DE19613333A1 - Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein besonders vorteilhaftes und einfach durchzu
führendes Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen aus Amiden und
Kohlendioxid.
Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen sind bereits bekannt, z. B.
aus den DE-OS′en 31 15 650, 30 03 653, 25 42 453 und 18 11 843. Bei den dort
beschriebenen Verfahren werden Isocyanate als Edukte verwendet, die aus
Phosgen herzustellen sind. Phosgen erfordert sehr aufwendige Sicherheitsmaß
nahmen um gefahrlos gehandhabt werden zu können.
Andere bekannte Verfahren gehen von Aminen, Kohlendioxid und 2-Halogen
carbonsäurestern aus, wobei eine starke organische Base, z. B. N-Cyclohexyl-
N′,N′,N′′,N′′-tetraethylguanidin als Hilfsstoff einzusetzen ist (s. z. B.
WO 94/18 181). Die benötigten Basen sind nicht nur teuer, sondern gehen bei der
wäßrigen Aufarbeitung auch verloren, was ökologisch und ökonomisch nicht
sinnvoll ist. Eine analoge Reaktion ist auch in Collect. Czech. Chem. Commun.
54, 1005 (1989) beschrieben.
Ein weiteres Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen bedient sich der
Reaktion von Amiden mit Kohlendioxid unter Anwendung einer sog.
"elektrochemischer Katalyse" (s. J. Chem. Research (S), 1995, 166 und Tetra
hedron 51, 5891 (1995), wobei eine sog. Probase, z. B. (EtO₂C)₂C=C(CO₂Et)₂
zuzusetzen ist. Die Ausbeuten bei diesem Verfahren sind teilweise gut, oft lassen
sie aber auch zu wünschen übrig. Die Probase muß in doppelt stöchiometrischen
Anteilen zugesetzt werden, wenn die Ausbeute in erwünschte Größenordnungen
gebracht werden soll. Die Elektroden für die elektrochemische Katalyse enthalten
Quecksilber. Schließlich ist das Reaktionsgemisch auch noch zündfähig (z. B.
wegen der gleichzeitigen Anwesenheit von Dimethylformamid und elektrischem
Strom). Deshalb ist es insgesamt für eine Anwendung in technischem Maßstab
nicht geeignet.
Noch ein anderes Verfahren verwendet Amide, Kaliumcarbonat und Chlorameisen
säureester in Dimethylformamid. (Heterocycles 32. 1697 (1991)). Auch hier ist
Phosgen als Vorstufe für den verwendeten Chlorameisensäureester einzusetzen,
was großen technischen Aufwand bedeutet.
Es wurde nun ein Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen der
Formel (I) gefunden
in der
R¹, R² und R³ gleich oder verschieden sind und jeweils für einen der folgenden Reste stehen:
C₁-C₃₀-Alkyl, C₃-C₃₀-Alkenyl, C₃-C₃₀-Alkinyl, C₃-C₁₂-Cycloalkyl, C₅-C₁₂- Cycloalkenyl, C₈-C₁₂-Cycloalkinyl, C₆-C₁₄-Aryl, C₅-C₁₃-Hetaryl mit bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem, C₇-C₂₀-Aralkyl, C₉-C₂₀-Aralkenyl, C₉-C₂₀-Aralkinyl, C₇-C₂₀-Alkaryl, C₈-C₂₀-Alkenaryl oder C₈- C₂₀-Alkinaryl,
die gegebenenfalls ein bis fünfmal durch O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl, N(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₂, COO-C₁-C₁₂-Alkyl oder COO-C₆-C₁₀-Aryl, CONH-C₁-C₁₂-Alkyl, CONH-C₆-C₁₀-Aryl, CON(C₁-C₁₂-Alkyl)₂, CON(C₆-C₁₀- Aryl)₂ Halogen, OP(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C ₁₀-Aryl)₂, Si(C₁ C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(C₁-C₁₂- Alkyl und C₆-C₁₀-Aryl)(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, Si(C₁-C₁₂- Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₂(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl), OS(C₁-C₁₂- Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl, O₂S(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), CHO, CN, C(O-C₁- C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, OC(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), NO₂, CF₃, OCF₃, OCF₂H, OCFH₂, OCF₂CF₃, OCH₂CF₃, OCO(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀- Aryl), OP(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, OP(O-C₁-C₁₀-Alkyl oder O-(C₆-C₁₀- Aryl)₂(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl) substituiert sein können
und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff- oder Schwefelatome oder N(C₁-C₁₂- Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-Gruppen unterbrochen sein können,
oder für einen gegebenenfalls geschützten peptidischen Rest stehen
und wobei R² und R³ unabhängig voneinander auch für Wasserstoff stehen können,
bei dem Amide der Formel (II)
R¹, R² und R³ gleich oder verschieden sind und jeweils für einen der folgenden Reste stehen:
C₁-C₃₀-Alkyl, C₃-C₃₀-Alkenyl, C₃-C₃₀-Alkinyl, C₃-C₁₂-Cycloalkyl, C₅-C₁₂- Cycloalkenyl, C₈-C₁₂-Cycloalkinyl, C₆-C₁₄-Aryl, C₅-C₁₃-Hetaryl mit bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem, C₇-C₂₀-Aralkyl, C₉-C₂₀-Aralkenyl, C₉-C₂₀-Aralkinyl, C₇-C₂₀-Alkaryl, C₈-C₂₀-Alkenaryl oder C₈- C₂₀-Alkinaryl,
die gegebenenfalls ein bis fünfmal durch O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl, N(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₂, COO-C₁-C₁₂-Alkyl oder COO-C₆-C₁₀-Aryl, CONH-C₁-C₁₂-Alkyl, CONH-C₆-C₁₀-Aryl, CON(C₁-C₁₂-Alkyl)₂, CON(C₆-C₁₀- Aryl)₂ Halogen, OP(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C ₁₀-Aryl)₂, Si(C₁ C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(C₁-C₁₂- Alkyl und C₆-C₁₀-Aryl)(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, Si(C₁-C₁₂- Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₂(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl), OS(C₁-C₁₂- Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl, O₂S(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), CHO, CN, C(O-C₁- C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, OC(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), NO₂, CF₃, OCF₃, OCF₂H, OCFH₂, OCF₂CF₃, OCH₂CF₃, OCO(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀- Aryl), OP(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, OP(O-C₁-C₁₀-Alkyl oder O-(C₆-C₁₀- Aryl)₂(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl) substituiert sein können
und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff- oder Schwefelatome oder N(C₁-C₁₂- Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-Gruppen unterbrochen sein können,
oder für einen gegebenenfalls geschützten peptidischen Rest stehen
und wobei R² und R³ unabhängig voneinander auch für Wasserstoff stehen können,
bei dem Amide der Formel (II)
in der
R¹, R² und R³ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben und
X für eine Abgangsgruppe
stehen,
und Kohlendioxid umgesetzt werden, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man die Umsetzung in einem Lösungsmittel und in Gegenwart einer oder mehrerer basischer Verbindungen durchführt.
R¹, R² und R³ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben und
X für eine Abgangsgruppe
stehen,
und Kohlendioxid umgesetzt werden, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man die Umsetzung in einem Lösungsmittel und in Gegenwart einer oder mehrerer basischer Verbindungen durchführt.
In Formel (II) kann X beispielsweise für Halogen, eine Sulfonatgruppe oder einen
oder mehrere Sulfonatgruppen enthaltenden Rest stehen. Vorzugsweise steht es für
Chlor, Brom, C₁-C₄-Alkyl-phenylsulfonat, Tosylat, Perfluor-C₁-C₄-alkylsulfonat,
Trinormethansulfonat oder Mesitylat.
Verbindungen der Formel (II) sind z. B. zugänglich aus den entsprechenden
Säuren, Estern, Säurechloriden, Säureanhydriden oder Säure-amin-salzen auf
bekannte Weise durch Umsetzung mit Aminen der Formel (IIIA)
R¹-NH₂ (IIIA)
in der
R¹ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat,
oder der Formel (IIIB)
R¹ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat,
oder der Formel (IIIB)
B-(NH₂)n (IIIB)
in der
B für einen aliphatischen Rest mit 3 bis 30 C-Atomen, einen aromatischen Rest mit 6 bis 14 C-Atomen oder einen heterocyclischen Rest mit 5 bis 13 C-Atomen und bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem und
n für eine ganze Zahl von 2 bis 30 stehen,
und Ketonen der Formel
B für einen aliphatischen Rest mit 3 bis 30 C-Atomen, einen aromatischen Rest mit 6 bis 14 C-Atomen oder einen heterocyclischen Rest mit 5 bis 13 C-Atomen und bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem und
n für eine ganze Zahl von 2 bis 30 stehen,
und Ketonen der Formel
in der
R² und R³ die bei Formel (I) und X die bei Formel (II) angegebene Bedeutung haben und
Y für Hydroxy, Halogen, C₁-C₆-Alkoxy oder C₆-C₁₀-Aryloxy oder OCO-R¹ stehen,
wobei R¹ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat
(siehe z. B. Organicum, Berlin 1990, S. 387, 388, 408, 409, 412, 611 und 622).
R² und R³ die bei Formel (I) und X die bei Formel (II) angegebene Bedeutung haben und
Y für Hydroxy, Halogen, C₁-C₆-Alkoxy oder C₆-C₁₀-Aryloxy oder OCO-R¹ stehen,
wobei R¹ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat
(siehe z. B. Organicum, Berlin 1990, S. 387, 388, 408, 409, 412, 611 und 622).
Halogen kann z. B. Fluor, Chlor, Brom oder Iod bedeuten.
Einzelne, nicht erschöpfend aufgezählte Beispiele für Alkylgruppen, auch in
zusammengesetzten Resten, sind Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl,
Heptyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Undecyl, Dodecyl, Tridecyl, Tetradecyl, Pentadecyl
und Hexadecyl, die jeweils geradkettig oder verzweigt und/oder gegebenenfalls mit
Fluor substituiert sein können.
Einzelne, nicht erschöpfend aufgezählte Beispiele für Alkoxygruppen, auch in
zusammengesetzten Resten sind Methoxy, Ethoxy, Propyloxy, Butyloxy,
Pentyloxy, Hexyloxy, Heptyloxy, Octyloxy, Nonyloxy, Decyloxy, Undecyloxy und
Dodecyloxy, die jeweils geradkettig oder verzweigt und/oder gegebenenfalls mit
Fluor substituiert sein können.
Einzelne, nicht erschöpfend aufgezählte Beispiele für Hetarylgruppen sind
Pyrazolyl, Imidazolyl, 1,2,4-Triazolyl, Pyrrolyl, Furanyl, Thienyl, Thiazolyl, Oxa
zolyl, Pyridinyl, Pyrimidinyl, Triazinyl, Chinolinyl, Isochinolinyl, Chinazolinyl,
Indolyl, Benzothienyl, Benzofuranyl, Benzothiazolyl, Benzimidazolyl, Pyrazo
lylmethyl, Imidazolylmethyl, 1,2,4-Triazolylmethyl, Pyrrolylmethyl, Furfuryl,
Thienylmethyl, Thiazolylmethyl, Oxazolylmethyl, Pyridinylmethyl, Pyrimidin
methyl, Triazinylmethyl, Chinolinylmethyl, Isochinolinylmethyl, Chinazolinyl
methyl, Indolylmethyl, Benzothienylmethyl, Benzofurfuryl, Benzothiazolylmethyl
oder Benzimidazolylmethyl, wobei gegebenenfalls jede dieser Gruppen einfach bis
dreifach, gleichartig oder verschieden substituiert sein kann, z. B. durch Fluor,
Chlor, Brom, Methyl, Ethyl und/oder tert.-Butyl.
Amine der Formel (IIIB) sind z. B.: Ethylen-, Butylen-, Hexylen-, Pentylen-,
Octylen-, Decyclen- und Dodecylen-diamin, 1,4-Diaminobenzol, 1,4′-Benzidin,
2,5-Diaminopyridin, sog. TAN-Amine wie in der EP-OS 511 948 beschrieben oder
Amine wie in der WO 94/18181 beschrieben.
Anstelle von Aminen der Formeln (IIIA) oder (IIIB) können auch, gegebenenfalls
anteilig, Hydrazin-Derivate der Formel (V) eingesetzt werden
in der
R¹ und R² die bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben.
R¹ und R² die bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben.
Bevorzugt sind Amide der Formel (11), bei denen R¹, R² und R³ unabhängig von
einander jeweils für einen der folgenden Reste stehen:
C₁-C₁₄-Alkyl, C₃-C₁₀-Alkenyl, C₃-C₁₀-Alkinyl, C₃-C₁₂-Cycloalkyl, C₅-C₇- Cycloalkenyl, C₆-C₁₀-Aryl, C₅-C₁₀-Hetaryl mit bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem, C₇-C₁₂-Aralkyl oder C₇-C₁₀-Alkaryl,
die gegebenenfalls ein- bis fünfmal durch O-C₁-C₆-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl, N(C₁-C₆-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₂, COO-C₁-C₆-Alkyl, COO-C₆-C₁₀-Aryl, CONH- C₁-C₆-Alkyl, CON(C₁-C₆-Alkyl)₂, OS(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl), O₂S(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl), CHO, CN, OC(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl), NO₂, CF₃, OCF₃, OCF₂H, OCFH₂, OCO(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl) oder HNCO(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl) substituiert sein können,
und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff- oder Schwefelatome oder N(C₁-C₆- Alkyl oder Phenyl)-Gruppen unterbrochen sein können und,
wobei R² und/oder R³ auch für Wasserstoff stehen können.
C₁-C₁₄-Alkyl, C₃-C₁₀-Alkenyl, C₃-C₁₀-Alkinyl, C₃-C₁₂-Cycloalkyl, C₅-C₇- Cycloalkenyl, C₆-C₁₀-Aryl, C₅-C₁₀-Hetaryl mit bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem, C₇-C₁₂-Aralkyl oder C₇-C₁₀-Alkaryl,
die gegebenenfalls ein- bis fünfmal durch O-C₁-C₆-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl, N(C₁-C₆-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₂, COO-C₁-C₆-Alkyl, COO-C₆-C₁₀-Aryl, CONH- C₁-C₆-Alkyl, CON(C₁-C₆-Alkyl)₂, OS(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl), O₂S(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl), CHO, CN, OC(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl), NO₂, CF₃, OCF₃, OCF₂H, OCFH₂, OCO(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl) oder HNCO(C₁-C₆-Alkyl oder Phenyl) substituiert sein können,
und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff- oder Schwefelatome oder N(C₁-C₆- Alkyl oder Phenyl)-Gruppen unterbrochen sein können und,
wobei R² und/oder R³ auch für Wasserstoff stehen können.
Besonders bevorzugt sind Amide der Formel (II), bei denen R¹ für einen der
folgende Reste steht: Methyl, Ethyl, n-Propyl, i-Propyl, Butyl, Cyclohexyl, Phenyl,
Pyrazolyl, Imidazolyl, Pyrrolyl, Furanyl, Thienyl, Pyridinyl, Chinolinyl,
Isochinolinyl, Chinazolyl, Indolyl, Benzyl, Tolyl und Xylyl, die gegebenenfalls ein
bis zweimal durch Methoxy, Ethoxy, Phenyl, CHO, CN, Cl, F, Br, OCF₃, OCF₂H,
Carboxymethyl, Carboxyethyl oder NO₂ substituiert sein können und
die gegebenenfalls ein- oder zweimal durch ein Sauerstoffatom oder eine N- Methyl-, N-Ethyl- oder N-Phenyl-Gruppe unterbrochen sein können.
die gegebenenfalls ein- oder zweimal durch ein Sauerstoffatom oder eine N- Methyl-, N-Ethyl- oder N-Phenyl-Gruppe unterbrochen sein können.
Im einzelnen seien folgende Amine der Formel (IIIA) genannt:
Methylamin, Ethylamin, n-Propylamin, i-Propylamin, n-Butylamin, i-Butylamin, s-
Butylamin, n-Pentylamin, Amylamin, i-Amylamin, Hexylamin, Heptylamin, Octyl
amin, Nonylamin, Dodecylamin, Undecylamin, Dodecylamin Tridecylamin, Tetra
decylamin, Pentadecylamin, Hexadecylamin, Heptadecylamin, Octadecylamin,
Cyciohexylamin, Benzylamin, Phenylamin, Allylamin, Anilin, 2-Ethylanilin, 2-
Propylanilin 2-Cyclohexylanilin, 3,5-Dichloranilin, 1-Fluor-4-chlor-5 -hydroxyanilin
und 1-Fluor-4-chlor-5-chlor-5-cyclopentyloxyanilin sowie die Methyl- und Ethyl
ester folgender Aminosäuren und die Peptide mit folgenden Aminosäure
endgruppen: Alanin, Arginin, Asparagin, Asparaginsäure, Cystein, Glutamin,
Glutaminsäure, Glycin, Histidin, Isoleucin, Leucin, Lysin, Methionin,
Phenylalanin, Prolin, Serin, Threonin, Tryptophan, Tyrosin, Valin, t-Butylglycin,
Ornithin, Norleucin und Sarcosin.
Als Kohlenstoffdioxid kann in das erfindungsgemäße Verfahren das übliche
Handelsprodukt, gegebenenfalls auch sogenanntes Trockeneis, eingesetzt werden.
Außerdem kann, insbesondere für spezielle Zwecke, z. B. für analytische oder diag
nostische Verwendungen oder für solche Verwendungen der daraus herstellbaren
Produkte, auch mit Isotopen angereichertes, z. B. ¹³C und/oder ¹⁴C enthaltendes
Kohlendioxid eingesetzt werden.
R² und R³ können außerdem auch gemeinsam für einen der folgenden Reste in
zweibindiger Form stehen: C₁-C₃₀-Alkyl, C₄-C₁₂-Cycloalkyl, C₅-C₃₀-Alkenyl, C₈-
C₃₀-Alkinyl, C₇-C₂₀-Aralkyl, C₈-C₂₀-Aralkenyl, C₈-C₂₀-Alkenaryl und bis zu 3
Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem enthaltenes C₅-
C₁₃-Alkenhetaryl und C₅-C₁₃-Alkinhetaryl,
wobei gemeinsam mit dem C-Atom, an das R² und R³ gebunden sind, jeweils 3- bis 7-gliedrige Ringe resultieren und
wobei kettenförmige Molekülteile, linear, verzweigt und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff-, Schwefel-, N(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-, CO-, COO-, SO-, SO₂- oder SO(O)O- oder OP(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-Gruppen unterbrochen sein können.
wobei gemeinsam mit dem C-Atom, an das R² und R³ gebunden sind, jeweils 3- bis 7-gliedrige Ringe resultieren und
wobei kettenförmige Molekülteile, linear, verzweigt und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff-, Schwefel-, N(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-, CO-, COO-, SO-, SO₂- oder SO(O)O- oder OP(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-Gruppen unterbrochen sein können.
Pro eingesetztes Amidäquivalent kann man in das erfindungsgemäße Verfahren
beispielsweise 0,01 bis 10 000 Äquivalente Kohlendioxid einsetzen. Vorzugsweise
beträgt dieses Verhältnis 1 : 0,5 bis 1 : 1000, insbesondere 1 : 1 bis 10.
Es ist ein wesentliches Merkmal der vorliegenden Erfindung, daß man in Gegen
wart einer oder mehrerer basischen Verbindungen arbeitet, wobei insbesondere
basische Verbindungen der Elemente Lithium, Natrium, Magnesium, Kalium,
Calzium, Rubidium, Strontium, Cäsium, Barium und/oder Ammoniums günstig
sind. Als basische Verbindungen kommen z. B. basisch reagierende Salze, Oxide,
Hydride und Hydroxide in Frage. Beispielsweise seien genannt: Lithiumhydrid,
Natriumhydrid, Kaliumhydrid, Calziumhydrid, Lithiumhydroxid, Natriumhydroxid,
Kaliumhydroxid, Rubidiumhydroxid, Magnesiumhydroxid, Kalziumhydroxid,
Strontiumhydroxid, Bariumhydroxid, Lithiumoxid, Natriumperoxid, Kaliumoxid,
Kaliumperoxid, Calziumoxid, Bariumoxid, Magnesiumoxid, Strontiumoxid,
Lithiumcarbonat, Lithiumhydrogencarbonat, Natriumcarbonat, Natriumhydrogen
carbonat, Kaliumcarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Rubidiumcarbonat, Rubidium
hydrogencarbonat, Cäsiumhydrogencarbonat, Cäsiumcarbonat, Lithiumcyanid,
Natriumcyanid, Kaliumcyanid, Rubidiumcyanid, Ammoniumhydrogencarbonat,
Ammoniumcarbonat, Ammoniumcarbamat, Kaliumsulfit, Kaliumhydrogensulfid,
Natriumsulfid, Natriumhydrogensulfid und/oder deren natürlich vorkommende oder
synthetisch erhältliche Gemische, wie beispielsweise Dolimit oder Magnesium
oxidcarbonat und/oder Verbindungen, die Natrium- oder Kaliummetall auf den ent
sprechenden Carbonaten in dispergierter Form enthalten.
Bevorzugt sind Alkalicarbonate und/oder -hydrogencarbonate, ganz besonders
bevorzugt Kaliumcarbonat.
Die basischen Verbindungen können in wasserfreier Form oder, soweit es sich um
Salze handelt, die mit Hydratwasser kristallisieren, auch in hydratysierter Form
eingesetzt werden. Bevorzugt werden wasserfreie Verbindungen eingesetzt.
Die basischen Verbindungen können beispielsweise in Mengen von 0,5 bis 10 mol
pro mol eingesetztes Amid der Formel (II) verwendet werden. Vorzugsweise liegt
diese Menge im Bereich 0,8 bis 5 mol, besonders bevorzugt im Bereich 1 bis 2,5
mol, jeweils pro Mol eingesetztes Amid der Formel (II).
Man kann das erfindungsgemäße Verfahren gegebenenfalls in Gegenwart von
Hilfsbasen durchführen, d. h. in Gegenwart von weiteren Basen, beispielsweise in
einer Menge von weniger als 1,0 mol, bevorzugt weniger als 0,5 mol, jeweils
bezogen auf 1 mol der basischen Verbindung.
Als solche Hilfsbasen kommen beispielsweise in Frage: Halogenide von Alkali
metallen, Zeolithe, Kaliumacetat, Kaliumformiat, Natriumacetat, Titanalkonate,
Titansäureamide, Amidinbasen oder Guanidinbasen wie 1,5-Diazabicyclo-
(4.3.0)non-5-en (DBN), 1,8-Diazabicyclo(5.4.0)undec-7-en (DBU), 7-Methyl-1,5,7-
triazabicyclo(4.4.0)dec-5-en (MTBD), Cyclohexyl-tetrabutylguanidin, Cyclohexyl
tetramethylguanidin, N,N,N,N-Tetramethyl-1,8-naphthalindiamin, Pentamethyl
piperidin, N,N-Dimethylaminopyridin, N-Butyl-tetraethylguanidin, N-t-Butyl-N′,N′-
diethylformamidin, Tetramethylguanidin, Tetraethylguanidin, N-t-Butyl-N′,N′-
dimethylacetamidin, N-Cyclohexyl-tetraethylguanidin und N-t-Butyl-tetra
ethylguanidin sowie 1,4-Diazabicyclo(2.2.2)octan (DABCO), tertiäre Amine wie
Triethylamin, Trimethylamin, N-Methylmorpholin, Pyridin und Tetramethyl
ethylendiamin, primäre und sekundäre Amine gleicher Struktur wie das zur
Umsetzung eingesetzte Amin, Alkyl- und Arylmetallverbindungen, wie Butyl-,
Methyl-, Phenyl- und Neopylithium, sowie Grignardreagentien.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird in Gegenwart von Lösungsmitteln durchge
führt. Das Lösungsmittel wird vorteilhafterweise in einer solchen Menge einge
setzt, daß das Reaktionsgemisch während des ganzen Verfahrens gut rührbar
bleibt. Als Lösungsmittel kommen beispielsweise in Frage: Kohlenwasserstoffe
wie Petrolether, Benzol, Toluol, Chlorbenzol, Dichlorbenzol, Hexan, Cyclohexan,
Methancyclohexan, Pentan, Heptan, Octan und technische Kohlenwasserstoff
gemische, beispielsweise sogenannte White Spirits mit Komponenten mit Siede
punkten im Bereich von beispielsweise 40 bis 250°C, Ether wie Dimethyl-,
Diethyl-, Dipropyl, Diisopropyl, Dibutyl-, Methyl-t-Butylether, Tetrahydrofuran,
1,4-Dioxan und Polyether des Ethylenoxids und/oder Propylenoxids, Amine wie
Trimethyl-, Triethyl-, Tripropyl-, Tributylamin, N-Methylmorpholin, Pyridin und
Tetramethylethylendiamin, Ester wie Methyl-, Ethyl- und Butylacetat, sowie
Dimethyl-, Dibutyl- und Ethylencarbonat, Nitroverbindungen wie Nitromethan,
Nitroethan, Nitropropan und Nitrobenzol, Nitrile wie Acetonitril, Propionitril und
Benzonitril sowie Verbindungen wie Tetrahydrothiophendioxid und Dimethyl
sulfoxid, Tetramethylensulfoxid, Dipropylsulfoxid, Benzylmethylsulfoxid, Diiso
butylsulfoxid, Dibutylsulfoxid, Diisoamylsulfoxid, Ketone wie Aceton, Methyl
butylketon und Methylethylketon, verflüssigtes Kohlendioxid, Polyether des
Ethylenoxids und/oder Propylenoxids und Amide wie Hexamethylen
phosphortriamin, N-Methylpyrrolidon, N-Methylcaprolactam, 1,3-Dimethyl-
3,4,5,6-tetrahydro-2(1H)-pyrimidin, Octylpyrrolidon, Octylcaprolactam, 1,3-
Dimethyl-2-imidazolindion, Dimethylformamid, Dimethyl-acetamid, Formamid,
Diethylformamid, N-Formylpyrrolidon, N-Formylmorpholin, N-Formylpiperidin,
N,N′-1,4 Diformylpiperazin, Dipropylformamid und Dibutylformamid. Es kommen
auch Sulfone in Frage wie Dimethyl-, Diethyl-, Dipropyl-, Dibutyl-, Dipentyl,
Dihexyl-, Methylethyl-, Ethylpropyl-, Ethylisobutyl- und Pentamethylensulfon in
Frage sowie 3 Sulfolen.
Den Lösungsmitteln können gegebenenfalls Hilfsstoffe zugefügt werden wie
Kryptanden, z. B. Kronenether oder Polyether als Komplexbildner.
Selbstverständlich kann man in das erfindungsgemäße Verfahren auch Gemische
von Lösungsmitteln einsetzen.
Bevorzugte Lösungsmittel sind Dimethylformamid und Dimethylsulfoxid und
Gemische von diesen mit anderen der genannten Lösungsmittel.
Das erfindungsgemäße Verfahren führt man im allgemeinen so durch, daß man das
Amid und das Kohlendioxid in Gegenwart einer basischen Verbindung und eines
Lösungsmittels zusammenbringt und miteinander reagieren läßt.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann man beispielsweise bei Temperaturen von
-50 bis +180°C durchführen. Bevorzugt sind Temperaturen im Bereich -30°C bis
+150°C, insbesondere solche im Bereich -10°C bis +100°C.
Der Druck ist beim erfindungsgemäßen Verfahren nicht kritisch. Es kann grund
sätzlich bei Normaldruck, aber auch bei erhöhtem oder erniedrigtem Druck gearbe
itet werden. Vorzugsweise arbeitet man bei Normaldruck oder bei Drucken bis zu
15 bar. Bei höheren Temperaturen ist es vorteilhaft, unter erhöhtem Druck zu
arbeiten, gegebenenfalls auch über 15 bar.
Man kann das erfindungsgemäße Verfahren unter einer Kohlendioxid-Atmosphäre
durchführen, aber auch in einer Atmosphäre, die Kohlendioxid und noch andere,
vorzugsweise inerte Gase enthält. Arbeitet man in flüssigem Kohlendioxid, so tut
man dies vorzugsweise im geschlossenen Gefäß bei dem sich einstellenden Eigen
druck. Man kann auch in überkritischem Kohlendioxid arbeiten, muß dann aber
Druck von z. B. 80 bis 200 bar anwenden.
Das erfindungsgemäße Verfahren hat eine Reihe überraschender Vorteile. Es
gestattet auf technisch einfache, wirtschaftlich vorteilhafte Weise die Herstellung
von Verbindungen der Formel (I) unter Vermeidung der Verwendung von
Phosgen, Chlor, Ameisensäureester, Isocyanaten, Carbamoylchloriden und Carbo
naten, die in vielen Fällen ganz erheblichen Aufwand für die Anlagensicherheit
erfordern. Man kann es bei milden Reaktionsbedingungen durchführen und die
Reaktionsmischungen oft direkt weiterverwenden, beispielsweise für Hydrierungen,
Chlorierungen, Bromierungen, Oxidationen, Kondensationen, Polymerisationen
und/oder für nucleophile Substitionen wie in WO 94/18 181 beschrieben.
Es können damit auf einfache Weise radioaktive oder markierte C-Atome in
organische Moleküle eingeführt werden. Wenn die Verbindung der Formel (I) in
reiner Form isoliert werden soll, kann dies ebenfalls auf einfache Weise
geschehen, beispielsweise, indem man das im Reaktionsgemisch vorliegende Salz
gemisch abtrennt, die leicht flüchtigen Bestandteile des Reaktionsgemisches
abzieht und dann das Produkt, beispielsweise durch Destillation oder Kristalli
sation, isoliert. Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich, da es heterogen
arbeitet, auch für die kontinuierliche Durchführung, wobei dann Lösungsmittel und
Base, gegebenenfalls nach Regenerierung, in das Reaktionsgemisch zurückgeführt
werden können. Dies ist für das Lösungsmittel besonders günstig, da es ohne
Einschaltung einer wäßrigen Phase bei der Aufarbeitung die direkte Wiederver
wendung erlaubt.
Es ist auch möglich und sinnvoll, die Oxazolidin-2,4-dione aus den Aminen, Ver
bindungen der Formel (III), Kohlendioxid und Base in einen Topf in zwei
Schritten herzustellen.
Produkte der Formel (I) sind wichtige Substanzen in der chemischen Industrie, die
beispielsweise als Zwischenprodukte für Wirkstoffe oder als Wirkstoffe im
Pflanzenschutz (dort insbesondere Insektizide, Pestizide, Fungizide und Herbizide)
und im pharmazeutischen Bereich verwendbar sind. Sie können auch als
Zwischenprodukte für Kunststoffe, Lacke und Polymere dienen.
Einige besonders wichtige Verbindungen der Formel (I), die erfindungsgemäß her
gestellt werden können, sind z. B. Trimethadion, Paramethadion, Malidon, Vinclo
zolin, Ethadion, Propazon, Chlozolinat, RN 24 261-46-9, 129 143-39-1,
110 956-75-7 und 1012-87-9, Myclozolin, Dichlozolin und ähnliche. Man kann er
findungsgemäß hergestellte Oxazolidin-2,4-dione auch als Schutzgruppen ver
wenden, z. B. der Peptidchemie.
Die Reaktionsführung erfolgte ähnlich wie in der DE-OS 43 18 889 beschrieben,
jedoch mit dem Unterschied, daß alle Reaktionspartner gemeinsam vorgelegt
wurden und Kohlendioxid zugleich unter Druck oder über einen längeren Zeitraum
ohne nennenswerten Druck einleitet wurde.
5,15 g Hexylchloressigsäureamid, 8,02 g Kaliumcarbonat und 70 ml Dimethylsulf
oxid wurden 12 Stunden bei 25°C gerührt, wobei eine Kohlendioxid-Atmosphäre
aufrechterhalten wurde. Danach wurde auf 50°C erwärmt und weitere 8 Stunden
gerührt. Abschließend wurde das Reaktionsgemisch auf 250 ml Wasser ausge
tragen mit Essigsäureethylester extrahiert und der nach dem Vertreiben der leicht
flüchtigen Komponenten erhältliche Rückstand in Kugelrohr destilliert.
Ausbeute: 5,0 g (= 99,6% d.Th.; Kp: 112-113°C/0,3 mbar).
Ausbeute: 5,0 g (= 99,6% d.Th.; Kp: 112-113°C/0,3 mbar).
Die weiteren Beispiele wurden analog durchgeführt. Die Reaktionszeit bei 25°C
wurde zum Teil variiert, wobei keine nennenswerten Ausbeuteänderungen
beobachtet wurden und bei Produkten, die bei Raumtemperatur fest oder zu
üblichen Bedingungen nicht destillierbar waren, wurde auf die wäßrige
Aufarbeitung verzichtet und nach Filtration und Vertreiben des Lösungsmittels das
Produkt direkt isoliert. Die Verwendung von DBU anstelle von Kaliumcarbonat
erniedrigte die Ausbeute.
Die Ergebnisse sind in folgender Tabelle zusammengefaßt, wobei jeweils das her
gestellte Produkt angegeben ist und R³ in allen Fällen Wasserstoff war.
Claims (10)
1. Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen der Formel (I)
in der
R¹, R² und R³ gleich oder verschieden sind und jeweils für einen der folgenden Reste stehen:
C₁-C₃₀-Alkyl, C₃-C₃₀-Alkenyl, C₃-C₃₀-Alkinyl, C₃-C₁₂-Cycloalkyl, C₅-C₁₂- Cycloalkenyl, C₈-C₁₂-Cycloalkinyl, C₆-C₁₄-Aryl, C₅-C₁₃-Hetaryl mit bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem, C₇-C₂₀- Aralkyl, C₉-C₂₀-Aralkenyl, C₉-C₂₀-Aralkinyl, C₇-C₂₀-Alkaryl, C₈-C₂₀- Alkenaryl oder C₈-C₂₀-Alkinaryl,
die gegebenenfalls ein bis fünfmal durch O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀- Aryl, N(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₂, COO-C₁-C₁₂-Alkyl oder COO-C₆-C₁₀-Aryl, CONH-C₁-C₁₂-Alkyl, CONH-C₆-C₁₀-Aryl, CON(C₁- C₁₂-Alkyl)₂, CON(C₆-C₁₀-Aryl)₂ Halogen, OP(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆- C₁₀-Aryl)₂, Si(C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(C₁-C₁₂-Alkyl und C₆-C₁₀-Aryl)(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, Si(C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₂(O-C₁- C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl), OS(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl, O₂S(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), CHO, CN, C(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, OC(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), NO₂, CF₃, OCF₃, OCF₂H, OCFH₂, OCF₂CF₃, OCH₂CF₃, OCO(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀- Aryl), OP(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, OP(O-C₁-C₁₀-Alkyl oder O- (C₆-C₁₀-Aryl)₂(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl) substituiert sein können
und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff- oder Schwefelatome oder N(C₁- C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-Gruppen unterbrochen sein können,
oder für einen gegebenenfalls geschützten peptidischen Rest stehen
und wobei R² und R³ unabhängig voneinander auch für Wasserstoff stehen können,
bei dem Amide der Formel (II) in der
R¹, R² und R³ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben und
X für eine Abgangsgruppe
stehen,
und Kohlendioxid umgesetzt werden, dadurch gekennzeichnet, daß man die Umsetzung in einem Lösungsmittel und in Gegenwart einer oder mehrerer basischer Verbindungen durchführt.
R¹, R² und R³ gleich oder verschieden sind und jeweils für einen der folgenden Reste stehen:
C₁-C₃₀-Alkyl, C₃-C₃₀-Alkenyl, C₃-C₃₀-Alkinyl, C₃-C₁₂-Cycloalkyl, C₅-C₁₂- Cycloalkenyl, C₈-C₁₂-Cycloalkinyl, C₆-C₁₄-Aryl, C₅-C₁₃-Hetaryl mit bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem, C₇-C₂₀- Aralkyl, C₉-C₂₀-Aralkenyl, C₉-C₂₀-Aralkinyl, C₇-C₂₀-Alkaryl, C₈-C₂₀- Alkenaryl oder C₈-C₂₀-Alkinaryl,
die gegebenenfalls ein bis fünfmal durch O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀- Aryl, N(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₂, COO-C₁-C₁₂-Alkyl oder COO-C₆-C₁₀-Aryl, CONH-C₁-C₁₂-Alkyl, CONH-C₆-C₁₀-Aryl, CON(C₁- C₁₂-Alkyl)₂, CON(C₆-C₁₀-Aryl)₂ Halogen, OP(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆- C₁₀-Aryl)₂, Si(C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, Si(C₁-C₁₂-Alkyl und C₆-C₁₀-Aryl)(O-C₁-C₁₂-Alkyl und/oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, Si(C₁-C₁₂-Alkyl und/oder C₆-C₁₀-Aryl)₂(O-C₁- C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl), OS(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl, O₂S(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), CHO, CN, C(O-C₁-C₁₂-Alkyl oder O-C₆-C₁₀-Aryl)₂, OC(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl), NO₂, CF₃, OCF₃, OCF₂H, OCFH₂, OCF₂CF₃, OCH₂CF₃, OCO(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀- Aryl), OP(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)₃, OP(O-C₁-C₁₀-Alkyl oder O- (C₆-C₁₀-Aryl)₂(C₁-C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl) substituiert sein können
und/oder gegebenenfalls durch Sauerstoff- oder Schwefelatome oder N(C₁- C₁₂-Alkyl oder C₆-C₁₀-Aryl)-Gruppen unterbrochen sein können,
oder für einen gegebenenfalls geschützten peptidischen Rest stehen
und wobei R² und R³ unabhängig voneinander auch für Wasserstoff stehen können,
bei dem Amide der Formel (II) in der
R¹, R² und R³ die bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben und
X für eine Abgangsgruppe
stehen,
und Kohlendioxid umgesetzt werden, dadurch gekennzeichnet, daß man die Umsetzung in einem Lösungsmittel und in Gegenwart einer oder mehrerer basischer Verbindungen durchführt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in Formel (II) X
für Halogen, eine Sulfonatgruppe oder einen eine oder mehrere
Sulfonatgruppen enthaltenden Rest steht.
3. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man
Amide der Formel (II) einsetzt, die erhalten wurden aus den
entsprechenden Säuren, Säurechloriden, Estern, Säureanhydriden oder
Säureaminsalzen durch Umsetzung von Aminen der Formel (IIIA)
R¹-NH₂ (IIIA),in der
R¹ die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat oder der Formel (IIIB)B-(NH₂)n (IIIB)in der
B für einen aliphatischen Rest mit 3 bis 30 C-Atomen, einen aromatischen Rest mit 6 bis 14 C-Atomen oder einen hetero cyclischen Rest mit 5 bis 13 C-Atomen und bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem und
n für eine ganze Zahl von 2 bis 30 stehen,
und Ketonen der Formel (IV) in der
R² und R³ die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben und
Y für Hydroxy, Halogen, C₁-C₆-Alkoxy, C₆-C₁₀-Aryloxy oder OCO- R¹ steht, wobei R¹ die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat.
R¹ die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat oder der Formel (IIIB)B-(NH₂)n (IIIB)in der
B für einen aliphatischen Rest mit 3 bis 30 C-Atomen, einen aromatischen Rest mit 6 bis 14 C-Atomen oder einen hetero cyclischen Rest mit 5 bis 13 C-Atomen und bis zu 3 Sauerstoff-, Schwefel- und/oder Stickstoffatomen im Ringsystem und
n für eine ganze Zahl von 2 bis 30 stehen,
und Ketonen der Formel (IV) in der
R² und R³ die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben und
Y für Hydroxy, Halogen, C₁-C₆-Alkoxy, C₆-C₁₀-Aryloxy oder OCO- R¹ steht, wobei R¹ die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung hat.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man Amide der
Formel (II) einsetzt, die erhalten wurden, indem man anstelle von Aminen
der Formeln (IIIA) oder (IIIB) Hydrazinderivate der Formel (V)
eingesetzt hat
in der
R¹ und R² die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben.
R¹ und R² die in Anspruch 1 bei Formel (I) angegebene Bedeutung haben.
5. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß man pro
eingesetztes Amidäquivalent 0,01 bis 10 000 Äquivalente Kohlendioxid
einsetzt.
6. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß man als
basische Verbindungen solche der Elemente Lithium, Natrium, Magnesium,
Kalium, Calcium, Rubidium, Strontium, Cäsium, Barium und/oder des
Ammoniums einsetzt.
7. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man pro
Mol eingesetztes Amid der Formel (II) 0,5 bis 10 mol basische Verbindung
einsetzt.
8. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß man,
bezogen auf 1 mol basische Verbindung, weniger als 1,0 mol Hilfsbasen
einsetzt.
9. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß man als
Lösungsmittel Kohlenwasserstoffe, Ether, Amine, Ester, Nitroverbindungen,
Nitrile, Terahydrothiophendioxid, Dimethylsulfoxid, Tetramethylensulfoxid,
Dipropylsulfid, Benzylmethylsulfoxid, Diisobutyisulfoxid, Dibutylsulfoxid,
Diisoamylsulfoxid, Ketone, verflüssigtes Kohlendioxid, Polyether des
Ethylen- und/oder Propylenoxids, Amide und/oder Sulfone einsetzt.
10. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß man es
bei Temperaturen im Bereich -50 bis 180°C und Drucken bis zu 15 bar
durchführt.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996113333 DE19613333A1 (de) | 1996-04-03 | 1996-04-03 | Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen |
AU21588/97A AU2158897A (en) | 1996-04-03 | 1997-03-21 | Process for the production of oxazolidine-2,4-diones |
PCT/EP1997/001425 WO1997037981A1 (de) | 1996-04-03 | 1997-03-21 | Verfahren zur herstellung von oxazolidin-2,4-dionen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996113333 DE19613333A1 (de) | 1996-04-03 | 1996-04-03 | Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen |
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---|---|
DE19613333A1 true DE19613333A1 (de) | 1997-10-09 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1996113333 Withdrawn DE19613333A1 (de) | 1996-04-03 | 1996-04-03 | Verfahren zur Herstellung von Oxazolidin-2,4-dionen |
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AU (1) | AU2158897A (de) |
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DE3115650A1 (de) * | 1981-04-18 | 1982-11-04 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von n-substituierten oxazolidin-2,4-dionen |
WO1994018181A1 (en) * | 1993-02-01 | 1994-08-18 | Monsanto Company | Process for preparing n-substituted-oxazolidine-2,4-diones |
-
1996
- 1996-04-03 DE DE1996113333 patent/DE19613333A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-03-21 AU AU21588/97A patent/AU2158897A/en not_active Abandoned
- 1997-03-21 WO PCT/EP1997/001425 patent/WO1997037981A1/de active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
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