DE19822903C2

DE19822903C2 - Verfahren zur Herstellung einer Beschichtungen eines Tassenstößels sowie Tassenstößel

Info

Publication number: DE19822903C2
Application number: DE1998122903
Authority: DE
Inventors: Hans-Juergen Fueser
Original assignee: DaimlerChrysler AG
Current assignee: Mercedes Benz Group AG
Priority date: 1998-05-22
Filing date: 1998-05-22
Publication date: 2001-11-22
Anticipated expiration: 2018-05-23
Also published as: DE19822903A1

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Tassenstößels sowie einen Tassenstößel gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 oder 2 bzw. 25, wie beides aus der gattungsbil dend zugrundegelegten DE 43 17 350 A1 als bekannt hervorgeht.

Aus der DE 43 17 350 A1 ist ein Tassenstößel bekannt, der zur Verbesserung seiner Abriebfestigkeit im Bereich seines zylind rischen Schaftabschnittes beschichtet ist. Die durch ein Pul versprühverfahren aufgebrachte Beschichtung weist ein Gemisch aus Molybdän und Molybdäntrioxid und ggf. Füllstoffen auf, wo bei der Sauerstoffanteil der Mischung zwischen 2 und 8% be trägt. Der Vorteil der Beschichtung ist insbesondere darin zu sehen, daß die Oxid-Anteile der Beschichtung als Trocken schmiermittel wirken. Desweiteren weist diese Beschichtung ein unerwartet hohes Haftvermögen insbesondere auf Leichtmetallen auf. Daher können insbesondere Leichtbau-Tassenstößel herge stellt werden, die in ihrer Betriebsdauer Tassenstößel aus Stahl entsprechen.

Aus dem Artikel "Formation and self-lubricating mechanisms of boric acid on borided steel surfaces" von A. Erdemir et al in Surface & Coating Technology 76-77, 1995, Seite 443-490 ist eine Beschichtung eines Trockenschmiermittels aus Borsäure auf Stählen bekannt sowie ein Verfahren zur Aufbringung der Be schichtung. Bei dem aus dieser Schrift vorbekannten Verfahren wird ein Stahl zuerst boriert. Die borierte Oberfläche des Stahls weist eine gute Härte und Korrosionsbeständigkeit auf. Allerdings ist ihr Reibwert (Reibkoeffizient) sehr hoch. Daher wird die borierte Oberfläche des Stahles mit einer Schmier stoffschicht aus Borsäure versehen, die als Trockenschmiermittel wirkt. Zum Borieren wird der Stahl in ein Salzbad getaucht, das eine Borverbindung aufweist und das auf 940°C erhitzt wird. Nach dem Salzbad wird der borierte Stahl auf 750°C er hitzt, wodurch die Boratome tiefer in den Oberflächenbereich des Stahles diffundieren können. Es wird vermutet, daß einige der Atome auch an die freie Oberfläche diffundieren, wo sie bei Anwesenheit von Sauerstoff sofort zu Boroxid reagieren. Dadurch scheidet sich an der Oberfläche des Stahls eine Boroxidschicht ab, die beim späteren Abkühlen und in Anwesenheit von Wasser stoff in Borsäure umgewandelt wird. Zur Bildung des Boroxids darf die Temperatur allerdings nicht unter 750°C abgesenkt werden und der borierte Stahl auch nicht länger als 8 min auf diese Temperatur erhitzt sein, da sich ansonst kein Boroxid bildet. Abgesehen davon, daß diese Temperaturbehandlung eine immense Belastung für den Stahl darstellt, ist auch die Prozeß führung zur Herstellung der Boroxid-Schicht sehr empfindlich, weshalb das vorbekannte Verfahren auch sehr aufwendig, kompli ziert und teuer ist. Desweiteren sind mit diesem Verfahren end formnahe, insbesondere genau bemaßte Bauteile nur sehr schwer und mit einer großen Ausschußrate herzustellen. Auch ist das gesamte Verfahren insbesondere für veränderte Schichtdicken sehr inflexibel.

Aus dem Artikel "A study of the formation and self-lubrication mechanisms of boric acid folms on boric oxide caotings" von A. Erdemir et al in Surface & Coating Technology 43/44, 1990, Sei te 588-596 ist ebenfalls eine Beschichtung eines Trocken schmiermittels aus Borsäure sowie ein Verfahren zur Auftragung dieser Beschichtung bekannt. Bei diesem Verfahren wurden die O berflächen eines Gegenstandes aus α-Aluminiumoxid und eines Gegenstandes aus Stahl (M50) durch einen Argon-Ionenstrahl ge reinig und anschließend mittels einer Elektronenstrahlverdamp fung im Vakuum mit dem Boroxid beschichtet. Die Reibkoeffizien ten der einige µm dicken Schmierstoffschichten waren in beiden Fällen sehr gut, wobei allerdings die Standzeit der Beschich tung auf Stahl gering war. Desweitern ist die Haftung der Schmierstoffschichten aus Borsäure auf den Substraten gering, so daß auch dieses Verfahren eine hohe Ausschußrate aufweist.

Aus dem Artikel Artikel "Tribilogical Properties of Boric-Acid- Forming Sufaces. Part II: Mechanisms of Formation and Self- Lubrication of Boric Acid Films on Boron- and Boric Oxide- Containing Surfaces." von A. Erdemir et al in Journal of the Siciety of Tribologists and Lubrication Engineers (1991), 47(3), Seite 179-184 ist eine weitere Beschichtung eines Ge genstandes mit Borsäure als Trockenschmiermittel sowie ein zu gehöriges Verfahren bekannt. Hierbei weist die zu beschichtende Oberfläche zuerst eine Borschicht, anschließend eine Boroxid schicht und anschließend die Schmierstoffschicht auf.

Die Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dem ein Tassenstößel in preisgünstiger Weise und innerhalb ge ringer Herstellungstoleranzen sowie bei kleinen Ausschußraten mit einer guthaftenden Schmierstoffschicht aus einem Trocken schmiermittel versehen werden kann, wobei das Trockenschmier mittel einen möglichst geringen Reibwert und eine möglichst lange Standzeit aufweisen soll. Desweiteren ist es Aufgabe der Erfindung für einen Tassenstößel eine guthaftende Schmierstoff schicht aus einem Trockenschmiermittel zu entwickeln, welche Schmierstoffschicht preisgünstig und innerhalb geringer Her stellungstoleranzen sowie mit kleinen Ausschußraten aufgebracht ist, wobei das Trockenschmiermittel einen möglichst geringen Reibwert und eine möglichst hohe Standzeit aufweist.

Die Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einem Verfahren mit den Verfahrensschritten des Anspruchs 1 oder 2 bzw. mit einer Be schichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 25 gelöst. Durch den erfindungsgemäßen Schichtaufbau und die Aufbringung der einzel nen Schichten, bevorzugt mittels eines Plasma-CVD-Verfahrens, können die Schichtdicken in einfacher Weise im µm-Bereich repro duzierbar aufgebracht werden, so daß zumindest eine aufwendige Nachbearbeitung entfällt. Desweiteren ist die Haftung auf dem Tassenstößel durch das erfindungsgemäße Vorgehen verbessert.

Sinnvolle Ausgestaltungen der Erfindung sind den jeweiligen Un teransprüchen entnehmbar. Im übrigen wird die Erfindung anhand von Beispielen und nachfolgenden Zeichnungen näher erläutert.

Dabei zeigt

Fig. 1 einen Ausschnitt eines Schnittes durch einen erfin dungsgemäßen Schichtaufbau eines beschichteten Tassen stößels,

Fig. 2 ein Diagramm des Reibkoeffizienten in Abhängigkeit der Zeit bei mit unterschiedlichen Trockenschmiermitteln beschichteten Gegenständen bei einem Schwingverschleiß test,

Fig. 3 eine Vorrichtung zur Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtung und

Fig. 4 ein Gasflußdiagramm bei der Herstellung einer erfin dungsgemäßen Beschichtung.

In Fig. 1 ist ein Ausschnitt eines Schnittes durch einen er findungsgemäßen Schichtaufbau eines beschichteten Tassenstößels 1 dargestellt, wobei der Maßstab stark verzerrt ist. Der aus Stahl hergestellte metallische Tassenstößel 1 weist im Bereich seiner nach außen gerichteten und mit der Beschichtung bedeck ten Oberfläche 2 eine borierte Haftvermittlerschicht 3 mit Bo riden des Werkstoffs des Tassenstößels 1 auf. Im vorliegenden Fall sind innerhalb der Haftvermittlerschicht 3 Boride des Ei sens angeordnet. Innen beginnend liegt zuerst zumindest ver mehrt Fe₂B und anschließend FeB vor.

Anstelle einer reinen Borierung können zur Herstellung der Haftvermittlerschicht 3 die oberflächennahen Bereiche des Tas senstößels 1 auch nitriert und/oder carbonisiert und/oder carbo nitriert werden. Derartige Haftvermittlerschichten 3 können zu sätzlich auch noch boriert werden. Anstelle eines Tassenstößels 1 aus Stahl kann auch einen Tassenstößel aus einem anderen Werkstoff, vorzugsweise jedoch aus einem Ti- und/oder Al- und/oder Mg-Werkstoff, mit der erfindungsgemäßen Beschichtung versehen werden.

Auf der zuvor freiliegenden Oberfläche 2 des Tassenstößels 1 folgt der Haftvermittlerschicht 3 eine Zwischenschicht 4, die Bor und dessen Oxide aufweist. Insbesondere weist die Zwischen schicht 4 - beginnend von der zuvor freiliegenden Oberfläche 2 des Tassenstößels 1 - zuerst zumindest vorwiegend Bor, nachfolgend zumindest vorwiegend B₆O und zuletzt B₂O₃ auf. Auf dem B₂O₃ ist die Borsäure (H₃BO₃) aufweisende Schmierstoffschicht 5 an geordnet, wobei die Anteil der Borsäure in der Schmierstoff schicht 5 zumindest oberflächennah mindestens 5%, bevorzugt 10 % und besonders bevorzugt 30% beträgt.

Die als Trockenschmiermittel verwendete Borsäure kann insbeson dere erst oder auch zusätzlich, insbesondere bei einem Ver schleiß der bisherigen Borsäure aufweisenden Schmierstoff schicht 5, im Einsatzfall durch eine oberflächennahe Umwandlung des B₂O₃ bei Anwesenheit von Wasser bzw. Wasserstoff gebildet werden. In vorteilhafter Weise kann also die Bor und Sauer stoff, insbesondere B₂O₃, aufweisende Zwischenschicht 4 im Ver schleißfall eine Art Reservoir für die Borsäure der Schmier stoffschicht 5 bilden.

In Fig. 2 ist ein Diagramm des Reibkoeffizienten in Abhängig keit der Zeit bei mit unterschiedlichen Trockenschmiermitteln beschichteten metallischen Gegenständen dargestellt, welche ei nem Schwingvergleichstest unterzogen wurden.

Die einzelnen Kurven betreffen Gegenstände aus folgenden Werk stoffen:

Kurve A: einen Gegenstand mit einem erfindungsgemäßen Schicht aufbau mit einer Schmierstoffschicht aus Borsäure,

Kurve B: eine Molybdensulfid-Schicht (MoS₂) auf einem Gegen stand aus einem Hartmetall,

Kurve C: amorpher Diamant auf einem Gegenstand aus einem Hart metall und

Kurve D: eine Wolframcarbid/Graphitschicht auf einem Gegen stand aus einem Hochleistungs-Schnell-Schneidestahl.

Die Versuche wurden in trockenen Zustand, d. h. ohne zusätzli che, insbesondere flüssige Schmierung durchgeführt. Als Test körper wurde eine Kugel aus 100Cr6 mit einem Radius von 4 mm verwendet, die mit einer Last von 5 N auf den beschichteten Ge genstand aufgepreßt und auf einer Länge von 600 µm mit einer Frequenz von 10 kHz hin- und herbewegt wurde.

Der mit der WC/C-Schicht beschichtete Gegenstand (Kurve D) weist einen Verlauf des Reibkoeffizienten auf, der sich nach einem anfänglichen Einlaufverhalten bei Werten zwischen 0.2 und 0.3 einstellt. Dieser Wert wird innerhalb der genannten Band breite etwas über 100 Minuten gehalten und steigt anschließend an. Bei ca. 4000 Minuten beträgt er etwa 0.45.

Der mit dem amorphen Diamanten beschichtete Gegenstand (Kurve C) weist einen Verlauf des Reibkoeffizienten auf, der sich nach einem anfänglichen etwa zehnminutigen Einlaufverhalten, bei dem die Werte des Reibkoeffizienten zwischen etwa 0.1 und 0.35 an- und abschwellen, auf einen Wert von ca. 0.1 einstellt. Ab die sem Zeitpunkt nimmt der Wert des Reibkoeffizienten mit zuneh mender Beanspruchungszeit stetig zu. Wie aus dem Diagramm nach Fig. 2 ersichtlich ist, steigt der Wert des Reibkoeffizienten nach 10 Minuten innerhalb von ca. 190 min von etwa 0.1 auf etwa 0.2 an.

Der mit MoS₂ beschichtete Gegenstand (Kurve B) weist einen Ver lauf des Reibkoeffizienten auf, der sich nach einem sehr kurzen Einlaufverhalten, auf einen Wert zwischen etwa 0.05 und etwa 0.1 einstellt. Dieser Wert des Reibkoeffizienten wird innerhalb der oberen Bandbreite etwa 100 Minuten gehalten und steigt an schließend innerhalb sehr kurzer Zeit auf Werte über 0.4 an. Dies bedeutet, daß das Material ein sehr gutes Kurzeitverhalten aber ein sehr schlechtes Langzeitverhalten aufweist.

Der den erfindungsgemäßen Schichtaufbau aufweisende Gegenstand (Kurve A) weist nach einem anfänglichen etwa einminütigen Ein laufverhalten einen Verlauf des Reibkoeffizienten auf, der sich auf einen Wert von etwa 0.05 einstellt. Dieser Wert des Reib koeffizienten wird unverändert über die gesamte Zeit gehalten. Insbesondere sei hier erwähnt, das der Wert des Reibkoeffi zienten sogar nach einer Versuchszeit die länger als die im Diagramm aufgeführte Zeit von 10.000 min war, immer noch stabil blieb.

In Fig. 3 ist eine Vorrichtung in der Art einer Plasma-CVD- Anlage dargestellt, die zur Durchführung des erfinderischen Verfahrens, mit dem der erfindungsgemäße Schichtaufbau reali sierbar ist, geeignet ist.

Die Vorrichtung weist einen Reaktor 6 auf, der durch ein flui disch mit ihm verbundenes Pumpsystem 7 evakuierbar ist. Ferner weist der Reaktor 6 ein Gasversorgungssystem mit mehreren Gas flaschen 8-11 und einen Verdampfer 12 auf. Das Gasversor gungssystem ist ebenso wie das Pumpsystem 7 zu- und abschalt bar. Die Gasflaschen 8-11 und der Verdampfer 12 können ein zeln und mit einem regelbaren Gasstrom mit dem Innenraum 13 des Reaktors 6 verbunden werden. In den Gasflaschen 8-11 sind bspw. die Prozeßgase, ein ein Plasma 16 unterstützendes Gas und/oder auch Vormaterialien für den erfindungsgemäßen Schicht aufbau gespeichert. Insbesondere handelt es sich u, die Gase Methan, Diboran, Wasserstoff, Sauerstoff und Stickstoff.

Innerhalb des Reaktors 6 ist ein Substrathalter 14 angeordnet, auf dem ein zu beschichtender Tassenstößel 1 angeordnet werden kann. Der Substrathalter 14 ist zur Spannungsversorgung elek trisch leitend mit einem Generator 15 verbunden. Der zur Plas maerzeugung vorgesehene Generator 15 kann bspw. mit elektri scher Wechselspannung, mit einer Wechselspannung mit gekappter Halbwelle oder dgl., vorzugsweise mit einer gepulsten Gleich spannung betrieben werden.

Zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Schichtaufbaus wird der zu beschichtende Tassenstößel 1 in den Reaktor 6 eingebaut und das Reaktorinnere 13 auf einen Druck kleiner 100 mbar, bevorzugt kleiner 10 mbar und besonders bevorzugt auf etwa 1 mbar evakuiert. Nach dem Evakuieren wird im Reaktorinnern 13 der er reichte Unterdruck gehalten. Gegebenenfalls kann das Reaktorin nere 13 auch zumindest teilweise wieder mit einem Inertgas be füllt werden.

Anschließend wird an dem Generator 15 eine gewünschte Puls- Spannung hinsichtlich ihrer Amplitude und ihrer Frequenz einge stellt und an den elektrisch leitend mit dem Generator 15 ver bundenen Tassenstößel 1 angelegt. Vorzugsweise wird eine Span nung gewählt, die bezogen auf den den Tassenstößel 1 umgebenden Gasraum und insbesondere auch gegenüber Masse negativ ist.

Danach wird das Prozeßgas zur Herstellung der Haftvermittler schicht 3, die zur Verbesserung der Haftung zwischen der später aufgetragenen Schmierstoffschicht 5 und dem Material des Tas senstößels 1 oder zur Verbesserung der Haftung zwischen einer anschließend aufgebrachten Zwischenschicht 4 und dem Material des Tassenstößels 1 dient, eingeleitet.

Die Haftvermittlerschicht 3 wird günstigerweise durch Borieren und/oder Nitrieren und/oder Carbonisieren und/oder Carbonitrie ren erzeugt, welche Prozesse zweckmäßigerweise durch ein Plasma 16 unterstützt werden. Hierbei werden überschüssige Gaspartikel von dem Pumpsystem 7 entfernt.

Anstelle oder ergänzend zu dem obigen Prozeß kann zur Herstel lung der Haftvermittlerschicht 3 das bzw. die betreffenden Sub stanzen auch mittels Ionenimplantation in die oberflächennahen Bereiche der zu beschichtenden Oberfläche 2 des Tassenstößels 1 eingebracht werden.

Als Ersatzmaßnahme oder als ergänzende Maßnahme zu der/den oben genannten Haftvermittlerschichten 3 kann auf der zu beschich tenden Oberfläche 2 des Tassenstößels 1 und zwar als Haftver mittlerschicht 3 oder als Bestandteil der Haftvermittlerschicht 3 insbesondere TiN und/oder TiC und/oder Ti(C, N) und/oder eine Borcarbid-Schicht (B₄C) abgeschieden werden.

Das unterstützende Plasma 16 wird aus der Zusammenwirkung der gepulsten elektrischen Spannung und Wasserstoff, der hierzu ex tra in das Reaktorinnere 13 eingeleitet wird, und/oder dem Pro zeßgas erzeugt. Bevorzugt wird das Plasma 16 so erzeugt, daß es die zu beschichtende Oberfläche 2 des Tassenstößels 1 umhüllt und ggf. auch zumindest teilweise in Vertiefungen, wie Bohrun gen und dergleichen, des Tassenstößels 1 eintaucht. Vorzugswei se wird das Plasma 16 im Bereich der Oberfläche des Tassenstö ßels 1 erzeugt.

In günstiger Weise beheizt das Plasma 16 zumindest die zu be schichtende Oberfläche 2 des Tassenstößels 1 auf Temperaturen kleiner 750°C, vorzugsweise kleiner 700°C und besonders be vorzugt kleiner 600°C, da hier allenfalls eine geringe Ände rung des Gefüges des Werkstoffes des Tassenstößels 1 zu erwar ten ist.

Die Pulsrate der elektrischen Spannung hat u. a. eine Auswirkung auf die räumlich Gestalt des Plasma 16. Daher wird die Pulsrate und ggf. auch die gewählte elektrische Spannung zweckmäßiger weise in Abhängigkeit zu der körperlichen Ausgestaltung der zu beschichtenden Oberfläche 2 des Tassenstößels 1 eingestellt.

Bei den Prozeßgase handelt es zweckmäßiger um Gase, die das Element bzw. die Elemente enthalten, die zur Herstellung der Haftvermittlerschicht 3 benötigt werden. Dies kann bspw. da durch erfolgen, daß das Prozeßgas das bzw. die betreffende Ele ment(e) in reiner Form aufweist und/oder daß das bzw. die be treffende Element(e) bei Prozeßbedingungen aus dem Prozeßgas als Dissoziationsprodukt und/oder als Ion zur Verfügung ge stellt werden.

Als Prozeßgas werden in den obigen Fällen Prozeßgase verwendet, die Bor und/oder Stickstoff und/oder Kohlenstoff zumindest als Verbindung aufweisen und/oder bei Prozeßbedingungen das ent sprechende Element freigeben.

Bei einer Borierung handelt es sich bei dem Prozeßgas bevorzugt um Borane (B_nH_m), vorzugsweise um Diboran (B₂H₆), um Borchlorid (BCl₃) oder um Borfluorid (BF₃) oder um ein Gemische aus zumin dest zweien dieser Gase.

Bei einem Fe aufweisenden Tassenstößel 1 wird beim Borieren insbesondere Fe₂B und das gegenüber dem FeB₂ sprödere und daher zumeist unerwünschte FeB gebildet. Eine besonders gute Haftung der nachfolgenden Schicht wird erreicht, wenn das FeB im Ver hältnis zu allen Eisenboriden mit einem Anteil kleiner 20%, bevorzugt kleiner 10% und besonders bevorzugt kleiner 1% ge bildet wird.

Um dies in einfacher Weise zu realisieren kann insbesondere der Anteil von Bor in der abscheidenden Gasphase nach der Bildung von Fe₂B im Bereich der zu beschichtenden Oberfläche 2 des Tas senstößels 1 innerhalb von 5 s um wenigstens 20% erhöht und/oder die oberflächennahe Temperatur des Tassenstößels 1 ab gesenkt werden.

Auf der Haftvermittlerschicht 3 wird sinnvollerweise eine Zwi schenschicht 4 angeordnet. Hierzu wird als zweites Vormaterial ein Gas in das Reaktorinnere 13 und in das Plasma 16 eingelei tet, das Bor zumindest als Verbindung aufweist und bei Prozeß bedingungen das Bor freigibt.

Wie schon bei der Haftvermittlerschicht 3 werden hierzu insbe sondere Borane (B_nH_m), vorzugsweise Diboran (B₂H₆), Borchlorid (BCl₃) oder Borfluorid (BF₃) oder ein Gemische aus zumindest zweien dieser Gase verwendet.

Desweiteren wird zur Bildung der Zwischenschicht 4 ein Sauer stoff zumindest als Verbindung aufweisendes und bei Prozeßbedingungen den Sauerstoff freigebendes erstes Vormaterial in die abscheidende Gasphase eingeleitet.

Aus diesen beiden Vormaterialien wird die Bor und Sauerstoff aufweisende Zwischenschicht 4 auf der Haftvermittlerschicht 3 abgeschieden.

Durch die Variation der Temperatur und/oder des Sauerstoffs kann hierbei der Anteil des Sauerstoff in der Zwischenschicht 4 gesteuert werden, so daß der Anteil von Sauerstoff innerhalb der Zwischenschicht 4 einen Gradienten aufweist.

Vorzugsweise nimmt der Anteil von Sauerstoff mit zunehmendem Abstand von der Haftvermittlerschicht 3 zu. Bevorzugt wird die Zwischenschicht 5 mit Boroxid, insbesondere als B₆O und/oder B₂O₃ aufgetragen, wobei vorzugsweise zuerst B₆O und anschließend B₂O₃ aufgetragen wird. Vor der Aufbringung der Boroxide wird auf die Haftvermittlerschicht 3 sinnvollerweise zumindest weit gehend reines Bor aufgetragen.

Analog zur Herstellung der Haftvermittlerschicht 3 wird hierbei der Tassenstößel 1 während des Abscheidens der Bor und Sauer stoff aufweisenden Zwischenschicht 4 insbesondere auf Tempera turen kleiner 750°C, vorzugsweise kleiner 700°C und besonders bevorzugt kleiner 600°C beheizt.

Im Bereich der freiliegenden Oberfläche 2 der Zwischenschicht 4 wird zuletzt die Schmierstoffschicht 5 aus Borsäure (H₃BO₃) an geordnet. Diese Schmierstoffschicht 5 kann mit den Gasen Was serstoff, Sauerstoff und Bor gleich innerhalb des Reaktors 6 hergestellt werden.

Ebenso ist es innerhalb des Reaktors 6 möglich, die oberflä chennahen Bereiche der Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwi schenschicht 4 durch Reaktion mit Wasserstoff in Borsäure umzu wandeln oder die Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwischen schicht 4 gleich bei Ihrer Herstellung aus der Gasphase zumindest teilweise in Borsäure umzuwandeln. In beiden Fällen wird zweckmäßigerweise zumindest oberflächennah die Temperatur des Tassenstößels 1 gesenkt.

Ersatzweise ist es auch möglich, daß diese Schmierstoffschicht 5 erst bei Anwesenheit von Wasserstoff und/oder Wasserdampf im Einsatz des Tassenstößels 1 gebildet wird. In diesem Fall wird durch eine chemische Reaktion der oberflächennahen Bereiche der Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwischenschicht 4 mit dem Was serstoff der Atmosphäre zu der Borsäure aufweisenden Schmier stoffschicht 5 umgesetzt. Diese Reaktion wird insbesondere noch durch die beim Einsatz entstehende Wärme gefördert. In diesem Fall stellen zumindest gewisse Bereiche der Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwischenschicht ein Reservoir zur Nachgewinnung von verschlissener oder auf sonst eine Art entfernter Borsäure dar.

In allen Fällen weist die Schmierstoffschicht 5 sinnvollerweise mindestens 80%, bevorzugt mindestens 90% und besonders bevor zugt mindestens 95% Borsäure auf.

In vorteilhafter Weise wird nicht nur während der Herstellung der Haftvermittlerschicht 3 sondern auch bei der Herstellung der Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwischenschicht 4 und/oder der Schmierstoffschicht 5 innerhalb des Reaktors 6 an den Tas senstößel 1 eine gepulste DC-Spannung angelegt, die gegenüber dem den Tassenstößel 1 umgebenden Gasraum ein negatives elek trisches Potential aufweist.

Bei der Anwendung der Erfindung ist von besonderem Vorteil, daß ein sonst notwendige Schmierung mit Flüssigschmiermitteln zu mindest verringert werden kann.

Nachfolgend wird das erfindungsgemäße Verfahren anhand eines in Fig. 4 dargestellten Gasflußdiagramms beschrieben.

In Fig. 4 ist ein Gasflußdiagramm verschiedener Gase über der Zeit dargestellt, wobei zusätzlich die Temperatur der zu be schichtenden Probe mit aufgetragen ist. Das Diagramm nach Fig. 4 beschreibt den eingestellten Gasfluß im Reaktorinnern 13 wäh rend der Herstellung eines erfindungsgemäßen Schichtaufbaus auf einer metallischen Probe mittels eines Plasma-CVD-Prozesses.

Bei dem Plasma-CVD-Prozeß wird die Probe durch ein die Probe umgebendes Plasma 16 geheizt. Das die zu beschichtende Oberflä che 2 der Probe beheizende Plasma 16, das ebenfalls die Vorma terialien sowie das Prozeßgas zur Abscheidung bzw. zur Borie rung aktiviert, wird durch eine an der Probe anliegende Span nung gezündet bzw. aufrechterhalten.

Zur Regelung der Temperatur wird die Temperatur der Probe ge messen und dementsprechend die an der Probe anliegende elektri sche Spannung für das u. a. heizend wirkenden Plasma 16 verän dert. Die elektrische Spannung kann wie vorliegend eine reine Gleichspannung sein. Je nach Anforderungen an das Plasma 16 wird anstelle der Gleichspannung vorzugsweise eine gepulste Spannung, eine Wechselspannung oder eine halbwellige Wechsels pannung angelegt.

Der Verlauf des Druckes p im Reaktorinnern ist in dem Diagramm nach Fig. 4 als nicht gekennzeichnete Kurve, der bei der Her stellung der Haftvermittler- und der Zwischen- und ebenfalls der Schmierstoffschicht mit dem Prozeßgas vermischte H₂-Fluß (5% B₂H₆ und 95% H₂) als Kurve E und der Sauerstoffluß der Kurve G entnehmbar. Die Werte der unterschiedlichen Gasflüsse bezie hen sich auf die Einheit Standard-Kubikzentimeter (sccm). Da für das Bor liefernde zweite Vormaterial ebenfalls das borie rend wirkende Prozeßgas verwendet wird, zeigt die Kurve F nach dem Borieren (Zeitintervall H) ebenfalls den Gasfluß des zwei ten Vormaterials (Zeitintervall I). Während des Zeitintervalls J wird die Schmierstoffschicht 5 aufgetragen.

Die Probe wird eventuell vor dem Einbau in den Reaktor 6 vorge reinigt und anschließend in den Reaktor 6 eingebaut. Danach wird das Reaktorinnere 13 bis auf einen Druck kleiner 0.5 mbar evakuiert. Zur Reinigung wird in das evakuierte Reaktorinne 13 des Reaktor 6 ca. 30 min ein H₂-Gas eingeleitet. Mit dem H₂-Gas wird in Bereich der Probe das Plasma 16 gezündet und die zu be schichtende Oberfläche 2 der Probe unter Zuhilfenahme des H₂- Plasma 16 gereinigt. Wie aus dem Diagramm nach Fig. 4 ersicht lich ist, steigt bei der Reinigung der Probe der Druck im Reak torinnern 13 auf einen Wert von ca. 10 mbar an. Dieser Wert wird bei der beschriebenen Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtaufbau dieses Ausführungsbeispiels zumindest weitgehend beibehalten.

Nach der Reinigung der Oberfläche 2 der Probe wird sie für die Zeitdauer H von ca. 6 Stunden bei einer Temperatur von ca. 750 °C und einem mit 95% H₂ versetzten B₂H₆ Gasstrom von ca. 60 sccm aufgesetzt. Bei diesen Prozeßbedingungen wird die Haftvermitt lerschicht 3 hergestellt. Dabei wird die Probe bei den eben ge nannten Bedingungen einige µm oberflächennah boriert. Durch die borierte Haftvermittlerschicht 3 ist die Haftung zwischen der anschließend aufzutragenden Zwischenschicht 4 sowie der später aufzutragenden Schmierstoffschicht 5 und dem Material der Probe (Tassenstößels 1) verbessert.

Nach dem Borieren wird die Temperatur auf ca. 500°C abgesenkt und der Fluß des H₂-versetzten Prozeßgases auf einen Fluß von ca. 50 sccm gesenkt. Dadurch wird auf der Haftvermittlerschicht 3 für die Zeitdauer I von ca. 5 Stunden eine Borschicht herge stellt. Diese Borschicht gehört zu der Zwischenschicht 4.

Nach dem Aufwachsen der Borschicht wird in den Reaktor 6 zu sätzlich für ca. 1 Stunde (Zeitdauer J) Sauerstoff und zwar mit einem Fluß von ca. 15 sccm eingeströmt, wobei die vorherigen Prozeßparameter (Gasflüsse, Temperatur und Druck) beibehalten wird. Hierbei bilden sich die Bor und Sauerstoff aufweisenden Bereiche der Zwischenschicht 4.

Anschließend wird die Temperatur abgesenkt und die restlichen Parameter konstant gehalten. Durch die Absenkung der Temperatur bricht das Plasma 16 zusammen und der zuvor als Plasmabrenn stoff verwendete Wasserstoff steht zur freien Verfügung. Hier durch bildet sich bei Temperaturen unterhalb von ca. 200°C und der Anwesenheit von Wasserstoff die weitgehend ausschließlich das Trockenschmiermittel Borsäure (H₃BO₃) aufweisende Schmier stoffschicht 5.

Claims

1. Verfahren zum außenseitigen und haftenden Aufbringen einer Schmierstoffschicht auf eine freiliegende und tribologisch be anspruchte Oberfläche eines Tassenstößels, wobei die Schmier stoffschicht zumindest unter Beanspruchungsbedingungen Borsäure (H₃BO₃) aufweist,
Einbau bei welchem Verfahren der zu beschichtende und mit ei ner Haftvermittlerschicht versehene Tassenstößel (1) in einen Reaktor eingebaut wird, wobei durch die Haftvermittlerschicht (3) die Haftung zwischen dem später aufgetragenen Trocken schmierstoff der Schmierstoffschicht (5) und dem Material des Tassenstößels (1) verbessert wird,
bei welchem Verfahren der Reaktor (6) auf einen Druck kleiner 100 mbar, bevorzugt kleiner 10 mbar und besonders bevorzugt auf etwa 1 mbar evakuiert und/oder zumindest teilweise mit einem Inertgas befüllt wird,
bei welchem Verfahren auf der Haftvermittlerschicht aus Vor materialien, die Bor und Sauerstoff aufweisen, eine Zwischen schicht hergestellt wird,
bei welchem Verfahren die oberhalb der Haftvermittlerschicht (3) abgeschiedene Zwischenschicht (4) mit einem Sauerstoff gradienten abgeschieden wird, der mit zunehmendem Abstand von der Haftvermittlerschicht (3) hin zunimmt,
bei welchem Verfahren der abscheidenden Gasphase ein Bor zu mindest als Verbindung aufweisendes und bei Prozeßbedingungen das Bor freigebendes zweites Vormaterial zugegeben wird,
bei welchem Verfahren der abscheidenden Gasphase ein Sauer stoff zumindest als Verbindung aufweisendes und bei Prozeßbe dingungen den Sauerstoff freigebendes erstes Vormaterial zu gegeben wird, und
bei welchem Verfahren wenigstens im Einsatzfalle zumindest teilweise Bor und Sauerstoff der Bor und Sauerstoff aufwei senden Zwischenschicht (4) zumindest im Bereich ihrer frei zugänglichen Oberfläche unter Zuhilfenahme von Wasserstoff zu Borsäure umgewandelt und als Trockenschmiermittel der Schmierstoffschicht (5) verwendet wird.

2. Verfahren zum außenseitigen und haftenden Aufbringen einer Schmierstoffschicht auf eine freiliegende und tribologisch be anspruchte Oberfläche eines Tassenstößels, wobei die Schmier stoffschicht zumindest unter Beanspruchungsbedingungen Borsäure (H₃BO₃) aufweist,
bei welchem Verfahren der zu beschichtende Tassenstößels (1) in einen Reaktor eingebaut wird,
bei welchem Verfahren der Reaktor (6) auf einen Druck kleiner 100 mbar, bevorzugt kleiner 10 mbar und besonders bevorzugt auf etwa 1 mbar evakuiert und/oder zumindest teilweise mit einem Inertgas befüllt wird,
bei welchem Verfahren eine Haftvermittlerschicht (3) herge stellt wird, wozu im Bereich der freiliegenden Oberfläche (2) des Tassenstößels (1), insbesondere durch Diffusion, zumin dest ein Element eines Prozeßgases in das Material der frei liegenden Oberfläche (2) des Tassenstößels (1) eingebracht und dort eingebaut und/oder chemisch reagiert wird, wobei durch die Haftvermittlerschicht (3) die Haftung zwischen dem später aufgetragenen Trockenschmierstoff der Schmierstoff schicht (5) und dem Material des Tassenstößels (1) verbessert wird,
bei welchem Verfahren in den Reaktor ein Bor und/oder Stick stoff und/oder Kohlenstoff zumindest als Verbindung aufwei sendes und bei Prozeßbedingungen das entsprechende Element freigebendes Prozeßgases zugegeben wird,
bei welchem Verfahren mit Bor und Sauerstoff aufweisenden Vormaterialien auf der Haftvermittlerschicht (3) eine Zwi schenschicht (4) hergestellt wird,
bei welchem Verfahren die oberhalb der Haftvermittlerschicht (3) abgeschiedene Zwischenschicht (4) mit einem Sauerstoffgradienten abgeschieden wird, der mit zunehmendem Abstand von der Haftvermittlerschicht (3) hin zunimmt,
bei welchem Verfahren wenigstens im Einsatzfalle zumindest teilweise Bor und Sauerstoff der Bor und Sauerstoff aufwei senden Zwischenschicht (4) zumindest im Bereich ihrer frei zugänglichen Oberfläche unter Zuhilfenahme von Wasserstoff zu Borsäure umgewandelt und als Trockenschmiermittel der Schmierstoffschicht (5) verwendet wird,
bei welchem Verfahren der abscheidenden Gasphase ein Bor zu mindest als Verbindung aufweisendes und bei Prozeßbedingungen das Bor freigebendes zweites Vormaterial zugegeben wird, und
bei welchem Verfahren der abscheidenden Gasphase ein Sauer stoff zumindest als Verbindung aufweisendes und bei Prozeßbe dingungen den Sauerstoff freigebendes erstes Vormaterials zu gegeben wird.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung der Haftvermittlerschicht (3) zumindest ein Element des Prozeßgases in das Material der freiliegenden und zu beschichtenden Oberfläche (2) des Tassenstößels (1) eindif fundiert und/oder ionenimplantiert wird.

4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Tassenstößels (1) zur Bildung der Haftver mittlerschicht (3) boriert und/oder nitriert und/oder carboni siert und/oder carbonitriert wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bildung der Borsäure-Schicht Wasserstoff und/oder eine unter Prozeßbedingungen Wasserstoff freigebende Wasserstoffver bindung aus der abscheidenden Gasphase verwendet wird.

6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Prozeßgase und/oder die Vormaterialien vor ihrem Auf treffen auf der zu beschichtenden Oberfläche (2) des Tassenstö ßels (1) durch ein Plasma (16) hindurchgeleitet und zumindest zum Teil dissoziert und/oder ionisiert werden.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma (16) im Bereich der zu beschichtenden Oberfläche (2) des Tassenstößels (1) erzeugt wird und daß mit dem Plasma zumindest die zu beschichtenden Oberfläche des Tassenstößels (1) beheizt wird.

8. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Tassenstößel (1) während des Abscheidens der Bor/Sauerstoffschicht insbesondere auf Temperaturen kleiner 750 °C, vorzugsweise kleiner 700°C und besonders bevorzugt kleiner 600°C beheizt wird.

9. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Tassenstößel (1) während der Bildung der Haftvermitt lerschicht (3) durch Einbringen von Boratomen und/oder von Koh lenstoffatomen und/oder von Stickstoffatomen insbesondere auf Temperaturen kleiner 750°C, vorzugsweise kleiner 700°C und besonders bevorzugt kleiner 600°C beheizt wird.

10. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß während der zumindest oberflächennahen und wenigstens teil weisen Umwandlung der Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwischen schicht (4) in Borsäure zum Herstellen der Schmierstoffschicht (5) die Temperatur gesenkt wird.

11. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zum Einbringen des Bors und/oder zur Abscheidung der Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwischenschicht (4) Boran (B_nH_m), vorzugsweise Diboran (B₂H₆), Borchlorid (BCl₃) oder Borfluorid (BF₃) oder ein Gemisch zumindest zweier dieser Gase in den Re aktor (6) eingeleitet wird.

12. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß während der Herstellung der Bor und Sauerstoff aufweisenden Zwischenschicht (4) und/oder der Schmierstoffschicht (5) an den Tassenstößel (1) eine elektrische Spannung angelegt wird.

13. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß während der Herstellung der Haftvermittlerschicht (3) an den Tassenstößel (1) eine elektrische Spannung angelegt wird.

14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß als elektrische Spannung eine gepulste Gleich-Spannung ge wählt wird.

15. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Bor und Sauerstoff aufweisende Zwischenschicht (4) Bo roxid, insbesondere B₂O₃ abgeschieden wird.

16. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmierstoffschicht (5) mit mindestens 30%, bevorzugt mindestens 50% und besonders bevorzugt mindestens 60% Borsäu re gebildet wird.

17. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmierstoffschicht (5) mit mindestens 80%, bevorzugt mindestens 90% und besonders bevorzugt mindestens 95% Borsäu re gebildet wird.

18. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß für die Zwischenschicht (4) B₆O und/oder B₂O₃ abgeschieden wird.

19. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß auf den Tassenstößel (1) und/oder die Haftvermittlerschicht (3) nacheinander B, B₆O und B₂O₃ abgeschieden wird.

20. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Tassenstößel (1) ein metallischer, insbesondere Eisen aufweisender Tassenstößel (1) gewählt wird und daß als Borid der Haftvermittlerschicht (3) ein Metallborid, vorzugsweise Fe₂B und/oder FeB, gebildet wird.

21. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Haftvermittlerschicht (3) auf der zu beschichtenden Oberfläche (2) des Tassenstößels (1) eine Bor und Kohlenstoff, bevorzugt eine Borcarbid-Schicht (B₄C) abgeschieden wird.

22. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß das FeB im Verhältnis zu allen Eisenboriden mit einem An teil kleiner 20%, bevorzugt kleiner 10% und besonders bevor zugt kleiner 1% gebildet wird.

23. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Bildung von Fe₂B im Bereich der zu beschichtenden Oberfläche (2) des Tassenstößels (1) der Anteil von Bor in der abscheidenden Gasphase innerhalb von 5 s um wenigstens 20% er höht wird.

24. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Bildung von Fe₂B im Bereich der zu beschichtenden Oberfläche (2) des Tassenstößels (1) zumindest die oberflächen nahe Temperatur des Tassenstößels (1) abgesenkt wird.

25. Tassenstößel mit einer an einer freiliegenden und zu be schichtenden Oberfläche haftenden Schmierstoffschicht, welche zumindest im Einsatzfall wenigstens bereichsweise Borsäure als Trockenschmiermittel aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß unterhalb der Schmierstoffschicht (5) eine Haftvermittler schicht (3) angeordnet ist, daß die Haftvermittlerschicht (3) Bor und/oder Kohlenstoff und/oder Stickstoff aufweist, daß die Schmierstoffschicht (5) aus einer Gasphase aufgetragen ist, daß zwischen der Schierstoffschicht (5) und der Haftvermittler schicht (3) eine Zwischenschicht (4) angeordnet ist, daß die Zwischenschicht (4) Bor und Sauerstoff aufweist und daß die Zwischenschicht (4) einen Sauerstoffgradienten aufweist, der mit zunehmendem Abstand von der Haftvermittlerschicht (3) hin zunimmt.

26. Tassenstößel nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmierstoffschicht (5) zumindest oberflächennah min destens 5%, bevorzugt 10% und besonders bevorzugt 30% Borsäu re (H₃BO₃) aufweist.

27. Tassenstößel nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftvermittlerschicht (3) als borierte und/oder carbo nisierte und/oder nitrierte und/oder carbonitrierte Schicht ausgebildet ist.

28. Tassenstößel nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht (4) Bor, B₆O und B₂O₃ aufweist.

29. Tassenstößel nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht (4) beginnend von der Haftvermittler schicht (3) zuerst Bor nachfolgend B₆O und darauf nachfolgend B2O3 aufweist, wobei das B₂O₃ in direktem Kontakt zu der Schmierstoffschicht (5) angeordnet ist.