DE19643074C2 - Verfahren zur interferometrischen Prüfung von technischen Oberflächen - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur interferometrischen Prüfung von technischen Oberflächen.

Der Einsatz interferometrischer Meßverfahren zur Prüfung der Makrogeometrie von technischen Oberflächen ist meist auf Oberflächen mit hoher Genauigkeit beschränkt, da bei techni­ schen, d. h. rauhen, Oberflächen die interferometrischen Meß­ verfahren durch Speckle-Effekte deutlich beeinträchtigt wer­ den. Speckle-Effekte lassen sich reduzieren bzw. vermeiden, wenn man streifende Inzidenz verwendet. Technische Oberflä­ chen, wie Si-Wafer, werden schon in streifender Inzidenz ge­ prüft. Allerdings sind diese Verfahren auf ebene Oberflächen beschränkt.

Ein Verfahren, bei dem beliebige, aber regelmäßige Oberflä­ chen einer Messung mit hoher Genauigkeit zugänglich gemacht werden, ist in der deutschen Patentanmel­ dung DE 195 11 926 A1 mit dem Titel "Verfahren zur Prüfung technischer Oberflächen mit Hilfe von computergenerierten Ho­ logrammen" beschrieben. Dabei wird ein interferometrischer Transmissionsaufbau benutzt, bei dem das einfallende Licht nacheinander zwei computergenerierte Hologramme durchläuft. Das erste Hologramm zerlegt das einfallende kohärente Licht in mehrere Beugungsordnungen, von denen eine Beugungsordnung als Referenzwelle und eine andere als Prüflingswelle dient. Die Prüflingswelle wird in Richtung der Oberfläche gebeugt, dort reflektiert und durch das zweite Hologramm mit der Refe­ renzwelle wiedervereinigt, so daß ein niederfrequentes Inter­ ferenzmuster entsteht, welches die zu bestimmenden Formabwei­ chungen der Oberfläche in kodierter Form enthält. Durch die einfache Reflexion der Prüflingswelle an der Oberflä­ che erhält man eine Inversion der Prüflingswelle, während die Referenzwelle ihre ursprüngliche Gestalt beibehält. Die Inversion kann die Messung negativ beeinflussen, ins­ besondere wenn die einfallende Welle schon Wellenfronta­ berrationen aufweist. Durch eine Leermessung ohne Ober­ fläche kann dieser unerwünschte Effekt nicht kompensiert werden, da dann keine Reflexion der Prüflingswelle und somit keine Inversion auftritt. Nur durch eine Leermes­ sung mit einer idealen Oberfläche läßt sich der uner­ wünschte Effekt kompensieren. Dazu sind aber weitere Meß­ verfahren, wie Koordinatenmeßverfahren, erforderlich.

Eine weitere derartige interferometrische Meßanordnung ist auch in Thomas Dresel, Johannes Schwider, Alexander Wehrhahn, Sergej Babin, "Grazing incidence interferometry applied to the measurement of cylindrical surfaces", Optical Engineering, Vol. 34, No. 12, 3531-3535, 1995 angegeben. Diese Meßanordnung eignet sich für die Prüfung von Durch­ gangsbohrungen.

Auch aus der DD 106 769 ist eine Meßanordnung bekannt, bei der axial vor und hinter einem zylinderförmigen Prüf­ ling synthetische computererzeugte Transmissionshologram­ me angeordnet sind. Auch dabei wird eine ungebeugte Refe­ renzwelle mit der Prüflingswelle im hinteren Transmissi­ onshologramm vereinigt. Dadurch entsteht ein Interferenz­ muster, das bei der vorgesehenen Form des Prüflings eine gleichmäßige Ausleuchtung aufweist, während es bei Formabweichung ein davon abweichendes Interferenzmuster zeigt.

Aus der nachveröffentlichten WO 96/22505 A1 ist ein Verfah­ ren zur interferometrischen Prüfung von technischen Ober­ flächen bekannt, bei dem die Prüflingswelle nach dem Durchtritt durch ein erstes diffraktives optisches Ele­ ment an einer Reflexionsvorrichtung reflektiert und da­ nach wieder in das erste diffraktive optische Element zu­ rückgeworfen wird. Aus der WO 96/22505 ist es nicht be­ kannt, das erste diffraktive optische Elements in Abhän­ gigkeit der Idealgestalt der Oberfläche zu gestalten.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustel­ len, mit dem die Nachteile nach dem Stand der Technik be­ seitigt werden. Insbesondere soll ein Verfahren zur in­ terferometrischen Prüfung von technischen Oberflächen an­ gegeben werden, bei dem die Wellenfrontaberrationen der einfallenden Lichtwelle nicht die Maßgenauigkeit begren­ zen.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Patentanspruchs 1 gelöst. Zweckmäßige Weiterbildungen der Erfindungen sind in den Merkmalen der Patentansprüche 2 bis 27 wie­ dergegeben.

Interferenzmuster, die durch Wellenfrontfehler in Verbin­ dung mit einer Inversion zwischen Referenz- und Prüf­ lingswelle auftreten, werden durch das erfindungsgemäße Verfahren vermieden. Sowohl die Referenzwelle als auch die Prüflingswelle werden durch die Reflexionsvorrichtung in sich selbst reflektiert und durchlaufen den interfero­ metrischen Aufbau zweimal. Die Prüflingswelle wird zwei­ mal an der Oberfläche reflek­ tiert. Dadurch wird eine Inversion zwischen Referenz- und Prüflingswelle aufgehoben. Das erfindungsgemäße Verfahren ist somit selbstkompensierend bezüglich der Wellenfrontfehler der einfallenden Welle. Außerdem ist die Meßempfindlichkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens doppelt so groß wie bei den nach dem Stand der Technik bekannten Verfahren.

In der Zeichnung sind mehrere Ausführungsbeispiele von Vor­ richtungen zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt. Hier zeigen

Fig. 1 ein erstes Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens,

Fig. 2 eine Vorrichtung nach Fig. 1 mit einem optischen System zur anamorphotischen Entzerrung,

Fig. 3 ein zweites Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens,

Fig. 4 ein drittes Ausführungsbeispiel zur Durchführung des Verfahrens,

Fig. 5 eine Vorrichtung nach Fig. 4 mit einem optischen System zur anamorphotischen Entzerrung,

Fig. 6 eine Vorrichtung nach Fig. 5 mit einem weiteren Sy­ stem zur anamorphotischen Entzerrung,

Fig. 7 ein viertes Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens,

Fig. 8 ein fünftes Ausführungsbeispiel zur Durchführung des Verfahrens und

Fig. 9 ein sechstes Ausführungsbeispiel zur Durchführung des Verfahrens.

Fig. 1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Einfallen­ des Licht 1, das von einer kohärenten Lichtquelle (hier nicht dargestellt) ausgestrahlt wird, trifft auf ein computergene­ riertes Hologramm 2. Das Hologramm 2 kann ein binäres Phasen­ gitter sein, dessen Periode die Winkel, und dessen Brechungs­ index, Stufentiefen und Stufenbreiten die Intensitäten der Beugungsordnungen bestimmen. Eine Referenzwelle 3 durchläuft das Hologramm 2 ungebeugt und trifft auf ein gegenüberliegen­ des Reflexionselement 4. Unterhalb des durch das Hologramm 2 und das Reflexionselement 4 gebildeten Zwischenraums ist ein Prüflingskörper 5 mit der zu prüfenden Oberfläche 6 angeord­ net. Eine am Hologramm 2 gebeugte 1. Ordnung trifft als Prüf­ lingswelle 7 auf die Oberfläche 6 und von da auf das Refle­ xionselement 4. Das Reflexionselement 4 ist so ausgebildet, daß daran sowohl die Rerenz- 3 als auch die Prüflingswelle 7 in sich selbst reflektiert werden. Beim vorliegenden Ausfüh­ rungsbeispiel besteht ein erster Bereich 8 zur Reflexion der Referenzwelle 3 aus einer spiegelnden Fläche, wohingegen ein zweiter Bereich 9 zur Reflexion der Prüflingswelle 7 eine diffraktive Struktur umfaßt, die ein verspiegeltes Phasengit­ ter aufweist, dessen Periode halb so groß wie die des im Ho­ logramm 2 verwendeten Phasengitters ist.

Die insbesondere zur Prüfung ebener Oberflächen 6 geeignete Vorrichtung funktioniert folgendermaßen:

Das einfallende Licht 1 wird am Hologramm 2 in eine ungebeug­ te Referenzwelle 3 und eine gebeugte Prüflingswelle 7 ge­ teilt. Für die Referenz- 3 und die Prüflingswelle 7 werden ebene Wellen verwendet. Diese werden am Reflexionselement 4 in sich selbst reflektiert. Die in sich selbst reflektierte Referenzwelle 3 wird unmittelbar auf das Hologramm 2 zurück­ geworfen. Die in sich selbst reflektierte Prüflingswelle 7 trifft zunächst nochmals auf die Oberfläche 6 und wird von da auf das Hologramm 2 reflektiert. Durch Überlagerung der re­ flektierten Prüflingswelle 7 mit der reflektierten Refe­ renzwelle 4 entsteht ein Interferenzmuster, welches zur Aus­ wertung verwendet wird.

In Fig. 2 ist hinter der Anordnung nach Fig. 1 ein optisches System zur anamorphotischen Entzerrung der wegen der schrägen Inzidenz stark verzerrt abgebildeten Oberfläche 6 angeordnet. Das optische System umfaßt einen 4f-Aufbau 10, ein Gitter 11, zwei optische Abbildungssysteme 12 und eine CCD-Kamera 13.

Zur Beobachtung der Oberfläche 6 wird eine aus dem Hologramm 2 austretende -1. Beugungsordnung 14 über den 4f-Aufbau 10 auf das Gitter 11 abgebildet. Das auf das Gitter 11 abgebil­ dete von anamorphotischen Verzerrungen befreite Bild wird über die optischen Abbildungssysteme 12 mittels einer CCD- Kamera 13 betrachtet.

Fig. 3 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel einer Vorrich­ tung zur Durchführung des Verfahrens. Dabei ist der zweite Bereich 9 des Reflexionselements 4 aus einer spiegelnden Flä­ che gebildet, die so angeordnet ist, daß die an der Oberflä­ che 6 reflektierte Prüflingswelle 7 in sich selbst reflek­ tiert und erneut auf die Oberfläche 6 zurückgeworfen wird.

In Fig. 4 ist ein drittes Ausführungsbeispiel einer Vorrich­ tung zur Durchführung des Verfahrens gezeigt. Dieses Ausfüh­ rungsbeispiel ist zur Prüfung rotationssymmetrischer Körper, wie Zylinder, geeignet. Das Hologramm 2 ist in diesem Fall als binäres Axikon ausgebildet, dessen Periode die Winkel, und dessen Brechungsindex, Stufentiefen und -breiten die In­ tensitäten der Beugungsordnungen bestimmen. Die Prüfungswel­ le 7 ist hier konisch geformt. Das Reflexionselement 4 weist einen ersten Bereich 8 und einen zweiten Bereich 9 auf, der aus einem verspiegelten Axikon gebildet ist, dessen Periode die Hälfte des für das Hologramm 2 verwendeten binären Axi­ kons ist. Der erste Bereich 8 ist als spiegelnde Fläche aus­ gebildet. Selbstverständlich kann statt des verspiegelten Axikons im zweiten Bereich 9 auch ein konisch ausgebildeter Spiegel verwendet werden, dessen Flächen einen Konizitätswin­ kel einschließen, der dem Winkel zwischen den Ausbreitungs­ richtungen der beiden Beugungsordnungen entspricht. Der Prüf­ ungskörper 5 ist hier zwischen dem Hologramm 2 und dem Re­ flexionselement 4 angeordnet.

In Fig. 5 ist hinter der Anordnung nach Fig. 4 ein optisches System zur anamorphotischen Entzerrung vorgesehen. Ein erster Spiegel 15 ist in einem Winkel von 45° gegenüber dem Holo­ gramm 2 zwischen diesem und dem optischen System angeordnet. Der erste Spiegel 15 dient der Umlenkung des einfallenden Lichts 1 sowie der Ausblendung der Referenzwelle 3. Dem 4f- Aufbau 10 ist ein Vergleichskörper 16 nachgeordnet, auf des­ sen weiterer Oberfläche sich eine Gitterstruktur 17 befindet. Ein zweiter Spiegel 18, der die Form eines Kegelmantelringab­ schnitts aufweist, umgibt den Vergleichskörper 16. Dem zwei­ ten Spiegel 18 sind schließlich zwei optische Abbildungssy­ steme 12 sowie eine CCD-Kamera 13 nachgeschaltet.

Zur Beobachtung der Oberfläche 6 des Prüflingskörpers 5 ge­ langt die 1. und die -1. Ordnung des reflektierten aus dem Hologramm 2 austretenden Lichts in das optische System. Mit­ tels des optischen Systems wird die Oberfläche 6 in einem Maßstab von 1 : 1 auf die weitere Oberfläche des Vergleichs­ körpers 16 abgebildet. Da die weitere Oberfläche als Gitter­ struktur 17 ausgebildet ist, kann mit Hilfe des zweiten Spie­ gels 18 via zweier optischer Abbildungssysteme 12 ein ent­ zerrtes Bild der Oberfläche mittels der CCD-Kamera 13 beob­ achtet werden. Statt der auf dem Vergleichskörper 16 aufge­ brachten Gitterstruktur 17 kann auch ein Vergleichskörper mit streuender Oberfläche verwendet werden, der zur Verringerung des Speckle-Rauschens auch noch um seine Längsachse rotiert werden kann.

In Fig. 6 ist eine Abwandlung des in Fig. 5 gezeigten Ausfüh­ rungsbeispiels dargestellt. Dabei ist statt der Gitterstruk­ tur 17 auf dem Vergleichskörper 16 ein in Form einer dünnen Folie ausgebildetes Detektorenarray 19 vorgesehen. Damit kann auf den zweiten Spiegel 18 sowie die bikonvexen Linsen 12 verzichtet werden.

In Fig. 7 ist ein viertes Ausführungsbeispiel einer Vorrich­ tung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ge­ zeigt. Der Prüflingskörper 5 ist hier unterhalb eines Zwi­ schenraums angeordnet, der durch eine transmissive diffrakti­ ve Fresnel-Zonen-Linse 20 und eine reflektive diffraktive Fresnel-Zonen-Linse 21 definiert wird.

Das einfallende Licht 1 wird an der transmissiven diffrakti­ ven Fresnel-Zonen-Linse 20 in mehrere Beugungsordnungen ge­ teilt, von denen im weiteren nur die 0. und die 1. Beugungs­ ordnung betrachtet werden. Die 0. Beugungsordnung fällt als ebene Welle in streifender Inzidenz auf die Oberfläche 6. Die 1. Beugungsordnung dagegen bildet auf der Oberfläche 6 einen Fokus F. Sowohl die Welle 0. Beugungsordnung als auch Welle 1. bzw. -1. Beugungsordnung treffen auf die reflektive dif­ fraktive Fresnel-Zonen-Linse 21, deren Zonen die doppelte spatiale Frequenz der transmissiven diffraktiven Fresnel- Zonen-Linse 20 aufweisen. Durch die Reflexion werden die Wel­ len 0. und 1. bzw. -1. Beugungsordnung in sich auf die Ober­ fläche 6 zurückreflektiert und gelangen von da zurück zur transmissiven diffraktiven Fresnel-Zonen-Linse 20. Hier ent­ steht das Interferenzmuster, welches über eine (nicht darge­ stellte) Beobachtungsoptik betrachtet werden kann.

Fig. 8 zeigt ein fünftes Ausführungsbeispiel einer Vorrich­ tung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Dabei ist der zweite Bereich 9 des Reflexionselements 4 relativ zum ersten Bereich 8 beweglich ausgebildet. Der Prüflingskörper 5 ist in diesem Fall ein Rohr. Es werden sowohl für die Refe­ renz- 3 als auch für die Prüflingswelle 7 Licht 1. bzw. -1. Beugungsordnung verwendet.

Durch die in Einfallsrichtung des Strahls 1 bewegliche Aus­ bildung des zweiten Bereichs 9 kann die Phase der reflektier­ ten Prüflingswelle 7 verändert werden, was eine Veränderung des beobachteten Interferenzmusters bewirkt. Aus den Verände­ rungen des Interferenzmusters kann rechnerisch die Abweichung der Oberfläche 6 von der vorgegebenen Idealgestalt ermittelt werden.

Bei dem in Fig. 9 dargestellten sechsten Ausführungsbeispiel wird als Hologramm 2 ein Ronchi-Axikon verwendet. Eine Refle­ xionsvorrichtung 22 umfaßt in geblaztes Axikon 23 und ein parallel dazu angeordnetes Reflexionselement 4, nämlich einen geteilten Spiegel, mit einem ersten Bereich 8 und einem zwei­ ten Bereich 9. Der zweite Bereich 9 ist mittels eines PZT- Elements 24 in der Einfallsrichtung des Strahls 1 relativ zu dem ersten Bereich 8 bewegbar.

Das beschriebene Verfahren ist nicht auf den Ebenen- und den Zylindertest beschränkt, sondern läßt sich auf verschiedene Oberflächentopologien anwenden. Dazu müssen die Strukturen innerhalb des ersten optischen diffraktiven Elements und des diffraktiven oder asphärischen Reflexionselements an das Meß­ objekt angepaßt werden. Das kann mit Hilfe des Superpositi­ onsprinzips erreicht werden. Ist das in den diffraktiven Ele­ menten zu speichernde Meßobjekt z. B. aus verschiedenen Ele­ menten zusammengesetzt (z. B. aus Ebenen und Zylindern), so läßt sich eine allgemeine Hologrammfunktion H, welche die verschiedenen Teilwellen beim Abspielen erzeugt, durch Super­ position gewinnen:

Dabei bezeichnet A_k die Amplitudenfunktion des k-ten Teilob­ jekts und ϕ_k dessen Phasenfunktion, jeweils in der Hologramm­ ebene. Die Gesamthologrammfunktion wird dann mittels geeigne­ ter Kodierungsverfahren, z. B. vom Lohmann-, Burch- oder Lee- Typ oder vorzugsweise als computergeneriertes Interferogramm ausgegeben, und in einem diffraktiven optischen Element ko­ diert.

Bezugszeichenliste

1

Licht

2

Hologramm

3

Referenzwelle

4

Reflexionselement

5

Prüflingskörper

6

Oberfläche

7

Prüflingswelle

8

erster Bereich

9

zweiter Bereich

10

4f-Aufbau

11

Gitter

12

optische Abbildungssysteme

13

CCD-Kamera

14

austretende -1. Beugungsordnung

15

erster Spiegel

16

Vergleichskörper

17

Gitterstruktur

18

zweiter Spiegel

19

Detektorenarray

20

transmissive diffraktive Fresnel-Zonen-Linse

21

reflektive diffraktive Fresnel-Zonen-Linse

22

Reflektionsvorrichtung

23

geblaztes Axikon

24

PZT-Element
FFokus

Claims (27)

1. Verfahren zur interferometrischen Prüfung von techni­ schen Oberflächen (6), wobei Licht (1) einer Lichtquelle ein in Abhängigkeit einer vorgegebenen Idealgestalt der Oberflä­ che (6) gestaltetes erstes diffraktives optisches Element (2) derart beleuchtet, daß das Licht (1) durch Beugung am ersten diffraktiven optischen Element (2) geteilt wird, wobei ein Teil des gebeugten Lichts eine unter schräger Inzidenz auf die Oberfläche (6) treffende Prüflingswelle (7) bildet, dort einer ersten Reflexion unterworfen wird und danach auf eine Reflexionsvorrichtung (4, 21, 22) trifft, dort in sich selbst reflektiert wird und erneut auf die Oberfläche (6) trifft, dort einer weiteren Reflexion unterworfen wird und danach wieder in das erste diffraktive optische Element (2) ein­ tritt, wobei es mit einer gleichfalls in das erste diffrakti­ ve optische Element (2) eintretenden Referenzwelle (3) zur Interferenz gebracht wird, so daß ein Interferenzmuster ent­ steht, dessen Auswertung die Abweichung der technischen Ober­ fläche von der vorgebenen Idealgestalt ergibt.

2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Licht (1) kohären­ tes Licht, vorzugsweise mit einer Wellenlänge im Infrarot- Bereich, ist.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei als Prüflings- (7) und/oder Referenzwelle (3) eine erste oder höhere Beu­ gungsordnung positiven und/oder negativen Vorzeichens verwen­ det wird.

4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mindestens das erste diffraktive optische Element (2) und die Reflexionsvorrichtung (22) so angeordnet sind, daß das ge­ beugte und das ungebeugte Licht über die Oberfläche (6) ge­ führt wird, und daß eine der Beugungsordnungen oder das unge­ beugte Licht (1) einen punktförmigen Bereich (F) der Oberflä­ che (6) bestrahlt, welcher als Referenz für das Interfero­ gramm dient.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die in das erste optische diffraktive Element (2) ein- und austretende Referenzwelle (3) eine Planwelle ist, und die aus dem ersten optischen diffraktiven Element (2) austretende Prüflingswelle (7) im wesentlichen eine Planwelle ist.

6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Reflexionsvorrichtung (22) ein Reflexionselement (4, 21) umfaßt, das derart gestaltet ist, daß die Prüfungswelle (7) und die Referenzwelle (3) jeweils in sich selbst reflektiert werden.

7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei das Reflexionselement (4, 21) eine diffraktive Amplituden- oder Phasenstruktur auf­ weist.

8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei die Beugung am Refle­ xionselement (4, 21) eine erste oder eine höhere positive oder negative Beugungsordnung ist.

9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Prüflingswelle (7) eine Beugung 1. Ordnung, und die Refe­ renzwelle (3) eine Beugung -1. Ordnung ist.

10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Reflexionsvorrichtung (22) ein zweites diffraktives opti­ sches Element (23) umfaßt.

11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Referenzwelle (3) auf das zweite diffraktive optische Element (23) trifft, dort gebeugt wird und auf das Refle­ xionselement (4) trifft, dort reflektiert wird, erneut in das zweite optische diffraktive Element (23) eintritt, dort wie­ derum gebeugt und in das erste optische diffraktive Element (2) eintritt, um mit der Prüflingswelle (7) ein Interferenz­ muster zu bilden.

12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mindestens das erste diffraktive optische Element (2) eine, vorzugsweise computergenerierte, holographische Struktur auf­ weist.

13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei insbesondere zur Prü­ fung der Oberfläche (6) von Vollzylindern oder der Mantelin­ nen- und Außenflächen von Hohlzylindern rotationssymmetri­ sche, holographische, aus gleichabständigen und konzentrisch beugenden Zonen bestehende Strukturen vom Axikon-Typ einge­ setzt werden.

14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, wobei die hologra­ phische Struktur durch Superposition überlagerte beugende Strukturen aufweist.

15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die mittlere Ortsfrequenz in den diffraktiven optischen Ele­ menten (2, 20, 21, 23) der Mikrorauhigkeit der Oberfläche (6) soweit angepaßt wird, daß das Interferenzmuster einen ausrei­ chenden Kontrast zeigt.

16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die diffraktiven optischen Elemente (2, 20, 21, 23) als Amplituden- oder Phasenstruktur ausgebildet sind.

17. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Interferenzmuster einer spatialen Filterung unterzogen wird, so daß störende Beugungsordnungen ent­ fernt werden.

18. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zur Auswertung des Interferenzmusters Phasenunterschiede zwi­ schen der Referenz- (3) und der Prüflingsswelle (7) erzeugt werden und die Information über die Oberfläche (6) aus einer Mehrzahl aufgenommener Interferogramme mit unterschiedlicher Differenzphase gewonnen wird.

19. Verfahren nach Anspruch 18, wobei zur Erzeugung der Pha­ senunterschiede die Position eines der optisch diffraktiven Elemente (2, 20, 21, 23) oder eines Bereichs derselben mit Hilfe einer in Strahlrichtung des Lichts (1) hin- und herbe­ wegbaren Translationsvorrichtung (24) geändert wird.

20. Verfahren nach Anspruch 18 oder 19, wobei zur Erzeugung der Phasenunterschiede die Position des Reflexionselements (4, 21) oder eines Bereichs (8, 9) desselben mit Hilfe einer, vorzugsweise in Strahlrichtung des Lichts (1), hin- und her­ bewegbaren Translationsvorrichtung (24) geändert wird.

21. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 20, wobei zur Erzeugung der Phasenunterschiede die Wellenlänge des Lichts (1) geändert wird.

22. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Oberfläche (6) über ein optisches System auf eine weitere Oberfläche eines Vergleichskörpers (16) abgebildet wird, die eine Strukturinformation aufweist, so daß eine anamorphoti­ sche Entzerrung der auf der weiteren Oberfläche abgebildeten Oberfläche (6) erreicht wird.

23. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei für die Prüfung ebener Oberflächen (6) im wesentlichen linea­ re Gitter verwendet werden.

24. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zur anamorphotischen Entzerrung die Oberfläche (6) über ein optisches System auf ein planares Feld von Detektoren (19) abgebildet wird.

25. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zur anamorphotischen Entzerrung die Oberfläche über ein opti­ sches System auf ein optisches Gitter (17) abgebildet und das Gitter (17) über ein weiteres optisches System beobachtet wird.

26. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein Strahlteiler zur Teilung des Lichts (1) in eine Refe­ renzwelle (3) und eine in das erste optische diffraktive Ele­ ment (2) eintretende Objektwelle vorgesehen ist.

27. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zur Justage einer Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens Strukturen, wie Fresnelzonen- und/oder Gitterstrukturen, zur Gewinnung von Abstands- und Rotationsinformationen verwendet werden.