig. 12 zu sehen ist. Wie am besten in Fig.
12 zu sehen ist, sind ein Lichtgenerator 260, eine Beugungsgittereinheit 262, eine Bild
gebungseinrichtung 264 eine erste Kollimator- oder Fokussierungslinse 266, die zwi
schen dem Lichtgenerator 260 und der Beugungsgittereinheit 262 angeordnet ist, und
eine zweite Kollimatorlinse 268 angeordnet, die zwischen der Beugungsgittereinheit 262
und der Bildgebungseinrichtung 264 angeordnet ist.
Die Beugungsgittereinheit 262 umfaßt ein erstes und zweites Beugungsgitter 270 bzw.
272, die sich in der entsprechenden XY Ebene erstrecken und die in der Z Richtung mit
dem Abstand H voneinander beabstandet sind, so daß die Nullposition der optischen
Wegdifferenz der oberflächenmäßig vermessenen Oberfläche S mit einem Abstand W
von der Beugungsgittereinheit 262 beabstandet ist.
Der Lichtgenerator 262 umfaßt eine Lichtquelle 280 und eine Mehrmodenfasereinheit
282, die ein von einer Umhüllung umschlossenes optisches Mehrmodenfaserbündel
292, ein Eintrittselement, einen Flecken-Zufallserzeuger 285, ein Austrittselement 290,
und einen Modenmischer 291 umfaßt. Wie bei der ersten Ausführungsform paßt die
Form der Eintrittsöffnung des Eintrittselements 288 zu der Austrittsöffnung der Lichtquel
le 280, und die Austrittsöffnung des Austrittselements 290 umfaßt einen länglichen
Schlitz, dessen effektive Länge durch Drehen des Austrittselement 290 durch Knopfbe
tätigung (bei dieser Ausführungsform nicht gezeigt) eingestellt werden kann.
Das Element 350 kann irgendeine Einrichtung umfassen, die die Blende 352 tragen
kann und selektiv in eine Position bewegbar ist, in der die Blende 352 Licht, das von ei
ner rauhen Oberfläche S eines Prüfgegenstands O reflektiert wird, begrenzt, einem zu
der Bildgebungseinrichtung führenden Weg zu folgen. Bei der dargestellten Ausfüh
rungsform umfaßt das Element 350 eine relativ flache Scheibe, die in einer geschlitzten
Halteeinheit 354 befestigt ist. Die Blende 352, die von der Scheibe 350 gehalten wird,
sollte relativ lang und so schmal wie möglich sein, um den Streifenkontrast zu optimie
ren, sollte aber nicht so schmal sein, daß sie die Lichtmenge unannehmbar verringert,
die die Bildgebungseinrichtung 264 erhält. Die dargestellte Blende 352 ist ungefähr
10 mm lang und ungefähr 2-4 mm breit.
Beim Einsatz wird die Scheibe 350 in ihrer Betriebsposition unter Verwendung des
Knopfes 349 (Fig. 11) bewegt, indem sie innerhalb der Halteeinheit 354 in eine Position
verschoben wird, in der sich die Abbildungsblende 352 in dem Fortpflanzungsweg des
reflektierten Lichts befindet. Die schmale Blende 352 erhöht die äquivalente Kohärenz
hüllkurve der Bildgebungseinrichtung 264, um die schädlichen Wirkungen der
Lichtstreuung zu verringern. Jedoch sollte, weil die in Querrichtung kleine Blende 352
die Menge an reflektiertem Licht begrenzt, das die Bildgebungseinrichtung 264 erreicht
(was bereits eine Schwierigkeit bei einigen rauhen Proben ist), und weil eine kleine Ab
bildungsblende den Bereich akzeptierter Neigungswinkel glatter Oberflächen be
schränkt, die die Blende 352 tragende Scheibe 350 nur verwendet werden, wenn rauhe
Oberflächen vermessen werden. Sonst kann die Scheibe 350 vollständig aus dem Weg
des reflektierten Lichts bewegt und/oder durch ein Element ersetzt werden, das eine
herkömmliche Kreisblende aufweist. Viele Änderungen und Abwandlungen der vorlie
genden Erfindung können ausgeführt werden, ohne von ihrem Grundgedanken abzu
weichen. Der Bereich einiger dieser Änderungen ist oben erörtert worden. Der Bereich
anderer Änderungen wird aus den beigefügten Ansprüchen offensichtlich.
Claims (35)
1. Geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmessung
einer Gegenstandsoberfläche, gekennzeichnet durch
- (A) einen Lichtgenerator (80; 280),
- (B) eine optische Baueinheit (62; 262), die zwischen dem Lichtgenerator und der Gegenstandsoberfläche (S) angeordnet und derart ausgestaltet ist, daß sie Licht von dem Lichtgenerator (80; 280) in einem Bereich von Einfallswinkeln Δγin bezug auf eine Linie erhält, die sich senkrecht zu der genannten opti schen Baueinheit (62; 262) erstreckt, und daß sie das erhaltene Licht in zwei Bündel (A, B, A', B') aufteilt, die sich in zwei verschiedenen Richtungen fort pflanzen und auf die Gegenstandsoberfläche (L) im wesentlichen an dem selben Ort (P), aber unter verschiedenen Einfallswinkeln auftreffen;
- (C) eine Bildgebungseinrichtung (64; 264), die auf einer mit dem Lichtgenerator (80; 280) gemeinsamen Seite der optischen Baueinheit (62; 262) angeordnet und ausgestaltet ist, daß sie Licht, das von dem Lichtgenerator (80; 280) durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch übertragen und von der Gegenstandsoberfläche durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch re flektiert worden ist, erhält, so daß ein Interferenzmuster mit einer Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen erzeugt wird;
- (D) ein Blendenhalteelement (102), das zwischen der optischen Baueinheit (62; 262) und dem Lichtgenerator (80; 280) oder der Bildgebungseinrichtung (64; 264) angeordnet ist und das eine Blende (100) aufweist, die hindurchgehen des Licht formt, wobei die Blende eine wirksame Querabmessung in bezug auf die Linie aufweist, und
- (E) einen Einstellmechanismus (48, 106, 108), der selektiv betätigbar ist, die ef fektive Querabmessung der genannten Blende (100) einzustellen.
2. Interferometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Blenden
haltelement (102) ein Austrittselement (90) des Lichtgenerators (80; 280) umfaßt,
die Blende eine Austrittsblende (100) des Austrittselements umfaßt, und die Grö
ße Δγ von der effektiven Querabmessung der Austrittsblende (100) abhängt.
3. Interferometer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Größe Δγ
umgekehrt zu der effektiven Querabmessung der Austrittsblende (100) in Bezie
hung steht.
4. Interferometer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Einstellmechanismus (48, 106, 108) betriebsmäßig mit dem
Austrittselement (90) gekoppelt ist, um das Austrittselement selektiv zu drehen.
5. Interferometer nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Einstellme
chanismus einen Drehknopf (48) umfaßt.
6. Interferometer nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Knopf (48)
von Hand betätigbar ist.
7. Interferometer nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
Lichtgenerator (80; 280) eine (1) Lichtquelle mit einer Lichtquellenaustrittsöffnung
und (2) ein optisches Faserbündel (82) umfaßt, das (a) eine Einlaßblende (96),
die Licht von der Lichtquellenaustrittsöffnung erhält, und (b) das Austrittselement
umfaßt.
8. Interferometer nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Eintrittsöff
nung (96) des optischen Faserbündels (82) eine Form aufweist, die wenigstens
allgemein zu der Form der Lichtquellenaustrittsöffnung paßt.
9. Interferometer nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Blendenhalteelement zwischen der optischen Baueinheit (262) und der Bildge
bungseinrichtung (264) angeordnet ist, die Blende das Licht formt, das in die
Bildgebungseinrichtung (264) von der optischen Baueinheit (262) eintritt, um das
Licht zu begrenzen, das zu der Bildgebungseinrichtung (264) läuft.
10. Interferometer nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Einstellme
chanismus selektiv das Blendenhalteelement aus dem Weg des Lichts entfernt,
das in die Bildgebungseinrichtung (264) eintritt.
11. Interferometer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß ein Flecken-Zufallserzeuger (SG, 87) nahe dem Eintritt oder Aus
tritt des optischen Faserbündels (92) angeordnet ist.
12. Interferometer nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Flecken-
Zufallserzeuger ein drehbares Streuelement (87) umfaßt.
13. Interferometer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß ein Modenmischer (91) vorgesehen ist, der die Fortpflanzungsmo
den innerhalb des optischen Faserbündels (92) mischt.
14. Interferometer nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Modenmi
scher einen Windungsabschnitt (93) des optischen Faserbündels (92) umfaßt.
15. Interferometer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß die optische Baueinheit eine Beugungsgittereinheit (62; 262) um
faßt.
16. Geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmessung
einer Gegenstandsoberfläche gekennzeichnet durch:
- (A) einen Lichtgenerator (80; 280),
- (B) eine Beugungsgittereinheit (62; 262), die zwischen dem Lichtgenerator (80; 280) und der Gegenstandsoberfläche (S) angeordnet und ausgebildet ist, daß sie Licht von dem Lichtgenerator (80; 280) in einem Bereich von Ein fallswinkeln Δγ in bezug auf eine Linie (N) erhält, die sich senkrecht zu der Beugungsgittereinheit (62; 262) erstreckt,
- (C) eine Bildgebungseinrichtung (64; 264), die auf der mit dem Lichtgenerator (80; 280) gemeinsamen Seite der Beugungsgittereinheit (62; 262) angeord net und von dem Lichtgenerator (80; 280) in bezug auf die Linie (N) seitlich beabstandet ist und so angeordnet ist, daß sie Licht von dem Lichtgenerator (80; 280), das durch die Beugungsgittereinheit (62; 262) hindurchgegangen und von der Gegenstandsoberfläche durch die Beugungsgittereinheit (62; 262) zurückreflektiert worden ist, erhält, wodurch eine Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen erzeugbar ist,
- (D) ein Blendenhalteelement (102), das zwischen der Beugungsgittereinheit (62; 262) und dem Lichtgenerator (80; 280) angeordnet ist, und eine Lichtgenera torausgangsblende (100) aufweist, die darin gebildet ist und das hindurchge hende Licht formt, wobei die Lichtgeneratorausgangsblende (100) eine ef fektive Querabmessung in bezug auf die Linie (N) aufweist, wobei die Anzahl der äquivalenten Wellenlängenstreifen von der Größe Δγ abhängt und die Größe Δγ von der effektiven Querabmessung der Lichtgeneratorausgangs blende abhängt, und
- (E) einen Einstellmechanismus (48, 106, 108), der selektiv betätigbar ist, die ef fektive Querabmessung der Lichtgeneratoraustrittsblende (100) einzustellen.
17. Geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmessung
einer Gegenstandsoberfläche gekennzeichnet durch:
- (A) einen Lichtgenerator (80; 280),
- (B) eine Beugungsgittereinheit (62; 262), die zwischen dem Lichtgenerator (80; 280) und der Gegenstandsoberfläche (S) angeordnet und ausgebildet ist, daß sie Licht von dem Lichtgenerator (80; 280) in einem Bereich von Ein fallswinkeln Δγ in bezug auf eine Linie (N) erhält, die sich senkrecht zu der Beugungsgittereinheit (62; 262) erstreckt,
- (C) eine Bildgebungseinrichtung (64; 264), die auf der mit dem Lichtgenerator (80; 280) gemeinsamen Seite der Beugungsgittereinheit (62; 262) angeord net und von dem Lichtgenerator (80; 280) in bezug auf die Linie (N) seitlich beabstandet ist und so angeordnet ist, daß sie Licht von dem Lichtgenerator (80; 280), das durch die Beugungsgittereinheit (62; 262) hindurchgegangen und von der Gegenstandsoberfläche durch die Beugungsgittereinheit (62; 262) zurückreflektiert worden ist, erhält, wodurch eine Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen erzeugbar ist, und
- (D) ein Blendenhalteelement (350), das zwischen der Beugungsgittereinheit (262) und der Bildgebungseinrichtung (264) angeordnet ist und eine längli che Abbildungsblende (252) aufweist, die darin gebildet ist und hindurchge hendes Licht formt, wobei das Blendenhalteelement selektiv in eine Position bewegbar ist, in der Licht zu der Bildgebungseinrichtung von der Beu gungsgittereinheit (262) läuft, ohne durch die Abbildungsöffnung hindurchzu gehen.
18. Ein Verfahren zum Einstellen der effektiven Kohärenztiefe eines geometrisch un
empfindlich gemachten Interferometers, wobei das Interferometer einen Lichtge
nerator, eine optische Baueinheit und eine Bildgebungseinrichtung umfaßt, die
auf einer mit dem Lichtgenerator gemeinsamen Seite der optischen Einheit an
geordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren die Schritte umfaßt:
- (A) Übertragen von Licht von (1) einer Austrittsöffnung des Lichtgenerators zu der optischen Baueinheit in einem Bereich von Einfallswinkeln Δγ in Bezug auf eine Linie, die sich senkrechte zu der optischen Achse erstreckt, (2) durch die optische Baueinheit hindurch zu (3) einer Oberfläche eines Ge genstands als zwei Bündel, die auf der Oberfläche an einem gemeinsamen Ort, aber unter unterschiedlichen Einfallswinkeln auftreffen, von (4) dort zu rück durch die optische Baueinheit hindurch und zu (5) der Bildgebungsein richtung als ein Interferenzmuster, das eine Anzahl äquivalenter Wellenlän genstreifen aufweist, die von der Größe Δγ abhängt, und
- (B) Ändern der Größe Δγ, um die Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen und die äquivalente Kohärenztiefe des Interferometers zu ändern.
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtgenera
toraustrittsöffnung eine effektive Querabmessung in bezug auf die Linie aufweist
und die Größe Δγ von der effektiven Querabmessung der Lichtgeneratoraus
trittsöffnung abhängt.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet daß der Änderungs
schritt umfaßt, die Größe Δγ zu erhöhen, indem die wirksame Querabmessung
der Lichtgeneratoraustrittsöffnung verringert wird.
21. Verfahren nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Licht
generatoraustrittsöffnung einen länglichen Schlitz umfaßt, der in einem Austrittse
lement des Lichtgenerators gebildet ist, und der Änderungsschritt umfaßt, das
Austrittselement zu drehen, um die Ausrichtung des länglichen Schlitzes in bezug
auf die Linie zu ändern.
22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß der Änderungs
schritt umfaßt, einen Knopf zu drehen, der betriebsmäßig mit dem Austrittsele
ment gekoppelt ist.
23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß der Drehschritt
von Hand durchgeführt wird.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß
der Lichtgenerator (1) eine Lichtquelle, die eine darin gebildete Lichtquellen
austrittsöffnung aufweist, und (2) ein optisches Faserbündel umfaßt, das (a) eine
Eintrittsöffnung, die Licht von der genannten Lichtquellenaustrittsöffnung erhält,
und (b) die Lichtgeneratoraustrittsöffnung umfaßt, und daß zumindest 50% des
Lichts, das die Lichtquellenaustrittsöffnung verläßt, durch die Eintrittsöffnung hin
durch und in das optische Faserbündel übertragen wird.
25. Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest 60%
des Lichts, das aus der Lichtquellenaustrittsöffnung austritt, durch die Eintrittsöff
nung in das optische Faserbündel übertragen wird.
26. Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Fleckenzu
fallserzeugung in dem von dem optischen Faserbündel ausgesandten Licht um
faßt.
27. Verfahren nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß der Zufallserzeu
gungsschritt umfaßt, ein Streuelement durch eine Lichtbündel hindurchzudrehen,
das in das optische Faserbündel eintritt.
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 24 bis 27, dadurch gekennzeichnet, daß
es umfaßt, die Fortpflanzungsmoden innerhalb des optischen Faserbündels zu
mischen.
29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß der Mischungs
schritt umfaßt, Licht durch einen Windungsabschnitt des optischen Faserbündels
hindurch zu übertragen.
30. Verfahren zum Einstellen der effektiven Kohärenztiefe eines geometrisch un
empfindlich gemachten Interferometers, wobei das Interferometer (1) einen
Lichtgenerator mit einer Lichtquelle und einem optischen Faserbündel, (2) eine
Beugungsgittereinheit und (3) eine Bildgebungseinrichtung umfaßt, die auf einer
mit dem Lichtgenerator gemeinsamen Seite der Beugungsgittereinheit angeord
net und von dem Lichtgenerator in bezug auf eine Linie beabstandet ist, die sich
senkrecht in bezug auf die Beugungsgittereinheit erstreckt, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Verfahren die Schritte umfaßt:
- (A) Übertragen von Licht von einer Austrittsöffnung der Lichtquelle zu einer Ein trittsöffnung des optischen Faserbündels derart, daß zumindest 60% des Lichts, das aus der Lichtquellenaustrittsöffnung austritt, durch die Eintrittsöff nung hindurch in das optische Faserbündel übertragen wird,
- (B) Übertragen von Licht (1) von einem länglichen Schlitz des genannten opti schen Faserbündels, der als Lichtgeneratoraustrittsöffnung dient, zu der Beugungsgittereinheit in einem Bereich von Einfallswinkel Δγ in bezug auf die Linie, (2) durch die Beugungsgittereinheit hindurch zu einer Oberfläche eines Gegenstands, (3) durch die Beugungsgittereinheit hindurch zurück und (4) zu der Bildgebungseinrichtung als Interferenzmuster, wobei das Interferenz muster eine Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen aufweist, die Anzahl von der Größe Δγ abhängt und die Größe Δγ in umgekehrter Beziehung zu der effektiven Querabmessung des länglichen Schlitzes relativ zu der Linie steht, und
- (C) Drehen des Austrittselements des optischen Faserbündels, wodurch die ef fektive Querabmessung des länglichen Schlitzes geändert und daher die Größe Δγ, die Anzahl der äquivalenten Wellenlängenstreifen und eine äqui valente Kohärenztiefe des Interferometers geändert werden.
31. Ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmes
sung einer Gegenstandsoberfläche, dadurch gekennzeichnet, daß das Inter
ferometer umfaßt:
- (A) einen Lichtgenerator, der umfaßt
- (1) eine Lichtquelle (80; 280) mit einer Lichtquellenaustrittsöffnung und
- (2) ein optisches Faserbündel (82), das (a) eine Eintrittsöffnung, die Licht von der Lichtquellenaustrittsöffnung erhält, und (b) ein Austrittselement (90, 102) aufweist, wobei die Eintrittsöffnung (96) des optischen Faser bündels (82) eine Form aufweist, die zumindest allgemein zu der Form der Lichtquellenaustrittsöffnung paßt,
- (B) eine optische Baueinheit (62; 262), die zwischen dem Lichtgenerator und der Gegenstandsoberfläche (S) angeordnet und ausgestaltet ist, daß sie Licht von dem Lichtgenerator erhält und das erhaltene Licht in zwei Bündel (A, B, A', B') aufteilt, die sich in zwei verschiedenen Richtungen fortpflanzen und auf die Gegenstandsoberfläche (L) im wesentlichen an demselben Ort (P), aber unter verschiedenen Einfallswinkeln auftreffen;
- (C) eine Bildgebungseinrichtung (64; 264), die auf einer mit dem Lichtgenerator (80; 280) gemeinsamen Seite der optischen Baueinheit (62; 262) angeordnet und ausgestaltet ist, daß sie Licht, das von dem Lichtgenerator (80; 280) durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch übertragen und von der Gegenstandsoberfläche durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch re flektiert worden ist, erhält, so daß ein Interferenzmuster mit einer Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen erzeugt wird.
32. Geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmessung
einer Gegenstandsoberfläche, gekennzeichnet durch
- (A) einen Lichtgenerator (80; 280) mit einer Lichtquelle,
- (B) eine optische Baueinheit (62; 262), die zwischen dem Lichtgenerator und der Gegenstandsoberfläche (S) angeordnet und das erhaltene Licht in zwei Bündel (A, B, A', B') aufteilt, die sich in zwei verschiedenen Richtungen fort pflanzen und auf die Gegenstandsoberfläche (L) im wesentlichen an dem selben Ort (P), aber unter verschiedenen Einfallswinkeln auftreffen; (C) eine Bildgebungseinrichtung (64; 264), die auf einer mit dem Lichtgenerator (80; 280) gemeinsamen Seite der optischen Baueinheit (62; 262) angeordnet und ausgestaltet ist, daß sie Licht, das von dem Lichtgenerator (80; 280) durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch übertragen und von der Gegenstandsoberfläche durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch re flektiert worden ist, erhält, so daß ein Interferenzmuster mit einer Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen erzeugt wird;
- (D) einen Flecken-Zufallserzeuger (85), der die Zufälligkeit des von der Lichtquel le (80; 280) verteilten Lichts verstärkt, wobei der Flecken-Zufallserzeuger (85) zwischen der Lichtquelle (80; 280) und der optischen Baueinheit (62; 262) an geordnet ist.
33. Interferometer nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, daß der Flecken-
Zufallserzeuger (85) ein drehbares Streuelement (87) umfaßt.
34. Ein geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer zur Oberflächenmes
sung einer Gegenstandsoberfläche, dadurch gekennzeichnet, daß das Inter
ferometer umfaßt:
- (A) einen Lichtgenerator, der
- (1) eine Lichtquelle (80; 280) mit einer Lichtquellenaustrittsöffnung und
- (2) ein optisches Faserbündel (82) aufweist, das (a) eine Eintrittsöffnung, die Licht von der Lichtquellenaustrittsöffnung erhält, und (b) ein Austrittselement (90, 102) umfaßt,
- (B) eine optische Baueinheit (62; 262), die zwischen dem Austrittselement und der Gegenstandsoberfläche (L) angeordnet ist und das erhaltene Licht in zwei Bündel (A, B, A', B') aufteilt, die sich in zwei verschiedenen Richtungen fortpflanzen und auf die Gegenstandsoberfläche (L) im wesentlichen an demselben Ort (P), aber unter verschiedenen Einfallswinkeln auftreffen;
- (C) eine Bildgebungseinrichtung (64; 264), die auf einer mit dem Lichtgenerator (80; 280) gemeinsamen Seite der optischen Baueinheit (62; 262) angeordnet und ausgestaltet ist, daß sie Licht, das von dem Lichtgenerator (80; 280) durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch übertragen und von der Gegenstandsoberfläche durch die optische Baueinheit (62; 262) hindurch re flektiert worden ist, erhält, so daß ein Interferenzmuster mit einer Anzahl äquivalenter Wellenlängenstreifen erzeugt wird, und
- (D) einen Modenmischer (91), der Fortpflanzungsmoden innerhalb des optischen Faserbündels (82) mischt.
35. Interferometer nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, daß der Modenmi
scher (91) einen Windungsabschnitt (91) des optischen Faserbündels (82) um
faßt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/003,449 US6011624A (en) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | Geometrically-Desensitized interferometer with adjustable range of measurement depths |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19900158A1 true DE19900158A1 (de) | 1999-07-15 |
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ID=21705931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19900158A Withdrawn DE19900158A1 (de) | 1998-01-06 | 1999-01-05 | Geometrisch unempfindlich gemachtes Interferometer mit einstellbarem Bereich der Meßtiefe |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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