DE19649201A1 - Elektronenstrahlanalyse - Google Patents
ElektronenstrahlanalyseInfo
- Publication number
- DE19649201A1 DE19649201A1 DE1996149201 DE19649201A DE19649201A1 DE 19649201 A1 DE19649201 A1 DE 19649201A1 DE 1996149201 DE1996149201 DE 1996149201 DE 19649201 A DE19649201 A DE 19649201A DE 19649201 A1 DE19649201 A1 DE 19649201A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electron
- particles
- detection
- material sample
- analysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/142—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using a solid target which is not previously vapourised
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Analyse einer
Materialprobe, bei der Teilchen unter Energiezufuhr von der
Probe abgetrennt und qualitativ (elementselektiv) bzw.
quantitativ nachgewiesen werden. Die Erfindung betrifft ferner
eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Es sind verschiedene Analyseverfahren bekannt, bei denen unter
Vakuumbedingungen einer Materialprobe Energie derart zugeführt
wird, daß sich Teilchen von der Materialoberfläche lösen. Die
Teilchen können dann mit einem geeigneten Nachweisverfahren
analysiert werden. Als Nachweis ist ein Verfahren geeignet,
mit dem ein spezifisches Merkmal der nachzuweisenden Teilchen
meß- oder quantifizierbar ist. Zu den spezifischen Merkmalen
zählen insbesondere die Teilchenmassen (Massenspektrometrie)
oder charakteristische Wechselwirkungen mit elektromagne
tischer Strahlung (Spektroskopie).
Um ein solches Analyseverfahren ortsaufgelöst durchführen zu
können, wird die Energie der Materialprobe vorzugsweise in
Form eines fokussierbaren Teilchenstrahls zugeführt. Bei der
Sekundär-Ionen-Massenspektroskopie (SIMS) werden mittels eines
Ionenstrahls Atome aus dem zu analysierenden Material
herausgeschlagen (sogenanntes Sputtern) und in einem Massen
spektrometer entsprechend ihrer Masse sortiert und quantifi
ziert (Zählung). Die Nachweisgrenze bei SIMS liegt im Bereich
von 10-6 (ppm) bis zu (10-9) (ppb). Das SIMS-Verfahren ist
jedoch hinsichtlich der erreichbaren Ortsauflösung beschränkt.
Mit Ionenstrahlen sind Ortsauflösungen der Größenordnung von
1 µm bis 0,1 µm erreichbar. Damit lassen sich jedoch nicht
kleinste Strukturen untersuchen, wie sie zum Beispiel in
Festkörpern an Korngrenzen, an Kristalliten in nanokristal
linem Material und bei mikroskopischen Phasentrennungen
auftreten.
Da aber gerade im Bereich der kleinsten Festkörperstrukturen
aufgrund von deren elektronischen oder optischen Eigenschaften
in jüngster Zeit ein besonderes Interesse besteht, besteht
auch ein Bedarf nach einem Analyseverfahren mit verbesserter
Ortsauflösung.
Eine hohe Ortsauflösung ist mit bekannten elektronenspektros
kopischen Untersuchungsmethoden erreichbar. Die Fokussier
barkeit von Elektronenstrahlen erlaubt eine Ortsauflösung bis
zu Größenordnungen kleiner oder gleich 1 nm. Die elektronen
spektroskopischen Untersuchungsmethoden umfassen z. B.
elektronenmikroskopische Untersuchungen, Elektronenbeugungs
untersuchungen, Elektronen-Energieverlustspektroskopie (EELS)
und die Elektronenstrahlmikroanalyse (ESNA).
Der Nachteil elektronenspektroskopischer Untersuchungsmethoden
ist der prinzipiell hohe Untergrund. Dies macht die Analyse
insbesondere dann unmöglich, wenn die Konzentration der
interessierenden Elemente sehr gering ist (<10-3 at%). Hier
sind Untersuchungsmethoden unter Verwendung von Ionenstrahlen
wesentlich empfindlicher. Weiterhin ist die Analyse sehr
leichter Elemente (H, He, Li, Be, B, C, O) mit den elektronen
spektroskopischen Verfahren entweder sehr schwierig oder
überhaupt nicht möglich. Grundsätzlich stammt das detektierte
Signal aus dem Probenvolumen, so daß eine tiefauflösende
Analyse nicht möglich ist.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein verbessertes Analysever
fahren und eine Vorrichtung zu dessen Durchführung bereit
zustellen, die sowohl eine hohe Ortsauflösung als auch eine
hohe Nachweisempfindlichkeit besitzen und die für den Nachweis
einer großen Anzahl von chemischen Elementen (möglichst von
allen chemischen Elementen) geeignet sind.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren bzw. eine Vorrichtung
mit den Merkmalen gemäß den Patentansprüchen 1 bzw. 7 gelöst.
Vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung ergeben sich aus
den Unteransprüchen.
Die Erfindung basiert auf der Idee, eine bisher typischerweise
mit Ionenstrahlen durchgeführte Vorgehensweise mit Elektronen
strahlen zu realisieren. Obwohl die Elektronenmasse viel
geringer als die Massen von Ionen in Ionenstrahlen ist und
daher ein weniger effektiver Teilchenabtrag zu erwarten ist,
sind Elektronenstrahlen dennoch zum Abt rennen von genügend
vielen Teilchen innerhalb praktikabler Analysezeiten geeignet.
Damit wird erstmalig ein Analyseverfahren ermöglicht, das die
hervorragende Nachweisempfindlichkeit herkömmlicher Ionen-
Sputterverfahren mit der hohen Ortsauflösung bekannter
elektronenspektroskopischen Untersuchungsmethoden verbindet.
Das erfindungsgemäße Analyseverfahren wird vorzugsweise unter
Verwendung eines Transmissionselektronenmikroskops durch
geführt, in dem zunächst eine Fokussierung eines Elektronen
strahls auf einen interessierenden Materialbereich (Aus
scheidung, Korngrenze, Kristallit oder dergl.) erfolgt.
Anschließend werden die erforderlichen Strahlparameter
Elektronenstrom, Elektronendichte und dergl. eingestellt, so
daß sich Teilchen von der Probe abtrennen lassen. Die abge
trennten Teilchen können Atome oder Atomgruppen umfassen.
Während der Abtrennung werden die frei werdenden Teilchen zum
Beispiel mittels einer Saugspannung in ein Massenspektrometer
überführt und dort in an sich bekannter Weise analysiert. Es
ist ersatzweise möglich, z. B. eine optisch spektroskopische
Analyse der abgetrennten Teilchen vorzunehmen.
Zur Realisierung einer praktikablen Meßzeit ist es wichtig,
daß die abgetrennten Teilchen (Sekundärteilchen) zu einem
möglichst großen Teil geladen sind. Falls die Sekundärteilchen
überwiegend ungeladen sind (z. B. bei der Analyse von
Metallen), so erfolgt nach der Abtrennung vorzugsweise eine
Nachionisierung, so daß ebenfalls die Überführung in ein
Massenspektrometer unter Wirkung einer Saugspannung ermöglicht
wird. Die Nachionisierung kann einer Laser- oder Elektronen
bestrahlung erfolgen.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Analyseverfahrens wird dieses mit herkömmlichen TEM-Verfahren
(Abbildung mit bis zu atomarer Auflösung, Elektronenbeugung,
EDX, EELS) kombiniert.
Eine erfindungsgemäße Vorrichtung enthält eine Elektronen
strahlquelle zur Bestrahlung einer Materialprobe derart, daß
von der Probe Teilchen abgetrennt werden. Die Vorrichtung kann
insbesondere ein Elektronenmikroskop (z. B. TEM) sein, das mit
einem geeigneten Analysesystem versehen ist.
Die Erfindung besitzt die folgenden Vorteile:
Die Fokussierbarkeit der Elektronenstrahlen stellt eine her vorragende Ortsauflösung sicher, die mit Ionenstrahlen bislang nicht erreichbar ist. Bei Kombination des erfindungsgemäßen Analyseverfahrens mit herkömmlichen TEM-Beobachtungsverfahren kann unmittelbar beobachtet werden, wo die Analyse statt findet. Diese Beobachtungsmöglichkeit, die bei Ionenstrahl methoden nicht gegeben ist, verbessert die Effektivität und Zuverlässigkeit der Analyse. Mit der Elektronenbestrahlung kann durch eine geeignete Wahl der Beschleunigungsspannung eine Veränderung des Materialvolumens vollständig vermieden werden. Dies ist bei den Ionenstrahlmethoden, bei denen Material nicht nur von der Probenoberfläche abgetragen wird, nicht der Fall. Ferner sind mit dem erfindungsgemäßen Analyse verfahren auch sehr leichte Elemente (z. B. Wasserstoff) nachweisbar. Außerdem sind von SIMS bekannte Techniken auf die erfindungsgemäße Analyse übertragbar. So läßt sich aufgrund des kontinuierlichen Materialabtrags eine tiefenauflösende Analyse durchführen (sogenannte "Tomographie").
Die Fokussierbarkeit der Elektronenstrahlen stellt eine her vorragende Ortsauflösung sicher, die mit Ionenstrahlen bislang nicht erreichbar ist. Bei Kombination des erfindungsgemäßen Analyseverfahrens mit herkömmlichen TEM-Beobachtungsverfahren kann unmittelbar beobachtet werden, wo die Analyse statt findet. Diese Beobachtungsmöglichkeit, die bei Ionenstrahl methoden nicht gegeben ist, verbessert die Effektivität und Zuverlässigkeit der Analyse. Mit der Elektronenbestrahlung kann durch eine geeignete Wahl der Beschleunigungsspannung eine Veränderung des Materialvolumens vollständig vermieden werden. Dies ist bei den Ionenstrahlmethoden, bei denen Material nicht nur von der Probenoberfläche abgetragen wird, nicht der Fall. Ferner sind mit dem erfindungsgemäßen Analyse verfahren auch sehr leichte Elemente (z. B. Wasserstoff) nachweisbar. Außerdem sind von SIMS bekannte Techniken auf die erfindungsgemäße Analyse übertragbar. So läßt sich aufgrund des kontinuierlichen Materialabtrags eine tiefenauflösende Analyse durchführen (sogenannte "Tomographie").
Einzelheiten der Erfindung werden im folgenden unter Bezug auf
die beigefügte Figur beschrieben. Fig. 1 zeigt eine Block
darstellung einer Ausführungsform einer Vorrichtung zur Durch
führung des erfindungsgemäßen Analyseverfahrens.
Eine Vorrichtung 100 zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Analyseverfahrens ist im wesentlichen wie ein Transmissions
elektronenmikroskop aufgebaut, bei dem ein Elektronenstrahl
von einer Elektronenquelle 101 mit einer Fokussierungsoptik zu
der Probe 103 auf der Probenhalterung 102 gerichtet und der
von der Probe durchgelassene Teil des Elektronenstrahls mit
Beobachtungs- und Anzeigemitteln 107 als Transmissionsbild
darstellbar ist. Die Probenhalterung 102 und/oder der
Elektronenstrahl sind mit geeigneten Mitteln manipulierbar, so
daß eine Auswahl des bestrahlten Probenorts ermöglicht wird.
Zusätzlich zu den Komponenten eines Elektronenmikroskops ist
ein Analysesystem vorgesehen, das eine Spektrometereinrichtung
105 umfaßt. Die Spektrometereinrichtung 105 kann durch ein
herkömmliches Massenspektrometer mit entsprechender Teilchen
zuführung (Transferoptik 104) vom Probenort gebildet werden.
Für die Transferoptik 104 wird eine möglichst kleine Bauform
gewählt, um Platzprobleme zu vermeiden. Das Massenspektrometer
105 ist mit den üblichen Operationsmitteln (nicht dargestellt)
versehen. Um eine Analyse mit dem Massenspektrometer auch bei
ungeladenen Teilchen zu ermöglichen, kann eine Einrichtung 106
zur Nachionisierung vorgesehen sein.
Falls keine massenspektrometrische, sondern z. B. eine
optisch-spektroskopische Analyse vorgesehen ist, so kann das
Manipulierungsmittel z. B. durch eine Anregungslichtquelle
ersetzt werden.
Die Vorrichtung 100 kann ferner Systeme zur Durchführung
herkömmlicher elektronenspektroskopischer Untersuchungs
methoden (nicht dargestellt) umfassen.
Die Parameter des Elektronenstrahls werden so ausgewählt, daß
ein maximaler Abtrag realisiert und gleichzeitig keine
Schädigung des Materials im Probenvolumen verursacht wird. Die
Strahlstromdichte sollte möglichst hoch sein. Vorzugsweise
werden hierfür Schottky-Feldemissions-Elektronenquellen ein
gesetzt. Zur Untersuchung von Metallen oder Legierungen
beträgt die Elektronenstromdichte z. B. rd. 6.1023 Elek
tronen.m-2.s-1. Die zur Erzielung eines für die Ausgabe
ausreichenden Teilchenabtrags erforderliche Dosis kann im
Bereich von 1027 bis 1028 Elektronen.m2 liegen.
Die Erfindung ist nicht auf die Ausführungsform auf der
Grundlage eines Transmissionselektronenmikroskops beschränkt.
Es ist vielmehr auch möglich, das Elektronenstrahlsystem an
ein gegebenes Massenspektrometer anzupassen. Dies ist ins
besondere dann möglich, falls es bei der Untersuchung nicht
erforderlich ist, eine simultane Beobachtung des bestrahlten
Probenbereiches zu gewährleisten. Es kann vorgesehen sein, die
zu untersuchende Probe zu heizen. Dies hat insbesondere den
Vorteil, das die Absorption von Restgasen vermindert wird.
Anwendungen der Erfindung liegen im Bereich der Element
analyse, der Untersuchung von Adsorbaten auf dünnen Schichten
und der Charakterisierung von nanokristallinen Materialien.
Claims (9)
1. Verfahren zur Analyse einer Materialprobe, umfassend die
Schritte:
Abtrennung von Teilchen aus einem zu analysierenden Bereich der Materialprobe durch Energiezufuhr, und
Nachweis von Art und/oder Menge der abgetrennten Teilchen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Energiezufuhr durch eine Elektronenbestrahlung erfolgt.
Abtrennung von Teilchen aus einem zu analysierenden Bereich der Materialprobe durch Energiezufuhr, und
Nachweis von Art und/oder Menge der abgetrennten Teilchen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Energiezufuhr durch eine Elektronenbestrahlung erfolgt.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem die
Elektronenbestrahlung durch Fokussierung mindestens eines
Elektronenstrahls auf einen mit einem Elektronenmikroskop
beobachtbaren Teil der Materialprobe erfolgt.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem der Nachweis der
abgetrennten Teilchen mit einem Massenspektrometer erfolgt.
4. Verfahren gemäß Anspruch 3, bei dem die abgetrennten
Teilchen mit einem Ionisierungsmittel (106) vor dem
Nachweisschritt ionisiert werden.
5. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem der Nachweis mit
einem Mittel zur optisch-spektroskopischen Untersuchung der
abgetrennten Teilchen erfolgt.
6. Verfahren gemäß Anspruch 5, bei dem die abgetrennten
Teilchen für die optisch-spektroskopische Untersuchung einer
Bestrahlung unterzogen werden.
7. Vorrichtung zur Analyse einer Materialprobe, umfassend:
Mittel zur Zuführung von Energie zur Materialprobe derart, daß Teilchen aus einem zu analysierenden Bereich abtrennbar sind,
Mittel zum Nachweis von Art und/oder Mengen der abgetrennten Teilchen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Zuführung von Energie durch mindestens eine Elektronenstrahlquelle gebildet werden.
Mittel zur Zuführung von Energie zur Materialprobe derart, daß Teilchen aus einem zu analysierenden Bereich abtrennbar sind,
Mittel zum Nachweis von Art und/oder Mengen der abgetrennten Teilchen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Zuführung von Energie durch mindestens eine Elektronenstrahlquelle gebildet werden.
8. Vorrichtung gemäß Anspruch 7, bei der die Nachweismittel
durch ein Massenspektrometer gebildet werden.
9. Vorrichtung gemäß Anspruch 7, bei der die Nachweismittel
durch ein optisch-spektroskopisches Untersuchungsgerät
gebildet werden.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996149201 DE19649201A1 (de) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | Elektronenstrahlanalyse |
PCT/EP1997/006520 WO1998023946A1 (de) | 1996-11-27 | 1997-11-21 | Elektronenstrahlanalyse |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996149201 DE19649201A1 (de) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | Elektronenstrahlanalyse |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19649201A1 true DE19649201A1 (de) | 1998-05-28 |
Family
ID=7812957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1996149201 Withdrawn DE19649201A1 (de) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | Elektronenstrahlanalyse |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19649201A1 (de) |
WO (1) | WO1998023946A1 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2707980C1 (ru) * | 2019-05-16 | 2019-12-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии твердого тела Уральского отделения Российской академии наук | Способ формирования изображения поверхности объекта |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU331283A1 (de) * | О. Д. Сми Институт электросварки Е. О. Патова | |||
DE4108462C2 (de) * | 1991-03-13 | 1994-10-13 | Bruker Franzen Analytik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Ionen aus thermisch instabilen, nichtflüchtigen großen Molekülen |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5273788A (en) * | 1975-12-17 | 1977-06-21 | Hitachi Ltd | Silid analyzer capable of performing somultaneous counting |
US4442354A (en) * | 1982-01-22 | 1984-04-10 | Atom Sciences, Inc. | Sputter initiated resonance ionization spectrometry |
JPH01264153A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
JPH04322047A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-12 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡及び類似装置の二次電子または反射電子検出器 |
-
1996
- 1996-11-27 DE DE1996149201 patent/DE19649201A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-11-21 WO PCT/EP1997/006520 patent/WO1998023946A1/de active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU331283A1 (de) * | О. Д. Сми Институт электросварки Е. О. Патова | |||
DE4108462C2 (de) * | 1991-03-13 | 1994-10-13 | Bruker Franzen Analytik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Ionen aus thermisch instabilen, nichtflüchtigen großen Molekülen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1998023946A1 (de) | 1998-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60018932T2 (de) | Schichtdickenmessung mittels inelastischer elektronenstreuung | |
DE102008041815A1 (de) | Verfahren zur Analyse einer Probe | |
DE102008041813A1 (de) | Verfahren zur Analyse einer organischen Probe | |
DE102009036701A1 (de) | Teilchenstrahlsystem und Untersuchungsverfahren hierzu | |
EP2976627B1 (de) | Verfahren zur erzeugung von bilddaten eines objekts | |
EP0028322A1 (de) | Verfahren zum Erfassen und Identifizieren von mit Rohteilen oder Werkstücken in einer Fertigungslinie einhergehenden Materialzusammensetzungen und Fremdkörpern | |
DE2556291C3 (de) | Raster-Ionenmikroskop | |
DE68916168T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Analyse einer Oberfläche. | |
DE60132788T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung für lokale Oberflächenanalyse | |
DE102014212563B4 (de) | Messvorrichtung und Verfahren zum Bestimmen einer Positionsänderung eines Teilchenstrahls eines Rasterteilchenmikroskops | |
DE4036115A1 (de) | Verfahren und einrichtung zur quantitativen nichtresonanten photoionisation von neutralteilchen und verwendung einer solchen einrichtung | |
DE112004001895T5 (de) | Elektonenspektroskop mit Emission, die durch einen monochromatischen Elektronenstrahl induziert wird | |
DE69925131T2 (de) | Elektronenmikroskop | |
DE19649201A1 (de) | Elektronenstrahlanalyse | |
DE10050116A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Untersuchen einer Probe mit Hilfe von Röntgenfluoreszenzanalyse | |
DE2363581C2 (de) | Verfahren zur zerstörungsfreien chemischen Analyse | |
EP0423154B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur untersuchung von strukturen auf membranoberflächen | |
DE102020104151B3 (de) | Abbildungsvorrichtung für Elektronen und ein Abbildungsverfahren zur Reduktion des Untergrundsignals in abbildenden elektronenoptischen Geräten | |
DE4105467A1 (de) | Verfahren zur mikroflaechenanalyse mittels eines fokussierten caesium-ionenstrahls | |
DE2414221C3 (de) | Ionenoptisches Gerät zur Untersuchung der Oberfläche einer Probe durch IonenbeschuB und Analyse der vom beschossenen Oberflächenbereich ausgehenden Ionen | |
DE3490595C2 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Oberflächenanalyse | |
DE112004000338B4 (de) | System und Verfahren zum Verarbeiten identifizierter Metaboliten | |
DE19720458C1 (de) | Verfahren zur Analyse einer Probe | |
DE102008042179B4 (de) | Verfahren zur Analyse einer Probe | |
DE1204350B (de) | Elektronenmikroskop |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |