DE19757851C1 - Vorrichtung zur Erzeugung von Radikalen und/oder Reaktionsprodukten - Google Patents
Vorrichtung zur Erzeugung von Radikalen und/oder ReaktionsproduktenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von Radikalen und/oder Re
aktionsprodukten durch thermische Dissoziation von Gasmolekülen mit einer Gas
zuführung zum Transport der Gasmoleküle in eine elektrisch leitendes Material
enthaltende Kapillare mit einem offenen Ende zur Effusion der Radikale und/oder
der Reaktionsprodukte, einer mit dem dem offenen Ende abgewandten Teil der
Kapillare in elektrischer Verbindung stehenden ersten elektrischen Leitung, einer
zweiten elektrischen Leitung, und einer mit beiden Leitungen elektrisch verbunde
nen Heizvorrichtung zur Erhitzung der Kapillare.
Solche Vorrichtungen eignen sich zur Modifikation von Materialoberflächen, wes
halb sie insbesondere für die Oberflächen- und Materialforschung interessant
sind. Zusätzlich werden diese Quellen auch in der Halbleiterindustrie eingesetzt,
wo beispielsweise mittels Wasserstoffatomen die Oberflächen von Wafern gerei
nigt oder geätzt werden oder durch Radikale eine gezielte Dotierung erfolgt. Für
derartige Anwendungen werden heute verschiedene Vorrichtungen teilweise unter
Ultrahochvakuumbedingungen betrieben, bei denen die Radikalbildung durch Dis
soziation von Gasmolekülen erfolgt.
Bei Plasmaquellen erfolgt diese Dissoziation durch eine Gasentladung, wodurch
sich ein hoher Radikalfluß erzeugen läßt. Zusätzlich werden jedoch auch in gro
ßem Maße Ionen und schnelle Neutralteilchen sowie angeregte Atome und eine
damit verbundene UV-Strahlung erzeugt, wobei das Ionen-zu-Radikal-Verhältnis
je nach Rezipientendruck durchaus im Bereich von einigen Promille sein kann.
Für die Anwendung der Plasmaquellen im Hochvakuum ist im allgemeinen eine
zusätzliche Ausrüstung (z. B. eine mehrfach differentielle Pumpfstufe) notwendig,
die den Einsatz dieser Quellen verteuert.
Die Erzeugung von Radikalen kann auch über dissoziative Adsorption an einer
Membran erfolgen, wobei nach Diffusion des Adsorbats auf die andere Membran
seite Atome desorbiert werden. Eine solche ESD-(Elektronen-stimulierte-Desorp
tions-)Quelle erzeugt ebenfalls einen nicht zu vernachlässigenden Ionenanteil, wo
bei die kinetische Energie der Radikale je nach Gasart bis zu einigen Elektronen
volt betragen kann. Ferner lassen sich mit solchen Quellen nur kleine Radikalflüs
se herstellen.
Eine weitere Möglichkeit, Radikale zu erzeugen, besteht in der Verwendung einer
resistiv geheizten Quelle, bei der die Dissoziation von Gasmolekülen thermisch
erfolgt. Dabei wird ein elektrisch leitendes, gasführendes, Röhrchen elektrisch be
heizt, wobei durch eine Öffnung in der Mantelfläche des Röhrchens ein Gasge
misch aus Radikalen und Gasmolekülen entweicht. Die kinetische Energie der
Radikale beträgt hierbei nur etwa 0,25 eV (bei 2000 K) und es werden keine Ionen
erzeugt. Da der Dissoziationsgrad stark von der Temperatur abhängt und da aus
Materialgründen in der Regel nur bis auf etwa 1700 K geheizt werden kann, ins
besondere wenn Platin als Röhrchenmaterial verwendet wird, ist der Radikalfluß
bei diesen Quellen vergleichsweise gering.
Bei durch Elektronenstöße geheizten Quellen werden die Radikale ebenfalls durch
thermische Dissoziation erzeugt. Bei diesen Quellen ist der Einsatz von Wolfram
möglich, so daß Temperaturen bis zu etwa 2000 K leicht erreichbar sind. Durch
die spezielle Ausgestaltung eines gasführenden Wolframröhrchens in Form einer
geraden Kapillare mit einem offenen Ende wird ein höherer Radikalfluß erzielt (U.
Bischler und E. Bertel; "Simple source of atomic hydrogen for ultrahigh vaccum
applications", J. Vac. Sci. Technol. A11(2); 458 (1993)).
Bei diesem Quellentyp wird die Kapillare an ihrem freien (offenen) Ende von au
ßen durch mittels Elektronenstößen beschleunigte Elektronen aufgeheizt, wobei
die Gasmoleküle an der Innenwand der Kapillare dissoziieren und ein Gasmole
kül-Radikalgemisch in ein Vakuum effundiert. Durch eine nach der Kapillaröffnung
angebrachte Blende wird die Wärmestrahlung der Vorrichtung von der Probe ab
geschirmt. Ferner läßt sich durch die Länge des Dissoziationsbereichs in der Ka
pillare und deren Querschnitt die Winkelverteilung der Radikalemission beeinflus
sen. Auch bei dieser Quelle treten aufgrund der beschleunigten freien Elektronen
unvermeidlich Ionen auf, die nur schwer und nur mit erheblichem Aufwand (z. B.
durch elektrische und/oder magnetische Felder) zu beseitigen sind. Die Notwen
digkeit einer Elektronenbeschleunigungsspannung erfordert einen zusätzlichen
konstruktiven Aufwand, insbesondere im Hinblick auf die Betriebs- und Bediensi
cherheit, da hierfür üblicherweise Spannungen im Bereich von 500 V und mehr
verwendet werden. Nachteilig wirkt sich bei diesem Quellentyp auch die Möglich
keit einer Gasentladung aus, was die Quelle in ihrer Anwendung, insbesondere
hinsichtlich Druckbereich und Gasart, einschränken kann.
Die bisher beschriebenen Vorrichtungen haben den Nachteil, daß der Radikalfluß
entweder zu gering ist, wie z. B. bei den resistiv geheizten Quellen und der
ESD-Quelle, daß der Radikalfluß, wie bei den elektronenstoßgeheizten Quellen, den
Plasmaquellen und den ESD-Quellen, durch Ionen verunreinigt ist, oder daß ein
hoher Betriebsaufwand erforderlich ist, z. B. im Hinblick auf die Sicherheit bei
elektronenstoßgeheizten Quellen aufgrund der notwendigen Hochspannung zur
Elektronenbeschleunigung (wobei aufgrund möglicher Gasentladungen zusätzlich
Einschränkungen auftreten können) oder im Hinblick auf das Vakuumsystem bei
Plasmaquellen, da hier ein erhöhter technischer Aufwand, z. B. in Form von meh
reren differentiellen Pumpstufen notwendig ist. Ein zusammenfassender Vergleich
der Vor- und Nachteile der einzelnen Quellen mit ihren charakteristischen Merk
malen ist in Tabelle 1 wiedergegeben.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die oben genannten Nachteile zu
beheben und eine verbesserte Vorrichtung zu schaffen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß die zweite elektrische
Leitung zur Herstellung eines elektrischen Kontakts mit der Kapillare im Bereich
des offenen Endes einen Mantelbereich der Kapillare mindestens teilweise umfaßt
und gegen diesen anliegt.
Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung erfolgt die Dissoziation der Gasmoleküle
thermisch, wodurch vorteilhaft keine Ionen, oder hochangeregte Atome und die
damit verbundene UV-Strahlung entsteht. Durch die Verwendung einer Kapillare,
die vorteilhaft zylinderförmig ausgebildet ist, läßt sich ein höherer Radikalfluß als
bei den resistiv geheizten Quellen erzeugen. Durch die vorteilhafte Anbringung
der zweiten elektrischen Leitung im Bereich des offenen Endes, wobei diese Lei
tung an einem Mantelbereich der Kapillare an liegt und diesen teilweise umfaßt,
wird im wesentlichen der Bereich des offenen Endes der Kapillare erhitzt. Durch
das Anliegen des zweiten Leiters an diesem Bereich wird ein erhöhter elektrischer
Widerstand ausgebildet und damit die Heizenergie in erheblichem Maße an der
Kontaktstelle verbraucht. Bei der Verwendung von Metallen für die Leiter und die
Kapillare wirkt sich bei dieser Art der Kontaktbildung der positive Temperaturkoef
fizient des spezifischen elektrischen Widerstands zusätzlich vorteilhaft aus, da die
Heizenergie aufgrund der Widerstandszunahme im wesentlichen an den heißen
Stellen der Kapillare verbraucht wird. Durch die erfindungsgemäße Kontaktausbil
dung lassen sich somit bereits mit sehr kleinen Heizenergien leicht Temperaturen
von über 2000 K am offenen Ende der Kapillare erreichen, wobei vorteilhaft der
dem offenen Ende abgewandte Kapillarbereich auf deutlich niedrigerer Tempera
tur,z. B. Raumtemperatur, ist und damit den Einsatz von konventionellen Kontak
tierungs- und Befestigungsmitteln erlaubt. Da bei der erfindungsgemäßen Anord
nung der zweiten elektrischen Leitung besonders bevorzugte Bereiche der Kapil
lare erhitzt werden, werden die Desorptionsverunreinigungen durch ausgasende
andere Quellenbestandteile oder die Verunreinigungen durch Materialdämpfe mi
nimiert, wodurch sich die Quelle insbesondere für die Anwendung im Ultrahochva
kuum eignet. Ferner lassen sich durch den erfindungsgemäßen Kontakt vorteilhaft
thermische Spannungen und die damit verbundenen Materialschädigungen an der
Kapillare oder der Zuleitung vermeiden, wodurch die Standzeit der erfindungsge
mäßen Quelle erheblich erhöht und der Betriebsaufwand gesenkt wird. Zusätzlich
kann dadurch die Betriebstemperatur der Vorrichtung wesentlich gesteigert wer
den. Dies führt zu einer Erhöhung der Dissoziationsrate und damit zu einer Erhö
hung des Radikalflusses. Durch den reinen Berührungskontakt zwischen zweiter
Leitung und Kapillare ist der Wärmewiderstand zwischen Leitung und Kapillare
vorteilhaft erhöht, wodurch der Wärmefluß von der Kapillare zur zweiten Leitung
reduziert wird. Dies begünstigt ebenfalls das schnelle Erreichen hoher Temperatu
ren, die auch 2500 K übersteigen können, womit die Kapillare wesentlich stärker
erhitzt werden kann als im Falle der elektronenstoßgeheizten Quelle.
Wird die zweite Leitung aufgrund ihrer Eigenelastizität an einem Mantelbereich
der Kapillare gehalten, indem die Leitung die Kapillare eng umschließt so lassen
sich besser steuerbare Heizbedingungen erreichen, insbesondere im Hinblick auf
das Temperaturzeitverhalten, die erreichbare Endtemperatur und die Temperatur
verteilung in der Kapillare und an der zweiten Leitung. Vorteilhaft kann hierbei auf
zusätzliche Befestigungshilfsmittel in der Nähe der Kapillare für die zweite Leitung
verzichtet werden, was wiederum ein schnelles Aufheizen begünstigt und wodurch
das erhitzte Material auf das minimal Notwendige reduziert wird, was insbesonde
re für den Einsatz der Vorrichtung im Ultrahochvakuumbereich wichtig ist.
Als zweite Leitung wird vorzugsweise ein Draht verwendet, wobei der Draht
durchmesser bevorzugt dem Kapillarumfang angepaßt ist, damit z. B. ein Um
schlingen oder Umwickeln des Drahtes um die Kapillare möglich ist. Damit der
Draht aufgrund seiner Eigenelastizität an der Kapillare gehalten wird, wird dieser
vorzugsweise wendelförmig um einen Mantelbereich in der Nähe des offenen En
des der Kapillare angebracht. Dabei ist vorteilhaft der Radius der Drahtwendel ge
ringfügig kleiner als der Radius der Kapillare, wodurch der Draht an der Kapillare
federnd gehalten wird. Zur federnden Halterung der zweiten Leitung sind bereits
Drahtwendeln von einer Windung, vorzugsweise jedoch von 1,5 Windungen aus
reichend, es können aber auch Wendeln mit mehreren Windungen verwendet
werden. Durch die Anzahl der Wendelwindungen läßt sich vorteilhaft das axiale
Temperaturprofil der Kapillare und damit die Winkelverteilung der effundierten
Radikale beeinflussen. Dabei wird der axiale Temperaturgradient entlang der Ka
pillare auch wesentlich durch die Wärmeleitung der Drahtwendel mitbestimmt. Die
Ausbildung des zweiten elektrischen Leiters als eine die Kapillare umfassende
Wendel hat zusätzlich den Vorteil der Ausbildung eines radialsymmetrischen
Temperaturprofils an dem von der Leitung umfaßten Kapillarbereich.
Alternativ kann die zweite elektrische Leitung (z. B. der Draht) auch mittels Befe
stigungshilfsmitteln, z. B. aus Keramik oder Metall, an der Kapillaroberfläche zur
Anlage gebracht werden. Solche Befestigungshilfsmittel sind dann vorteilhaft,
wenn z. B. der Draht (zweite elektrische Leitung) die Kapillare mit weniger als einer
Windung umschlingt.
Um auch bei hohen Temperaturen eine hohe Betriebssicherheit zu gewährleisten,
wird als zweite Leitung bevorzugt ein Wolframdraht gewählt und die Kapillare aus
Wolfram hergestellt. Da Wolfram neben dem höchsten Schmelzpunkt aller Metalle
bei Temperaturen über 1700°C auch die höchste Zugfestigkeit aufweist, ergibt
sich auch eine hohe mechanische Stabilität. Ein zusätzlicher Vorteil bei der Ver
wendung von Wolfram ist, daß auch bei hohen Temperaturen die Kontamination
des Radikalflusses durch die Dämpfe des Kapillarmaterials und des Leitungsma
terials sehr gering ist, da Wolfram in diesem Temperaturbereich ebenfalls den
niedrigsten Dampfdruck von allen Metallen hat.
Neben Wolfram eignet sich auch Tantal, Iridium, Rhenium oder eine eines oder
mehrere dieser Elemente enthaltende Legierung, wobei die zweite Leitung und die
Kapillare auch aus verschiedenen Materialien bestehen können. Tantal läßt sich
aufgrund seiner guten Dehnbarkeit leicht verarbeiten, insbesondere lassen sich
problemlos dünne Drähte herstellen. Iridium als korrosionsbeständiges Metall eig
net sich insbesondere für die Dissoziation von molekularem Sauerstoff und damit
zum Betrieb einer Sauerstoffatomquelle. Rhenium ist insbesondere in Kombinati
on mit Wolfram oder als Wolfram-Rhenium-Legierung zur Ausbildung von Ther
moelementen oder zur Verbesserung der mechanischen Eigenschaften von Wolf
ram vorteilhaft. Es kann z. B. als zweite Leitung in Drahtform eingesetzt werden.
Wird z. B. eine Wolframkapillare und ein Rheniumdraht oder ein Draht aus Wolf
ram-Rhenium-Legierung verwendet, so kann die am Berührungskontakt sich
ausbildende Thermospannung vorteilhaft zur Temperaturmessung verwendet
werden, wobei ein weiterer Temperatursensor entfallen kann. Die Verwendung ei
nes Wolfram-Rhenium-Thermoelements hat zusätzlich den Vorteil, daß sich sehr
hohe Temperaturen bis zu etwa 2200°C bestimmen lassen.
Die Kapillare oder die zweite Leitung kann auch aus Kohlenstoff (Graphit) oder ei
ner Metall-Kohlenstoff-Verbindung (z. B. Tantalcarbid (TaC) oder Hafniumcarbid
(HfC)) oder allgemein einer Hochtemperaturkeramik bestehen, die sich insbeson
dere durch sehr hohe Schmelz- bzw. Sublimationspunkte auszeichnen, weshalb
sehr hohe Temperaturen erreichbar sind.
Ferner kann die Kapillare auch aus einer metallbeschichteten Keramik bestehen,
die inert gegenüber dem zu dissoziierenden Gas und dessen Dissoziationsproduk
ten ist.
Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann die Heizvorrichtung eine Gleich
spannungsquelle oder eine Wechselspannungsquelle umfassen. Dabei hat die
Verwendung einer Wechselspannungsquelle den Vorteil, daß eine am Berüh
rungskontakt zwischen der Kapillare und der zweiten Leitung sich ausbildende
Thermospannung leicht durch Abtrennung des Wechselspannungsanteils meßbar
ist.
Zur Ausbildung hoher Temperaturen kann die Kapillare in dem Bereich, der durch
die zweite elektrische Leitung umschlossen wird, mit reduzierter Wandstärke aus
gebildet werden. Dadurch wird der elektrische Widerstand und der Wärmewider
stand der Kapillare lokal erhöht und somit an dieser Stelle die elektrische Energie
effektiver in Wärmeenergie umgewandelt. Zusätzlich werden die Wärmeverluste
des heißen Kapillarbereichs aufgrund des höheren Wärmewiderstands und insbe
sondere der durch die verringerte Oberfläche stark reduzierten Wärmeabstrah
lung verringert. Dadurch lassen sich vorteilhaft mit sehr kleinen elektrischen Lei
stungen sehr hohe Temperaturen erzeugen, die beispielsweise die Temperaturen
elektronenstoßgeheizter Quellen erheblich übersteigen.
Zur kontrollierbaren Einstellung eines Temperaturprofils z. B. entlang der Kapillar
achse wird vorteilhaft eine dritte elektrische Leitung, die in Achsrichtung der Kapil
lare in einem Abstand zur zweiten elektrischen Leitung an der Kapillare zur Anla
ge kommt, angebracht, wobei die dritte Leitung die Kapillare vorteilhaft entspre
chend der zweiten Leitung zumindest teilweise umfaßt. Durch die individuelle Ein
stellung der Stromstärke durch die zweite und dritte elektrische Leitung sowie
durch den Abstand der zweiten und dritten Leitung läßt sich das axiale Tempera
turprofil einstellen oder z. B. ein bestimmter Kapillarbereich auf etwa konstante
Temperatur erhitzen. Der Kontakt zwischen dritter Leitung und Kapillare sowie das
Leitungsmate
rial der dritten Leitung kann analog dem Kontakt und dem Material der zweiten
Leitung ausgebildet sein.
Zur Kühlung der die Kapillare umfassenden elektrischen zweiten und/oder dritten
Leitung und zur Herstellung eines elektrischen Kontakts mit der Stromquelle sind
die der Kapillare abgewandten Enden der elektrischen Leitung vorteilhaft jeweils
mittels eines Metallblocks zwischen diesem und einem Teil einer die Kapillare
haltenden Haltevorrichtung eingespannt. Dabei kann sowohl der Metallblock wie
auch die Haltevorrichtung durch Kühlmittel (z. B. Wasser oder flüssiger Stickstoff)
gekühlt werden, um ein Überhitzen der elektrischen Leitung zu vermeiden. Durch
die Kühlwirkung des Metallblocks und der Haltevorrichtung kann vorteilhaft der
Metallblock oder die Haltevorrichtung und damit die zweite und/oder dritte Leitung
zur Kapillare mittels einer kommerziellen Stromleitung, z. B. einem Kupferkabel
oder Kupferstab, elektrisch mit der Heizvorrichtung verbunden werden.
Das dem offenen Ende etwa gegenüberliegende Ende der Kapillare ist mit der
Gaszuführung ultrahochvakuumdicht über eine Verschraubung verbunden, wobei
die Verbindung vorteilhaft einen elektrischen Kontakt zur ersten elektrischen Lei
tung herstellt. Wird zur Gaszuführung ein elektrisch leitendes Rohr verwendet, so
kann dieses als erste elektrische Leitung dienen, weshalb keine weitere Leitungs
führung notwendig ist. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn die Vorrich
tung im Ultrahochvakuumbereich eingesetzt wird, da dann eine Leitungsdurchfüh
rung in den Hochvakuumbereich eingespart werden kann, wodurch sich auch die
Leckrate der Vakuumanlage verringert. Ferner wird durch die elektrische Verbin
dung der Gaszuführung und der Kapillare das der Kapillaröffnung abgewandte
Ende der Kapillare auch thermisch an die Gaszuführung bzw. die Verschraubung
angekoppelt, wodurch dieses Kapillarende gekühlt wird. Dadurch kann die Gaszu
führung und/oder die Kapillare z. B. in der Nähe der Verschraubung an einer Hal
tevorrichtung mit üblichen Befestigungsmitteln befestigt werden.
Zur Abschirmung von Wärmestrahlung ist die Kapillare vorteilhaft von einer Infra
rotabschirmung umgeben, welche zugleich auch als Haltevorrichtung für die Kapil
lare und die Gaszuführung dient. Die Infrarotabschirmung kann aus einem Metall
rohr bestehen, das die Kapillare und die Verschraubung vorzugsweise konzen
trisch umschließt und an dessen einer Stirnseite in der Nähe der Kapillarmündung
eine metallische Blende befestigt ist. An der anderen Stirnseite des Metallrohrs
wird die Gaszuführung und die Kapillare gehaltert. Die Blende weist in axialer
Verlängerung der Kapillare eine Öffnung auf, die den Austritt der Radikale unter
einem bestimmten Winkelbereich erlaubt. Das zur Infrarotabschirmung dienende
Metallrohr ist vorteilhaft wenigstes abschnittsweise entlang seiner Symmetrieach
se geteilt, so daß nach Abnahme wenigstens eines Teils der Infrarotabschirmung
die Kapillare oder ein Kapillarteil bzw. eine elektrische Zuleitung zur Kapillare frei
gelegt ist. Hierdurch kann vorteilhaft mit minimalem Montageaufwand der wesent
liche Teil der Vorrichtung überprüft und gegebenenfalls die Kapillare und/oder die
elektrische Zuleitung zur Kapillare ausgetauscht werden.
Zur Erhöhung der Effizienz der Infrarotabschirmung ist die Haltevorrichtung wie
oben erwähnt vorteilhaft mit Kühlmittelkanälen versehen, wobei sowohl gasförmi
ge wie auch flüssige Kühlmittel eingesetzt werden können. Als Material für die In
frarotabschirmung wird bevorzugt Kupfer verwendet.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist aufgrund ihrer Konstruktionsmerkmale nicht
auf den Einsatz im Vakuum beschränkt, sondern auch z. B. unter Einsatz eines
Inertgases bei Normaldruck bzw. im Hochdruckbereich einsetzbar.
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung lassen sich ferner neben Radikalen auch
Reaktionsprodukte erzeugen, die z. B. durch thermische Dissoziation von moleku
laren Gasen oder Gasgemischen innerhalb der Kapillare entstehen. Dabei können
die effundierenden Reaktionsprodukte sowohl die Dissoziationsprodukte selbst
oder aber auch Reaktionsprodukte der Dissoziationsprodukte untereinander oder
mit weiteren Reagenzien aus dem Gasgemisch sein, welches durch die Kapillare
strömt oder im Rezipienten vorhanden ist.
Damit läßt sich die erfindungsgemäße Vorrichtung als Generator für Reaktions
produkte verwenden, wodurch eine Vorratshaltung dieser entfallen kann. Dies ist
insbesondere dann vorteilhaft, wenn es sich um wenig stabile oder toxische Reak
tionsprodukte handelt, deren Handhabung, insbesondere auch bei der Vorratshal
tung, einen erhöhten Aufwand erfordert.
Die Erfindung wird nun an einem Ausführungsbeispiel und der sich darauf bezie
henden Figuren beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 ein Funktionsschema der erfindungsgemäßen ionenfreien Hochflußvor
richtung;
Fig. 2 eine Kapillare für die erfindungsgemäße Vorrichtung;
Fig. 3 eine Seitenansicht der erfindungsgemäßen Vorrichtung;
Fig. 4 eine Schnittdarstellung entlang einer axialen Ebene parallel zur Seitenan
sicht aus Fig. 3;
Fig. 5 eine Schnittdarstellung entlang einer axialen Ebene senkrecht zur Seiten
ansicht aus Fig. 3.
Fig. 1 zeigt ein Funktionsschema der erfindungsgemäßen ionenfreien Hochfluß-Vor
richtung, die eine Kapillare 100, elektrische Zuleitungen 105, 200, einen Me
tallblock 13 und eine als Heizvorrichtung dienende Spannungsquelle U umfaßt.
Die Kapillare 100 ist mit einem Ende B an eine Gaszuführung angeschlossen,
durch welche das Gas X2 in die Kapillare strömt. Dabei kann das Gasmolekül des
Gases X2 auch mehr als zwei Atome umfassen oder X2 kann ein Gasgemisch aus
mehreren Gasen sein. Das andere Ende der Kapillare ist offen und bildet die Ka
pillarmündung 103, aus der die Dissoziationsprodukte (Reaktionsprodukte, Radi
kale) X emittiert werden. Die Kapillarmündung 103 befindet sich üblicherweise im
Vakuum und der Druck in der Gaszuführung liegt im Bereich von 10-2 mbar. Die
Kapillarmündung 103 kann jedoch auch Normaldruck oder sogar Überdruck aus
gesetzt sein, wobei zwischen der Gaszuführung und dem Rezipienten (in den die
Kapillare 100 mündet) eine Druckdifferenz besteht, die auch durchaus wesentlich
höher als 10-2 mbar sein kann. Der Kapillardurchmesser wird bevorzugt sehr viel
kleiner als die mittlere freie Weglänge der Gasmoleküle X2 gewählt, die z. B. bei
diesem Druckbereich (10-2 mbar) für Wasserstoff typischerweise im Zentimeterbe
reich liegt. Vorzugsweise wird der Kapillarinnendurchmesser in einem Bereich von
0,5-1,0 mm gewählt. Bei dieser Wahl der Geometrie ist der ausströmende Gasfluß
in guter Näherung unabhängig von der Viskosität des Gases und wird im wesentli
chen durch die Knudsen-Effusion beschrieben.
Die Kapillare 100 ist elektrisch leitend oder enthält elektrisch leitendes Material, so
kann z. B. eine Keramikkapillare mit einer elektrisch leitenden Schicht bedampft
sein. In der Nähe der Gaszuführung ist die Kapillare mit einer elektrischen Leitung
105 elektrisch leitend verbunden, eine zweite elektrische Leitung 200 befindet sich
in der Nähe der Kapillarmündung und stellt durch Anliegen an die Kapillare einen
elektrischen Kontakt mit dieser her, wobei die zweite elektrische Leitung einen
Mantelbereich der Kapillare teilweise umfaßt. Hierfür wird die zweite Leitung 200
bevorzugt als Wendel 202 ausgebildet, die die Kapillare umschlingt und deren der
Kapillare abgewandten Enden 201 mittels eines Metallblocks 13 zwischen diesem
und einer Haltevorrichtung (nicht dargestellt) eingespannt wird. Der Metallblock 13
dient sowohl zur Befestigung der zweiten Leitung 200 als auch zu deren Kühlung
und zum Anschluß einer Spannungsquelle U.
Zwischen dem Metallblock 13 und der Kapillare 100, die mit der ersten Leitung
105 an einem der Kapillarmündung 103 abgewandten Bereich der Kapillare ver
bunden ist, wird über eine Spannungsquelle eine elektrische Spannung U ange
legt. Der durch die Kapillare 100 und die zweite elektrische Leitung 200 fließende
Strom erwärmt zuerst den Bereich A der Kapillarmündung stärker als die übrigen
Kapillarbereiche. Hierfür ist neben dem Kapillarwiderstand sowohl der Widerstand
der zweiten elektrischen Leitung 200 als auch der Übergangswiderstand von der
zweiten Leitung auf die Kapillare mitverantwortlich. Durch die lokale Erhöhung der
Temperatur im Bereich A in der Nähe der Kapillarmündung erhöht sich auch auf
grund des positiven Temperaturkoeffizienten des spezifischen Widerstands (von
Metallen) der Widerstand der zweiten Leitung und der Kapillare in diesem Bereich,
wodurch die Temperatur und damit auch der Widerstand weiter ansteigt. Die elek
trische Leistung wird somit im wesentlichen im Bereich A der Kapillarmündung de
poniert. Dadurch ist es möglich, bereits mit einer geringen elektrischen Leistung
im Bereich der Kapillarmündung A Temperaturen von über 2000 K zu erhalten.
Die Moleküle X2 (die nicht notwendigerweise zweiatomig sein müssen, sondern
auch mehr als zwei Atome umfassen oder Moleküle eines Gasgemisches sein
können) dissoziieren an der heißen Kapillarinnenwand im Bereich A und die Dis
soziationsprodukte (Radikale) effundieren durch die Kapillaröffnung z. B. in das
Vakuum eines Rezipienten (nicht dargestellt).
Die axiale Ausdehnung des heißen Kapillarbereichs A kann z. B. durch die Strom
stärke und/oder durch die Anzahl der Windungen der Wendel 202 eingestellt wer
den. Dieses Temperaturprofil hat unmittelbaren Einfluß auf die polare Winkelver
teilung der effundierten Radikale, die in guter Näherung durch eine cosnθ-Vertei-
Iung beschrieben werden kann, wobei der Exponent n im wesentlichen durch das
axiale Temperaturprofil bzw. den heißen Bereich A bestimmt ist.
In Fig. 2 ist ein Beispiel einer metallischen Kapillare für die erfindungsgemäße
Vorrichtung dargestellt, die vorzugsweise aus Wolfram besteht, wodurch die Vor
richtung besonders für den Einsatz im Ultrahochvakuumbereich geeignet ist. Die
Kapillare 100 kann, wie in Fig. 1 dargestellt, zylindrisch mit konstanter Wanddicke
oder, wie in Fig. 2 dargestellt, mit einer sich in Axialrichtung ändernden Wanddic
ke ausgebildet sein. Die in Fig. 2 dargestellte Kapillare 100 der Länge L umfaßt
einen Bereich L1 (z. B. 10 mm) mit einem Außendurchmesser D1 (z. B. 1,6 mm)
und einem Bereich L-L1 (z. B. 40 mm) mit einem Außendurchmesser D2 (z. B. 1,2
mm). Der Innendurchmesser d ist vorzugsweise über die Kapillarlänge L konstant
(z. B. 0,6 mm). Durch die unterschiedlichen Wanddicken der Kapillare ergeben
sich lokal unterschiedliche thermische und elektrische Widerstände der Kapillare,
die die Ausbildung eines heißen Kapillarbereichs mit Temperaturen von etwa 2000
K erleichtern. Die dargestellte Kapillare 100 wird im Bereich 101 mit einer geeigne
ten Verbindung (z. B. einer Metallverschraubung oder Quetschverschraubung) mit
der Gaszuführung verbunden. Im Bereich 104 der Kapillarmündung 103 wird eine
Drahtzuleitung z. B. in der in Fig. 1 dargestellten Form angebracht. Dieser Bereich
104 wird dann wie oben beschrieben auf etwa 2000 K erhitzt und über einen zur
thermischen Isolation dienenden Kapillarabschnitt 102 in einem Abstand vom Gas
anschluß bzw. Befestigungsbereich 101 gehalten. Durch die reduzierte Wanddic
ke wird zum einen die Wärmeleitung zum Bereich 101 reduziert, wodurch die
elektrische Leistung effektiver in die Erhitzung des Kapillarbereichs A in der Nähe
der Kapillarmündung (siehe Fig. 1) umgesetzt wird, und andererseits der elektri
sche Kapillarwiderstand lokal erhöht, was wiederum die Ausbildung einer heißen
Zone im Bereich A der Kapillarmündung begünstigt. Zusätzlich wird aufgrund der
reduzierten Oberfläche die Wärmeabstrahlung erheblich reduziert, was Tempera
turen auch wesentlich über 2000 K ermöglicht.
Zur Einstellung des axialen Temperaturprofils der Kapillare kann im Bereich 104a
in einem Abstand zur Drahtzuleitung (200) (zweite Leitung) eine weitere (dritte)
Leitung analog zur zweiten Leitung angebracht werden. Durch die individuelle
Einstellung der Stromstärke (die z. B. auch Null betragen kann) durch die zweite
und dritte Leitung läßt sich das axiale Temperaturprofil der Kapillare steuern und
damit auch die polare Winkelverteilung der effundierten Radikale. Die Wanddicke
der Kapillare kann zusätzlich im Kontaktbereich der zweiten und/oder dritten Lei
tung verringert werden, um den elektrischen und thermischen Widerstand in die
sem Bereich weiter zu erhöhen und die Strahlungsverluste zu verringern. Das
Profil der Wanddicke läßt sich z. B. über Funkenerosion auf nahezu beliebige Wei
se gestalten, diese Bearbeitungsmethode erlaubt insbesondere auch die Bearbei
tung von Wolfram-Kapillaren.
Fig. 3 zeigt ein Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung, die für
den Einsatz im Ultrahochvakuumbereich geeignet ist. Die Kapillare 100 (z. B. aus
Fig. 2) wird an ihrem verstärkt ausgebildeten Ende 101 durch eine Schraub- oder
Quetschverbindung über eine Mutter 16 mit der Gaszuführung 3a verbunden. Die
Art der Verbindung wird durch die Fig. 4 und 5 verdeutlicht, die horizontale
und vertikale Schnittdarstellungen der Vorrichtung aus Fig. 3 zeigen, wobei glei
che Teile mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind. Die Gasleitung 3a ist über
einen Lötadapter 17 (siehe Fig. 4, 5) mit einer Reduzierverschraubung 16a ver
bunden, die die Kapillare 100 an ihrem verdickten Ende 101 aufnimmt und über
die Mutter 16 mit der Reduzierverschraubung 16a verbindet. Die Reduzierver
schraubung 16a wird über eine Halteklemme 6 an einem als Haltevorrichtung die
nenden Metallrohr 8, 9 gehalten. Das Metallrohr und die Halteklemme sind vor
zugsweise aus Kupfer ausgebildet. Das als Haltevorrichtung dienende Metallrohr
8, 9 umschließt wenigstens den heißen Kapillarbereich A in der Nähe der Kapil
larmündung 103 (siehe Fig. 1, 2) und an seiner Stirnseite in der Nähe der Kapil
larmündung 103 ist eine Blende 10 mit geeigneten Befestigungsmitteln (z. B.
Schrauben) 11 angebracht. Die Blende wird ebenfalls bevorzugt aus Kupfer aus
gebildet, ferner sind Blende und die Schrauben zusätzlich über eine Isolationske
ramik 12 elektrisch isoliert. Die Blende 10, deren Öffnung etwa gleich dem Kapil
lardurchmesser ist, und das Metallrohr 8, 9 dienen auch zur thermischen Ab
schirmung des heißen Kapillarbereichs A der Kapillare 100, um etwaiges Proben
material vor zu starker Erwärmung zu schützen. Um die thermische Abschirmung
zu verbessern, wird das Metallrohr 8 für die Zuleitung von Kühlmitteln, z. B. Was
ser oder flüssiger Stickstoff, vorzugsweise mit Kühlmittelkanälen ausgestattet.
Entsprechende Kühlmittelleitungen sind in den Fig. 3, 4 und 5 mit 4 bezeich
net. Die Gaszuführung 3a ist vorzugsweise ein Metallrohr, das ebenso wie die
Kühlmittelleitungen 4 einen flexiblen Edelstahlschlauch 3 umfassen kann, wodurch
eine axiale Justierung der Kapillare 100 ermöglicht wird.
Die metallische Gaszuführung 3, 3a bildet vorteilhaft zugleich die erste elektrische
Leitung zur Kapillare, wodurch auf eine Durchführung in den Vakuumbereich ver
zichtet werden kann. Die zweite elektrische Leitung der Kapillare wird z. B. durch
den Draht 200 gebildet, der an einen Bereich 104 in der Nähe der Kapillarmün
dung 103 in der oben beschriebenen Art und Weise einen elektrischen Berüh
rungskontakt zur Kapillare 100 bildet. Die der Kapillare 100 abgewandten Enden
des vorzugsweise aus Wolfram bestehenden Drahts sind zwischen z. B. aus Kup
fer bestehenden Metallblöcken 13, 13a (siehe Fig. 5) eingespannt. Die Metallblöc
ke 13, 13a werden z. B. über eine Schraube 14 an der Blende 10 gehalten und
sind über eine an die Spannungsquelle führende Stromzuführung 5, die über eine
Isolierkeramik 12 an der Halteklemme 6 befestigt ist, elektrisch verbunden. Durch
diese Art der Befestigung der zweiten Zuleitung 200 wird der der Kapillare abge
wandte Bereich der zweiten Zuleitung durch die Metallblöcke 13, 13a gekühlt. Dies
erlaubt das Anbringen einer konventionellen Stromzuführung 5, ferner wird der
heiße Leitungsbereich im wesentlichen auf den vorderen
Kapillarbereich A beschränkt wodurch die elektrische Energie dort effektiv in
thermische Energie umgewandelt wird. Um die mechanischen Spannungen auf
die zweite Zuleitung (Draht) 200 aufgrund unterschiedlicher Längenausdehnungs
koeffizienten von Wolfram und Kupfer zu verringern, wird vorteilhaft zwischen den
Kupferblöcken 13, 13a und dem Wolframdraht 200 im Einspannbereich beidseitig
zusätzlich eine Wolframplatte oder auch eine Molybdänplatte 13b angebracht. Da
der Längenausdehnungskoeffizient von Molybdän und Wolfram etwa gleich ist,
werden auch bei der Verwendung von Molybdän Drahtbeschädigungen verhin
dert. Ferner werden Oberflächenveränderungen des Kupfers der Einspannvorrich
tung durch den heißen Wolframdraht 200 vermieden. Zur elektrischen Isolation ist
zwischen dem Metallrohr 8 und der Blende 10 eine Saphirscheibe 18 angebracht.
Um die Kapillare auf die Blendenöffnung zu zentrieren, kann die Blende 10 radial
etwas verschoben werden. Dies läßt sich z. B. dadurch erreichen, daß die Bohrun
gen in der Blende 10, die die Befestigungsschrauben 11 und die Isolierkeramik 12
aufnehmen, etwas vergrößert ausgebildet sind. Durch die Justierschraube 19 läßt
sich die Kapillare axial justieren, zusätzlich dient die Justierschraube 19 zur ther
mischen Ankopplung an das Metallrohr 8 und damit zur Kühlung der Kapillare 100
im Verbindungsbereich mit der Gasleitung 3a, so daß dort Raumtemperatur er
reicht wird.
Um die Montage der Kapillare 100 und des Filaments 200 zu vereinfachen, ist das
Metallrohr 8 vorteilhaft wenigstens abschnittsweise z. B. entlang seiner Symme
trieachse geteilt, so daß ein Rohrabschnitt 9 der über Befestigungsmittel 15 (z. B.
Schrauben) am Metallrohr 8 gehalten wird, abnehmbar ist. Ebenso ist die Halte
klemme 6 vorteilhaft als abnehmbarer Rohrabschnitt ausgebildet, der mit den Be
festigungselementen 7 (z. B. Schrauben) am Metallrohr 8 befestigt wird. Das als
Haltevorrichtung für die Kapillare dienende Metallrohr 8 ist selbst in einem Hal
terohr 1 befestigt, in welchem die Gaszuführung 3, 3a, die Kühlvorrichtung 4 und
die Stromzuführung 5 verlaufen. An diesem Halterohr 1 sind Bohrungen 2 ange
bracht, um ein Ausgasen der Vorrichtung und der Anschlußleitungen beim Betrieb
der Vorrichtung im Vakuum zu beschleunigen. Das Halterohr 1 ist an einem
Flansch (nicht dargestellt) mit entsprechenden Durchführungen für die Strom-,
Gas- und Kühlmittelleitungen befestigt, um das Halterohr an einem Vakuumrezi
pienten anzuflanschen.
Nachfolgend werden drei Dimensionierungsbeispiele der Kapillare 100 und der
zweiten Leitung 200 angegeben, die einen zuverlässigen Betrieb der Vorrichtung
mit hoher Betriebsdauer erlauben. Bei den drei Beispielen werden jeweils eine
Wolframkapillare und ein Wolframdraht für die zweite elektrische Zuleitung ver
wendet. Die Vorrichtung kann dabei sowohl mit Gleich- als auch mit Wechsels
pannung betrieben werden.
Die Kapillarlänge beträgt L = 50 mm, der Kapillardurchmesser beträgt D1 = 1,6
mm, D2 = 1,2 mm und d = 0,6 mm (siehe Fig. 2) und die Länge, die zum Einspan
nen in die Schraubverbindung 16, 16a dient, L1 = 10 mm. Der Durchmesser des
Wolframdrahts 200 ist 0,3 mm, wobei der Draht wendelförmig mit 1,5 Windungen
die Wolframkapillare 100 in der Nähe der Kapillarmündung umfaßt. Dabei ist der
Wendeldurchmesser der Wendel 1,1 mm, so daß die Wendel stramm und durch
ihre Eigenelastizität gehalten an einem Mantelbereich der Kapillare 100 zur Anla
ge kommt. Bei dieser Dimensionierung sind Bereiche des Wolframdrahts 200 etwa
so heiß wie die Kapillarmündung, an der sich bei 1,4 V und 27 A eine Temperatur
T = 2000 K einstellt. Die polare Winkelverteilung der effundierten Radikale wird in
diesem Falle sehr gut durch eine cos5θ-Verteilung beschrieben.
Es wird eine Wolframkapillare wie beim ersten Dimensionierungsbeispiel verwen
det und ein Wolframdraht mit einem Durchmesser von 0,5 mm. Der Wolframdraht
200 umfaßt ebenfalls 1,5 Windungen einer Wendel, jedoch ist die Wendel so ge
staltet, daß sie nicht stramm und durch ihre Eigenelastizität gehalten an der Kapil
lare anliegt, sondern lediglich locker auf dem Kapillarmantel aufsitzt. Der Wendel
durchmesser der Wendel beträgt hierfür etwa 1,2 mm und entspricht dem Außen
durchmesser der Kapillare. Bei einer Spannung von U = 1,6 V und einem Strom
von 36 A erhitzt sich die Kapillare in einem Bereich von etwa 20 mm auf eine
Temperatur von 2000 K, wobei der Wolframdraht eine deutlich niedrigere Tempe
ratur aufweist. Aufgrund des axial ausgedehnten heißen Kapillarbereichs erhält
man eine stark in Vorwärtsrichtung gerichtete polare Winkelverteilung der effun
dierten Radikale.
Der Außendurchmesser der Wolframkapillare ist über den gesamten Kapillarbe
reich konstant und beträgt D = D2 = 1,6 mm, die Kapillarlänge beträgt L = 70 mm
und L1 = 10 mm für den Einspannbereich. Der Innendurchmesser der Kapillare ist
im Einspannbereich L1 = 0,6 mm und auf der übrigen Kapillarlänge L-L1 von 0,6
mm auf 1,1 mm erweitert. Der Wolframdraht hat einen Durchmesser von 0,5 mm
und umfaßt ebenfalls 1,5 Windungen, die stramm durch die Eigenelastizität an der
Kapillare zur Anlage kommen. Dabei beträgt der Wendeldurchmesser der Wendel
etwa 1,5 mm. Bei einer Spannung von 2,9 V und einem Strom von 47 A erhitzt
sich die Wolframkapillare etwa in einem Bereich von 40 mm auf 2000 K, wodurch
sich bei dieser Dimensionierung ebenfalls eine stark nach vorwärts gerichtete po
lare Winkelverteilung der effundierten Radikale ergibt. Ferner erhält man aufgrund
des größeren Öffnungsdurchmessers der Kapillarmündung vorteilhaft einen we
sentlich höheren Radikalfluß.
Die angegebenen Dimensionierungsbeispiele dienen lediglich zur Veranschauli
chung der Erfindung und schränken die erfindungsgemäße Vorrichtung in keiner
Weise ein.
Durch die erfindungsgemäße Vorrichtung steht eine ionenfreie, preisgünstige ul
trahochvakuumtaugliche Quelle für hohen Radikalfluß (siehe Tabelle 1) bei gerin
gem Platzbedarf sowie geringem Betriebsaufwand zur Verfügung, die bedarfswei
se je nach Ausbildung und Anbringung des Filaments bzw. je nach Ausbildung der
Kapillare mit breiter oder stark in Vorwärtsrichtung gerichteter polarer Winkelver
teilung der effundierten Radikale betrieben werden kann. Dabei kann ferner unter
Zuhilfenahme eines zweiten Filaments (dritte elektrische Zuleitung) diese Winkel
verteilung auch während des Betriebs gesteuert werden. Die Radikalausbeute ist
aufgrund des hohen Dissoziationsgrades der Moleküle, der je nach Rezepienten
druck zwischen etwa 30% und nahezu 100% liegt, ebenfalls sehr gut. Aufgrund
der gezielten lokalen Heizung erhält man einen Radikalfluß mit hoher Reinheit, da
nur die notwendigen Kapillarbereiche auf hohe Temperatur gebracht werden und
die Kapillarumgebung gekühlt wird, wobei die Haltevorrichtung, die gleichzeitig als
Infrarotabschirmung dient, selbst auch als Kühlfalle dienen kann. Die Desorpti
onsverunreinigungen des Radikalflusses sind dadurch minimiert. Durch geeignete
Materialien für die Kapillare und die zweite (dritte) elektrische Leitung, wie z. B.
Wolfram, wird aufgrund des geringen Dampfdrucks dieser Materialien die
Kontamination des Radikalflusses durch das Kapillar- bzw. Filamentmaterial mi
nimiert. Wie erwähnt, werden durch die thermische Dissoziation vorteilhaft keine
Ionen, schnelle Neutralteilchen, hochangeregte Atome und keine UV-Strahlung
erzeugt. Dies macht den Einsatz der erfindungsgemäßen Vorrichtung auch für die
Halbleiterindustrie interessant. Dabei können mehrere Vorrichtungen parallel be
trieben werden, um den Radikalfluß weiter zu steigern. Die vorteilhaft angebrachte
Infrarotabschirmung verhindert ferner ein Aufheizen bzw. ein Schädigen empfind
licher Proben. Durch die erfindungsgemäße Ausbildung des Kontakts zwischen
Kapillare und Filament ergibt sich eine hohe Betriebssicherheit, da mögliche ther
mische Spannungen nicht zur Zerstörung der Kapillare oder der zweiten (dritten)
Zuleitung führen. Durch die einfache Ausbildung der Vorrichtung ist sie ferner
auch in Vakuumanlagen mit differentiell gepumpten Blenden einsetzbar. Da sich
die Vorrichtung mit Niederspannungsquellen betreiben läßt, ist ebenfalls eine ho
he Bediensicherheit gegeben, was zu erheblicher Reduktion der Kosten beiträgt.
Ferner läßt sich die beschriebene Vorrichtung auch als Generator für Reaktions
produkte verwenden, wobei diese nicht notwendigerweise Radikale sein müssen.
So läßt sich z. B. Azomethan (CH3 - N = N - CH3) bei etwa 1000°C in Stickstoff N2
und CH3 aufspalten. Ist dem Azomethan zusätzlich Wasserstoffgas (H2) beige
setzt, so können die CH3-Gruppen mit atomarem Wasserstoff (H), der ebenfalls
durch thermische Dissoziation entsteht, zu Methan (CH4) reagieren, das dann in
den Probenraum emittiert wird. Dabei kann das axiale Temperaturprofil der Kapil
lare den Reaktionen angepaßt werden. Im dargestellten Beispiel können die CH3-Grup
pen und die H-Atome auch in verschiedenen Kapillaren, die vorteilhaft mit
unterschiedlicher Temperatur betrieben werden, erzeugt werden, wobei die Reak
tion zu Methan dann in einem Probenraum erfolgt, in den beide Kapillaren ihre
Reaktionsprodukte effundieren.
Claims (25)
1. Vorrichtung zur Erzeugung von Radikalen, insbesondere Wasserstoffradika
len, und/oder Reaktionsprodukten durch thermische Dissoziation von Gasmo
lekülen mit einer Gaszuführung (3, 3a) zum Transport der Gasmoleküle in ei
ne elektrisch leitendes Material enthaltende Kapillare (100) mit einem offenen
Ende (103) zur Effusion der Radikale und/oder der Reaktionsprodukte, einer
mit dem dem offenen Ende abgewandten Teil (B) der Kapillare (100) in elek
trischer Verbindung stehenden ersten elektrischen Leitung (105), einer zwei
ten elektrischen Leitung (200), und einer mit beiden Leitungen elektrisch ver
bundenen Heizvorrichtung (U) zur Erhitzung der Kapillare (100), dadurch ge
kennzeichnet, daß die zweite elektrische Leitung (200) zur Herstellung eines
elektrischen Kontakts mit der Kapillare (100) im Bereich des offenen Endes
(103, A) einen Mantelbereich der Kapillare mindestens teilweise umfaßt und
gegen diesen anliegt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite
elektrische Leitung (200) aufgrund ihrer Eigenelastizität den Mantelbereich
der Kapillare (100) eng umschließt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
zweite elektrische Leitung (200) ein Draht ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Draht (200)
wendelförmig den Mantelbereich der Kapillare (100) umschließt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Drahtwen
del (202) wenigstens eine Windung umfaßt.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß
die zweite elektrische Leitung (200) aus Wolfram, Tantal, Iridium, Rhenium
oder einer eines oder mehrere dieser Metalle enthaltenden Legierung be
steht.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3-6, dadurch gekennzeichnet, daß
der Durchmesser des Drahts (200) zwischen 0,3 mm und 0,5 mm ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite
elektrische Leitung (200) aus Kohlenstoff besteht.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-8, dadurch gekennzeichnet, daß
der Innendurchmesser (d) der Kapillare (100) nur einen Bruchteil der mittleren
freien Weglänge der Gasmoleküle beträgt.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kapillare (100) aus Wolfram, Tantal, Iridium, Rhenium oder einer eines
oder mehrere dieser Metalle enthaltenden Legierung besteht.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kapillare (100) aus einer metallbeschichteten Keramik oder Kohlenstoff
besteht.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Heizvorrichtung (U) eine Gleich- oder Wechselstromquelle umfaßt, die
zwischen der ersten (105) und zweiten elektrischen Leitung (200) einen elek
trischen Spannungsabfall erzeugt.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-12, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kapillare (100) im Kontaktbereich der zweiten elektrischen Leitung (200)
mit reduzierter Wandstärke ausgebildet ist, um lokal den Wärmewiderstand
und den elektrischen Widerstand der Kapillare zu erhöhen.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-13, dadurch gekennzeichnet, daß
eine dritte elektrische Leitung in Axialrichtung der Kapillare (100) in einem
Abstand zur zweiten elektrischen Leitung (200) an der Kapillare zur Anlage
kommt und diese wenigstens teilweise umfaßt, und daß der elektrische Strom
durch die zweite und die dritte elektrische Leitung einzeln einstellbar ist.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-14, dadurch gekennzeichnet, daß
die die Kapillare (100) umfassende zweite elektrische Leitung (200) zur Her
stellung eines elektrischen Kontakts und zur Kühlung mit ihrem der Kapillare
abgewandten Ende mittels eines Metallblocks (13) zwischen diesem und ei
nem Teil einer Haltevorrichtung (8,10) eingespannt ist.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-15, dadurch gekennzeichnet, daß
das dem offenen Ende (103) gegenüberliegende Ende (B) der Kapillare (100)
mit der Gaszuführung (3, 3a) vakuumdicht über eine metallische Verschrau
bung (16, 16a) verbunden ist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapillare
(100) und die Verschraubung (16, 16a) konzentrisch von einem als Haltevor
richtung dienenden Metallrohr (8) umschlossen sind, an dessen einer Stirnsei
te in der Nähe der Kapillarmündung (103) eine metallische Blende (10) befe
stigt ist, und an dessen anderer Stirnseite die Verschraubung (16, 16a) der
Gaszuführung und der Kapillare (100) gehaltert ist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 16 oder 17, dadurch gekennzeich
net, daß das dem offenen Ende (103) gegenüberliegende Ende (B) der Kapil
lare (100) an die Haltevorrichtung (8, 6) und/oder die Gaszuführung (16, 16a)
wärmeleitend angekoppelt ist.
19. Vorrichtung nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß zwi
schen dem Metallrohr (8) und der metallischen Blende (10) zur elektrischen
Isolation eine Saphirscheibe (18) angebracht ist.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet,
daß das Metallrohr (8) wenigstens abschnittsweise entlang seiner Symmetrie
achse geteilt ist, und daß bei Abnahme wenigstens eines Teils (6, 9) die Kapil
lare (100) oder ein Kapillarteil und/oder die zweite elektrische Leitung (200)
freigelegt ist.
21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17-20, dadurch gekennzeichnet,
daß der Metallblock (13) zum Einspannen der die Kapillare (100) umfassen
den elektrischen Leitung (200) an der metallischen Blende (10) befestigt ist.
22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17-21, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Kühlung der Haltevorrichtung (6, 8, 9) an dieser Kühlmittelkanäle an
gebracht sind.
23. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17-22, dadurch gekennzeichnet,
daß die Haltevorrichtung (6, 8, 9) und die metallische Blende (10) aus Kupfer
besteht.
24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-23, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stromstärke der Heizvorrichtung (U) zur Einstellung des axialen Tempera
turgradients der Kapillare (100) und damit der Winkelverteilung der effundier
ten Radikale oder Reaktionsprodukte einstellbar ist.
25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-24, dadurch gekennzeichnet, daß
das Radikal atomarer Wasserstoff aus thermisch dissoziiertem Wasserstoff
gas ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997157851 DE19757851C1 (de) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | Vorrichtung zur Erzeugung von Radikalen und/oder Reaktionsprodukten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997157851 DE19757851C1 (de) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | Vorrichtung zur Erzeugung von Radikalen und/oder Reaktionsprodukten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19757851C1 true DE19757851C1 (de) | 1999-04-29 |
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DE1997157851 Expired - Fee Related DE19757851C1 (de) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | Vorrichtung zur Erzeugung von Radikalen und/oder Reaktionsprodukten |
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---|---|
DE (1) | DE19757851C1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004113222A1 (de) * | 2003-06-17 | 2004-12-29 | Future Camp Gmbh | Verfahren zum reversiblen speichern von atomarem wasserstoff an/in kohlenstoff-mikro- und/oder nanomaterial sowie wasserstoffspeicher |
-
1997
- 1997-12-24 DE DE1997157851 patent/DE19757851C1/de not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
U.Bischler, E.Bartel, J. Vac. Sci. Technol., A11 (2), 458 (1993) * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004113222A1 (de) * | 2003-06-17 | 2004-12-29 | Future Camp Gmbh | Verfahren zum reversiblen speichern von atomarem wasserstoff an/in kohlenstoff-mikro- und/oder nanomaterial sowie wasserstoffspeicher |
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