DE19616245A1 - Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien - Google Patents
Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und BiomaterialienInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum
zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder
Bewerten stofflicher Eigenschaften von Festkörpern,
Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien im Reflexions-,
Absorptions-, Transmissions- und Reemiisionsmodus, bei
dem die Untersuchungsprobe mit einem elektromagnetischen
Meßstrahl beaufschlagt und die Wechselwirkung von
Strahlung und Probe ausgewertet wird.
Die Erfindung betrifft auch eine Anordnung zur
Durchführung dieses Verfahrens mit einer die
elektromagnetischen Strahlung erzeugenden
Strahlungsquelle und einem Probentisch mit Probe.
Verfahren zur zerstörungsfreien Prüfen und Bewerten von
stofflichen Eigenschaften mit elektromagnetischer
Strahlung sind als spektroskopische, interferrometrische
und mikroskopische Anordnungen im Durch- oder
Auflichtbetrieb hinlänglich bekannt.
Eine Reihe bekannter Verfahren beinhaltet die
Verknüpfung ausgewählter Wellen- und
Teilcheneigenschaften der Strahlung zur physikalisch
technischen Informationsgewinnung.
Gemeinsamer Nachteil dieser bekannten Verfahren ist der
hohe Aufwand zur Korrektur spektraler und stochastischer
Fehlereinflüsse (BERGMANN-SCHAEFER, Lehrbuch der
Experimentalphysik, Band 3, Optik, Verlag Walter de
Gryter, Berlin-New York 1993).
Weitere bekannte Verfahren befassen sich mit der
Rauhigkeitsmessung von Festkörperoberflächen, die auf
der Grundlage der Messung und Auswertung der Intensität
der von der Probenoberfläche reflektierten Strahlung
beruhen.
So beschreiben HARBECKE (US-PS 4 511 800) und SCHMIDT
(DD 2 10 487) Verfahren zur Rauhigkeitsmessung, die als
Ergebnis einen zur statistischen Rauhigkeit der
Probenoberfläche korrelierten Wert liefern. Eine lokale
Zuordnung der Meßwerte auf der Probenoberfläche ist nur
bedingt möglich.
Andere bekannte Lichtschnittmethoden sind durch das
optische Auflösungsvermögen (DE-OS 22 56 673) begrenzt.
Eine Reihe weiterer bekannter technischer Lösungen
nutzen das Laserscanning-Prinzip zur Probenrasterung,
wobei ein wesentlicher Nachteil in der mit Hilfe der
Strahlungsdetektoren erzielten Oberflächenbewertung zu
sehen ist. Beispielsweise können die
Oberflächeninspektionsgeräte der "Surfscan"-Reihe
(US-PS 4 601 576) nur makroskopische Defekte oder
Oberflächenbelegungen u.ä. erkennen.
Weitere bekannte Lösungen beziehen sich spezifische
Anordnungen und Verfahren der Interferrometrie (JP-PS
63-238410, JP-PS 63-201509), der winkelaufgelösten
Reflexionsmessung (DD 2 51 610, US-PS 5 243 405, US-PS
5 991 964, JP-PS 63-150611, JP-PS 63-191011) sowie
Verfahren zur Messung der Streulichtcharakteristik
einfallender elektromagnetischer Strahlung (DD 2 83 682,
DD 2 99 603, US-PS 4 973 164, JP-PS 63-191010).
Eine Sonderstellung im Rahmen der bekannten optischen
Meßverfahren nehmen differentiel Methoden ein, bei
denen die o.a. komplizierten Korrekturmechanismen durch
eine Normierung des Signals ersetzt werden (siehe R. E.
HUMMEL, "Differential reflectometry and its application
to the study of alloys, ordering, corrosion and surface
properties", Review Article, phys. stat. sol (a) 76, 11
(1983); R. ENDERLEIN "New look at the time shape of
differential reflectograms for dilute alloys", Physical
Review B, Volume 29, No 4; H. KUZMANY
"Festkörperspektroskopie - Eine Einführung", Springer-Verlag
Berlin-Heidelberg-New York-London-Paris-Tokio-Hong
Kong, 1989).
Allen diesen bekannten Anordnungen und Verfahren ist der
Nachteil gemeinsam, daß sie experimentellen Charakter
tragen, keine integrierte Informationsverarbeitung
enthalten, nicht automatisiert und für industrielle
Meßanwendungen nicht geeignet sind.
Aus der DD 2 95 906 B5 ist ein optisches
Zweischnittverfahren zur Bewertung der Qualität von
Festkörpern bekannt, bei dem durch die Aufnahme
wellenlängenspezifischer Reflexionsspektren zunächst
jene Wellenlängen ermittelt werden, bei denen bedingt
durch die stofflichen Eigenschaften an der
Festkörperoberfläche eine Intensitätsveränderung des
reflektierten Lichts eintritt und anschließend diese so
ermittelten Wellenlängen genutzt werden, um eine
ganzflächige Bestrahlung der zu untersuchenden
Festkörperoberfläche durchzuführen.
Die Messung bei diesem bekannten Verfahren erfolgt zwar
differentiell, ist aber letztendlich mit dem Nachteil
behaftet, daß der Meßstrahl durch einen Schwingspiegel
aufgespalten wird. Neben den Problemen, die ein
beweglicher Spiegel mit sich bringt, tritt der Nachteil
einer erhöhten Signaldämpfung durch die Lichtstreuung
während des Ablenkvorganges auf.
In Kenntnis dieses Standes der Technik liegt der
Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine
Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen
und/oder Bewerten stofflicher Eigenschaften von
Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien
der eingangs beschriebenen Art zur Verfügung zu stellen,
mit denen es möglich wird, auf der Basis einer
differentiellen Meßwertbildung eine lokal aufgelöste
Beurteilung der Stoffeigenschaften bei gleichzeitig
höherer Genauigkeit, Wirtschaftlichkeit und erheblicher
Zeitverkürzung zu gewährleisten.
Dies wird mit dem Verfahren der eingangs genannten Art
erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß der auf die Probe
geleitete Meßstrahl durch eine kurzfristige Veränderung
bzw. Unterbrechung seines optischen Strahlenganges ein
zeitlich auseinanderfallendes Referenzsignal und
Meßsignal erzeugt, beide Signale in einem Speicher
erfaßt und verarbeitet werden, wobei das Meßsignal
mindestens zweistufig auf das Referenzsignal normiert
und von spektralen bzw. stochastischen Fehlereinflüssen
befreit wird.
In einem bevorzugten weiteren Merkmal des
erfindungsgemäßen Verfahrens wird der optische Weg des
Meßstrahles durch eine zwischen der Strahlenquelle und
Probe rotierende Scheibe unterbrochen, mit der zeitlich
beliebige Sequenzen zwischen Meßstrahl und
Referenzstrahl eingestellt werden.
In einem weiteren bevorzugten Merkmal des
erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein fixes
Referenzsignal erzeugt, mit dem das Meßsignal mehrstufig
und zeitunkritisch normiert wird.
Die für differentielle Messungen typische Normierung des
Signals erfolgt erfindungsgemäß in zwei zeitlich
voneinander unabhängigen Teilschritten, wobei die
Speicherung von Referenz- und Meßdaten rechentechnisch
erfolgt. Auf diese Weise wird die differentielle
Normierung der gemessenen Signale bei gleichzeitiger
Korrektur spektraler und stochastischer Fehlereinflüsse
erreicht.
Die Aufnahme des Referenzsignal und des Meßsignals ist
nur geringfügig zeitlich voneinander versetzt. Dabei
wird im ersten Schritt die Messung auf der Scheibe
vorgenommen, die Scheibe um einen solchen Winkelbetrag
gedreht, daß der Meßstrahl nunmehr die Probe trifft. Im
zweiten Schritt erfolgt sodann die Messung an der Probe.
Geschieht dies in hinreichend kurzer Zeit, sind die
Voraussetzungen für die nachfolgende mehrstufige
Normierung mittels eines spezifischen mathematischen
Algorithmus gegeben.
Als Meßstrahl wird nach einem weiteren Merkmal des
erfindungsgemäßem Verfahrens eine poly- oder
monochromatische Strahlung unterschiedlicher Wellenlänge
verwendet.
Mit Vorteil kann dem Meßstrahl ein gepulster
Anregungsstrahl überlagert werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren erfordert im Gegensatz zu
den meisten Diagnoseverfahren des Standes der Technik
keine umfassende Probenpräparation. Es können reale,
unbehandelte Oberflächen und Volumina geprüft werden,
ohne daß der erfindungsgemäße Meßvorgang beeinträchtigt
wird.
Die Aufgabe wird weiterhin mit einer Anordnung dadurch
gelöst, daß zwischen der Probe und der Strahlungsquelle
ein faseroptischer Meßkopf angeordnet ist, dem
mindestens eine nahe dem Strahlenaustritt angeordnete,
den Strahlengang des Meßstrahles kurzzeitig
unterbrechende bzw. freigebende drehbare Scheibe
zugeordnet ist, wobei der Meßkopf aus einer koaxialen
Einkoppelfaser und einem darum angeordneten
Auskoppelfaserbündel besteht, das mit einem Rechner und
einem Monochromator verbunden ist.
Die drehbare Scheibe ist geometrisch gleichmäßig gezahnt
oder besitzt Zähne unterschiedlicher geometrischer Form.
Es gehört auch zu der Erfindung, wenn anstelle einer
geometrischen Zahnung die Scheibe eine digitale Zahnung
hat.
Die Scheibe selbst kann aus dem Probenmaterial oder auch
aus einem anderen beliebigen Referenzmaterial bestehen.
Natürlich ist der Abstand zwischen dem Meßkopf und der
Scheibe in weiterer Ausgestaltung der erfindungsgemäßen
Anordnung variabel verstellbar, so daß eine Veränderung
des optischen Weges problemlos möglich ist.
Durch alle diese Merkmale wird erreicht, daß die
erfindungsgemäße Lösung den komplexen Anforderungen
einer exakten, schnellen aber auch wirtschaftlichen
Prüfung und/oder Bewertung von stofflichen
Eigenschaften, insbesondere bei industrieller Nutzung,
gerecht wird.
Weitere Vorteile und Einzelheiten ergeben sich aus der
nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten
Ausführungsbeispieles, das unter Bezugnahme auf die
beigefügte Zeichnung einer schematischen Darstellung
der erfindungsgemäßen Anordnung erläutert wird.
Die erfindungsgemäße Anordnung besteht aus einer Scheibe
1 und einem faseroptischen Meßkopf 5, in dem eine
Einkoppelfaser 2 koaxial von mehreren, ein Faserbündel
bildenden Auskoppelfasern 3 umgeben ist. Die Meßstrahlen
7 werden von der Strahlenquelle 8 durch die
Einkoppelfaser 2 auf die Probe 6 geführt. Nahe dem
Meßstrahlaustritt am Meßkopf 5 und der zu untersuchenden
Probe 6 ist im Strahlengang des Meßstrahles die Scheibe
1 auf der Welle eines Antriebsmotors 4 montiert.
Der Meßkopf 5 ist dabei so positioniert, daß bei
Rotation der Scheibe 1 der optische Weg des Meßstrahles
7 verändert bzw. unterbrochen wird.
Dies geschieht durch eine geometrisch bestimmte digitale
Zahnung 9 an der Scheibe 1.
Als Meßmittel dient poly- oder monochromatische
elektromagnetische Strahlung unterschiedlicher
Wellenlänge.
Die erfindungsgemäße Anordnung ermöglicht eine
Verfahrensführung, bei der die Meßwerterfassung durch
eine zeitlich nur geringfügig versetzte Aufnahme von
Referenzsignal und Meßsignal erfolgt.
Dazu wird im ersten Schritt I die Messung auf der
Scheibe 1 vorgenommen und diese um einen solchen Winkel
gedreht, daß der Meßstrahl 7 die Probe 6 erreichen kann.
Im zweiten Schritt II erfolgt die Messung an der Probe 6
selbst.
Erfolgt dieser Vorgang in hinlänglich kurzer Zeit, sind
die Voraussetzungen für eine nachfolgende Normierung
mittels eines spezifischen mehrschrittigen
mathematischen Algorithmus als dritten Schritt III
gegeben.
Die Verarbeitung der gewonnenen Meß- und Referenzsignale
erfolgt mittels eines nicht dargestellten
handelsüblichen Computer, so daß deren weitere
Beschreibung entfallen kann.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, an
Festkörpern Aussagen zur Oberflächenanalytik,
insbesondere zu Oberflächen- und oberflächennahe
Eigenschaften, morphologische Eigenschaften,
Legierungsanteilen, Kristallschädigungen in Halbleitern
und zu Korrosionsdefekten zu gewinnen.
Schichtdickenmessungen sind ebenso möglich wie der
Nachweis von Volumeneffekten bei Gasen und
Flüssigkeiten, beispielsweise die Messung des Anteiles
von Schwebstoffen.
Bezugszeichenliste
1 Scheibe
2 Einkoppelfaser
3 Auskoppelfaser
4 Antriebsmotor
5 Meßkopf
6 Probe
7 Meßstrahl
8 Strahlenquelle.
2 Einkoppelfaser
3 Auskoppelfaser
4 Antriebsmotor
5 Meßkopf
6 Probe
7 Meßstrahl
8 Strahlenquelle.
Claims (14)
1. Verfahren zum zerstörungsfreien, berührungslosen
Prüfen und/oder Bewerten stofflicher Eigenschaften von
Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien im
Reflexions-, Absorptions-, Transmissions- und
Reemissionsmodus, bei dem die Untersuchungsprobe mit einem
elektromagnetischen Meßstrahl beaufschlagt und die
Wechselwirkung von Strahlung und Probe ausgewertet wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß der auf die Probe geleitete Meßstrahl durch eine
kurzfristige Veränderung seines optischen Strahlenganges
ein zeitlich auseinanderfallendes Referenzsignal und
Meßsignal erzeugt, beide Signale in einem Speicher
erfaßt und verarbeitet werden, wobei das Meßsignal
mindestens zweistufig differentiell auf das
Referenzsignal normiert und korrigiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der
optische Weg des Meßstrahles durch eine zwischen
Strahlenquelle und Probe rotierende Scheibe
unterbrochen wird, mit der zeitlich beliebige Sequenzen
zwischen Meßstrahl und Referenzstrahl eingestellt
werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
ein fixes Referenzsignal erzeugt wird, mit dem das
Meßsignal mehrstufig und zeitunkritisch normiert
wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß als
Meßstrahl poly- oder monochromatische elektromagnetische
Strahlung unterschiedlicher Wellenlänge verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß dem
Meßstrahl mindestens ein gepulster Anregungsstrahl
überlagert wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Wellenlänge des Meßstrahles während der Messung
kontinuierlich verändert wird.
7. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach
Anspruch 1, mit einer elektromagnetische Strahlung
erzeugenden Strahlungsquelle und einem Probentisch mit
Probe,
dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen der Probe (6) und der Strahlungsquelle (8) ein
faseroptischer Meßkopf (5) angeordnet ist, dem eine nahe
dem Meßstrahlaustritt angeordnete, den Strahlengang des
Meßstrahles veränderende drehbare Scheibe (1) zugeordnet
ist, wobei der Meßkopf (5) aus einer koaxialen
Einkoppelfaser (2) und einem darum angeordneten
Auskoppelfaserbündel (3) besteht, das mit einem Rechner
und einem Monochromator verbunden ist.
8. Anordnung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Scheibe (1) in einer einzigen oder in einer
unterschiedlichen geometrischen Form gezahnt, geschlitzt
oder gelocht ist.
9. Anordnung nach Anspruch 7,
gekennzeichnet durch, daß die
Scheibe (1) digital gezahnt ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Scheibe (1) aus dem Probenmaterial oder einem
beliebigen anderen Referenzmaterial besteht.
11. Anordnung nach Anspruch 7 bis 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Scheibe (1) transparent ist.
12. Anordnung nach Anspruch 7 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Scheibe (1) mindestens mit einem Referenzmaterial oder
dem Probenmaterial beschichtet ist.
13. Anordnung nach Anspruch 7 bis 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Scheibe (1) mit verschiedenen Referenzmaterialen
beschichtet ist.
14. Anordnung nach Anspruch 7 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß der
Abstand zwischen Meßkopf (5) und Scheibe (1) einstellbar
ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996116245 DE19616245C2 (de) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien |
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DE1996116245 DE19616245C2 (de) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | Verfahren und Anordnung zum zerstörungsfreien, berührungslosen Prüfen und/oder Bewerten von Festkörpern, Flüssigkeiten, Gasen und Biomaterialien |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE19616245A1 true DE19616245A1 (de) | 1997-10-16 |
DE19616245C2 DE19616245C2 (de) | 1998-06-18 |
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ID=7792232
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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DE (1) | DE19616245C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19741122C2 (de) * | 1997-09-12 | 2003-09-25 | Forschungsverbund Berlin Ev | Anordnung zur Vermessung und Strukturierung (Nahfeldanordnung) |
Citations (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2753240A1 (de) * | 1976-12-07 | 1978-06-08 | Haard Af Segerstad | Messanordnung zur aufzeichnung der struktur eines gegenstandes, der beschaffenheit einer oberflaeche oder dergleichen |
DE2727976B2 (de) * | 1977-06-22 | 1979-09-06 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Vorrichtung zur Messung der Konzentration mindestens einer Komponente eines Gasgemisches und Verfahren zum Eichen derselben |
DD210487A1 (de) * | 1982-07-26 | 1984-06-13 | Humboldt Uni | Verfahren zur beurteilung der adhaesionseignung metallischer oberflaechen |
US4511800A (en) * | 1983-03-28 | 1985-04-16 | Rca Corporation | Optical reflectance method for determining the surface roughness of materials in semiconductor processing |
US4601576A (en) * | 1983-12-09 | 1986-07-22 | Tencor Instruments | Light collector for optical contaminant and flaw detector |
EP0198759A2 (de) * | 1985-04-09 | 1986-10-22 | Sanofi | Vorrichtung zur Messung der Hauthelligkeit |
DE8528346U1 (de) * | 1985-10-04 | 1987-02-12 | Pantuc Ing.-Büro Stephan Röthele, 3392 Clausthal-Zellerfeld | Vorrichtung zur on-line-Messung von Transmission oder Reflexion an bewegten Objekten im Bereich detektierbarer elektromagnetischer Strahlung |
DD251610A1 (de) * | 1986-07-30 | 1987-11-18 | Univ Schiller Jena | Verfahren zur rauheits- und staubmessung von glatten oberflaechen |
DE3623345A1 (de) * | 1986-07-11 | 1988-01-21 | Kernforschungsz Karlsruhe | Verfahren zur selektiven messung der konzentrationen von ir- bis uv-strahlung absorbierenden gasfoermigen und/oder fluessigen komponenten in gasen und/oder fluessigen substanzen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
JPS63150611A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-23 | Matsushita Electric Works Ltd | 光学式表面粗さ測定装置 |
JPS63191011A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-08 | Mitsubishi Metal Corp | 光学式表面粗さ測定装置 |
JPS63191010A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 表面粗さ計測方法 |
JPS63201509A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-19 | Masaaki Adachi | 表面粗さ測定装置 |
JPS63238410A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Masaaki Adachi | 表面粗さ測定方法 |
DD283682A5 (de) * | 1988-02-24 | 1990-10-17 | �����@����@����@�����`����������k�� | Verfahren und vorrichtung zur optischen erfassung des rauheitsprofils einer materialoberflaeche |
DD295906A5 (de) * | 1988-09-16 | 1991-11-14 | Heymann Guenter | Optisches zweischrittverfahren zur bewertung der qualitaet von festkoerpern |
DD296757A5 (de) * | 1990-07-23 | 1991-12-12 | Akademie Der Wissenschaften Der Ddr,De | Faseroptische messvorrichtung |
US5083086A (en) * | 1990-07-12 | 1992-01-21 | James G. Biddle Co. | Differential arc reflectometry |
DD299603A7 (de) * | 1989-06-09 | 1992-04-30 | Jenoptik Carl Zeiss Jena Gmbh,De | Ao zur automatischen spektralen transmissions- und reflektionsmessung optischer schichten mit grossem transmissions- oder reflektionsgradienten |
US5243405A (en) * | 1991-01-07 | 1993-09-07 | Tichenor Clyde L | Optical system for surface verification |
US5357346A (en) * | 1992-11-24 | 1994-10-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Solderability tester methodology |
-
1996
- 1996-04-15 DE DE1996116245 patent/DE19616245C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2753240A1 (de) * | 1976-12-07 | 1978-06-08 | Haard Af Segerstad | Messanordnung zur aufzeichnung der struktur eines gegenstandes, der beschaffenheit einer oberflaeche oder dergleichen |
DE2727976B2 (de) * | 1977-06-22 | 1979-09-06 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Vorrichtung zur Messung der Konzentration mindestens einer Komponente eines Gasgemisches und Verfahren zum Eichen derselben |
DD210487A1 (de) * | 1982-07-26 | 1984-06-13 | Humboldt Uni | Verfahren zur beurteilung der adhaesionseignung metallischer oberflaechen |
US4511800A (en) * | 1983-03-28 | 1985-04-16 | Rca Corporation | Optical reflectance method for determining the surface roughness of materials in semiconductor processing |
US4601576A (en) * | 1983-12-09 | 1986-07-22 | Tencor Instruments | Light collector for optical contaminant and flaw detector |
EP0198759A2 (de) * | 1985-04-09 | 1986-10-22 | Sanofi | Vorrichtung zur Messung der Hauthelligkeit |
DE8528346U1 (de) * | 1985-10-04 | 1987-02-12 | Pantuc Ing.-Büro Stephan Röthele, 3392 Clausthal-Zellerfeld | Vorrichtung zur on-line-Messung von Transmission oder Reflexion an bewegten Objekten im Bereich detektierbarer elektromagnetischer Strahlung |
DE3623345A1 (de) * | 1986-07-11 | 1988-01-21 | Kernforschungsz Karlsruhe | Verfahren zur selektiven messung der konzentrationen von ir- bis uv-strahlung absorbierenden gasfoermigen und/oder fluessigen komponenten in gasen und/oder fluessigen substanzen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DD251610A1 (de) * | 1986-07-30 | 1987-11-18 | Univ Schiller Jena | Verfahren zur rauheits- und staubmessung von glatten oberflaechen |
JPS63150611A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-23 | Matsushita Electric Works Ltd | 光学式表面粗さ測定装置 |
JPS63191011A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-08 | Mitsubishi Metal Corp | 光学式表面粗さ測定装置 |
JPS63191010A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 表面粗さ計測方法 |
JPS63201509A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-19 | Masaaki Adachi | 表面粗さ測定装置 |
JPS63238410A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Masaaki Adachi | 表面粗さ測定方法 |
DD283682A5 (de) * | 1988-02-24 | 1990-10-17 | �����@����@����@�����`����������k�� | Verfahren und vorrichtung zur optischen erfassung des rauheitsprofils einer materialoberflaeche |
US4973164A (en) * | 1988-02-24 | 1990-11-27 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik | Method and apparatus for the optical detection of the roughness profile of a material surface |
DD295906A5 (de) * | 1988-09-16 | 1991-11-14 | Heymann Guenter | Optisches zweischrittverfahren zur bewertung der qualitaet von festkoerpern |
DD299603A7 (de) * | 1989-06-09 | 1992-04-30 | Jenoptik Carl Zeiss Jena Gmbh,De | Ao zur automatischen spektralen transmissions- und reflektionsmessung optischer schichten mit grossem transmissions- oder reflektionsgradienten |
US5083086A (en) * | 1990-07-12 | 1992-01-21 | James G. Biddle Co. | Differential arc reflectometry |
DD296757A5 (de) * | 1990-07-23 | 1991-12-12 | Akademie Der Wissenschaften Der Ddr,De | Faseroptische messvorrichtung |
US5243405A (en) * | 1991-01-07 | 1993-09-07 | Tichenor Clyde L | Optical system for surface verification |
US5357346A (en) * | 1992-11-24 | 1994-10-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Solderability tester methodology |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
HUMMEL, R.E., ENDERLEIN, R.: New look at the shape of differential reflectograms for dilute alloys, in: Phys.Rev. B 29, No. 4, 1984, S. 1529-1533 * |
HUMMEL, R.E.: Differential Reflectometry and Its Application to the Study of Alloys, Ordering, Corrosion, and Surface Properties, in: phys.stat. sol. (a) 76, 1983, S. 11-44 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19616245C2 (de) | 1998-06-18 |
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