DE19729522C2 - Anordnung zum Aufbau einer Solarzelle für polykristalline oder amorphe Halbleiter - Google Patents
Anordnung zum Aufbau einer Solarzelle für polykristalline oder amorphe HalbleiterInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zum Aufbau einer Solar
zelle für polykristalline oder amorphe Halbleiter.
Es sind verschiedene Anordnungen von Solarzellen mit
einkristallinen, polykristallinen oder amorphen Halbleitern
bekannt. Es gibt Solarzellen, deren Ladungsträgertrennung in
der Raumladungszone eines pn oder pin-Überganges stattfindet
(R. Paul, Optoelektronische Halbleiterbauelemente, 2. Auflage,
B. G. Teubner, Stuttgart, 1992, S. 313 ff.). Ebenfalls sind
Solarzellen nach dem MIS-Prinzip bekannt, wo die Ladungstren
nung in der durch das Gate erzeugten Raumladungszone stattfin
det (M. Y. Doghish, F. D. Ho: A Comprehensive Analytical Model
for MIS Devices, IEEE Transactions on Electron Devices, Vol.
39, pp. 2771, Dec. 1992). Auch gibt es modifizierte
Solarzellen mit MIS-Struktur, die zusätzlich das durch eine
positive Festladung erzeugte Driftfeld zur Ladungstrennung
nutzt (DE 41 11 184 A1, DE 38 31 857 C2). Darüber hinaus gibt
es Stapelanordnungen bei Solarzellen, in denen Materialien mit
unterschiedlicher Bandlücke zur besseren Ausnutzung des
Lichtspektrums übereinander gestapelt werden.
Nachteilig bei den bekannten Lösungen von Solarzellen ist zum
einen der technologisch aufwendig herzustellende pn- bzw. pin-
Übergang. Weiterhin nachteilig bei den bekannten Lösungen ist,
daß nicht die gesamte Halbleiterschicht zur Generierung des
Photostroms beiträgt. Bei Solarzellen, deren
Ladungsträgertrennung mit Hilfe eines durch eine Oxidladung
erzeugten Driftfeldes bewerkstelligt wird, ist die niedrige
Leerlaufspannung von Nachteil.
Die Aufgabe der Erfindung besteht nun darin, eine technolo
gisch einfach herstellbare Solarzelle mit hohem Wirkungsgrad
zu schaffen, bei der eine vollständige Nutzung der Halblei
terschicht für die Generierung des Photostroms erfolgt.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch eine Solarzelle mit
den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Durch zwei
Isolatorschichten, die jeweils eine hohe Festladung enthalten,
wobei die zweite Isolatorschicht zur ersten Isolatorschicht
entgegengesetzt (antipolar) geladen ist, wird die aktive
Halbleiterschicht nach außen hin begrenzt. Zur Kontaktierung
derselben existieren Kontaktlöcher in der jeweiligen
Isolatorschicht, die einen elektrischen Kontakt mit der sich
über der jeweiligen Isolatorschicht befindlichen Leitschicht
ermöglichen. Die Kontaktlöcher selbst sind mit dem
Halbleitermaterial der aktiven Schicht, mit dem Material der
jeweiligen Leitschicht oder mit beiden Materialien ausgefüllt.
Sowohl die Isolator- als auch die Leitschichten sind optisch
transparent.
Die Vorteile der Erfindung bestehen in einer technologisch
einfach und kostengünstig herstellbaren Solarzelle mit gutem
Wirkungsgrad.
Durch die Kombination zweier antipolar geladener Isolator
schichten wird aufgrund der mit einer negativen Festladung
versehenen Isolatorschicht eine stärkere positive Bandverbiegung
am Grundkontakt ohne Hoch-Dotierung erreicht, was zu
einer erhöhten Leerlaufspannung der Solarzelle führt.
Mittels Nutzung geeigneter Werkstoffe für die Isolatorschich
ten und für die Leitschichten - z. B. Indium-Zinn-Oxid (ITO) -
wird die Solarzelle mit Ausnahme der aktiven Schicht
weitgehend transparent, so daß entsprechend dem Anspruch 2
eine vertikale Stapelung mehrerer der hier manifestierten
Solarzellen möglich ist.
Weiterhin ist es durch das stärkere von den zueinander antipo
lar geladenen Isolatorschichten erzeugte Driftfeld möglich,
trotz größerer Dicke der aktiven Schicht eine annähernd voll
ständige Ladungstrennung von Löchern und Elektronen bei geeig
neter aktiver Halbleiterschicht zu bewirken, da die Diffusi
onslänge bei entsprechender hoher Driftfeldstärke die Dicke
der aktiven Halbleiterschicht übersteigt.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden näher
beschrieben und in den Abbildungen aufgezeigt.
Es zeigen:
Fig. 1 Anordnung einer Solarzelle und
Fig. 2 Stapelanordnung der Solarzelle.
Bei der Anordnung nach Fig. 1 befindet sich auf einem
transparenten Substrat eine 100 nm dicke Leitschicht CL1 aus
Indium-Zinn-Oxid (ITO). Auf dieser Leitschicht befindet sich
eine 200 nm dicke Oxidschicht IL1, die mit Protonen (H+) der
Dichte 5.1017 cm-3, positiv aufgeladen ist. Darüber befindet
sich eine polykristalline Siliziumschicht SL mit
ausschließlich senkrechten Korngrenzen mit einer Dicke von 460 nm.
Sie ist p-leitend, Dichte = 1.1014 cm-3. Auf der
Halbleiterschicht SL befindet sich eine 200 nm dicke
Oxidschicht IL2, die negativ (Dichte 5.1016 cm-3) aufgeladen
ist. Beide Oxidschichten besitzen ein Kontaktloch CH. Die
Kontaktlöcher sind bei den Leitschichten CL1 und CL2 mit ITO
aufgefüllt. Über der negativ geladenen Oxidschicht befindet
sich eine zweite ITO-Schicht CL2 von 100 nm Dicke.
Die Anordnung arbeitet auf folgende Weise:
Die sich an den Korngrenzen befindenden Grenzflächenladungen und die Festladungen der Oxidschichten erzeugen Raumladungszo nen (Verarmungszonen), die die Körner der Siliziumschicht je nach lateraler Korngröße weitgehend frei von beweglichen Ladungsträgern räumen. Tritt Licht in die auf das Substrat gemäß Fig. 1 aufgebrachten Schichten ein, so werden in der Halbleiterschicht durch Absorption von Photonen freie Ladungs träger (Elektronen, Löcher) generiert. Bei erfolgender optischer Generation freier Elektronen und Löcher werden diese sofort im Feld der antipolaren Oxidladungen getrennt. Auf diese Weise entsteht eine n-Inversionsschicht unter der positiv geladenen Oxidschicht und eine Löcher-Anreicherungs schicht unter der negativ geladenen Oxidschicht. Die in den jeweiligen Schichten angesammelten Ladungsträger können dann die Halbleiterschicht durch die Kontaktlöcher in die jeweilige Leitschicht verlassen. Zumindest eine der Leitschichten dient als optisch transparente Kontaktierung. Die Leitschichten können wiederum mit Kontaktfingern nach außen hin kontaktiert und so zu größeren Solarzellenverbunden zusammengefaßt werden. Durch die sich einstellenden unterschiedlichen Elektronendichten in den Leitschichten entsteht eine Potentialdifferenz, die bei Schließung eines externen Stromkreises zwischen den Leit schichten einen Stromfluß bewirken.
Die sich an den Korngrenzen befindenden Grenzflächenladungen und die Festladungen der Oxidschichten erzeugen Raumladungszo nen (Verarmungszonen), die die Körner der Siliziumschicht je nach lateraler Korngröße weitgehend frei von beweglichen Ladungsträgern räumen. Tritt Licht in die auf das Substrat gemäß Fig. 1 aufgebrachten Schichten ein, so werden in der Halbleiterschicht durch Absorption von Photonen freie Ladungs träger (Elektronen, Löcher) generiert. Bei erfolgender optischer Generation freier Elektronen und Löcher werden diese sofort im Feld der antipolaren Oxidladungen getrennt. Auf diese Weise entsteht eine n-Inversionsschicht unter der positiv geladenen Oxidschicht und eine Löcher-Anreicherungs schicht unter der negativ geladenen Oxidschicht. Die in den jeweiligen Schichten angesammelten Ladungsträger können dann die Halbleiterschicht durch die Kontaktlöcher in die jeweilige Leitschicht verlassen. Zumindest eine der Leitschichten dient als optisch transparente Kontaktierung. Die Leitschichten können wiederum mit Kontaktfingern nach außen hin kontaktiert und so zu größeren Solarzellenverbunden zusammengefaßt werden. Durch die sich einstellenden unterschiedlichen Elektronendichten in den Leitschichten entsteht eine Potentialdifferenz, die bei Schließung eines externen Stromkreises zwischen den Leit schichten einen Stromfluß bewirken.
Der Schichtaufbau der Solarzelle ist in Fig. 1 dargestellt:
optisch transparentes Substrat S / optisch transparente Leit
schicht CL1; Die transparente Leitschicht CL1 kann als Kon
taktmedium in das Kontaktloch CH hinein eingebracht werden /
mit Festladungen versetzte Isolatorschicht IL1 mit Kontaktloch
CH, welches die gleiche Halbleiterkonfiguration enthält wie
die Halbleiterschicht SL, sofern nicht als Kontaktmedium die
transparente Leitschicht CL1 ins Kontaktloch bis zur Grenzflä
che Leitschicht ChL1|Halbleiterkonfiguration im Kontaktloch
eingebracht wurde / polykristalline oder amorphe Halbleiter
schicht SL / mit zur Festladung der Isolatorschicht IL1 anti
polaren Festladungen versetzte Isolatorschicht IL2 mit
Kontaktloch CH, welches die gleiche Halbleiterkonfiguration
enthält wie die Halbleiterschicht SL, sofern nicht als
Kontaktmedium die transparente Leitschicht CL2 ins Kontaktloch
bis zur Grenzfläche Leitschicht CL2|Halbleiterkonfiguration im
Kontaktloch CH eingebracht wurde / transparente Leitschicht
CL2; Die transparente Leitschicht CL2 kann als Kontaktmedium
in das Kontaktloch CH hinein eingebracht werden. Die Leit
schichten CL1 und CL2 können wiederum mit Kontaktfingern nach
außen hin kontaktiert und so zu größeren Solarzellenverbunden
zusammengefaßt werden.
In Fig. 2 sind mehrere solcher Anordnungen zur Erhöhung der
Photonenabsorption übereinander gestapelt. Durch die
Abstimmung der Schichten untereinander wird ein hoher Grad an
Mehrfachreflektionen zwischen den verschiedenen Schichten
erzielt, der zu einer Absorption der meisten Photonen des
Solarspektrums in der Halbleiterschicht führt sowie die
Reflektion an der Eintrittsoberfläche gering hält. Durch die
elektrische Verbindung der aneinander grenzenden
Kontaktschichten (CL1, CL2) werden die gestapelten Solarzellen
elektrisch in Reihe geschaltet.
Claims (2)
1. Anordnung für den Aufbau einer Solarzelle mit
- a) einem Substrat (S) als Basismaterial;
- b) einer auf dem Substrat angeordneten optisch transparenten ersten Leitschicht (CL1);
- c) einer auf der ersten Leitschicht angeordneten ersten Isolatorschicht (IL1) mit Kontaktlöchern (CH), die eine feste, nicht umladbare elektrische Ladung enthält;
- d) einer auf der Isolatorschicht angeordneten polykristallinen oder amorphen Halbleiterschicht (SL), die p- oder n-leitend ist;
- e) einer auf der Halbleiterschicht angeordneten zweiten Isolatorschicht (IL2) mit Kontaktlöchern, die eine feste nicht umladbare elektrische Ladung enthält, die antipolar zu der Ladung der ersten Isolatorschicht (IL1) ist; und
- f) einer auf der zweiten Isolatorschicht angeordneten optisch transparenten zweiten Leitschicht (CL2),
- g) wobei die Kontaktlöcher von einem Halbleiter der gleichen Konfiguration wie die Halbleiterschicht oder dem Material der Leitschicht oder von einem Halbleiter der gleichen Konfiguration wie die Halbleiterschicht und dem Material der Leitschicht ausgefüllt sind.
2. Anordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß auf der zweiten Isolatorschicht (IL2) Anordnungen mit
den Merkmalen b) bis g) n-fach übereinander gestapelt
sind. (Fig. 2)
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1997
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PAUL, R.: Optoelektronische Halbleiterbauelemente,2. Aufl., Stuttgart 1992, S. 313 ff * |
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