DE19616245A1 - Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien - Google Patents

Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten stofflicher Eigenschaften von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien im Reflexions-, Absorptions-, Transmissions- und Reemiisionsmodus, bei dem die Untersuchungsprobe mit einem elektromagnetischen Meßstrahl beaufschlagt und die Wechselwirkung von Strahlung und Probe ausgewertet wird.
Die Erfindung betrifft auch eine Anordnung zur Durchführung dieses Verfahrens mit einer die elektromagnetischen Strahlung erzeugenden Strahlungsquelle und einem Probentisch mit Probe.
Verfahren zur zerstörungsfreien Prüfen und Bewerten von stofflichen Eigenschaften mit elektromagnetischer Strahlung sind als spektroskopische, interferrometrische und mikroskopische Anordnungen im Durch- oder Auflichtbetrieb hinlänglich bekannt.
Eine Reihe bekannter Verfahren beinhaltet die Verknüpfung ausgewählter Wellen- und Teilcheneigenschaften der Strahlung zur physikalisch­ technischen Informationsgewinnung.
Gemeinsamer Nachteil dieser bekannten Verfahren ist der hohe Aufwand zur Korrektur spektraler und stochastischer Fehlereinflüsse (BERGMANN-SCHAEFER, Lehrbuch der Experimentalphysik, Band 3, Optik, Verlag Walter de Gryter, Berlin-New York 1993).
Weitere bekannte Verfahren befassen sich mit der Rauhigkeitsmessung von Festkörperoberflächen, die auf der Grundlage der Messung und Auswertung der Intensität der von der Probenoberfläche reflektierten Strahlung beruhen.
So beschreiben HARBECKE (US-PS 4 511 800) und SCHMIDT (DD 2 10 487) Verfahren zur Rauhigkeitsmessung, die als Ergebnis einen zur statistischen Rauhigkeit der Probenoberfläche korrelierten Wert liefern. Eine lokale Zuordnung der Meßwerte auf der Probenoberfläche ist nur bedingt möglich.
Andere bekannte Lichtschnittmethoden sind durch das optische Auflösungsvermögen (DE-OS 22 56 673) begrenzt.
Eine Reihe weiterer bekannter technischer Lösungen nutzen das Laserscanning-Prinzip zur Probenrasterung, wobei ein wesentlicher Nachteil in der mit Hilfe der Strahlungsdetektoren erzielten Oberflächenbewertung zu sehen ist. Beispielsweise können die Oberflächeninspektionsgeräte der "Surfscan"-Reihe (US-PS 4 601 576) nur makroskopische Defekte oder Oberflächenbelegungen u.ä. erkennen.
Weitere bekannte Lösungen beziehen sich spezifische Anordnungen und Verfahren der Interferrometrie (JP-PS 63-238410, JP-PS 63-201509), der winkelaufgelösten Reflexionsmessung (DD 2 51 610, US-PS 5 243 405, US-PS 5 991 964, JP-PS 63-150611, JP-PS 63-191011) sowie Verfahren zur Messung der Streulichtcharakteristik einfallender elektromagnetischer Strahlung (DD 2 83 682, DD 2 99 603, US-PS 4 973 164, JP-PS 63-191010).
Eine Sonderstellung im Rahmen der bekannten optischen Meßverfahren nehmen differentiel Methoden ein, bei denen die o.a. komplizierten Korrekturmechanismen durch eine Normierung des Signals ersetzt werden (siehe R. E. HUMMEL, "Differential reflectometry and its application to the study of alloys, ordering, corrosion and surface properties", Review Article, phys. stat. sol (a) 76, 11 (1983); R. ENDERLEIN "New look at the time shape of differential reflectograms for dilute alloys", Physical Review B, Volume 29, No 4; H. KUZMANY "Festkörperspektroskopie - Eine Einführung", Springer-Verlag Berlin-Heidelberg-New York-London-Paris-Tokio-Hong Kong, 1989).
Allen diesen bekannten Anordnungen und Verfahren ist der Nachteil gemeinsam, daß sie experimentellen Charakter tragen, keine integrierte Informationsverarbeitung enthalten, nicht automatisiert und für industrielle Meßanwendungen nicht geeignet sind.
Aus der DD 2 95 906 B5 ist ein optisches Zweischnittverfahren zur Bewertung der Qualität von Festkörpern bekannt, bei dem durch die Aufnahme wellenlängenspezifischer Reflexionsspektren zunächst jene Wellenlängen ermittelt werden, bei denen bedingt durch die stofflichen Eigenschaften an der Festkörperoberfläche eine Intensitätsveränderung des reflektierten Lichts eintritt und anschließend diese so ermittelten Wellenlängen genutzt werden, um eine ganzflächige Bestrahlung der zu untersuchenden Festkörperoberfläche durchzuführen.
Die Messung bei diesem bekannten Verfahren erfolgt zwar differentiell, ist aber letztendlich mit dem Nachteil behaftet, daß der Meßstrahl durch einen Schwingspiegel aufgespalten wird. Neben den Problemen, die ein beweglicher Spiegel mit sich bringt, tritt der Nachteil einer erhöhten Signaldämpfung durch die Lichtstreuung während des Ablenkvorganges auf.
In Kenntnis dieses Standes der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten stofflicher Eigenschaften von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien der eingangs beschriebenen Art zur Verfügung zu stellen, mit denen es möglich wird, auf der Basis einer differentiellen Meßwertbildung eine lokal aufgelöste Beurteilung der Stoffeigenschaften bei gleichzeitig höherer Genauigkeit, Wirtschaftlichkeit und erheblicher Zeitverkürzung zu gewährleisten.
Dies wird mit dem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß der auf die Probe geleitete Meßstrahl durch eine kurzfristige Veränderung bzw. Unterbrechung seines optischen Strahlenganges ein zeitlich auseinanderfallendes Referenzsignal und Meßsignal erzeugt, beide Signale in einem Speicher erfaßt und verarbeitet werden, wobei das Meßsignal mindestens zweistufig auf das Referenzsignal normiert und von spektralen bzw. stochastischen Fehlereinflüssen befreit wird.
In einem bevorzugten weiteren Merkmal des erfindungsgemäßen Verfahrens wird der optische Weg des Meßstrahles durch eine zwischen der Strahlenquelle und Probe rotierende Scheibe unterbrochen, mit der zeitlich beliebige Sequenzen zwischen Meßstrahl und Referenzstrahl eingestellt werden.
In einem weiteren bevorzugten Merkmal des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein fixes Referenzsignal erzeugt, mit dem das Meßsignal mehrstufig und zeitunkritisch normiert wird.
Die für differentielle Messungen typische Normierung des Signals erfolgt erfindungsgemäß in zwei zeitlich voneinander unabhängigen Teilschritten, wobei die Speicherung von Referenz- und Meßdaten rechentechnisch erfolgt. Auf diese Weise wird die differentielle Normierung der gemessenen Signale bei gleichzeitiger Korrektur spektraler und stochastischer Fehlereinflüsse erreicht.
Die Aufnahme des Referenzsignal und des Meßsignals ist nur geringfügig zeitlich voneinander versetzt. Dabei wird im ersten Schritt die Messung auf der Scheibe vorgenommen, die Scheibe um einen solchen Winkelbetrag gedreht, daß der Meßstrahl nunmehr die Probe trifft. Im zweiten Schritt erfolgt sodann die Messung an der Probe. Geschieht dies in hinreichend kurzer Zeit, sind die Voraussetzungen für die nachfolgende mehrstufige Normierung mittels eines spezifischen mathematischen Algorithmus gegeben.
Als Meßstrahl wird nach einem weiteren Merkmal des erfindungsgemäßem Verfahrens eine poly- oder monochromatische Strahlung unterschiedlicher Wellenlänge verwendet.
Mit Vorteil kann dem Meßstrahl ein gepulster Anregungsstrahl überlagert werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren erfordert im Gegensatz zu den meisten Diagnoseverfahren des Standes der Technik keine umfassende Probenpräparation. Es können reale, unbehandelte Oberflächen und Volumina geprüft werden, ohne daß der erfindungsgemäße Meßvorgang beeinträchtigt wird.
Die Aufgabe wird weiterhin mit einer Anordnung dadurch gelöst, daß zwischen der Probe und der Strahlungsquelle ein faseroptischer Meßkopf angeordnet ist, dem mindestens eine nahe dem Strahlenaustritt angeordnete, den Strahlengang des Meßstrahles kurzzeitig unterbrechende bzw. freigebende drehbare Scheibe zugeordnet ist, wobei der Meßkopf aus einer koaxialen Einkoppelfaser und einem darum angeordneten Auskoppelfaserbündel besteht, das mit einem Rechner und einem Monochromator verbunden ist.
Die drehbare Scheibe ist geometrisch gleichmäßig gezahnt oder besitzt Zähne unterschiedlicher geometrischer Form. Es gehört auch zu der Erfindung, wenn anstelle einer geometrischen Zahnung die Scheibe eine digitale Zahnung hat.
Die Scheibe selbst kann aus dem Probenmaterial oder auch aus einem anderen beliebigen Referenzmaterial bestehen.
Natürlich ist der Abstand zwischen dem Meßkopf und der Scheibe in weiterer Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Anordnung variabel verstellbar, so daß eine Veränderung des optischen Weges problemlos möglich ist.
Durch alle diese Merkmale wird erreicht, daß die erfindungsgemäße Lösung den komplexen Anforderungen einer exakten, schnellen aber auch wirtschaftlichen Prüfung und/oder Bewertung von stofflichen Eigenschaften, insbesondere bei industrieller Nutzung, gerecht wird.
Weitere Vorteile und Einzelheiten ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten Ausführungsbeispieles, das unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung einer schematischen Darstellung der erfindungsgemäßen Anordnung erläutert wird.
Die erfindungsgemäße Anordnung besteht aus einer Scheibe 1 und einem faseroptischen Meßkopf 5, in dem eine Einkoppelfaser 2 koaxial von mehreren, ein Faserbündel bildenden Auskoppelfasern 3 umgeben ist. Die Meßstrahlen 7 werden von der Strahlenquelle 8 durch die Einkoppelfaser 2 auf die Probe 6 geführt. Nahe dem Meßstrahlaustritt am Meßkopf 5 und der zu untersuchenden Probe 6 ist im Strahlengang des Meßstrahles die Scheibe 1 auf der Welle eines Antriebsmotors 4 montiert.
Der Meßkopf 5 ist dabei so positioniert, daß bei Rotation der Scheibe 1 der optische Weg des Meßstrahles 7 verändert bzw. unterbrochen wird.
Dies geschieht durch eine geometrisch bestimmte digitale Zahnung 9 an der Scheibe 1.
Als Meßmittel dient poly- oder monochromatische elektromagnetische Strahlung unterschiedlicher Wellenlänge.
Die erfindungsgemäße Anordnung ermöglicht eine Verfahrensführung, bei der die Meßwerterfassung durch eine zeitlich nur geringfügig versetzte Aufnahme von Referenzsignal und Meßsignal erfolgt.
Dazu wird im ersten Schritt I die Messung auf der Scheibe 1 vorgenommen und diese um einen solchen Winkel gedreht, daß der Meßstrahl 7 die Probe 6 erreichen kann. Im zweiten Schritt II erfolgt die Messung an der Probe 6 selbst.
Erfolgt dieser Vorgang in hinlänglich kurzer Zeit, sind die Voraussetzungen für eine nachfolgende Normierung mittels eines spezifischen mehrschrittigen mathematischen Algorithmus als dritten Schritt III gegeben.
Die Verarbeitung der gewonnenen Meß- und Referenzsignale erfolgt mittels eines nicht dargestellten handelsüblichen Computer, so daß deren weitere Beschreibung entfallen kann.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, an Festkörpern Aussagen zur Oberflächenanalytik, insbesondere zu Oberflächen- und oberflächennahe Eigenschaften, morphologische Eigenschaften, Legierungsanteilen, Kristallschädigungen in Halbleitern und zu Korrosionsdefekten zu gewinnen.
Schichtdickenmessungen sind ebenso möglich wie der Nachweis von Volumeneffekten bei Gasen und Flüssigkeiten, beispielsweise die Messung des Anteiles von Schwebstoffen.
Bezugszeichenliste
1 Scheibe
2 Einkoppelfaser
3 Auskoppelfaser
4 Antriebsmotor
5 Meßkopf
6 Probe
7 Meßstrahl
8 Strahlenquelle.

Claims (14)

1. Verfahren zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten stofflicher Eigenschaften von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien im Reflexions-, Absorptions-, Transmissions- und Reemissionsmodus, bei dem die Untersuchungsprobe mit einem elektromagnetischen Meßstrahl beaufschlagt und die Wechselwirkung von Strahlung und Probe ausgewertet wird, dadurch gekennzeichnet, daß der auf die Probe geleitete Meßstrahl durch eine kurzfristige Veränderung seines optischen Strahlenganges ein zeitlich auseinanderfallendes Referenzsignal und Meßsignal erzeugt, beide Signale in einem Speicher erfaßt und verarbeitet werden, wobei das Meßsignal mindestens zweistufig differentiell auf das Referenzsignal normiert und korrigiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der optische Weg des Meßstrahles durch eine zwischen Strahlenquelle und Probe rotierende Scheibe unterbrochen wird, mit der zeitlich beliebige Sequenzen zwischen Meßstrahl und Referenzstrahl eingestellt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein fixes Referenzsignal erzeugt wird, mit dem das Meßsignal mehrstufig und zeitunkritisch normiert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Meßstrahl poly- oder monochromatische elektromagnetische Strahlung unterschiedlicher Wellenlänge verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß dem Meßstrahl mindestens ein gepulster Anregungsstrahl überlagert wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Wellenlänge des Meßstrahles während der Messung kontinuierlich verändert wird.
7. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, mit einer elektromagnetische Strahlung erzeugenden Strahlungsquelle und einem Probentisch mit Probe, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Probe (6) und der Strahlungsquelle (8) ein faseroptischer Meßkopf (5) angeordnet ist, dem eine nahe dem Meßstrahlaustritt angeordnete, den Strahlengang des Meßstrahles veränderende drehbare Scheibe (1) zugeordnet ist, wobei der Meßkopf (5) aus einer koaxialen Einkoppelfaser (2) und einem darum angeordneten Auskoppelfaserbündel (3) besteht, das mit einem Rechner und einem Monochromator verbunden ist.
8. Anordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheibe (1) in einer einzigen oder in einer unterschiedlichen geometrischen Form gezahnt, geschlitzt oder gelocht ist.
9. Anordnung nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch, daß die Scheibe (1) digital gezahnt ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheibe (1) aus dem Probenmaterial oder einem beliebigen anderen Referenzmaterial besteht.
11. Anordnung nach Anspruch 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheibe (1) transparent ist.
12. Anordnung nach Anspruch 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheibe (1) mindestens mit einem Referenzmaterial oder dem Probenmaterial beschichtet ist.
13. Anordnung nach Anspruch 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheibe (1) mit verschiedenen Referenzmaterialen beschichtet ist.
14. Anordnung nach Anspruch 7 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen Meßkopf (5) und Scheibe (1) einstellbar ist.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19741122C2 (de) * 1997-09-12 2003-09-25 Forschungsverbund Berlin Ev Anordnung zur Vermessung und Strukturierung (Nahfeldanordnung)

Citations (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2753240A1 (de) * 1976-12-07 1978-06-08 Haard Af Segerstad Messanordnung zur aufzeichnung der struktur eines gegenstandes, der beschaffenheit einer oberflaeche oder dergleichen
DE2727976B2 (de) * 1977-06-22 1979-09-06 Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe Vorrichtung zur Messung der Konzentration mindestens einer Komponente eines Gasgemisches und Verfahren zum Eichen derselben
DD210487A1 (de) * 1982-07-26 1984-06-13 Humboldt Uni Verfahren zur beurteilung der adhaesionseignung metallischer oberflaechen
US4511800A (en) * 1983-03-28 1985-04-16 Rca Corporation Optical reflectance method for determining the surface roughness of materials in semiconductor processing
US4601576A (en) * 1983-12-09 1986-07-22 Tencor Instruments Light collector for optical contaminant and flaw detector
EP0198759A2 (de) * 1985-04-09 1986-10-22 Sanofi Vorrichtung zur Messung der Hauthelligkeit
DE8528346U1 (de) * 1985-10-04 1987-02-12 Pantuc Ing.-Büro Stephan Röthele, 3392 Clausthal-Zellerfeld Vorrichtung zur on-line-Messung von Transmission oder Reflexion an bewegten Objekten im Bereich detektierbarer elektromagnetischer Strahlung
DD251610A1 (de) * 1986-07-30 1987-11-18 Univ Schiller Jena Verfahren zur rauheits- und staubmessung von glatten oberflaechen
DE3623345A1 (de) * 1986-07-11 1988-01-21 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zur selektiven messung der konzentrationen von ir- bis uv-strahlung absorbierenden gasfoermigen und/oder fluessigen komponenten in gasen und/oder fluessigen substanzen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPS63150611A (ja) * 1986-12-15 1988-06-23 Matsushita Electric Works Ltd 光学式表面粗さ測定装置
JPS63191011A (ja) * 1987-02-03 1988-08-08 Mitsubishi Metal Corp 光学式表面粗さ測定装置
JPS63191010A (ja) * 1987-02-04 1988-08-08 Sumitomo Heavy Ind Ltd 表面粗さ計測方法
JPS63201509A (ja) * 1987-02-17 1988-08-19 Masaaki Adachi 表面粗さ測定装置
JPS63238410A (ja) * 1987-03-26 1988-10-04 Masaaki Adachi 表面粗さ測定方法
DD283682A5 (de) * 1988-02-24 1990-10-17 �����@����@����@�����`����������k�� Verfahren und vorrichtung zur optischen erfassung des rauheitsprofils einer materialoberflaeche
DD295906A5 (de) * 1988-09-16 1991-11-14 Heymann Guenter Optisches zweischrittverfahren zur bewertung der qualitaet von festkoerpern
DD296757A5 (de) * 1990-07-23 1991-12-12 Akademie Der Wissenschaften Der Ddr,De Faseroptische messvorrichtung
US5083086A (en) * 1990-07-12 1992-01-21 James G. Biddle Co. Differential arc reflectometry
DD299603A7 (de) * 1989-06-09 1992-04-30 Jenoptik Carl Zeiss Jena Gmbh,De Ao zur automatischen spektralen transmissions- und reflektionsmessung optischer schichten mit grossem transmissions- oder reflektionsgradienten
US5243405A (en) * 1991-01-07 1993-09-07 Tichenor Clyde L Optical system for surface verification
US5357346A (en) * 1992-11-24 1994-10-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Solderability tester methodology

Patent Citations (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2753240A1 (de) * 1976-12-07 1978-06-08 Haard Af Segerstad Messanordnung zur aufzeichnung der struktur eines gegenstandes, der beschaffenheit einer oberflaeche oder dergleichen
DE2727976B2 (de) * 1977-06-22 1979-09-06 Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe Vorrichtung zur Messung der Konzentration mindestens einer Komponente eines Gasgemisches und Verfahren zum Eichen derselben
DD210487A1 (de) * 1982-07-26 1984-06-13 Humboldt Uni Verfahren zur beurteilung der adhaesionseignung metallischer oberflaechen
US4511800A (en) * 1983-03-28 1985-04-16 Rca Corporation Optical reflectance method for determining the surface roughness of materials in semiconductor processing
US4601576A (en) * 1983-12-09 1986-07-22 Tencor Instruments Light collector for optical contaminant and flaw detector
EP0198759A2 (de) * 1985-04-09 1986-10-22 Sanofi Vorrichtung zur Messung der Hauthelligkeit
DE8528346U1 (de) * 1985-10-04 1987-02-12 Pantuc Ing.-Büro Stephan Röthele, 3392 Clausthal-Zellerfeld Vorrichtung zur on-line-Messung von Transmission oder Reflexion an bewegten Objekten im Bereich detektierbarer elektromagnetischer Strahlung
DE3623345A1 (de) * 1986-07-11 1988-01-21 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zur selektiven messung der konzentrationen von ir- bis uv-strahlung absorbierenden gasfoermigen und/oder fluessigen komponenten in gasen und/oder fluessigen substanzen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
DD251610A1 (de) * 1986-07-30 1987-11-18 Univ Schiller Jena Verfahren zur rauheits- und staubmessung von glatten oberflaechen
JPS63150611A (ja) * 1986-12-15 1988-06-23 Matsushita Electric Works Ltd 光学式表面粗さ測定装置
JPS63191011A (ja) * 1987-02-03 1988-08-08 Mitsubishi Metal Corp 光学式表面粗さ測定装置
JPS63191010A (ja) * 1987-02-04 1988-08-08 Sumitomo Heavy Ind Ltd 表面粗さ計測方法
JPS63201509A (ja) * 1987-02-17 1988-08-19 Masaaki Adachi 表面粗さ測定装置
JPS63238410A (ja) * 1987-03-26 1988-10-04 Masaaki Adachi 表面粗さ測定方法
DD283682A5 (de) * 1988-02-24 1990-10-17 �����@����@����@�����`����������k�� Verfahren und vorrichtung zur optischen erfassung des rauheitsprofils einer materialoberflaeche
US4973164A (en) * 1988-02-24 1990-11-27 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik Method and apparatus for the optical detection of the roughness profile of a material surface
DD295906A5 (de) * 1988-09-16 1991-11-14 Heymann Guenter Optisches zweischrittverfahren zur bewertung der qualitaet von festkoerpern
DD299603A7 (de) * 1989-06-09 1992-04-30 Jenoptik Carl Zeiss Jena Gmbh,De Ao zur automatischen spektralen transmissions- und reflektionsmessung optischer schichten mit grossem transmissions- oder reflektionsgradienten
US5083086A (en) * 1990-07-12 1992-01-21 James G. Biddle Co. Differential arc reflectometry
DD296757A5 (de) * 1990-07-23 1991-12-12 Akademie Der Wissenschaften Der Ddr,De Faseroptische messvorrichtung
US5243405A (en) * 1991-01-07 1993-09-07 Tichenor Clyde L Optical system for surface verification
US5357346A (en) * 1992-11-24 1994-10-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Solderability tester methodology

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HUMMEL, R.E., ENDERLEIN, R.: New look at the shape of differential reflectograms for dilute alloys, in: Phys.Rev. B 29, No. 4, 1984, S. 1529-1533 *
HUMMEL, R.E.: Differential Reflectometry and Its Application to the Study of Alloys, Ordering, Corrosion, and Surface Properties, in: phys.stat. sol. (a) 76, 1983, S. 11-44 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE19616245C2 (de) 1998-06-18

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