DE19511926A1 - Verfahren zur Prüfung technischer Oberflächen mit Hilfe von computererzeugten Hologrammen - Google Patents
Verfahren zur Prüfung technischer Oberflächen mit Hilfe von computererzeugten HologrammenInfo
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
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- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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Description
Zum Stand der Technik ist zu sagen, daß sich der Einsatz der interferometrischen Meßtechnik
zur Prüfung der Makrogeometrie meist auf die Prüfung optischer Flächen mit hoher
Genauigkeit beschränkt. Zwar werden technische Planflächen wie z. B. Si-wafer und andere
Planflächen schon mit streifender Inzidenz geprüft. Diese Verfahren beschränken sich aber auf
plane Flächen. Hier setzt aber unser Ansatz an, indem beliebige aber regelmäßige Oberflächen
einer Messung mit hoher Genauigkeit zugänglich gemacht werden sollen
Es handelt sich um ein interferometrisches Prüfverfahren für technische Oberflächen mit
verschiedenartigen Profilen und Geometrien, das mit synthetischen diffraktiven
Referenzmasken (Computer Generierte Hologramme: CGH) arbeitet. Hierbei soll der Einsatz
von Computer Generierten Hologrammen eine schnelle und berührungsfreie Absolutprüfung
der Makrogeometrie technischer Werkstücke ermöglichen.
An einem Ausführungsbeispiel soll der Einsatz neuartiger computer-erzeugter Masken in IR-
Interferometem zur 3D-Profilmessung erläutert werden. Die computer-erzeugten Masken oder
Hologramme (CGH) beinhalten hierbei die Information über ein Referenzobjekt. Das
Werkstück soll dann in dem Interferometer mit dieser Referenz verglichen werden. Es werden
also die Abweichungen des Werkstücks von der Sollform in 3D-Qualität mit extrem hoher
Meßgeschwindigkeit und Genauigkeit erfaßt.
Insbesondere wird auch daran gedacht von einer CAD-erzeugten Struktur jeweils ein oder
mehrere CGH′s in ein IR-Interferometer einzubringen.
Das interferometrische Prinzip beruht auf der "grazing incidence interferometry" (streifende
Inzidenz) (Fig. 1). Die dabei verwendeten CGH′s wirken als Strahlenteiler und Vereiniger. Die
Nullte Beugungsordnung des Strahlteilers läuft unbeeinflußt von diesem in der ursprünglichen
Richtung weiter. Eine der gebeugten Wellen trifft streifend auf das Werkstück und wird dort
reflektiert und schließlich am Ort eines zweiten CGH′s mit der nullten Ordnung überlagert. Die
CGH′s sind derart gestaltet, daß sie an das Objekt angepaßte Wellenfronten generieren, die
zusammen mit dem zweiten CGH einen Nulltest ermöglichen. Dabei ist eine spatiale Filterung
vonnöten, um Störlicht zu beseitigen, oder mit anderen Worten: die üblichen kohärent
optischen Techniken sind sinngemäß auf dieses, Problem anzuwenden. Wie in Fig. 1
angedeutet, lassen sich auch komplexe Oberflächenstrukturen untersuchen. Im einfachsten
Falle hat dabei das Objekt einen gleichartigen Querschnitt über die gesamte Länge.
In diesem Fall sind durch die Beschränkung der Dimensionalität die Justierprobleme am
geringsten. Jedoch lassen sich auch komplexere Geometrien mit einer solchen Methode
vermessen. Allerdings muß man eventuelle Abschattungen und ähnliche Probleme beim Design
der CGH′s berücksichtigen. Dabei ist auch denkbar, daß senkrechte Flächenstücke mit erfaßt
werden.
Noch ein Wort zur Genauigkeit und der freien Parameterwahl beim Entwurf descomputer
erzeugten Hologramms. Das soll an dem einfachsten Fall einer ebenen Fläche behandelt
werden:
Ein Gitter beugt eine ebene Welle um den Winkel µ:
g sin(u)= mλ
Bei schräger Inzidenz unter dem Winkel u ergibt sich eine Empfindlichkeit von
Mithin korrespondiert der Abstand zweier Interferenzstreifen mit einer Oberflächenabweichung
von:
wobei man im allgemeinen sich mit in = 1 begnügen und nur in Sonderfällen eine höhere
Beugungsordnung verwenden wird. Man hat also in weiten Grenzen die Empfindlichkeit durch
die Wahl der Gitterkonstanten in der Hand.
Man bezahlt allerdings geringe Empfindlichkeit (große Rauhigkeiten des Objekts bei der
Prüfung) mit starken anamorphotischen Verzerrungen der Geometrie in einer Richtung. Dazu
soll nun ein Beispiel folgen: g = 50 µm, λ = 3.4 µm ergibt einen Streifen für 25 µm
Oberflächenabweichung und einen Winkel von 86 Grad, was bei einer Werkstücklänge von
0.5 m eine Bildhöhe von 34 mm bedeutet. Hier wird man also im Abbildungsstrahlengang mit
anamorpohotischen Lösungen eine Anpassung an den Detektor suchen bzw. über eine
Entzerrung durch entsprechende Software eine vernünftige Bildgeometrie erzeugen. Bei
optoelektronischen Lösungen bei der Auswertung sind ohne weiteres 1150 Streifenabstand
rms-Genauigkeiten zu erwarten, weshalb die Makrogeometrie im µm-Bereich erfaßbar ist.
Die Flexibilität des Verfahrens soll an einem einprägsamen Beispiel erläutert werden: Es soll
ein Zylinder innen und außen gleichzeitig geprüft werden. In diesem Fall wird man zwei
Axicons (das sind rotationssymmetrische CGH′s mit äquidistanten Ringzonen) verwenden und
die beiden ersten Beugungsordnungen zur Beleuchtung der Objektoberflächen einsetzen. Man
erhält dann neben der Rundheit und anderen Oberflächenfehlern auch Aussagen über die
relative Lage der Symmetrieachsen.
Noch eine Bemerkung zur Wahl der Wellenlänge: Für rauhe Flächen sollte die Wellenlänge
möglichst groß sein, um die Makrogeometrie trotzdem prüfen zu können.
Jedoch ist die Rauhigkeit der Oberfläche des Prüflings nicht das einzige Argument für eine
Vergrößerung der Wellenlänge zumal die Genauigkeit nur von der lokalen Gitterkonstanten im
CGH abhängt. Vielmehr kann man durch eine größere Wellenlänge bei gleichbleibender
Empfindlichkeit eine Herabsetzung der anamorphotischen Verzerrung erreichen. Durch eine
größere Flexibilität in der Wahl der Wellenlänge läßt sich der Anwendungsbereich bedeutend
erweitern.
Claims (12)
1. Verfahren zur interferometrischen Prüfung von technischen Oberflächen dadurch
gekennzeichnet, daß das Licht einer kohärenten Lichtquelle ein computer generiertes und mit
lithographischen Techniken aufgezeichnetes Hologramm oder Beugungsmaske derart
beleuchtet, daß das Licht durch Beugung an der Maske in einem geeigneten Teilverhältnis
geteilt wird und daß das ungebeugte Licht, welches die Maske ohne Ablenkung passiert, als
Referenzwelle verwendet wird und daß das gebeugte Licht unter schräger Inzidenz auf die
Prüflingsfläche trifft und dort reflektiert wird und danach auf ein zweites computer erzeugtes
Hologramm trifft, an welchem durch Beugung die Referenzwelle mit der Prüflingswelle zur
Interferenz gebracht wird, derart daß ein niederfrequentes räumliches Interferenzmuster
entsteht, dessen Auswertung die Information über die Makrogeometrie des Prüflings ergibt.
2. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß die einfallende Welle eine
Planwelle und die austretende über den Prüfling gelaufene Teilwelle ebenfalls nahezu plan ist
und daß die Abbildung und Auswertung von Planwellenfeldern erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2 dadurch gekennzeichnet, daß zur Auswertung der
Interferenzaufnahmen eines der computer-erzeugten Hologramme axial, d. h. in Richtung der
Wellennormalen der Referenzwelle, verschoben wird, derart daß das Interferenzbild um
mindestens eine Periode variiert und daß die Intensitäten mit Detektorfeldern aufgenommen
und zur Verarbeitung in einem angeschlossenen Computer gespeichert werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1-3 dadurch gekennzeichnet, daß die computer-erzeugten
Hologramme als Amplituden- oder als Phasenstrukturen ausgebildet sind.
5. Verfahren nach Anspruch 1-4 dadurch gekennzeichnet, daß zur Justage des leeren
Interferometers (d. h. des Interferometers ohne Prüfling) zusätzliche Strukturen wie z. B.
Fresnelzonen- und/oder Gitterstrukturen verwendet werden, wodurch Abstands- und
Rotationsinformationen gewonnen werden.
6. Verfahren nach Anspruch 1-5 dadurch gekennzeichnet, daß für die Prüfung der
Mantelfläche von Vollzylindern und die Prüfung der Mantel-Innen und Außenflächen von
Hohlzylindern spezielle rotationssymmetrische Hologramme vom Axicon-Typ eingesetzt
werden, wobei Axicon-Hologramme aus gleichabständigen und konzentrischen beugenden
Zonen bestehen.
7. Verfahren nach Anspruch 1-6 dadurch gekennzeichnet, daß die mittlere Ortsfrequenz in
den Computer-Hologrammen der Mikrorauhigkeit angepaßt wird, insonderheit derart, daß die
Interferenzstreifen ausreichenden Kontrast zeigen.
8. Verfahren nach Anspruch 1-7 dadurch gekennzeichnet, daß die verwendete
Laserwellenlänge in weiten Grenzen frei gewählt werden kann, wobei geeignete Materialien für
die computer-erzeugten Hologramme verwendet und die Bildaufnehmer spektral angepaßt
werden.
9. Verfahren nach Anspruch 1-8 dadurch gekennzeichnet, daß sich die beugenden
Strukturen zur Prüfung von komplexen Objekten auch gegenseitig überlagern können und daß
eine geeignete kohärente Filterung zur Erzeugung einer eindeutigen Interferenzfigur
herangezogen wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1-9 dadurch gekennzeichnet, daß zur Strählablenkung am
computer-erzeugten Hologramm auch eine höhere bzw. auch negative erste und höhere
Ordnungen eingesetzt werden.
11. Verfahren nach Anspruch 1-5, 7-9 dadurch gekennzeichnet, daß die computererzeugten
Hologramme und die optische Anordnung des Interferometers derart gestaltet sind, daß
sowohl das gebeugte als auch das Licht nullter Ordnung über das Objekt geführt wird und daß
eine der Beugungsordnungen nur einen punktförmigen Bereich der Fläche bestrahlt, welcher
dann als Referenz für das Interferogramm dient und daß das zweite Hologramm so gestaltet
wird, daß eine niederfrequente Interferenzerscheinung erzeugt werden kann.
12. Verfahren nach Anspruch 1-6 dadurch gekennzeichnet, daß in hochsymmetrischen
Spezialfällen das Interferometer und die zugehörigen computer-erzeugten Hologramme so
gestaltet sind, daß ohne eingebrachten Prüfling seine Abweichungen gemessen und von den
Prüflingsdaten abgezogen werden können.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995111926 DE19511926A1 (de) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Verfahren zur Prüfung technischer Oberflächen mit Hilfe von computererzeugten Hologrammen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE1995111926 DE19511926A1 (de) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Verfahren zur Prüfung technischer Oberflächen mit Hilfe von computererzeugten Hologrammen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19511926A1 true DE19511926A1 (de) | 1996-10-02 |
Family
ID=7758318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1995111926 Withdrawn DE19511926A1 (de) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | Verfahren zur Prüfung technischer Oberflächen mit Hilfe von computererzeugten Hologrammen |
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Country | Link |
---|---|
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1995
- 1995-03-31 DE DE1995111926 patent/DE19511926A1/de not_active Withdrawn
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