DE19734914C1 - Vakuumsensor nach dem Penning-Prinzip - Google Patents
Vakuumsensor nach dem Penning-PrinzipInfo
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000000941 radioactive substance Substances 0.000 claims 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N radium atom Chemical compound [Ra] HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L21/00—Vacuum gauges
- G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
- G01L21/34—Vacuum gauges by making use of ionisation effects using electric discharge tubes with cold cathodes
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen Vakuumsensor
nach dem Penning-Prinzip, bestehend aus zwei im Betrieb auf
unterschiedlichen Potentialen liegenden Elektroden, deren
Zwischenraum dem zu messenden Druck ausgesetzt ist, und aus
mindestens einem Permanentmagnet, dessen Feld in diesem
Zwischenraum zu einer Ionisierung führt, wobei der Ionisie
rungsstrom als Maß für den Druck ausgewertet wird.
Solche Vakuumsensoren sind beispielsweise aus den
Druckschriften DE-AS-16 48 689 und EP 0 622 621 A2 bekannt. In
dem Buch "Vakuumtechnik in der industriellen Praxis", Con
takt und Studium, Bd 204, Herausgeber Prof. W. J. Bartz,
Expertverlag Esslingen, Kapitel 3.2 wird ein Vakuumsensor
nach dem Penningprinzip erwähnt, der im Druckbereich zwi
schen 10-2 und 10-8 mbar (SI-Einheit hPa) brauchbare Ergeb
nisse liefert. Ein solcher Drucksensor enthält eine unbe
heizte, also kalte Kathode, eine auf Hochspannung liegende
Anode und einen Magnet, der im Zwischenbereich der Elek
troden die emittierten Elektronen auf eine Kreisbahn zwingt,
wodurch eine Ionisation der Gasmoleküle bewirkt wird, die zu
einem auswertbaren Ionenstrom führt.
Weiter beschreibt US 4 902 977 einen Vakuumsensor
mit einer HF-Kavität zur Erhöhung des Ionisierungsgrads.
Dadurch ergeben sich kleinere Abmessungen.
Die Druckschrift US 5 633 465 A beschreibt einen
durch Photolithographie hergestellten Vakuumsensor nach dem
Piraniprinzip.
Schließlich wird in der Zeitschrift THIN SOLID FILMS
281-282 (1996) Seiten 393 bis 396 eine dünne Palladium
schicht beschrieben, die als Photokathode eines Vakuumsen
sors dient. Der Emissionsstrom aufgrund einer UV-Bestrahlung
hängt vom Vakuumwert ab.
Die meisten bisher bekannten Vakuumsensoren nach dem
Penningprinzip haben folgende Nachteile:
Der Durchmesser der Vakuumverbindungsleitungen sollte
möglichst groß gewählt werden, damit der durch den Ionisa
tionsstrom bewirkte Pumpeffekt, besonders bei hohen Be
schleunigungsspannungen, die Druckmessung nicht verfälscht.
So liegen die inneren Abmessungen der bekannten Sensoren bei
einem Durchmesser von zwischen 10 und 30 mm und bei einer
Länge von 20 bis 70 mm. Andrerseits liegt der Druck, bei dem
sich die Strömungsverhältnisse im Sensor von der Molekular
strömung zur Knudsenströmung entwickeln, bei den erwähnten
Abmessungen sehr niedrig, was den Meßbereich des Sensors,
der nur im molekularen Strömungsbereich brauchbare Ergeb
nisse liefert, in Richtung auf höhere Drücke begrenzt.
Aufgabe der Erfindung ist es also, einen Drucksensor
nach dem Penning-Prinzip der oben angegebenen Art so zu
verbessern, daß der Meßbereich bis zu 1 mbar oder sogar
darüber hinaus erweitert werden kann. Dies würde es ermögli
chen, eine ausreichende Überlappung mit einem anderen Sen
sor, z. B. nach dem piezoelektrischen Prinzip zu erzielen,
dessen Meßbereich von Atmosphärendruck bis etwa 1 mbar
reicht, sodaß mit dieser Kombination der gesamte Druckbe
reich der klassischen Hochvakuumtechnik von 10-8 mbar bis zum
Atmosphärendruck erfaßt würde.
Dieses Ziel wird erfindungsgemäß dadurch erreicht,
daß der Zwischenraum zwischen den Elektroden Abmessungen von
höchstens 200 µm aufweist und daß die Elektroden, die Perma
nentmagnete und der Gesamtaufbau durch Dünnschichttechnolo
gie herstellbar werden.
Durch die Verkleinerung der Abmessungen wird nicht
nur der Meßbereich des Penning-Drucksensors um zwei bis drei
Zehnerpotenzen zu größeren Drücken hin erweitert, sondern
auch das Sensorvolumen deutlich verringert, was einerseits
die Realisierung in Dünnschichttechnologie erlaubt und
andrerseits wegen der geringen Elektrodenabstände eine
deutlich verringerte Hochspannung im Betrieb zuläßt.
Bezüglich von Merkmalen bevorzugter Ausführungsbei
spiele wird auf die Unteransprüche verwiesen.
Die Erfindung wird nun anhand eines bevorzugten
Ausführungsbeispiels mithilfe der beiliegenden Zeichnungen
näher erläutert.
Fig. 1 zeigt einen Schnitt durch einen erfindungs
gemäßen Drucksensor.
Fig. 2 zeigt von oben eine Ansicht dieses Sensors,
der mit einem Drucksensor für höhere Drücke bis zum Atmo
sphärendruck, z. B. nach dem piezoelektrischen Prinzip,
kombiniert ist, der in der gleichen Technologie realisiert
werden kann.
Der in der Fig. 1 gezeigte Drucksensor ist erfin
dungsgemäß wie ein Halbleiterchip durch Dünnschichttechnolo
gie hergestellt. Er besitzt eine n-leitende Trägerschicht 1
aus dotiertem Silizium, auf die eine isolierende Dünnschicht
2 aus Al2O3 aufgedampft ist. Durch diese beiden Schichten
verläuft ein Loch 3 von z. B. 500 µm Durchmesser. In die
Wände dieses Lochs sind Permanentmagnete 4, 5, 6, 7 einge
lassen, die paarweise einander gegenüberliegen. Die Form und
die Polarität dieser Magnete ist so gewählt, daß die Feldli
nien 15, 16 der beiden Magnete jedes Paars praktisch senk
recht zur Achse 8 des Lochs verlaufen und diese schneiden.
Die beiden Magnetpaare sind übereinander jeweils an Rand
einer der großen Oberflächen der Trägerschicht 1 angeordnet
und so polarisiert, daß die Feldlinien 15 des einen Paars 4,
5 den Feldlinien 16 des anderen Paars 6, 7 entgegengerichtet
sind. Es handelt sich hier also um eine sogenannte Doppel
plasmaanordnung, die an sich bekannt ist.
In das Loch ragt eine fingerartige Hochspannungselek
trode 9 koaxial zur Achse 8 hinein. Ihre Abmessungen und die
des Lochs 3 sind so gewählt, daß der Abstand zwischen der
Elektrode 9 und der Wand des Lochs 3 höchstens 200 µm be
trägt. Die Elektrode 9 wird von einer Scheibe 10 gehalten,
die auf der isolierenden Schicht 2 dicht aufliegt und zum
Anschluß einer Zuleitung 11 für die Hochspannung dient. Die
Trägerschicht 1 ist die andere Elektrode und liegt im Be
trieb auf Bezugspotential (Erde). Sie kann unmittelbar auf
einen Flansch in einer Wand 12 eines Behälters aufgesetzt
sein, dessen Druck gemessen werden soll.
Angesichts der außerordentlich geringen Abmessungen
des Sensors kann man die Ionisationsrate im Meßbereich
zwischen der Elektrode 9 und der Wand des Lochs 3 ohne
Erhöhung der Betriebsspannung vergrößern, indem entweder auf
die Wand des Lochs 3 oder auf die Oberfläche der Hochspan
nungselektrode 9 ein Alphastrahler 13, z. B. Radium aufge
bracht wird. Die hierfür erforderliche Menge strahlenden
Materials ist so gering, daß keine Strahlungsbelastung für
das Personal entsteht. Dies ist ein weiterer Vorteil des
erfindungsgemäßen Sensors gegenüber bekannten Penning-Senso
ren, deren Abmessungen im cm-Bereich liegen und die gefähr
lich große Mengen strahlenden Materials erforderlich machen
würden.
Der erfindungsgemäße Drucksensor läßt sich voll
ständig durch Verfahren herstellen, die für hochintegrierete
Halbleiterchips entwickelt wurden und in den letzten Jahren
weite Anwendungsgebiete erobert haben. So können insbesonde
re auch die vier Magnete (oder nur zwei Magnete im Fall
eines einfachen Penning-Sensors) durch gezielte Zerstäubung
(Sputtering) von magnetischem Material in hierfür in der
Trägerschicht vorgesehene Räume realisiert werden. Auch das
Loch 3 und die Elektrode 10 können auf diese Weise herge
stellt werden.
Dann bietet sich weiter an, auf demselben Chip, d. h.
in der Trägerschicht 1 neben den Penning-Sensor, wie Fig. 2
zeigt, einen weiteren Drucksensor 14 anzubringen, dessen
Druckmeßbereich sich mit dem des Penning-Sensors etwas
überlappt und der bis zum Atmosphärendruck reicht. Hier
handelt es sich beispielsweise um einen piezoelektrischen
oder kapazitiven Drucksensor oder um ein Pirani-Manometer.
Man könnte auch für die Speisung der Elektroden und
die Auswertung des gemessenen Stroms erforderliche Elek
tronikelemente wie Gleichrichter, Verstärker, A/D-Wandler
auf dem Chip unterbringen und schon bei der Fertigung des
Chips integrieren. Dies ergäbe erhebliche Kostenvorteile,
falls große Stückzahlen erforderlich werden.
Schließlich ist es auch möglich, eine Lichtleitfaser
bis in den Zwischenelektodenraum des Penning-Sensors zu
bringen, um das ionisierte Gas im Bereich der Magnete zu
beobachten und analysieren zu können. Dadurch läßt sich das
Meßergebnis des Penning-Drucksensors, das an sich von der
Art des vorliegenden Gases abhängt, genauer interpretieren.
Die Erfindung ist nicht auf das im einzelnen darge
stellte Ausführungsbeispiel beschränkt. So ist es auch
möglich, eine Dünnschichtstruktur anzugeben, bei der die
Achse des Hohlraums, in dem die Entladung stattfindet,
parallel zur Fläche der Trägerschicht verläuft, wobei dann
der Ionisationsstrom senkrecht dazu fließt. Man kann auch
statt der Gleichspannung eine Wechselspannung zur Speisung
der Elektroden einsetzen, wodurch die Zündspannung des
Ionisationsplasmas erniedrigt würde.
Claims (5)
1. Drucksensor nach dem Penning-Prinzip, bestehend
aus zwei im Betrieb auf unterschiedlichen Potentialen lie
genden Elektroden (1, 9), deren Zwischenraum dem zu messen
den Druck ausgesetzt ist, und aus mindestens einem Perma
nentmagneten (4, 5, 6, 7), dessen Feld in diesem Zwischen
raum zu einer Ionisierung führt, wobei der durch die Elek
troden fließende Strom als Maß für der Druck ausgewertet
wird, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenabstand
höchstens 200 µm beträgt und daß die Elektroden, der Perma
nentmagnet und der Gesamtaufbau mittels Dünnschicht-Techno
logie hergestellt sind.
2. Drucksensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß eine die im Betrieb auf Bezugspotential liegende
Elektrode bildende Trägerschicht ein durchgehendes zylin
drisches Loch (3) besitzt, das dem zu messenden Druck ausge
setzt ist und in das axial eine Hochspannungselektrode (9)
hineinragt, und daß in die Wand des Lochs (3) zwei Perma
nentmagnete (4, 5; 6, 7) so eingelassen sind, daß ihre
Hauptfeldlinien (15; 16) senkrecht durch die Lochachse (8)
verlaufen.
3. Drucksensor nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich
net, daß in die Wand des Lochs (3) vier Permanentmagnete (4,
5; 6, 7) derart eingelassen sind, daß jeweils die Hauptfeld
linien (15; 16) zwischen den einander gegenüberliegenden
Polen eines Paars in unterschiedlichen Höhen der Hochspan
nungselektrode (9) senkrecht durch die Lochachse (8) ver
laufen und die Polarität der Feldlinien (15, 16) der beiden
Paare einander entgegengerichtet ist.
4. Drucksensor nach Anspruch 2 oder 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Permanentmagnete (4, 6, 6, 7) in
entsprechende Räume am Rand des Lochs und der Trägerschicht
durch Zerstäubungstechnik (Sputtering) eingebracht sind.
5. Drucksensor nach einem beliebigen der Ansprüche 1
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine der Elektroden (9)
oberflächlich mit einer radioaktiven Substanz (13) zur
Erhöhung der Ionisationsrate versehen ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997134914 DE19734914C1 (de) | 1997-08-12 | 1997-08-12 | Vakuumsensor nach dem Penning-Prinzip |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997134914 DE19734914C1 (de) | 1997-08-12 | 1997-08-12 | Vakuumsensor nach dem Penning-Prinzip |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19734914C1 true DE19734914C1 (de) | 1998-12-10 |
Family
ID=7838747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1997134914 Expired - Fee Related DE19734914C1 (de) | 1997-08-12 | 1997-08-12 | Vakuumsensor nach dem Penning-Prinzip |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19734914C1 (de) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1648689B1 (de) * | 1966-05-09 | 1971-05-06 | Alcatel Sa | Kaltkatoden ionisationsmanometer |
US4902977A (en) * | 1989-01-10 | 1990-02-20 | University Of Utah | Multipactor pressure gauge for use as a noninvasive vacuum tube sensor |
EP0622621A2 (de) * | 1993-04-28 | 1994-11-02 | The Fredericks Company | Ionisationswandler mit sich gegenuberliegenden Magneten |
US5633465A (en) * | 1995-02-07 | 1997-05-27 | Kaufmann; James | Pirani pressure sensor |
-
1997
- 1997-08-12 DE DE1997134914 patent/DE19734914C1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1648689B1 (de) * | 1966-05-09 | 1971-05-06 | Alcatel Sa | Kaltkatoden ionisationsmanometer |
US4902977A (en) * | 1989-01-10 | 1990-02-20 | University Of Utah | Multipactor pressure gauge for use as a noninvasive vacuum tube sensor |
EP0622621A2 (de) * | 1993-04-28 | 1994-11-02 | The Fredericks Company | Ionisationswandler mit sich gegenuberliegenden Magneten |
US5633465A (en) * | 1995-02-07 | 1997-05-27 | Kaufmann; James | Pirani pressure sensor |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
NOSAKA, Toshikazu et.al.: Preparation of Pd thin film photo-cathodes using ion-beam sputtering * |
Thin Solid Films, Vol. 281-282, 1996, Elsevier, No. 1-2, S. 393-396 * |
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