DE19544659A1 - Halbleiteranordnung mit einer Zenerdiode - Google Patents

Halbleiteranordnung mit einer Zenerdiode

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Description

Stand der Technik
Die Erfindung geht aus von einer Halbleiteranordnung mit einer Zenerdiode nach der Gattung des unabhängigen Patentanspruchs. Aus der DE 40 22 697 C2 ist bereits eine Halbleiteranordnung mit einer Zenerdiode bekannt, die als Transistordiode ausgestaltet ist. Durch einen starken Stromfluß über die Zenerdiode kann die Diode metallisch kurzgeschlossen werden und so ein dauerhaft leitender Zustand der Zenerdiode geschaltet werden. Die Zenerdiode ist mit einer weiteren Schaltung verbunden, die Steueranschlüsse von Transistoren aufweist.
Vorteile der Erfindung
Die erfindungsgemäße Halbleiteranordnung mit den kennzeichnenden Merkmalen des unabhängigen Patentanspruchs hat demgegenüber den Vorteil, daß er die weitere Schaltung beim Durchbrennen der Zenerdiode gegen die dabei auftretenden, hohen Spannungen geschützt wird. Das Durchbrennen der Zenerdioden kann somit bei geeigneten Spannungen bzw. Strömen erfolgen, ohne daß damit eine Gefährdung der weiteren Schaltung verbunden ist.
Durch die in den abhängigen Ansprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen der im unabhängigen Anspruch angegebenen Halbleiteranordnung möglich.
Ein besonders einfaches Schutzelement besteht aus einer Diode. Durch die Verwendung einer Schutzstruktur, die als DMOS-Transistor ausgebildet ist, läßt sich besonders effektiver Schutz der weiteren Schaltungen erreichen. Für die weitere Schaltung können dann besonders empfindliche Bauelemente verwendet werden. Weiterhin bieten die DMOS-Strukturen einen Schutz vor besonders hohen Spannungen und sie benötigen nur einen geringen Platzbedarf.
Zeichnungen
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen die Fig. 1 das Schaltbild eines ersten Ausführungsbeispiels der Erfindung, Fig. 2 einen Querschnitt durch das Schutzelement nach der Fig. 1, Fig. 3 ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung.
Beschreibung
In der Fig. 1 wird das Schaltbild der erfindungsgemäßen integrierten Schaltung gezeigt. Die Anode einer Zenerdiode (Z) ist mit einem Masseanschluß verbunden. Die Kathode der Zenerdiode (Z) ist mit dem Drain eines n-Kanal enhancement DMOS-Transistors T8 verbunden. Das Gate des Transistors TS ist mit einer positiven Spannung Vcc verbunden. Das Source des Transistors T8 ist mit dem Gate eines n-Kanal enhancement Transistors T4 und dem Drain eines p-Kanal enhancement Transistors T6 verbunden. Das Source des Transistors T8 ist mit der positiven Versorgungsspannung Vcc verbunden. Das Gate des Transistors T6 ist mit dem Gate eines p-Kanal enhancement Transistors T7 verbunden. Das Gate des Transistors T6 und T7 sind mit dem Drain des Transistors T7 verbunden. Das Source des Transistors T7 ist mit der positiven Versorgungsspannung Vcc verbunden. Das Source des Transistors T4 ist mit dem Source eines n-Kanal enhancement Transistors T5 verbunden. Das Drain des Transistors T5 ist mit der positiven Versorgungsspannung Vcc verbunden. Das Source der Transistoren T4 und T5 ist mit dem Kollektor eines NPN-Transistors T2 verbunden. Der Emitter des Transistors T2 ist mit dem Massepotential verbunden. Das Drain des Transistors T7 ist mit dem Kollektor eines NPN-Transistors T3 verbunden. Der Emitter des Transistors T3 ist mit dem Massepotential verbunden. Die Basis des Transistors T2 und T3 sind mit der Basis eines NPN- Transistors T1 und dem Kollektor des Transistors T1 verbunden. Der Emitter des Transistors T1 ist mit dem Massepotential verbunden. Der Kollektor des Transistors T1 ist über eine Stromquelle 3 mit der positiven Versorgungsspannung Vcc verbunden. Zwischen der positiven Versorgungsspannung Vcc und dem Massepotential ist ein Spannungsteiler bestehend aus einem Widerstand R1 und einem Widerstand R2 angeordnet. Zwischen dem Widerstand R1 und R2 ist ein Abgriff vorgesehen, der mit dem Gate des Transistors T5 verbunden ist. Das Drain des Transistors T4 ist mit einem ersten Knoten 1 verbunden. Die Kathode der Zenerdiode (Z) ist mit einem zweiten Konten 2 verbunden.
Durch Anlegen einer entsprechenden Spannung zwischen dem Knoten 2 und dem Masseanschluß kann ein großer Strom über die Zenerdiode (Z) erzeugt werden. Bei einem ausreichend großen Strom kann es dabei zu einer starken Erwärmung der Zenerdiode (Z) kommen, die zu einer dauerhaften Veränderung der Eigenschaften der Zenerdiode (Z) führt. Diese Veränderung der Eigenschaften der Zenerdiode (Z), die auch als Zenerzapping bezeichnet wird, kann zum Abgleich einer integrierten Schaltung genutzt werden. Dazu sind eine Vielzahl von Zenerdioden (Z) vorgesehen, die jeweils eine Schaltung nach der Fig. 1 aufweisen. Durch gezieltes Zappen einzelner Zenerdioden (Z) kann dann die Schaltung abgeglichen werden. Vor dem Zappen weist er die Zenerdiode (Z) die üblichen Eigenschaften einer Zenerdiode (Z) auf, d. h. sie ist unterhalb einer vorgegebenen Spannung sehr hochohmig. Nach dem Zappen sind Anode und Kathode der Zenerdiode (Z) kurzgeschlossen und die Zenerdiode weist somit eine metallischen Kontakt zwischen Anode und Kathode auf, der nur einen vernachlässigbaren Widerstand aufweist.
Die Transistoren T1, T2 und T3 sind als Stromspiegel geschaltet, so daß die Transistoren T2 und T3 als Konstantstromquellen wirken. Die Größe des Konstantstromes durch die Transistoren T2 und T3 läßt sich durch die Konstantstromquelle einstellen. Durch den Stromfluß durch den Transistor T3 wird eine Pullabstromquelle angesteuert, die durch die p-Kanal-Transistoren T6 und T7 gebildet wird. Die Transistoren T6 und T7 sind ebenfalls als Stromspiegel geschaltet, so daß über den Transistor T6 das Gate des Transistors T4 mittels der Pull-up-Stromquelle auf Vcc aufgeladen werden kann. Da der Stromfluß durch den Transistor T6 begrenzt ist, hängt das Potential am Gate des Transistors T4 weiterhin vom Schaltzustand der Zenerdiode (Z) ab. Wenn die Zenerdiode (Z) hochohmig ist, so liegt am Gate des Transistors T4 im wesentlichen die positive Versorgungsspannung Vcc an. Wenn die Zenerdiode (Z) niederohmig, d. h. kurzgeschlossen ist, kann der Stromfluß über den Transistor T6 niederohmig nach Masse abfließen und am Gate des Transistors T4 liegt nur ein geringes Potential an, welches im wesentlichen dem Massepotential entspricht. Da das Gate des Transistors T8 unmittelbar mit der positiven Versorgungsspannung Vcc verbunden ist, kann für die Betrachtung der Spannungen am Gate des Transistors T4 der Widerstand des Transistors T8 vernachlässigt werden. Bei einem hohen Potential am Gate des Transistors T4, wird der Knoten 1 mit der Stromquelle T2 verbunden. Bei einem geringen Potential am Gate des Transistors T4 ist die Stromquelle T2 nicht mehr mit dem Knoten 1 verbunden. Über den Spannungsteil R1, R2 wird am Gate des Transistors T5 ein Referenzpotential eingestellt, dessen Wert so gewählt ist, daß in diesem Falle der Strom der Stromquelle T2 über den Transistor T5 fließen kann. Je nach Abhängigkeit des Schaltzustandes der Zenerdiode (Z) kann somit ein Stromfluß über den Knoten 1 erzeugt werden. Wenn eine Vielzahl von Schaltungen nach der Fig. 1 mit einem Knoten 1 verbunden sind, läßt sich durch Einstellungen der Schaltzustände an den Zenerdioden (Z) der Stromfluß durch den Knoten 1 steuern. Je nach Auslegung der Transistoren T2, jeder dieser Schaltungen, kann damit der Stromfluß durch den Knoten 1 beeinflußt werden. Der Stromfluß durch den Transistor T2 kann beispielsweise bei jeder Schaltung gleich sein oder die Stromquellen T2 können unterschiedliche Ströme aufweisen, beispielsweise jeweils eine Verdopplung, so daß eine binäre Ansteuerung des Stromflusses durch den Knoten 1 möglich ist.
Beim Zappen der Zenerdiode (Z) müssen hohe Spannungen an den Knoten 2 angelegt werden. Wenn eine derartig hohe Spannung beispielsweise am Gate des Transistors T4 anliegen würde, so würde dies zu einer Zerstörung des Transistors T4 führen. Um eine Beeinträchtigung der Schaltung durch die hohen Zapp- Potentiale zu Erreichen, ist zwischen der Zenerdiode (Z) und der weiteren Schaltung ein Schutzelement angeordnet, welches hier als n-Kanal enhancement DMOS-Fet T8 ausgebildet ist. In der Fig. 2 wird ein exemplarischer Querschnitt durch einen derartigen Transistor gezeigt. Dazu ist auf einem schwachdotierten Substrat 10 eine schwach n-dotierte n-Epitaxieschicht 11 aufgebracht. Eine Drainmetallisierung 17 ist mit einer starken n-Dotierung 13 verbunden, die von der Oberseite des Bauelements bis zu einer vergrabenen stark dotierten n-Schicht 12 reicht. In die n-Epitaxieschicht 11 ist eine schwach p-dotierte Wanne 14 eingebracht. In der p-Wanne 14 ist eine starke n-Dotierung 16 und eine starke p-Dotierung 16 und eine starke p-Dotierung 15 eingebracht. Die starke n-Dotierung 16 und die starke p-Dotierung 15 sind durch eine Sourcemetallisierung 19 angeschlossen. Weiterhin ist eine Gateelektrode 18 vorgesehen, die die p-Wanne 14 in einem Bereich zwischen der Epitaxieschicht 11 und der starken n-Dotierung 16 überdeckt. Das Gateoxid und andere dielektrischen Schichten sind aus Vereinfachungsgründen nicht dargestellt.
Wenn an der Sourcemetallisierung 19 die positive Versorgungsspannung Vcc und an der Drainmetallisierung 17 ein Massenpotential anliegt, so ist der pn-Übergang zwischen der schwachdotierten Wanne 14 und der Epitaxieschicht 11 in Flußrichtung gepolt, so daß ein Stromfluß erfolgt. Da die Wanne 14 einen vergleichsweise großen Widerstand aufweist und die starke p-Pluskontaktierung 15 einen gewissen Abstand zu dem Bereich der Wanne 14 aufweist, der unterhalb der Gateelektrode 18 angeordnet ist, weist der Bereich der Wanne 14 der unterhalb der Gateelektrode 18 angeordnet ist ein wesentlich geringeres Potential als Vcc auf. Durch die an der Gateelektrode 18 anliegende positive Versorgungsspannung Vcc können somit Ladungsträger influenziert werden und es bildet sich ein leitfähiger Kanal aus. Der Stromfluß durch diesen Leitfähigkeitskanal erfolgt mit einem sehr geringen Widerstand, so daß beim Anliegen von Vcc an der Sourcemetallisierung 19 und der Gateelektrode 18 und Massepotential an der Drainmetallisierung 17 eine niederohmige Verbindung über den Transistor T8 entsteht.
Beim Zapvorgang, d. h. wenn am Drainanschluß 17 ein höheres Potential anliegt als am Sourceanschluß 19, wird der pn-Übergang zwischen der Wanne 14 und der Epetaxieschicht 11 in Sperrichtung geschaltet. Die Wanne 14 weist daher in ihrem ganzen Bereich das an der Sourcemetallisierung 19 anliegende Potential auf. Das Schutzelement stellt jetzt einen als Sourcefolger arbeitenden Transistor T8 dar, wobei die Gateelektrode 18 mit der Bezugsspannung VCC verbunden ist und am Drainanschluß 17 eine Zap-Spannung erzeugt wird, die deutlich größer als die Spannung an der Gateelektrode 18 ist. Eine Spannungserhöhung am Source 16, über die an der Sourcemetallisierung 19, kann nur soweit erfolgen, bis die Schwellspannung des DMOS-Tranistors T8 bezogen auf das Gatepotential an 18 unterschritten ist. Wenn die Potentialdifferenz zwischen Gateelektrode 18 und Wanne 14 zu gering ist, bildet sich kein leitender Kanal zwischen Drain 17 und Source 18 aus. Somit kann die Spannung an der Sourcemetallisierung 19 die Spannung des Bezugspotentials Vcc nicht übersteigen.
Beim normalen Betrieb der Schaltung, wenn am Sourceanschluß die Spannung Vcc vorliegt, verhält sich der Transistor T8 wie ein vernachlässigbar kleiner Widerstand. Im Gegensatz dazu verhält sich der Transistor T8 wie eine hochsperrende Diode, wenn am Knoten 2 ein positives Potential angelegt wird, welches Vcc übersteigt. Diese hochsperrende Diode stellt einen wirksamen Schutz der weiteren Schaltung dar, wenn an die Diode Z hohe Spannungen zum Zappen der Diode angelegt werden.
In der Fig. 3 wird ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung gezeigt. Zwischen einer positiven Versorgungsspannung Vcc und einem Masseanschluß 8 sind in Reihe eine Stromquelle 4, eine Schutzdiode 5 und eine Zenerdiode (Z) angeordnet. Die Anode der Zenerdiode (Z) ist mit dem Masseanschluß 8 verbunden. Die Katode der Zenerdiode (Z) ist mit der Anode der Schutzdiode 5 verbunden.
Die Katode der Schutzdiode 5 ist mit der Stromquelle 4 verbunden. Ein Knoten 2 ist mit der Katode der Zenerdiode (Z) verbunden. Die Katode der Schutzdiode 5 ist mit dem Steueranschluß 6 einer CMOS-Schaltung verbunden. Das Potential am Steuereingang 6 der CMOS-Schaltung 7 wird vom Schaltzustand der Zenerdiode (Z) bestimmt. Wenn die Zenerdiode (Z) leitend ist, wird der Strom der Stromquelle 4 an den Massenanschluß 8 abgeleitet, so daß das Potential am Steuereingang 6 low ist. Wenn die Zenerdiode (Z) jedoch sperrt, so ist das Potential am Steuereingang 6 doch. Die CMOS-Schaltung 7 kann so zwei unterschiedliche Schaltzustände annehmen.
Die Verwendung des Transistors T8 nach der Fig. 1 als Schutzelement ist der Verwendung einer einfachen Diode 5, wie sie aus der Fig. 3 bekannt ist, vorzuziehen. An der Diode 5 fällt eine Flußspannung ab, so daß zur Ansteuerung der nachfolgenden CMOS-Schaltung ein Low-Pegel von einer Flußspannung ausreichen muß. Da der Transistor T8 der Fig. 1 im leitenden Zustand nur einen geringen Restwiderstand aufweist, ist der Spannungsabfall an diesem Schutzelement gering, so daß ein deutlich niedrigerer Low-Pegel zur Ansteuerung der nachfolgenden Schaltung zur Verfügung steht. Weiterhin muß eine Diode 5, die den hohen Spannungen und Strömen, die zum Durchbrennen der Zenerdiode (Z) notwendig sind, widerstehen soll, besonders aufwendig ausgeführt werden und er benötigt daher einen größeren Platzbedarf auf dem Chip als das Bauelement T8.

Claims (8)

1. Halbleiteranordnung mit einer Zenerdiode (Z) und einer damit verbundenen weiteren Schalungsanordnung, die mit der Zenerdiode (Z) integriert ist, wobei die Zenerdiode (Z) durch einen Strom dauerhaft in einen leitenden Zustand geschaltet werden kann, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Zenerdiode (Z) und der weiteren Schaltung ein Schutzelement (T8, 5) angeordnet ist.
2. Halbleiteranordnungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Schutzelement als Diode (5) ausgebildet ist.
3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Schutzelement als DMOS-Transistor ausgebildet.
4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der DMOS-Transistor einen Gateanschluß und eine Sourceanschluß aufweist, an die das gleiche Potential anlegbar ist.
5. Halbleiteranordnung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß der DMOS-Transistor als n-Kanal enhancement DMOS ausgebildet ist, daß ein Drainanschluß des Transistors mit der Katode der Zenerdiode (Z) und der gemeinsame Source- und Wannenanschluß mit der weiteren Schaltung verbunden ist.
6. Schaltungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Schutzelement (T8, 5) durch eine Stromquelle (4, T6) mit einer Versorgungsspannung Vcc verbunden ist.
7. Halbleiteranordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Schutzelement (T8, 5) und der Stromquelle (4, T6) mindestens ein Abgriff für das Gate eines n-Kanal-Transistors vorgesehen ist.
8. Halbleiteranordnungen nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Gate Teil einer CMOS-Schaltung ist.
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