DE19752517A1 - Einrichtung zum Aufbringen einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche bspw. einer Halbleiterscheibe, einer Glasscheibe, einer Keramikscheibe o. dgl. - Google Patents
Einrichtung zum Aufbringen einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche bspw. einer Halbleiterscheibe, einer Glasscheibe, einer Keramikscheibe o. dgl.Info
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Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Aufbringen
einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche bspw. einer
Halbleiterscheibe, einer Glasscheibe, einer Keramikscheibe
o. dgl., mit einer Austrittsöffnung für die Flüssigkeit, der
eine Zumeßvorrichtung für die Flüssigkeit zugeordnet ist.
Unter anderem in der Halbleitertechnik ist es erforderlich,
bspw. einen Fotolack auf die Oberfläche einer
Halbleiterscheibe aufzubringen. Dies wird bei bekannten
Einrichtungen dadurch erreicht, daß die Halbleiterscheibe
horizontal angeordnet und um ihren Mittelpunkt drehbar ist.
Über dem Mittelpunkt ist eine Austrittsöffnung angeordnet,
mit der der Fotolack tropfenweise auf die Halbleiterscheibe
aufgebracht werden kann. Mit Hilfe einer Zumeßeinrichtung
ist es möglich, die Anzahl der Tropfen und damit die
aufgebrachte Menge an Fotolack zu beeinflussen. Die
Halbleiterscheibe wird dann zuerst in eine langsame und
dann in eine schnelle Rotation versetzt. Durch die langsame
Rotation wird der Fotolack auf der Oberfläche der
Halbleiterscheibe verteilt und durch die schnelle
nachfolgende Rotation wird der Fotolack vergleichmäßigt.
Handelt es sich um wenig strukturierte Halbleiterscheiben,
so ist es mit Hilfe der beschriebenen Einrichtung möglich,
homogene Schichten auf die Oberfläche der Halbleiterscheibe
aufzubringen. Weist die Oberfläche der Halbleiterscheibe
jedoch größere topografische Strukturen auf, sind also in
der Oberfläche der Halbleiterscheibe größere Stufen oder
Gräben enthalten, so ist es nur mit einem größeren Aufwand
möglich, eine homogene Schicht auf der Oberfläche zu
erzeugen. Dazu ist es z. B. möglich, durch die Zuführung
einer großen Menge von Fotolack eine geschlossene und im
Wesentlichen auch homogene Bedeckung der Oberfläche der
Halbleiterscheibe zu erreichen. Die große Flüssigkeitsmenge
hat jedoch bei einer Rotation der Halbleiterscheibe zur
Folge, daß bei Stufen o. dgl. auf der Anströmseite
wesentlich dickere Schichten entstehen als auf der der
Strömung abgewandten Seite.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Einrichtung zum
Aufbringen einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche zu
schaffen, die in jedem Fall das Aufbringen einer
geschlossenen und homogenen Schicht der Flüssigkeit
ermöglicht.
Diese Aufgabe wird bei einer Einrichtung der eingangs
genannten Art durch die Erfindung dadurch gelöst, daß eine
Vielzahl von Austrittsöffnungen vorgesehen sind, wobei
jeder der Austrittsöffnungen eine separate
Zumeßeinrichtung zugeordnet ist.
Durch die Vielzahl der Austrittsöffnungen wird erreicht,
daß jedem Punkt der Oberfläche bspw. der Halbleiterscheibe
unmittelbar die Flüssigkeit zugeführt wird. Die Flüssigkeit
muß also nicht mehr zentral aufgebracht und dann durch
eine langsame Rotation verteilt werden. Statt dessen wird,
wie erwähnt, jedem Punkt der Oberfläche die Flüssigkeit
direkt zugeführt. Dies führt insgesamt zu einer
vollständigen Abdeckung der gesamten Oberfläche mit der
Flüssigkeit. Desweiteren wird durch die punktweise
Aufbringung der Flüssigkeit erreicht, daß die Dicke der
entstehenden Schicht der Flüssigkeit auf der Oberfläche
schon vor einer Rotation sehr gleichmäßig ist. Bei der
nachfolgenden schnellen Rotation bspw. der
Halbleiterscheibe wird dann eine äußerst homogene Schicht
der aufgebrachten Flüssigkeit auf der Oberfläche erzeugt.
Bei einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die
Menge der durch jede der Austrittsöffnungen zugemessenen
Flüssigkeit abhängig von der Ausgestaltung der Oberfläche.
Es wird also bspw. an Stufen oder Gräben der Oberfläche
mehr oder weniger Flüssigkeit durch die jeweils zugehörigen
Austrittsöffnungen zugeführt. Die Menge der jeweils
zugemessenen Flüssigkeit wird dabei derart gewählt, daß
insgesamt eine möglichst homogene Schicht auf der
Oberfläche bspw. der Halbleiterscheibe entsteht.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn die Autrittsöffnungen mit
den jeweils zugehörigen Zumeßeinrichtungen netz- bzw.
matrixartig angeordnet sind und einen möglichst geringen
Abstand zueinander aufweisen. In diesem Fall kann durch die
unterschiedliche Zumessung von Flüssigkeit die Struktur der
Oberfläche bspw. der Halbleiterscheibe bei der jeweils
zuzumessenden Flüssigkeitsmenge optimal berücksichtigt
werden. Insgesamt wird auf diese Art und Weise die
Homogenität der Flüssigkeitsschicht auf der Oberfläche
weiter erhöht.
Bei einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist die
Anordnung der Austrittsöffnungen abhängig von der
Ausgestaltung der Oberfläche. In diesem Fall wird also die
Anordnung der Austrittsöffnungen individuell an die
Ausgestaltung der Oberfläche bspw. der Halbleiterscheibe
angepaßt. So ist es bspw. möglich, im Bereich relativ
unstrukturierter Flächen weniger Austrittsöffnungen
vorzusehen, während im Bereich von Stufen oder Gräben eine
größere Anzahl von Austrittsöffnungen vorgesehen sind. Auf
diese Weise ist es möglich, besondere Strukturen in der
Oberfläche durch entsprechende Anordnungen der
Austrittsöffnungen zu berücksichtigen.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn nicht nur die Anordnung
der Austrittsöffnungen in Abhängigkeit von der
Ausgestaltung der Oberfläche gewählt wird, sondern wenn
darüberhinaus auch noch die durch jede der Austrittsöffnung
zugemessene Flüssigkeitsmenge in Abhängigkeit von der
Ausgestaltung der Oberfläche durchgeführt wird. Auf diese
Art und Weise ist es möglich, die Homogenität der erzeugten
Flüssigkeitsschicht auf der Oberfläche bspw. der
Halbleiterscheibe weiter zu verbessern.
Bei einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung sind
die Austrittsöffnungen und die zugeordneten
Zumeßeinrichtungen auf einem Substrat aus Silizium
aufgebracht. Damit ist es möglich, die gesamte
erfindungsgemäße Einrichtung mit Hilfe von Verfahren der
Siliziumtechnik herzustellen. Insbesondere können auf diese
Weise die Abstände zwischen den einzelnen
Austrittsöffnungen wesentlich verringert werden.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn das Substrat aus Silizium
mit Hilfe von mikromechanischen Verfahren bearbeitet wird.
Auf diese Weise kann ebenfalls insbesondere der Abstand
zwischen den einzelnen Austrittsöffnungen sehr gering
gehalten werden.
Bei einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist zu
jeder der Austrittsöffnungen eine zugeordnete auslenkbare
Membran vorgesehen, mit der durch eine Auslenkung die
Flüssigkeit durch die Austrittsöffnung förderbar ist. Eine
derartige Membran ist insbesondere mit Hilfe von
mikromechanischen Verfahren auf Siliziumbasis besonders
genau und reproduzierbar herstellbar.
Wird die Membran ausgelenkt, und weist die Membran auf
Grund der Auslenkung dann eine kugelförmige Gestalt auf, so
wird die hinter der Membran befindliche Flüssigkeit durch
die Auslenkung verdrängt. Die Flüssigkeit gelangt dadurch
zu der Austrittsöffnung und tritt durch diese hindurch. In
diesem Fall ist ggf. noch eine Einrichtung erforderlich,
die einen Rückfluß der der Austrittsöffnung zuzuführenden
Flüssigkeit verhindert.
Ebenfalls ist es möglich, die Membran als Ventil zu
verwenden. Die der Membran zugeführte Flüssigkeit steht
dann unter einem Überdruck. Ist die Membran ausgelenkt, so
ist die Austrittsöffnung und damit das Ventil geschlossen.
Wird die Membran nicht ausgelenkt, so ist die
Austrittsöffnung und damit das Ventil geöffnet.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn die Austrittsöffnungen
und die Membranen in etwa parallelen und übereinander
angeordneten Ebenen auf dem Substrat angeordnet sind.
Dadurch wird erreicht, daß die Flüssigkeit in einer
dazwischenliegenden Ebene zu allen Austrittsöffnungen bzw.
Membranen zugeführt werden kann. Der Aufbau des Substrats
wird auf diese Weise wesentlich vereinfacht.
Bei einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der
Erfindung ist die Membran mit einer elektrischen Schaltung,
insbesondere mit einem Heizdraht versehen, mit der bzw. mit
dem die Membran auslenkbar ist. Fließt ein Strom durch den
Heizdraht, so hat dies eine Erwärmung der Membran zur
Folge. Die Erwärmung bewirkt eine Ausdehnung der Membran.
Da die Membran jedoch fest in dem Substrat eingespannt ist,
kann sich die Membran nur auf die bereits erwähnte
bauchförmige Art und Weise ausdehnen. Damit entsteht die
bauchförmige Gestalt der Membran, die zum Austritt der
Flüssigkeit aus der Austrittsöffnung führt oder die
Austrittsöffnung versperrt.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Menge der
zugemessenen Flüssigkeit einstellbar ist. Dies kann auf
einfache Weise z. B. mit Hilfe des Stroms durch den
Heizdraht erreicht werden. Hierdurch kann in einfacher
Weise eine individuelle, frei programmierbare Belegung
unterschiedlicher Halbleiterscheiben o. dgl. ohne einen
Umbau der erfindungsgemäßen Einrichtung vorgenommen werden.
Weiterhin ist es vorteilhaft, jeder Austrittsöffnung bzw.
jeder Membran eine Einrichtung zur Messung der Menge der
zugeführten Flüssigkeit zuzuordnen. Dies kann z. B. mit
Hilfe von Massenflußsensoren erfolgen, die vorzugsweise in
Siliziumtechnologie hergestellt werden.
Bei einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung der
Erfindung ist jede der Austrittsöffnungen auf der der
zugehörigen Membran abgewandten Seite durch einen Deckel
verschließbar, und es ist in geschlossenem Zustand der
Austrittsöffnung ein Lösungsmittel zuführbar. Mit Hilfe des
Lösungsmittels wird gewährleistet, daß die Flüssigkeit
insbesondere im Bereich der Austrittsöffnungen nicht
eintrocknet und damit die Austrittsöffnungen verstopft.
Damit das Lösungsmittel den Austrittsöffnungen zugeführt
werden kann, und insbesondere daß kein "Nachtropfen" auf
die Oberfläche der Halbleiterscheibe stattfindet, ist der
Deckel vorgesehen. Mit Hilfe des Deckels und dem
zuführbaren Lösungsmittel wird somit eine gleichbleibende
und reproduzierbare Funktion der gesamten erfindungsgemäßen
Einrichtung gewährleistet.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn das Lösungsmittel in
einer Ebene zwischen den Austrittsöffnungen und dem Deckel
zugeführt ist. Auf diese Weise kann das Lösungsmittel
gleichzeitig allen Austrittsöffnungen zugeführt werden. Der
Aufbau des Substrats wird dadurch wesentlich vereinfacht.
Weitere Merkmale, Anwendungsmöglichkeiten und Vorteile der
Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung
von Ausführungsbeispielen der Erfindung, die in den Figuren
der Zeichnung dargestellt sind. Dabei bilden alle
beschriebenen oder dargestellten Merkmale für sich oder in
beliebiger Kombination den Gegenstand der Erfindung,
unabhängig von ihrer Zusammenfassung in den
Patentansprüchen oder deren Rückbeziehung sowie unabhängig
von ihrer Formulierung bzw. Darstellung in der Beschreibung
bzw. in der Zeichnung.
Fig. 1 zeigt einen schematischen Querschnitt durch
ein Ausführungsbeispiel einer
erfindungsgemäßen Einrichtung zum Aufbringen
einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche bspw.
einer Halbleiterscheibe, einer Glasscheibe,
einer Keramikscheibe o. dgl., und
Fig. 2 zeigt einen schematischen Querschnitt einer
Einzelheit der Einrichtung der Fig. 1.
In der Fig. 1 ist eine Einrichtung 1 dargestellt, mit
deren Hilfe eine Flüssigkeit 2 auf eine Oberfläche 3 bspw.
einer Halbleiterscheibe 4 aufgebracht werden kann. Anstelle
der Halbleiterscheibe 4 kann auch eine Glasscheibe, eine
Keramikscheibe o. dgl. vorgesehen sein. Bei der Flüssigkeit
2 kann es sich bspw. um einen Fotolack handeln. Die
Halbleiterscheibe 4 kann bspw. kreisförmig ausgestaltet
sein. Die Oberfläche 3 der Halbleiterscheibe 4 ist eben und
weist beliebige topografische Strukturen auf.
Die Einrichtung 1 ist scheibenförmig ausgebildet und ist
etwa parallel und mit einem Abstand zur Oberfläche 3 der
Halbleiterscheibe 4 angeordnet. Die Einrichtung 1 weist
eine Vielzahl von Austrittsöffnungen 5 auf, die über die
gesamte, der Oberfläche 3 zugewandten Fläche der
Einrichtung 1 verteilt sind. Die Austrittsöffnungen 5
können dabei symmetrisch, bspw. netz- oder matrixartig
angeordnet sein. Ebenfalls ist es möglich, daß die
Austrittsöffnungen 5 völlig beliebig angeordnet sind. Bspw.
ist es möglich, daß die Austrittsöffnungen 5 in
Abhängigkeit von der Ausgestaltung der topografischen
Strukturen auf der Oberfläche 3 der Halbleiterscheibe 4
angeordnet sind.
Wie nachfolgend noch erläutert werden wird, ist jeder der
Austrittsöffnungen 5 eine separate Zumeßeinrichtung 6
zugeordnet. Mit Hilfe der Zumeßeinrichtung 6 ist es
möglich, die Menge der durch jede der Austrittsöffnungen 5
austretenden Flüssigkeit 2 zu dosieren bzw. einzustellen.
Insbesondere ist es mit Hilfe der Zumeßeinrichtung 6
möglich, die Anzahl der Tropfen, die durch jede der
Austrittsöffnungen 5 austritt, zu bemessen.
Die Menge der durch jede der Austrittsöffnungen 5
austretenden Flüssigkeit 2 kann dabei bei allen
Austrittsöffnungen 5 der Einrichtung 1 gleich sein.
Ebenfalls ist es möglich, daß die Menge bei den
verschiedenen Austrittsöffnungen 5 jeweils verschieden
zugemessen wird. Insbesondere ist es möglich, die Menge der
durch jede der Austrittsöffnungen 5 mit Hilfe der
Zumeßeinrichtungen 6 zugemessenen Flüssigkeit 2 in
Abhängigkeit von der Ausgestaltung der topografischen
Struktur der Oberfläche 3 der Halbleiterscheibe 4
einzustellen.
In der Fig. 2 ist eine einzelne Austrittsöffnung 5 mit der
zugehörigen Zumeßvorrichtung 6 dargestellt. Die
Austrittsöffnung 5 und die Zumeßvorrichtung 6 sind in
einem Substrat 7 aus Silizium eingebracht.
In einer ersten, der Halbleiterscheibe 4 abgewandten Ebene
8 ist eine bspw. kreisförmige Membran 9 vorgesehen. Auf die
Membran 9 ist ein bspw. ebenfalls kreisförmiger Heizdraht
10 aufgebracht, der von einer elektrischen Schaltung o. dgl.
angesteuert werden kann.
In einer unterhalb der Ebene 8 angeordneten zweiten Ebene
11 ist eine Ausnehmung 12 enthalten, die der Aufnahme der
Flüssigkeit 2 dient. Die Ausnehmung 12 erstreckt sich über
die gesamte Einrichtung 1, also über alle
Austrittsöffnungen 5 und Zumeßeinrichtungen 6. Die
Flüssigkeit 2 kann daher an einer seitlichen Öffnung der
Einrichtung 1 für alle Austrittsöffnungen 5 und
Zumeßeinrichtungen 6 gemeinsam zugeführt werden.
In einer unterhalb der Ebene 11 angeordneten Ebene 13 ist
die Austrittsöffnung 5 eingebracht. Die Austrittsöffnung 5
weist bspw. eine sich zur Halbleiterscheibe 4 hin öffnende
konische Form auf.
Fließt ein elektrischer Strom durch den Heizdraht 10, so
wird die Membran 9 dadurch erwärmt. Dies hat eine
Ausdehnung der Membran 9 zur Folge. Da die Membran 9 in dem
Substrat 7 fest eingespannt ist, bewirkt dies eine
bauchförmige Ausdehnung der Membran 9 in den Bereich der
Ausnehmung 12. Dies ist in der Fig. 2 mit einer
gestrichelten Linie 14 dargestellt.
Durch die bauchförmige Ausdehnung der Membran 9, 14 in den
Bereich der Ausnehmung 12 wird die dort befindliche
Flüssigkeit 2 verdrängt. Dies hat zur Folge, daß die
Flüssigkeit 2 durch die Austrittsöffnung 5 hindurchgedrückt
wird und somit aus der Austrittsöffnung 5 tropfenweise
austritt. Die Menge der auf diese Weise zugemessenen
Flüssigkeit 2 ist abhängig von der Erwärmung der Membran 9
und damit von dem Strom durch den Heizdraht 10. Wird der
Stromfluß durch den Heizdraht 10 wieder beendet, kühlt die
Membran 9 ab und geht in ihre Ausgangslage zurück. Der auf
diese Weise frei werdende Raum in der Ausnehmung 12 wird
dann wieder von außen mit weiterer Flüssigkeit 2
aufgefüllt.
Alternativ ist es möglich, die Flüssigkeit 2 unter Druck
der Membran 9 zuzuführen. Ist die Membran 9 erwärmt, so
liegt sie an dem Rand der Austrittsöffnung 5 an. Die
Austrittsöffnung 5 ist damit verschlossen. Fließt jedoch
kein Strom mehr durch den Heizdraht 10, so kühlt die
Membran 9 ab und zieht sich zurück. Die Austrittsöffnung 5
wird dadurch geöffnet und die unter Druck stehende
Flüssigkeit 2 kann austreten.
In einer weiteren, unterhalb der Schicht 13 angeordneten
Schicht 15 ist ein Deckel 16 vorgesehen. Mit Hilfe des
Deckels 16 ist es möglich, die Austrittsöffnungen 5 zu
verschließen. Der Deckel 16 ist dabei mit einem Abstand zu
der Ebene 13 und damit zu den Austrittsöffnungen 5 angeordnet. Der Deckel 16 weist eine Vielzahl von mit den Austrittsöffnungen 5 übereinstimmenden Öffnungen auf und wird zum Verschließen geringfügig verschoben.
der Ebene 13 und damit zu den Austrittsöffnungen 5 angeordnet. Der Deckel 16 weist eine Vielzahl von mit den Austrittsöffnungen 5 übereinstimmenden Öffnungen auf und wird zum Verschließen geringfügig verschoben.
Zwischen dem Deckel 16 und den Austrittsöffnungen 5 ist
eine Ebene 17 vorgesehen, die mit Bereichen 18 versehen
ist, in denen ein Lösungsmittel, insbesondere ein
Lösungsmitteldampf den Austrittsöffnungen 5 zugeführt
werden kann. Das Lösungsmittel ist dazu geeignet, an den
Austrittsöffnungen 5 angetrocknete Flüssigkeit 2 aufzulösen
und damit zu beseitigen.
Damit ist es möglich, bspw. vor und nach jeder Zuführung
von Flüssigkeit 2 den Deckel 16 zu verschließen und in die
Bereiche 18 das Lösungsmittel zuzuführen. Die
Austrittsöffnungen 5 werden dadurch gereinigt, so daß
danach, bei wieder geöffnetem Deckel 16, eine genaue
Zumessung der nunmehr in die Ausnehmung 12 zugeführten
Flüssigkeit 2 möglich ist. Desweiteren findet ein
"Nachtropfen" nur auf den Deckel 16, nicht jedoch auf die
Oberfläche 3 der Halbleiterscheibe 4 statt.
Claims (11)
1. Einrichtung (1) zum Aufbringen einer Flüssigkeit (2)
auf eine Oberfläche (3) bspw. einer Halbleiterscheibe
(4), einer Glasscheibe, einer Keramikscheibe o. dgl.,
mit einer Austrittsöffnung (5) für die Flüssigkeit
(2), der eine Zumeßvorrichtung (6) für die
Flüssigkeit (2) zugeordnet ist, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Vielzahl von
Austrittsöffnungen (5) vorgesehen sind, wobei jeder
der Austrittsöffnungen (5) eine separate
Zumeßeinrichtung (6) zugeordnet ist.
2. Einrichtung (1) nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Menge der durch jede der
Austrittsöffnungen (6) zugemessenen Flüssigkeit (2)
abhängig ist von der Ausgestaltung der Oberfläche (3).
3. Einrichtung (1) nach einem der Ansprüche 2 oder 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung der
Austrittsöffnungen (5) abhängig ist von der
Ausgestaltung der Oberfläche (3).
4. Einrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Austrittsöffnungen
(5) in einer zur Oberfläche (3) etwa parallelen Ebene
angeordnet sind.
5. Einrichtung (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Austrittsöffnungen
(5) und die zugeordneten Zumeßeinrichtungen (6) auf
einem Substrat (7) aus Silizium aufgebracht sind.
6. Einrichtung (1) nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß zu jeder der Austrittsöffnungen
(5) eine zugeordnete auslenkbare Membran (9)
vorgesehen ist, mit der durch eine Auslenkung die
Flüssigkeit (2) durch die Austrittsöffnung (5)
förderbar ist.
7. Einrichtung (1) nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Austrittsöffnungen (5) und
die Membranen (9) in etwa parallelen und übereinander
angeordneten Ebenen (8, 13) auf dem Substrat (7)
angeordnet sind.
8. Einrichtung (1) nach einem der Ansprüche 6 oder 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Membran (9) mit einer
elektrischen Schaltung, insbesondere mit einem
Heizdraht (10) versehen ist, mit der bzw. mit dem die
Membran (9) auslenkbar ist.
9. Einrichtung (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeit (2) in
einer Ebene (11) zwischen den Austrittsöffnungen (5)
und den zugeordneten Membranen (9) zugeführt ist.
10. Einrichtung (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß jede der
Austrittsöffnungen (5) auf der der zugehörigen Membran
(5) abgewandten Seite durch einen Deckel (16)
verschließbar ist, und daß im geschlossenen Zustand
der Austrittsöffnung (5) ein Lösungsmittel zuführbar
ist.
11. Einrichtung (1) nach Anspruch 10, dadurch
gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel in einer Ebene
(17) zwischen den Austrittsöffnungen (5) und dem
Deckel (16) zugeführt ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19752517A DE19752517A1 (de) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | Einrichtung zum Aufbringen einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche bspw. einer Halbleiterscheibe, einer Glasscheibe, einer Keramikscheibe o. dgl. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19752517A DE19752517A1 (de) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | Einrichtung zum Aufbringen einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche bspw. einer Halbleiterscheibe, einer Glasscheibe, einer Keramikscheibe o. dgl. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19752517A1 true DE19752517A1 (de) | 1999-07-01 |
Family
ID=7849946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752517A Ceased DE19752517A1 (de) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | Einrichtung zum Aufbringen einer Flüssigkeit auf eine Oberfläche bspw. einer Halbleiterscheibe, einer Glasscheibe, einer Keramikscheibe o. dgl. |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19752517A1 (de) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2909835C2 (de) * | 1978-03-13 | 1983-05-11 | Pilot Man-Nen-Hitsu K.K., Tokyo | Vorrichtung zur dosierten Flüssigkeitsabgabe |
DE4013322A1 (de) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | Heino Kaiser | Mehrfach-auftragskopf |
-
1997
- 1997-11-27 DE DE19752517A patent/DE19752517A1/de not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2909835C2 (de) * | 1978-03-13 | 1983-05-11 | Pilot Man-Nen-Hitsu K.K., Tokyo | Vorrichtung zur dosierten Flüssigkeitsabgabe |
DE4013322A1 (de) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | Heino Kaiser | Mehrfach-auftragskopf |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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