DE19608683A1 - Verfahren zum Herstellen eines Substrates - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren gemäß Oberbegriff Patentanspruch 1.
Bekannt ist es u. a., Metallisierungen oder Metallschichten bildende Metallfolien flächig
unter Verwendung von Aktivlot an Isolierschichten, insbesondere Keramikschichten (z. B.
Aluminiumnitrid-Keramik oder Aluminiumoxid-Keramik), an Siliziumschichten und/oder
an Diamant-Schichten zu befestigen (DE 22 13 115). Die Verbindung erfolgt hierbei
dadurch, daß chemische Bindungsbrücken zwischen den zu verbindenden Teilen
gebildet werden, welche die Haftung bewirken.
Vielfach ist es auch erforderlich, zugleich weitere metallische Körper mit einer dieser
Schichten zu verbinden, beispielsweise einen eine Durchkontaktierung oder eine
thermische Brücke bildenden Metallkörper, der in einer Öffnung oder in einem Fenster
der Isolierschicht angeordnet ist und zwei an den Oberflächenseiten der Isolierschicht
vorgesehene Metallschichten miteinander verbindet.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren aufzuzeigen, welches in besonders einfacher
Weise die Herstellung von Substraten ermöglicht, die zusätzlich zu Metallschichten, die
durch Aktivlot auf einer Isolierschicht befestigt sind, wenigstens einen zusätzlichen
metallischen Körper aufweisen, der mit wenigstens einer solchen Metallschicht
verbunden ist.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist ein Verfahren entsprechend dem kennzeichnenden Teil des
Patentanspruches 1 ausgebildet.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren erfolgen das Aktivlöten zwischen der die
wenigstens eine Metallisierung oder Metallschicht bildenden Metallfolie und der
benachbarten Oberflächenseiten der Isolierschicht sowie die weitere Verbindung bzw.
das Diffusionslöten zwischen der Metallfolie und dem zusätzlichen metallischen Körper
in einem einzigen Arbeitsgang.
Da die Verbindung zwischen der wenigstens einen Metallschicht und dem zusätzlichen
Metall-Körper nicht unter Verwendung von Aktivlot realisiert wird, ist es bei der Erfindung
auch nicht erforderlich, daß das Aktivlot auf kleine und/oder an ihrer Außenfläche
gewölbte Körper aufgebracht werden muß, was in einem Fertigungsprozeß erhebliche
Probleme bereiten würde.
Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Figuren an Ausführungsbeispielen näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 ein Kupfer-Keramik-Substrat hergestellt nach einem Verfahren gemäß der
Erfindung;
Fig. 2 in den Positionen a-d verschiedene Verfahrensschritte beim Herstellen des
Substrates der Fig. 1;
Fig. 3 in vereinfachter Darstellung und im Schnitt ein weiteres Substrat hergestellt nach
einem Verfahren gemäß der Erfindung.
Das in der Fig. 1 wiedergegebene Substrat besteht aus einer isolierenden Schicht 1, die
beispielsweise eine Schicht aus einer Aluminiumoxid-Keramik (Al₂O₃), aus einer
Aluminiumnitrid-Keramik (AlN), aus einem Siliziummaterial oder aus Diamant ist.
Auf beiden Oberflächenseiten der Schicht 1 ist jeweils eine Metallisierung oder
Metallschicht 2 bzw. 3 vorgesehen, und zwar in Form einer Kupferschicht. jede
Metallschicht ist flächig mit der benachbarten Oberflächenseite der Schicht 1 verbunden,
und zwar unter Verwendung einer Schicht 4 aus einem Aktivlot. Dieses Aktivlot enthält
einen ersten Metall-Anteil (beispielsweise auch in Form einer Legierung), der von dem
Metall der Metallschichten 2 und 3, d. h. bei der dargestellten Ausführungsform von
Kupfer, und einen zweiten Metallanteil, welcher von einem Metall der Gruppe Silber,
Gold, Platin und Iridium gebildet ist. Zusätzlich zu diesen Metallanteilen enthält das
Aktivlot auch einen geringen Anteil eines als Aktiv-Komponente wirkendes Metalls, d. h.
eines Metalls, welches zu der Isolierschicht bzw. zu wenigstens einem Element dieser
Isolierschicht eine besonders hohe Affinität aufweist, so daß beim Erhitzen auf eine
Aktivlot- Löttemperatur durch chemische Reaktion eine Verbindung zwischen dem
Aktivlot der Schicht 4 und der jeweiligen Kupferschicht 2 und 3 sowie der Isolierschicht 1
erreicht wird, ohne daß das Aktiv-Lot in der Schicht 4 in den schmelzflüssigen Zustand
versetzt wird. Als Aktivkomponente eigenen sich z. B. Hafnium, Zirkon, Cer, Molybdän,
Niob, Nickel, Tantal und Titan.
In der Isolierschicht 1 ist eine Durchbrechung oder ein Fenster 5 für eine
Durchkontaktierung 6 vorgesehen. Die Durchkontaktierung 6 ist von einem Körper aus
elektrisch leitenden Material gebildet, der durch Diffusionslötung jeweils mit beiden
Kupferschichten 2 und 3 elektrisch verbunden ist und damit die die Kupferschichten 2
und 3 elektrisch und thermisch miteinander verbindende Durchkontaktierung 6 bildet.
Die Durchkontaktierung 6 ist bei der dargestellten Ausführungsform unter Verwendung
einer Kugel 6′ aus Kupfer hergestellt, die an ihrer Oberfläche mit einer Schicht 7 versehen
ist, welche bei dem für die Metallschichten und die Kugel 6′ verwendeten Material
(Kupfer) als Diffusionslot geeignet ist. Die Schicht 7 besteht bei der dargestellten
Ausführungsform aus Silber, welches beispielsweise galvanisch aufgebracht ist. Die Dicke
der Schicht 7 liegt in der Größenordnung zwischen 0,1 bis 10 µm.
Grundsätzlich sind die Materialien für die Schicht 7 und für die Kugel 6′ so ausgewählt,
daß neben der Eignung der Schicht 7 als Diffusionslot der Schmelzpunkt dieser
Materialien in etwa gleich dem Schmelzpunkt der Schicht 4 aus Aktivlot ist. Die Dicke
jeder Schicht 4 beträgt beispielsweise 1 bis 30 µm.
Die Fig. 2 zeigt in den Positionen a-d den prinzipiellen Ablauf des Verfahrens zum
Herstellen des Substrates der Fig. 1.
In einem ersten Verfahrensschritt wird die Isolierschicht 1 (beispielsweise Keramikschicht)
mit dem Durchbruch bzw. Fenster 5 versehen.
In einem zweiten, anschließenden Verfahrensschritt erfolgt dann das Auftragen der
Schicht 4 aus dem Aktivlot auf beide Oberflächenseiten der Isolierschicht 1,
beispielsweise mittels einer Drucktechnik oder auf andere geeignete Weise (Position a).
Das Aktivlot wird hierbei als Paste aufgetragen, die die Metallbestandteile in einem
Bindemittel enthält.
Nach dem Auftragen erfolgt ein Erhitzen der Isolierschicht auf eine Temperatur, die zum
Austreiben des Lösungsmittels des Bindemittels geeignet ist.
In einem weiteren Verfahrensschritt (Position b) wird die Isolierschicht auf die untere
Metallfolie 3′ aufgelegt und in das Fenster 5 der die spätere Durchkontaktierung 6
bildende Kugel 6′ eingesetzt, deren Durchmesser so gewählt ist, daß sie geringfügig über
die obere, mit der Schicht 4 versehene Oberflächenseite der Isolierschicht 1 vorsteht. Die
Kugel 6′ ist an ihrer Außenfläche bereits mit der Schicht 7 aus Silber versehen, und zwar
dadurch, daß diese Schicht aufgalvanisiert ist.
In einem nachfolgenden Verfahrensschritt wird unter Verwendung eines zwei
Preßstempel 8 und 9 aufweisenden Werkzeugs die Kugel 6′ so verformt, daß die Kugel 6′
genau mit der Oberseite der Isolierschicht 1 bzw. mit der dortigen Schicht 4 fluchtet.
Danach wird die obere Metallfolie 2′ aufgelegt und der Verbund wird zwischen den
Haltern 10 und 11 eines Einspannwerkzeugs (Spannzange) verspannt (Position d). Unter
Aufrechterhaltung der Einspannung erfolgt dann ein Erhitzen der Anordnung in einer
Schutzgasatmosphäre oder im Vakuum auf die Aktivlot-Löttemperatur, die vorzugsweise
zwischen 800 und 1000°C liegt und bei der durch chemische Reaktion die Metallfolien
2′ und 3′ mit der Isolierschicht 1 über das Aktivlot der Schicht 4 und die Kugel 6′ über
die als Diffusionslot wirkende Schicht 7 mit diesen Metallfolien verbunden werden, und
zwar ohne daß die Materialien in den schmelzflüssigen Zustand übergehen.
Anstelle der Kugel 6′ kann auch ein anders geformtes Element, beispielsweise eine Ronde
für die Herstellung der Durchkontaktierung 6 Verwendung finden.
Das beschrieben Verfahren hat den Vorteil, daß das Substrat bestehend aus der
Isolierschicht 1 und den Metallschichten 2 und 3 mit der Durchkontaktierung 6 in
besonders einfacher Weise unter Verwendung von Aktivlot hergestellt werden kann,
wobei insbesondere vermieden ist, daß auf den die Durchkontaktierung 6 bildenden
Körper (Kugel 6′ oder Ronde) Aktivlot aufgebracht werden muß, was in einer rationellen
Weise nicht möglich wäre.
Als Aktivlot wird beispielsweise ein solches verwendet, welches bezogen auf 100
Gewichtsprozent Aktivlot etwa 40 Gewichtsprozent Kupfer, 35 Gewichtsprozent Silber
und 5 Gewichtsprozent Titan enthält. Die Schicht 7 besteht dann aus Silber. Im Detail
wird das Verfahren beispielsweise, wie folgt, durchgeführt.
Die Isolierschicht 1 wird beidseitig mit der Schicht 4 aus Aktivlot beschichtet, wobei
dieses Aktivlot bezogen auf 100 Gewichtsprozent 50 Gewichtsprozent Silber, 45
Gewichtsprozent Kupfer und 5 Gewichtsprozent Titan enthält.
Anschließend erfolgt ein Erhitzen der beschichteten Isolierschicht 1 auf eine Temperatur
im Bereich zwischen 200 und 600°C, um die löslichen Bestandteile des Bindemittels des
Aktivlots auszutreiben. Die Dicke der Aktivlotschicht 4 beträgt dann etwa 1 bis 30 µm.
Anschließend erfolgt das bereits beschriebene Auflegen der Metallfolien 2′ und 3′, und
das Einlegen der Kugel 6′ in das Fenster 5 und das Verformen der Kugel durch die
Werkzeugteile 8 und 9.
Der Verbund wird anschließen mit der Spannzange zusammengepreßt und dann im
Vakuum auf 875°C erhitzt und bei dieser Temperatur über eine Zeitspanne von etwa 5
Minuten gehalten. Anschließend wird das Substrat abgekühlt.
Fig. 3 zeigt eine weitere mögliche Ausführungsform eines Substrates. Diese besteht aus
zwei Teilsubstraten 12 und 13, die jeweils von einer Isolierschicht 1 und der oberen und
unteren Metallschicht 2 bzw. 3 gebildet sind. Die Metallschichten 2 und 3 sind jeweils
über eine Schicht 4 aus Aktivlot mit der Isolierschicht 1 flächig verbunden.
Die beiden Teilsubstrate 12 und 13 sind übereinander gestapelt und voneinander
beabstandet miteinander verbunden, und zwar über rohrartige Distanzelemente 14, die
parallel zueinander und im Abstand voneinander sowie mit ihren Längserstreckungen
parallel zu den Oberflächenseiten der Teilsubstrate 12 und 13 angeordnet sind, und zwar
bei der für die Fig. 3 gewählten Darstellung mit ihrer Längserstreckung senkrecht zur
Zeichenebene dieser Fig. 3. Die Distanzelemente 14 bestehen aus Kupfer und sind an
ihrer Außenfläche mit einer Schicht 15 aus Silber versehen.
Die Herstellung des Substrates der Fig. 3 erfolgt in der Form, daß die beiden
Isolierschichten 1 jeweils beidseitig mit der Schicht 4 aus Aktivlot versehen werden, daß
dann nach dem Austreiben des Lösungsmittels durch Übereinanderstapeln der
Metallfolien 2′ und 3′ und der Isolierschichten 1 die Teilsubstraten 12 und 13 gebildet
und zwischen diesen die Distanzelemente 14 angeordnet werden, und daß dann dieser
Gesamt-Verbund verspannt und im Vakuum oder in einer Schutzgasatmosphäre auf die
Aktivlot-Löttemperatur, d. h. auf die Temperatur erhitzt wird, bei der durch chemische
Reaktion die Verbindung der Schichten 2 und 3 über das Aktivlot mit der jeweiligen
Isolierschicht 1 und durch Diffusionslöten die Distanzelemente 14 über ihre Silberschicht
15 mit jeweils einer Kupferfolie bzw. Metallschicht 2 und 3 verbunden werden.
Das in der Fig. 3 dargestellte Substrat bildet beispielsweise einen Kühlkörper, der im
Bereich der rohrartigen Distanzelemente 14 von einem ersten, beispielsweise flüssigen
Kühlmedium, und im Bereich zwischen zwei benachbarten Distanzelementen 14 von
einem zweiten, gasförmigen Kühlmedium durchströmt werden kann.
Die Herstellung auch des in der Fig. 3 wiedergegebenen Substrates hat wiederum den
Vorteil, daß auf die an ihrer Außenfläche gekrümmten Distanzelemente 14 ein Aktivlot
nicht aufgebracht werden muß.
Bezugszeichenliste
1 Isolierschicht
2, 3 Metallschicht
2′, 3′ Kupferfolie
4 Aktivlotschicht
5 Durchbrechung
6 Durchkontaktierung
6′ Kugel
7 Schicht
8, 9 Stempel
10, 11 Einspannhalterung
12, 13 Einzelsubstrat
14 rohrartiges Distanzelement
15 Silberschicht
2, 3 Metallschicht
2′, 3′ Kupferfolie
4 Aktivlotschicht
5 Durchbrechung
6 Durchkontaktierung
6′ Kugel
7 Schicht
8, 9 Stempel
10, 11 Einspannhalterung
12, 13 Einzelsubstrat
14 rohrartiges Distanzelement
15 Silberschicht
Claims (17)
1. Verfahren zum Herstellen eines Substrates, bei dem (Verfahren) an mindestens einer
Oberflächenseite einer Isolierschicht (1) durch Aktivlöten bei einer Aktivlot-Löttemperatur
und unter Verwendung eines als Schicht (4) aufgebrachten Aktivlotes
wenigstens eine Metallfolie (2′, 3′) zur Bildung eine Metallschicht (2, 3) flächig
befestigt wird, dadurch gekennzeichnet, daß im gleichen Arbeitsgang mit dem
Aktivlöten mit der wenigsten einen Metallfolie (2′, 3′) ein metallischer Körper (6′, 14)
verbunden wird, der zumindest an seiner Außenfläche aus einem metallischen
Diffusionslot (7, 15) besteht, welches bei der Aktivlot-Löttemperatur eine
Diffusionslot-Verbindung mit dem Metall der Metallfolie (2′, 3′) eingeht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Diffusionslot ein Metall
ist, welches auch Bestandteil des Aktivlotes ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Diffusionslot
Silber und/oder Gold ist.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
der metallische Körper (6′) an seiner Außenfläche mit einer Schicht (7, 15) aus dem
Diffusionslot versehen ist, und daß diese Schicht vorzugsweise galvanisch aufgebracht
ist.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
der metallische Körper (6′, 14) aus einem Metall besteht, welches gleich dem Metall
der wenigstens einen Metallschicht (2, 3) ist.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
das Metall des metallischen Körpers (6′, 14) und/oder der wenigstens einen
Metallschicht Kupfer ist.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die
Verwendung eines Aktivlots, welches wenigsten zwei Metallkomponenten sowie
wenigstens eine Aktivkomponente enthält, wobei die erste Metallkomponente
wenigstens ein Metall der Gruppe Silber, Gold, Platin und Iridium und die zweite
Metallkomponente wenigstens ein Metall der Gruppe Kupfer, Aluminium, Zinn,
Indium und Blei ist, und wobei als Aktivkomponente wenigstens ein Metall der
Gruppe Cer, Molybdän, Niob, Nickel, Tantal und Zirkonium verwendet ist.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die
Verwendung eines Aktiv-Lots, bei dem der Anteil der Aktivkomponente etwa 10 bis 3
Gewichtsprozent bezogen auf den Gesamtmetallanteil beträgt.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
als Aktivlot ein solches verwendet wird, welches als Hauptmetallbestandteile Kupfer
und Silber und als Aktivkomponente Titan enthält, und zwar bevorzugt bezogen auf
100 Gewichtsprozent Aktivlot etwa 40 Gewichtsprozent Kupfer, 35 Gewichtsprozent
Silber und 5 Gewichtsprozent Titan.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die wenigstens eine Schicht aus Aktivlot mit einer Dicke zwischen 1 bis 30 µm
aufgebracht wird.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schichtdicke des Diffusionslotes etwa 0,1 bis 10 µm beträgt.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
nach dem Aufbringen der Aktivlotschicht (4) auf die Isolierschicht (1) ein Erhitzen auf
eine Temperatur zwischen 200 und 600°C zum Austreiben organischer Bestandteile
des Bindungsmittels erfolgt.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
für das Aktivlöten und das Diffusionslöten eine Erhitzung auf eine Temperatur
zwischen etwa 800 und 1000°C, vorzugsweise auf 875°C erfolgt.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
das Aktivlöten und Diffusionslöten in Vakuum oder in einer Schutzgasatmosphäre
erfolgen.
15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
als Isolierschicht (1) eine Schicht aus einer Aluminiumoxid-Keramik, aus einer
Aluminiumnitrid-Keramik, aus einem Siliziummaterial oder aus Diamant verwendet
wird.
16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
der Metallkörper (6′, 14) an seiner Außenfläche konvex gekrümmt ist.
17. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
zum Herstellen eines Substrates mit zwei an zwei Oberflächenseiten der Isolierschicht
(1) vorgesehenen Metallschichten (2, 3) ein Körper (6′), vorzugsweise in Form einer
Kugel oder Ronde, in ein Fenster (5) der Isolierschicht (1) eingesetzt und anschließend
beim Aktivlöten durch Diffusionslöten mit den Metallfolien (2′, 3′) verbunden wird.
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DE19608683A DE19608683B4 (de) | 1996-03-06 | 1996-03-06 | Verfahren zum Herstellen eines Substrates |
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DE (1) | DE19608683B4 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1085792A1 (de) * | 1999-09-15 | 2001-03-21 | Curamik Electronics GmbH | Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte sowie Leiterplatte |
WO2004098253A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-11-11 | Teradyne, Inc. | Printed circuit board minimizing undesirable signal reflections in a via and methods therefor |
CN100346963C (zh) * | 2004-12-17 | 2007-11-07 | 清华大学 | 金属/陶瓷层状复合材料防护板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2213115A1 (de) * | 1972-03-17 | 1973-09-27 | Siemens Ag | Verfahren zum hochfesten verbinden von karbiden, einschliesslich des diamanten, boriden, nitriden, siliziden mit einem metall nach dem trockenloetverfahren |
DE3713988A1 (de) * | 1987-04-27 | 1988-11-10 | Siemens Ag | Anordnung zur flaechenhaften verbindung von thermisch nicht angepassten materialien |
-
1996
- 1996-03-06 DE DE19608683A patent/DE19608683B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2213115A1 (de) * | 1972-03-17 | 1973-09-27 | Siemens Ag | Verfahren zum hochfesten verbinden von karbiden, einschliesslich des diamanten, boriden, nitriden, siliziden mit einem metall nach dem trockenloetverfahren |
DE3713988A1 (de) * | 1987-04-27 | 1988-11-10 | Siemens Ag | Anordnung zur flaechenhaften verbindung von thermisch nicht angepassten materialien |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1085792A1 (de) * | 1999-09-15 | 2001-03-21 | Curamik Electronics GmbH | Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte sowie Leiterplatte |
WO2004098253A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-11-11 | Teradyne, Inc. | Printed circuit board minimizing undesirable signal reflections in a via and methods therefor |
US7240425B2 (en) | 2003-04-24 | 2007-07-10 | Amphenol Corporation | Method of making an electrical connection to a conductor on an inner layer of a multi-layer printed circuit board |
US8115110B2 (en) | 2003-04-24 | 2012-02-14 | Amphenol Corporation | Printed circuit board minimizing undesirable signal reflections in a via and methods therefor |
CN100346963C (zh) * | 2004-12-17 | 2007-11-07 | 清华大学 | 金属/陶瓷层状复合材料防护板 |
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