DE19732683A1 - Herstellungsverfahren für eine Mehrbereichs-Flüssigkristallzelle - Google Patents
Herstellungsverfahren für eine Mehrbereichs-FlüssigkristallzelleInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für eine
Mehrbereichs-Flüssigkristallzelle und insbesondere ein
Herstellungsverfahren für eine Mehrbereichs-
Flüssigkristallzelle, bei der der Direktor des Flüssigkristalls
mit Hilfe einer mit linear polarisiertem Licht bestrahlten
Ausrichtungsschicht ausgerichtet wird.
Flüssigkristallanzeigen (LCDs, Liquid Crystal Displays) weisen
im allgemeinen zwei transparente Substrate auf, zwischen denen
Flüssigkristallmaterial eingespritzt ist. Das
Flüssigkristallmaterial (LC-Material) weist typischerweise
asymmetrische Moleküle auf, wobei die gemittelte Richtung der
jeweiligen langen Achse der Moleküle als Direktor des LC-
Materials bezeichnet wird. Der Direktor des Flüssigkristalls
ist durch die azimutale Haftenergie der Flüssigkristallmoleküle
an dem Substrat bestimmt und teilweise durch die Achsen der
energetisch günstigsten Ausrichtung charakterisiert, die der
geringsten Oberflächenenergie des Flüssigkristalls entspricht.
Ein zusätzlicher Parameter, der den Direktor charakterisiert,
ist der Kippwinkel zwischen dem Direktor und der Ebene der
Substrat fläche.
Um eine gleichmäßige Helligkeit und ein hohes
Kontrastverhältnis der LCD zu erreichen, müssen die
Flüssigkristallmoleküle geeignet, d. h. gleichmäßig,
ausgerichtet sein, nachdem sie zwischen die Substrate der
Anzeige eingespritzt sind.
Die Ausrichtung der Flüssigkristallmoleküle wird mit Hilfe
einer Ausrichtungsschicht auf der Oberfläche des Substrats
erzielt. Es ist bevorzugt, daß die Ausrichtungsschicht eine
Mehrzahl von Bereichen mit unterschiedlichen Ausrichtungen
aufweist. Falls eine Mehrzahl von Zweierbereichen, d. h. zwei
Bereichen mit unterschiedlichen Ausrichtungen, auf der
Oberfläche der Ausrichtungsschicht ausgebildet sind, kann ein
unverändertes Bild in einem großen Bereich des
Betrachtungswinkels erzielt werden. Sowohl der Wert des
Kippwinkels des Direktor, als auch die Richtung des Direktors
(d. h. die Richtung der energetisch günstigsten Ausrichtung)
sind für den Betrieb von Flüssigkristallvorrichtungen mit
Zweierbereichen wie auch für Flüssigkristallvorrichtungen mit
Mehrbereichsstrukturen wichtig.
Die Ausrichtungsschicht wird typischerweise durch Aufbringen
eines speziell behandelten Polymers auf die Oberfläche der
Substrate der Anzeige hergestellt. Gemäß eines herkömmlichen
Verfahrens wird eine homogene Ausrichtung mit Hilfe eines auf
dem Polymer durchgeführten Reibverfahrens erzielt, bei dem in
der Polymerschicht mechanisch Mikrorillen erzeugt werden, mit
Hilfe derer die Ausrichtung erfolgt. Somit werden die
Flüssigkristallmoleküle homogen, d. h. gleichmäßig, aufgrund der
zwischenmolekularen Wechselwirkung zwischen dem Polymer der
Ausrichtungsschicht und den Flüssigkristallmolekülen
ausgerichtet.
Bei dem oben beschriebenen Reibverfahren werden jedoch in den
Mikrorillen Defekte gebildet, die zur Streuung von Licht und zu
statistischen Phasenveränderungen des Lichtes führen. Ferner
werden Staub und elektrostatische Aufladungen auf der
Ausrichtungsschicht erzeugt, so daß das Substrat beschädigt
werden kann und die Produktausbeute verringert ist.
Die Ausrichtung eines Flüssigkristalls durch Bestrahlen eines
lichtempfindlichen Polymers mit polarisiertem ultravioletten
(UV) Licht ist als Alternative zu dem Reibverfahren
vorgeschlagen worden (M. Schadt et al., Jpn. J. Appl. Phys.,
31 (1992), S. 2155; T. Marusii und Yu. Reznikov et al., Mol.
Master., 39 (1993), S. 161). Die Fähigkeit dieser
lichtempfindlichen Materialien, Festkörpermoleküle
auszurichten, ist durch ihre lichtinduzierten anisotropen
Eigenschaften bestimmt. Bei der Erfindung wird das
Fotoausrichtungsverfahren verwendet, um eine Anordnung von
Bereichen zu erzielen, in denen die Achsen der energetisch
günstigsten Ausrichtung in zwei möglichen, zueinander
orthogonalen Richtungen liegen können.
Materialien auf der Grundlage von Polyvinylcinnamat,
Polysiloxan und Polyamid sind die gängigsten Materialien für
Fotoausrichtungsschichten für Flüssigkristallanzeigen. Die
Richtungen der Achsen der energetisch günstigsten Ausrichtung
in der Fläche des Ausrichtungsmaterials sind, wie oben
beschrieben, gewöhnlich senkrecht zur Polarisationsrichtung des
UV-Lichtes.
Solche herkömmlichen Fotoausrichtungsverfahren weisen gegenüber
den herkömmlichen Reibverfahren gewisse Vorteile auf.
Insbesondere werden keine elektrostatischen Aufladungen und
kein Staub auf der Oberfläche der Ausrichtungsschicht, wie bei
dem Reibverfahren, erzeugt. Ferner ist es durch geeignete
Belichtung des lichtempfindlichen Polymers möglich, die
Richtung der Achse der energetisch günstigsten Ausrichtung auf
der Oberfläche der Ausrichtungsschicht und den Wert der
azimutalen Haftenergie zu steuern. Ferner kann eine
vorbestimmte Direktorverteilung in einer Flüssigkristallzelle
erzeugt werden.
Fotoausrichtungsverfahren können ebenfalls verwendet werden, um
eine Mehrzahl von zweierbereichen oder Mehrbereichsstrukturen
herzustellen. Bei einem solchen Verfahren (M. Schadt et al.,
Jpn. J. Appl. Phys., 31 (1992), S. 2155; T. Marusii und Yu.
Reznikov et al., Mol. Master., 39 (1993), S. 161) wird ein
erstes lichtempfindliches Substrat zuerst in einer Richtung
gerieben, und danach wird das Substrat durch eine Maske
hindurch mit polarisiertem Licht bestrahlt, um die Achse der
energetisch günstigsten Ausrichtung so einzustellen, daß sie im
rechten Winkel zur Reiberichtung verläuft. Wenn die
Flüssigkristallzelle zusammengebaut wird und
Flüssigkristallmoleküle zwischen das erste Substrat und das
zweite, mit dem Polymer beschichtete Substrat eingespritzt
wird, das in die gleiche Richtung wie das lichtempfindliche
Material gerieben wurde, werden die Flüssigkristallmoleküle mit
einer Verdrehung von 90° in den den transparenten Bereichen der
Maske entsprechenden Bereichen ausgerichtet. Anstatt einer
Maske kann ein bilderzeugendes optisches System in der Ebene
des Substrates verwendet werden. Der Hauptnachteil dieses
Verfahrens liegt darin, daß ein Verfahrensschritt erforderlich
ist, in dem die Ausrichtungsschicht gerieben wird, was zur
Bildung von Staub und elektrostatischen Aufladungen als auch
zur Bildung von fehlerhaften Mikrorillen auf der Oberfläche der
Ausrichtungsschicht führt.
Gemäß eines anderen Verfahrens (P. Shenon et al. (Nature, 368
(1994), S. 532) wird anstatt des Reibens der Oberfläche der
Fotoausrichtungsschicht die Oberfläche mit polarisiertem Licht
belichtet, um eine anfängliche Ausrichtung zu erzielen. Bei
diesem Verfahren treten die oben genannten Nachteile nicht auf,
es weist jedoch andere Nachteile auf. Für dieses Verfahren sind
nämlich zwei Belichtungsschritte erforderlich, in denen Licht
mit zueinander orthogonalen Polarisationsrichtungen
eingestrahlt wird. Aus diesem Grund ist ein Umbau der für
dieses Verfahren verwendeten Belichtungsvorrichtung
erforderlich.
Durch die Erfindung wird ein einfaches Verfahren zum Erzeugen
von Zweierbereichsstrukturen in einer Flüssigkristallzelle
bereitgestellt, welches Verfahren die Nachteile der
herkömmlichen Verfahren vermeidet. Ferner werden durch die
Erfindung Zweierbereichsstrukturen in einer Ausrichtungsschicht
mit einem Fotoausrichtungsverfahren erzeugt, ohne daß die bei
dem Verfahren verwendete Belichtungsvorrichtung umgebaut werden
muß.
Es hat sich gezeigt, daß die in Fotoausrichtungsverfahren
erzielte anfängliche Achse der energetisch günstigsten
Ausrichtung von gewissen Polymeren sich scharf um 90° ändert,
wenn die pro Flächeneinheit absorbierte Energie des linear
polarisierten eingestrahlten Lichtes einen gewissen
Schwellenwert übersteigt.
Durch die Erfindung wird ein Verfahren zum Steuern der
Ausrichtung bereitgestellt, welches Verfahren folgende Schritte
aufweist: Beschichten eines Substrats mit einer
Ausrichtungsschicht aus einem lichtempfindlichen Material;
Bestrahlen der Ausrichtungsschicht mit linear polarisiertem
Licht, so daß in der Ausrichtungsschicht pro Flächeneinheit
eine erste Energie absorbiert wird und dadurch eine erste
Ausrichtung erzielt wird; Bestrahlen der Ausrichtungsschicht
mit linear polarisiertem Licht, so daß in der
Ausrichtungsschicht pro Flächeneinheit eine zweite Energie
absorbiert wird und dadurch eine zweite Ausrichtung erzielt
wird, wobei die zweite Ausrichtung zur ersten Ausrichtung
senkrecht ist.
Ferner weist ein Herstellungsverfahren für eine
Mehrbereichsflüssigkristallzelle unter Verwendung eines
Substrats, bei dem die Ausrichtung gemäß dem oben beschriebenen
Verfahren gesteuert wird, folgende Schritte auf: Beschichten
eines ersten Substrats mit einer ersten Ausrichtungsschicht,
und Beschichten eines zweiten Substrats mit einer zweiten
Ausrichtungsschicht; Bestrahlen der ersten Ausrichtungsschicht
und der zweiten Ausrichtungsschicht mit linear polarisiertem
Licht, um unterschiedliche Ausrichtungen zu erzeugen, abhängig
von der in dem jeweiligen Bereich absorbierten Energie pro
Flächeneinheit; Zusammenbauen der Zelle aus den beiden
Substraten, wobei die Ausrichtungsschichten einander
gegenüberliegend angeordnet werden; und Einspritzen von
Flüssigkristallmaterial zwischen das erste Substrat und das
zweite Substrat. Die in dem jeweiligen Bereich absorbierte
Lichtenergie pro Flächeneinheit kann durch Veränderung der
Bestrahlungsintensität oder Veränderung der Bestrahlungsdauer
gesteuert werden.
Gemäß eines anderen Gesichtspunktes der Erfindung weisen die
lichtempfindlichen Materialien für die Ausrichtungsschicht
Polymere auf, die aus den Fig. 1 bis 4 ersichtlich sind.
Die Zeichnung, aus der bevorzugte Ausführungsformen der
Erfindung ersichtlich sind, dient zusammen mit der folgenden
Beschreibung zur näheren Erläuterung der Prinzipien der
Erfindung.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 die chemische Struktur des bei dieser Erfindung
verwendeten Fotoausrichtungsmaterials PSCN-1;
Fig. 2 die chemische Struktur des bei dieser Erfindung
verwendeten Fotoausrichtungsmaterials PSCN-2;
Fig. 3 die chemische Struktur des bei dieser Erfindung
verwendeten Fotoausrichtungsmaterials PSCN-3;
Fig. 4 die chemische Struktur des bei dieser Erfindung
verwendeten Fotoausrichtungsmaterials PSCN-4;
Fig. 5 eine Vorrichtung zum erfindungsgemäßen Steuern der
Ausrichtung;
Fig. 6 eine perspektivische Teilansicht der Vorrichtung aus
Fig. 5;
Fig. 7 einen Schnitt, aus der eine erfindungsgemäße
Zweierbereichs-TN-Struktur (TN: Twisted Nematic, verdreht
nematisch) ersichtlich ist; und
Fig. 8 einen Graph, aus dem die Abhängigkeit der Ausrichtung
von der absorbierten Lichtenergie pro Flächeneinheit
ersichtlich ist.
Es hat sich gezeigt, daß sich bei gewissen Materialien die
Achse der Ausrichtung in Abhängigkeit von der Intensität des
eingestrahlten Lichtes und/oder der Belichtungsdauer ändert,
d. h. die Ausrichtung ist abhängig von der in der
Ausrichtungsschicht absorbierten Lichtenergie pro
Flächeneinheit. Aus Fig. 8 ist z. B. die Abhängigkeit der
Ausrichtung, die durch den Winkel Φ zwischen dem Direktor und
der Polarisationsrichtung des einfallenden Lichtes gegeben ist,
und der in der Ausrichtungsschicht aus einem Material, wie z. B.
PSCN-1, pro Flächeneinheit absorbierten Lichtenergie
ersichtlich. Anfänglich sind die Moleküle statistisch verteilt.
Wie aus Fig. 8 ersichtlich, ist dann nach einer kurzen
Belichtungsdauer bei einer absorbierten Lichtenergie pro
Flächeneinheit, die unter einem bestimmten Bereich W liegt, der
Winkel Φ im wesentlichen Null. Im Bereich W jedoch ist der
Winkel Φ instabil und von 0 und 90° verschieden. Deshalb kann
die Richtung der Ausrichtungsachse gemäß der pro Flächeneinheit
absorbierten Lichtenergie D variieren. Es gilt die Beziehung
D = Iexp × texp, wobei Iexp die Intensität des einfallenden
Lichtes ist und texp die Belichtungsdauer ist. Zum Beispiel kann
die Richtung der Ausrichtung eines normalen
Flüssigkristallmoleküls, das in Kontakt mit einer
Ausrichtungsschicht aus einem Material, wie z. B. PSCN-1, steht,
sich um 90° ändern, wenn die pro Flächeneinheit absorbierte
Lichtenergie des einfallenden Lichtes einen bestimmten Wert
übersteigt.
Insbesondere führt die Bestrahlung von PSCN-1 (s. Fig. 1) mit
ungefiltertem polarisierten Licht von einer
Quecksilberdampflampe (Hg-Lampe) mit einer Intensität von
Iexp = 2 mW/cm² bei einer Wellenlänge von 250 nm für eine
Belichtungszeit texp = 5 min zu einer Energie pro Flächeneinheit
von D = 0,6 J/cm², was zu einer Ausrichtung der Achse e der
energetisch günstigsten Ausrichtung parallel zur
Polarisationsrichtung Eexp des Lichtes führt. Im Gegensatz dazu
ist die Ausrichtung für Belichtungsdauern texp = tthr < 10 min
(Dthr = 1,2 J/cm²) orthogonal zu Eexp. In dem Zwischenbereich
wurde keine stabile Ausrichtung gefunden.
Anstatt einer Belichtung für die Dauer texp, ist es möglich, um
den gleichen Effekt zu erreichen, die Intensität des Lichtes
Iexp zu verändern. Dementsprechend kann z. B. PSCN-1 eine
lichtinduzierte Achse e der energetisch günstigsten Ausrichtung
parallel zu Eexp nach einer Belichtungsdauer texp = 5 min bei
einer Intensität Iexp = 2 mW/cm² aufweisen. Eine Richtung
orthogonal zur Polarisationsrichtung kann jedoch bei gleicher
Belichtungsdauer texp = 5 min mit einer Intensität von
Iexp = 4 mW/cm² erzielt werden.
Ferner kann die für die Richtungsänderung erforderliche
Belichtungsdauer effektiv durch Dotieren des Materials PSCN-1
gesteuert werden, das nur eine Achse e der energetisch
günstigsten Ausrichtung aufweist. Ferner ist nur eine geringere
Belichtungsintensität erforderlich, wenn PSCN-1 mit 10
Gewichts-% des Fotoausrichtungsmittels PSCN-2 (Fig. 2) dotiert
ist. Somit kann mit der halben Schwellenenergie pro
Flächeneinheit Dthr eine stabile Achse e der energetisch
günstigsten Ausrichtung senkrecht zu Eexp erzielt werden, wie
oben beschrieben. Somit kann die oben beschriebene Mischung aus
PSCN-1 und PSCN-2 für 5 Minuten mit einer Intensität von
1 mW/cm² belichtet werden, um eine Ausrichtung parallel zur
Polarisationsrichtung des einfallenden Lichtes einzustellen,
und für 10 Minuten mit einer Intensität von
1 mW/cm² belichtet werden, um eine Ausrichtung senkrecht zur
Polarisationsrichtung des Einfallen des Lichtes einzustellen.
Der gleiche Effekt wurde für andere
Fotoausrichtungsmaterialien, wie PSCN-3 und PSCN-4 gefunden,
deren jeweilige chemische Struktur aus Fig. 3 bzw. aus Fig. 4
ersichtlich ist.
Erfindungsgemäß können somit diese sowie andere Materialien
verwendet werden, um die Richtung der Achse e der energetisch
günstigsten Ausrichtung auf einer Oberfläche einer
Ausrichtungsschicht durch Veränderung der eingestrahlten
Lichtenergie pro Flächeneinheit zu steuern, um eine
Zweierbereichsstruktur in einer Flüssigkristallzelle zu
erzielen. Ferner können Mehrbereichs-LCDs mit einem großen
Betrachtungswinkelbereich hergestellt werden, wobei die
Gesamtzahl der für das Herstellungsverfahren erforderlichen
Fotomasken verringert ist, und bei welchem Verfahren das
verwendete optische System bzw. die verwendete
Belichtungsvorrichtung während der Herstellung der Bereiche
nicht umgebaut werden muß. Ferner kann die Erfindung verwendet
werden, um hochauflösende optische Informationsspeicherzellen
herzustellen, bei denen die Information in Form der Ausrichtung
der Achse e der energetisch günstigsten Ausrichtung kodiert
ist.
Aus Fig. 5 ist schematisch eine Vorrichtung zum
erfindungsgemäßen Steuern der Ausrichtung einer
Ausrichtungsschicht ersichtlich. Ein Substrat 60 ist mit einem
lichtempfindlichen Material 50 beschichtet, das bevorzugt eine
Richtung der Achse e der energetisch günstigsten Ausrichtungen
für die Flüssigkristallmoleküle aufweist, die abhängig von der
absorbierten Lichtenergie D pro Flächeneinheit von
polarisiertem eingestrahlten UV-Licht drehbar ist. Das
lichtempfindliche Material 50 wird mit von einer
Quecksilberdampflampe 10 kommendem und durch eine Linse 20,
einen Polarisator 30 und eine Fotomaske 40, die nah an dem
Substrat 60 angeordnet ist, hindurchtretenden Licht bestrahlt.
Wie aus Fig. 6 ersichtlich, weist die Fotomaske 40 erste
Bereiche mit einer ersten Lichtdurchlässigkeit T₁ und zweite
Bereiche mit einer zweiten Lichtdurchlässigkeit T₂ auf. Die
durch die ersten Bereiche der Fotomaske 40 während der
Belichtungsdauer transmittierte Energie pro Flächeneinheit ist
bevorzugt geringer als die Schwellenenergie pro Flächeneinheit
Dthr (Schwellenlichtenergie pro Flächeneinheit, oberhalb derer
die Ausrichtung senkrecht zu Eexp ist), aber ausreichend, um
eine erste Ausrichtung parallel zu Eexp in den den ersten
Bereichen der Fotomaske entsprechenden ersten Bereichen der
lichtempfindlichen Schicht 50 zu erzielen. Die durch die
zweiten Bereiche der Fotomaske 40 während der Belichtungsdauer
transmittierte Energie pro Flächeneinheit ist bevorzugt größer
als die Schwellenenergie pro Flächeneinheit Dthr, so daß eine
zweite Ausrichtung senkrecht zu Eexp in den den zweiten
Bereichen der Fotomaske entsprechenden zweiten Bereichen der
lichtempfindlichen Schicht 50 erzielt wird. Daher weisen die
ersten Bereiche der Schicht 50 eine Achse e der energetisch
günstigsten Ausrichtung der Flüssigkristallmoleküle auf, die
parallel zu Eexp ist, und die zweiten Bereiche weisen eine Achse
e der energetisch günstigsten Ausrichtung der
Flüssigkristallmoleküle auf, die senkrecht zu Eexp ist.
Gemäß einer anderen Ausführungsform der Erfindung werden der
erste Bereich der lichtempfindlichen Schicht 50 und der zweite
Bereich der lichtempfindlichen Schicht 50 durch derartiges
Steuern der Belichtungsdauer hergestellt, daß die zum
Herstellen zueinander orthogonaler Achsen der energetisch
günstigsten Ausrichtung erforderlichen Voraussetzungen erreicht
werden. Das bedeutet, daß das Substrat durch eine Fotomaske mit
im wesentlichen lichtundurchlässigen Bereichen und mit im
wesentlichen lichtdurchlässigen Bereichen hindurch belichtet
wird. In einem ersten Verfahrensschritt wird die gesamte
lichtempfindliche Schicht 50 ohne Maske so lange belichtet, bis
die erste Ausrichtung Eexp aus gebildet ist. Dann werden in einem
zweiten Verfahrens schritt unter Verwendung einer Maske nur die
den lichtdurchlässigen Bereichen der Maske entsprechenden
Bereiche der lichtempfindlichen Schicht 50 so lange belichtet,
bis in diesen Bereichen die zweite Ausrichtung Eper eingestellt
wurde, die senkrecht zur ersten Ausrichtung Eexp ist. Daher
weisen die Bereiche der lichtempfindlichen Schicht 50, die
während des zweiten Verfahrensschrittes nicht belichtet wurden,
die erste Ausrichtung parallel zu Eexp auf, wohingegen Bereiche,
die während des zweiten Verfahrensschrittes durch die
lichtdurchlässigen Bereiche der Maske hindurch belichtet
wurden, die zweite Ausrichtung Eper senkrecht zu Eexp aufweisen.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann auch für die Speicherung
von Informationen in einer Flüssigkristallzelle verwendet
werden, bei der optische Informationen als binärer Code durch
die Erzeugung von Pixeln mit Flüssigkristallmolekülen
gespeichert werden, die senkrecht zueinander ausgerichtet sind.
Erfindungsgemäß kann eine Zweibereichs-Flüssigkristallzelle mit
einem großen Betrachtungswinkelbereich erzielt werden. Aus
Fig. 7 ist eine schematische Darstellung einer
erfindungsgemäßen Zweibereichs-TN-Struktur ersichtlich. Jeder
Bereich der Zweibereichs-TN-Struktur trägt zu einem Teilbereich
des Gesamtbetrachtungswinkelbereichs bei, so daß ein
unverändertes Bild in einem großen Bereich des
Betrachtungswinkels erzielbar ist.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung
unter Bezugnahme auf spezielle Ausführungsbeispiele
beschrieben. Im Rahmen der Erfindung sind verschiedene
Abänderungen möglich. Zum Beispiel kann als Abänderung des
vorgeschlagenen Verfahrens ein Lichtstrahl, der in einem Scan-
Verfahren rasterweise über die Ausrichtungsschicht geführt
wird, anstatt einer Bestrahlung durch eine Fotomaske hindurch
verwendet werden. In diesem Fall kann die Intensität des
Strahls variiert werden, um eine geeignete Energie pro
Flächeneinheit auf entsprechende Bereiche der
lichtempfindlichen Schicht einzustrahlen.
Es wurde eine Lösung aus dem Polymermaterial PSCN-1 in einer
1 : 1-Mischung aus 1,2-Dichlorethan und Chlorbenzol hergestellt.
Die Konzentration des Polymers betrug 10 g/l. Dann wurde eine
Polymerschicht in einem Aufschleuderverfahren (spin-coating)
mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 2500 Umdrehungen/Minute
auf ein Substrat aufgebracht. Das mit der Polymerschicht
beschichtete Substrat wurde nach dem Zentrifugieren bei einer
Temperatur von 200°C für 2 Stunden ausgeheizt.
Das Substrat wurde dann in dem aus Fig. 5 ersichtlichen Aufbau
angeordnet. Die Quecksilberdampflampe 10 diente als Lichtquelle
für das UV-Licht, und die Gesamtleistung des UV-Lichtes in der
Ebene der Fotomaske betrug 2 mW bei einer Wellenlänge von
250 nm. Ferner wurde eine Fotomaske mit einem
Zweierbereichsmuster mit "lichtdurchlässigen" Bereichen und mit
"halblichtdurchlässigen" Bereichen angeordnet. Die
quadratischen Pixel der Maske wiesen eine Größe 4 mm × 4 mm
auf. Die belichtete Fläche der Fotomaske betrug 2 cm × 3 cm.
Die Lichtdurchlässigkeit der "lichtdurchlässigen" Bereiche
betrug 85%, wohingegen die Lichtdurchlässigkeit der
"halblichtdurchlässigen" Bereiche 30% betrug. Das Substrat
wurde für 10 Minuten belichtet.
Nach dem Belichten und Trocknen des Substrates wurde die
Flüssigkristallzelle unter Verwendung einer herkömmlichen
Sandwich-Technik derart zusammengesetzt, daß sie einen Spalt
von 50 µm aufwies. Die Zelle wurde bei Raumtemperatur mit
Flüssigkristallmaterial ZLI 4801-000 gefüllt, und die
Ausrichtung wurde mit einem Polarisationsmikroskop gemessen. Es
wurde festgestellt, daß die Ausrichtung in den den
"lichtdurchlässigen" Bereichen der Fotomaske entsprechenden
Bereichen der Polymerschicht senkrecht zu der Ausrichtung in
den den "halblichtdurchlässigen" Bereichen der Fotomaske
entsprechenden Bereichen der Polymerschicht war.
Das Verfahren gemäß dem 2. Beispiel entspricht dem des 1.
Beispiel abgesehen davon, daß die lichtempfindlichen
Materialien 20% PSCN-2 und 80% PSCN-1 aufwiesen. Die
Substrate wurden für 5 min belichtet, und es wurde das gleiche
Ergebnis wie im ersten Beispiel erzielt.
Das Verfahren gemäß dem 3. Beispiel entspricht dem des 1.
Beispiels abgesehen davon, daß PSCN-3 als lichtempfindliches
Material verwendet wurde. Die Zelle wurde bei einer höheren
Temperatur von 100°C mit Flüssigkristallmaterial ZLI 4801-000
gefüllt, wobei der Flüssigkristall in seiner isotropen Phase
eingespritzt wurde. Die Substrate wurden für 16 min belichtet,
und es wurde das gleiche Ergebnis wie im 1. Beispiel erzielt.
Das Verfahren gemäß dem 4. Beispiel entspricht dem des 1.
Beispiels, abgesehen davon, daß die Zelle bei einer höheren
Temperatur von 100°C mit Flüssigkristall ZIL 4801-000 gefüllt
wurde, wobei der Flüssigkristall in seiner isotropen Phase
eingespritzt wurde. Die Substrate wurden für 20 min belichtet,
und es wurde das gleiche Ergebnis wie im 1. Beispiel erzielt.
Die Substrate wurden zuerst wie im 1. Beispiel vorbereitet.
Zuerst wurden die gesamten Substrate ohne Fotomaske für 5 min
belichtet. Dann wurden die Substrate durch eine Fotomaske mit
einer Zweierbereichsstruktur für 10 Minuten belichtet. Die
Fotomaske wies eine Pixel-Struktur mit einander abwechselnden
im wesentlichen lichtundurchlässigen und im wesentlichen
lichtdurchlässigen Bereichen auf, wobei jedes quadratische
Pixel eine Fläche von 4 mm × 4 mm aufwies, und der gesamte
belichtete Bereich der Fotomaske
2 cm × 2 cm aufwies. Die Lichtdurchlässigkeit der im
wesentlichen lichtdurchlässigen Bereiche betrug 98%, und die
Lichtdurchlässigkeit der im wesentlichen lichtundurchlässigen
Bereiche betrug 1%. Dann wurde die Fotomaske entfernt, und die
Flüssigkristallzelle wurde zusammengesetzt und mit
Flüssigkristallmaterial ZLI 4801-000, wie im 1. Beispiel
beschrieben, gefüllt. Es wurde das gleiche Ergebnis wie im
ersten Beispiel erzielt.
Zwei Substrate wurden nacheinander mit einer durchsichtigen
Elektrodenschicht beschichtet, und Fotoausrichtungsmaterial
wurde, wie im 1. Beispiel beschrieben, vorbereitet. Die
Substrate wurden durch eine Fotomaske mit einem
Schachbrettmuster von "halblichtdurchlässigen" (T = 30%) und
"lichtdurchlässigen" ( T = 85%) quadratischen Bereichen
hindurch belichtet, wobei die Größe der Bereiche 3 mm × 3 mm
betrug. Das Substrat wurde für 15 Minuten belichtet. Die
Flüssigkristallzelle wurde derart zusammengesetzt, daß sie
einen Spalt von 5 µm sowie eine TN-Struktur aufwies. Die Zelle
wurde bei einer höheren Temperatur von 100°C mit
Flüssigkristall ZIL 4801-000 gefüllt wurde, wobei der
Flüssigkristall in seiner isotropen Phase eingespritzt wurde.
Es wurde das gleiche Ergebnis wie im 1. Beispiel erzielt.
Claims (13)
1. Herstellungsverfahren für ein Flüssigkristallzellenpaneel
mit unterschiedlichen anfänglichen
Flüssigkristallausrichtungen, wobei das Verfahren folgende
Schritte aufweist:
Bereitstellen eines Paneels mit einem Substrat (60), das mit einer lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) beschichtet ist, die Material aufweist, deren Fotoausrichtung durch die in dem Material pro Flächeneinheit absorbierten Lichtenergie von eingestrahltem linear polarisierten Licht steuerbar ist;
Bestrahlen erster Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht, so daß eine erste Lichtenergie pro Flächeneinheit von der Ausrichtungsschicht (50) absorbiert wird, so daß in den ersten Bereichen eine erste Ausrichtung erzielt wird; und
Bestrahlen zweiter Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht, so daß eine zweite Lichtenergie pro Flächeneinheit absorbiert wird, wobei die zweite Lichtenergie pro Flächeneinheit von der ersten Lichtenergie pro Flächeneinheit verschieden ist, so daß eine zweite Ausrichtung in den zweiten Bereichen der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) erzielt wird, die von der Ausrichtung in den ersten Bereichen der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) verschieden ist.
Bereitstellen eines Paneels mit einem Substrat (60), das mit einer lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) beschichtet ist, die Material aufweist, deren Fotoausrichtung durch die in dem Material pro Flächeneinheit absorbierten Lichtenergie von eingestrahltem linear polarisierten Licht steuerbar ist;
Bestrahlen erster Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht, so daß eine erste Lichtenergie pro Flächeneinheit von der Ausrichtungsschicht (50) absorbiert wird, so daß in den ersten Bereichen eine erste Ausrichtung erzielt wird; und
Bestrahlen zweiter Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht, so daß eine zweite Lichtenergie pro Flächeneinheit absorbiert wird, wobei die zweite Lichtenergie pro Flächeneinheit von der ersten Lichtenergie pro Flächeneinheit verschieden ist, so daß eine zweite Ausrichtung in den zweiten Bereichen der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) erzielt wird, die von der Ausrichtung in den ersten Bereichen der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50) verschieden ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei
in dem Schritt des Bestrahlens der ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) bestrahlt werden, die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine erste Bestrahlungsdauer bestrahlt werden; und
in dem Schritt des Bestrahlens der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine zweite Bestrahlungsdauer bestrahlt werden, die von der ersten Bestrahlungsdauer verschieden ist.
in dem Schritt des Bestrahlens der ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) bestrahlt werden, die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine erste Bestrahlungsdauer bestrahlt werden; und
in dem Schritt des Bestrahlens der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine zweite Bestrahlungsdauer bestrahlt werden, die von der ersten Bestrahlungsdauer verschieden ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei
in dem Schritt des Bestrahlens der ersten Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht mit einer ersten Intensität für eine vorbestimmte Dauer bestrahlt werden; und
in dem Schritt des Bestrahlens der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für die gleiche Bestrahlungsdauer wie im vorangegangenen Schritt mit einer zweiten Intensität bestrahlt werden, die von der ersten Intensität verschieden ist.
in dem Schritt des Bestrahlens der ersten Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht mit einer ersten Intensität für eine vorbestimmte Dauer bestrahlt werden; und
in dem Schritt des Bestrahlens der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für die gleiche Bestrahlungsdauer wie im vorangegangenen Schritt mit einer zweiten Intensität bestrahlt werden, die von der ersten Intensität verschieden ist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, wobei die Schritte des
Bestrahlens der erste Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) und
der zweiten Bereich der Ausrichtungsschicht (50) gleichzeitig
durchgeführt werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4 mit folgenden Schritten:
Anordnen einer Fotomaske (40) mit ersten Bereichen mit einer ersten Lichtdurchlässigkeit, die auf die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind und mit zweiten Bereichen mit einer zweiten Lichtdurchlässigkeit, die auf die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind, über dem Substrat (60), wobei die erste Lichtdurchlässigkeit von der zweiten Lichtdurchlässigkeit verschieden ist; und
Bestrahlen der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht durch die Fotomaske (40) hindurch, so daß das Licht auf die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit der ersten Intensität fällt und das Licht auf die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit der zweiten Intensität fällt.
Anordnen einer Fotomaske (40) mit ersten Bereichen mit einer ersten Lichtdurchlässigkeit, die auf die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind und mit zweiten Bereichen mit einer zweiten Lichtdurchlässigkeit, die auf die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind, über dem Substrat (60), wobei die erste Lichtdurchlässigkeit von der zweiten Lichtdurchlässigkeit verschieden ist; und
Bestrahlen der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht durch die Fotomaske (40) hindurch, so daß das Licht auf die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit der ersten Intensität fällt und das Licht auf die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit der zweiten Intensität fällt.
6. Verfahren nach Anspruch 2, wobei die Bestrahlungsschritte
folgende Schritte aufweisen:
Bestrahlen der ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) und der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine erste Bestrahlungsdauer;
und
Bestrahlen der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine dritte Bestrahlungsdauer die im wesentlichen gleich der Differenz zwischen der zweiten Bestrahlungsdauer und der ersten Bestrahlungsdauer ist,
wobei zwischen den Bestrahlungsschritten eine Fotomaske (40) mit ersten Bereichen mit einer ersten Lichtdurchlässigkeit, die auf die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind, und mit zweiten Bereichen mit einer zweiten Lichtdurchlässigkeit, die auf die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind, über der Ausrichtungsschicht (50) angeordnet wird, wobei die erste Lichtdurchlässigkeit von der zweiten Lichtdurchlässigkeit verschieden ist und die erste Lichtdurchlässigkeit im wesentlichen null und die zweite Lichtdurchlässigkeit im wesentlichen eins ist.
Bestrahlen der ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) und der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine erste Bestrahlungsdauer;
und
Bestrahlen der zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) mit linear polarisiertem Licht für eine dritte Bestrahlungsdauer die im wesentlichen gleich der Differenz zwischen der zweiten Bestrahlungsdauer und der ersten Bestrahlungsdauer ist,
wobei zwischen den Bestrahlungsschritten eine Fotomaske (40) mit ersten Bereichen mit einer ersten Lichtdurchlässigkeit, die auf die ersten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind, und mit zweiten Bereichen mit einer zweiten Lichtdurchlässigkeit, die auf die zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) ausgerichtet sind, über der Ausrichtungsschicht (50) angeordnet wird, wobei die erste Lichtdurchlässigkeit von der zweiten Lichtdurchlässigkeit verschieden ist und die erste Lichtdurchlässigkeit im wesentlichen null und die zweite Lichtdurchlässigkeit im wesentlichen eins ist.
7. Verfahren nach Anspruch 1 mit folgenden Schritten:
Einstrahlen eines Lichtstrahls aus linear polarisiertem Licht auf einen der ersten Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50), so daß eine ersten Lichtenergie pro Flächeneinheit absorbiert wird;
Einstrahlen des Lichtstrahls auf einen der zweiten Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50), und Verändern des Lichtstrahls derart, daß eine zweite Lichtenergie pro Flächeneinheit absorbiert wird;
Wiederholen dieser Bestrahlungsschritte, so daß alle ersten Bereiche und alle zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) nacheinander mit dem Strahl überstrichen werden.
Einstrahlen eines Lichtstrahls aus linear polarisiertem Licht auf einen der ersten Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50), so daß eine ersten Lichtenergie pro Flächeneinheit absorbiert wird;
Einstrahlen des Lichtstrahls auf einen der zweiten Bereiche der lichtempfindlichen Ausrichtungsschicht (50), und Verändern des Lichtstrahls derart, daß eine zweite Lichtenergie pro Flächeneinheit absorbiert wird;
Wiederholen dieser Bestrahlungsschritte, so daß alle ersten Bereiche und alle zweiten Bereiche der Ausrichtungsschicht (50) nacheinander mit dem Strahl überstrichen werden.
8. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das
eingestrahlte linear polarisierte Licht ultraviolettes Licht
ist.
9. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die
erzielten Ausrichtungen des Flüssigkristalls in den beiden
Bereichen senkrecht zueinander sind.
10. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die
lichtempfindliche Ausrichtungsschicht (50) Material aus
folgender Gruppe aufweist:
11. Verwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 10
zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeige.
12. Verwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 10
zur Herstellung einer Flüssigkristallvorrichtung zum Speichern
binärer Informationen in einer lichtempfindlichen Schicht (50).
13. Herstellungsverfahren für eine Mehrbereichs-
Flüssigkristallzelle mit folgenden Schritten:
Bereitstellen eines Paneels mit einem ersten Substrat (60), das mit einer ersten Ausrichtungsschicht (50) beschichtet ist;
Bereitstellen eines zweiten Paneels mit einem zweiten Substrat (60), das mit einer zweiten Ausrichtungsschicht (50) beschichtet ist;
Zusammensetzen des ersten, das erste Substrat (60) aufweisenden Paneels mit dem zweiten, das zweite Substrat (60) aufweisende Paneels derart, daß die erste Ausrichtungsschicht (50) und die zweite Ausrichtungsschicht (50) einander gegenüberliegend angeordnet werden; und
Einspritzen von Flüssigkristallmaterial zwischen das erste Substrat (60) und das zweite Substrat (60);
wobei wenigstens eines der Paneele mit den Substraten gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 hergestellt ist.
Bereitstellen eines Paneels mit einem ersten Substrat (60), das mit einer ersten Ausrichtungsschicht (50) beschichtet ist;
Bereitstellen eines zweiten Paneels mit einem zweiten Substrat (60), das mit einer zweiten Ausrichtungsschicht (50) beschichtet ist;
Zusammensetzen des ersten, das erste Substrat (60) aufweisenden Paneels mit dem zweiten, das zweite Substrat (60) aufweisende Paneels derart, daß die erste Ausrichtungsschicht (50) und die zweite Ausrichtungsschicht (50) einander gegenüberliegend angeordnet werden; und
Einspritzen von Flüssigkristallmaterial zwischen das erste Substrat (60) und das zweite Substrat (60);
wobei wenigstens eines der Paneele mit den Substraten gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 hergestellt ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960030940A KR100247137B1 (ko) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | 멀티도메인 액정셀의 제조방법 |
KR96-30940 | 1996-07-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19732683A1 true DE19732683A1 (de) | 1998-02-05 |
DE19732683B4 DE19732683B4 (de) | 2005-10-13 |
Family
ID=19467853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19732683A Expired - Lifetime DE19732683B4 (de) | 1996-07-29 | 1997-07-29 | Herstellungsverfahren für eine Mehrbereichs-Flüssigkristallzelle |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5853818A (de) |
JP (1) | JP3934214B2 (de) |
KR (1) | KR100247137B1 (de) |
DE (1) | DE19732683B4 (de) |
FR (1) | FR2751764B1 (de) |
GB (1) | GB2315875B (de) |
Families Citing this family (40)
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- 1996-07-29 KR KR1019960030940A patent/KR100247137B1/ko not_active IP Right Cessation
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- 1997-03-11 US US08/815,110 patent/US5853818A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-14 GB GB9714832A patent/GB2315875B/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-24 FR FR9709423A patent/FR2751764B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-29 JP JP20351197A patent/JP3934214B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-29 DE DE19732683A patent/DE19732683B4/de not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-07-01 US US09/108,229 patent/US6593986B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9714832D0 (en) | 1997-09-17 |
GB2315875B (en) | 1999-11-24 |
FR2751764A1 (fr) | 1998-01-30 |
FR2751764B1 (fr) | 2003-06-06 |
US6593986B2 (en) | 2003-07-15 |
GB2315875A (en) | 1998-02-11 |
KR100247137B1 (ko) | 2000-03-15 |
US5853818A (en) | 1998-12-29 |
US20030112395A1 (en) | 2003-06-19 |
KR980010523A (ko) | 1998-04-30 |
DE19732683B4 (de) | 2005-10-13 |
JPH1078584A (ja) | 1998-03-24 |
JP3934214B2 (ja) | 2007-06-20 |
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Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: LG PHILIPS LCD CO., LTD., SEOUL/SOUL, KR |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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R071 | Expiry of right |