DE19540434C1 - Vorrichtung zur Analyse von Werkstoffproben, insbesondere von elektrisch nicht leitfähigen Proben, mittels Hochfrequenz-Glimmentladung - Google Patents
Vorrichtung zur Analyse von Werkstoffproben, insbesondere von elektrisch nicht leitfähigen Proben, mittels Hochfrequenz-GlimmentladungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur
Analyse von Werkstoffproben insbesondere von elektrisch
nicht leitfähigen Proben, mittels Hochfrequenz-Glimm
entladung. Der Glimmentladungsraum ist unmittelbar,
wenigstens teilweise von einer hohlförmig ausgebildeten
Elektrode umschlossen. Ferner ist eine Probe mittels
einer Haltevorrichtung derart von der Elektrode beab
standet angeordnet, so daß ein Bereich freier Proben
oberfläche dem Glimmentladungsraum exponiert gegen
überliegt. Eine Gegenelektrode verbindet dabei die
Probe mit einem HF-Generator.
Vorrichtungen der vorgenannten Gattung dienen der
Elementanalyse von Proben, über deren Oberfläche eine
in an sich bekannter Weise Glimmentladung erzeugt wird,
innerhalb der ionisierte Partikel entstehen und auf
grund sich einstellender Gleichspannungspotential
verhältnisse auf die Probenoberfläche auftreffen, so
daß aus ihr Probenmaterial herausgeschlagen wird. Die
freigesetzten Probenpartikel werden durch Stöße mit den
in der Glimmentladungswolke vorhandenen Partikel ange
regt, wodurch in den nachfolgenden Emissionen
die für die in der Probe enthaltenen Elemente
charakteristischen Spektrallinien emittiert werden, die
mit Hilfe bekannter spektrometrischer Verfahren dete
ktiert werden können.
Bei derartigen spektralanalytischen Verfahren hat
sich herausgestellt, daß die Untersuchungsergebnisse
stark von dem Abtragungsprozeß der zu untersuchenden
Teilchen aus der Probenoberfläche, die während der
Glimmentladung einem Absputter- bzw. Zer
stäubungsprozeß ausgesetzt ist, abhängen. So wird der
Absputterprozeß im wesentlichen durch ein sich zwi
schen der Elektrode und der Probe, an der die Gegen
elektrode angebracht ist, einstellendes Gleich
spannungsfeld, der sogenannten DC-Bias-Gleich
spannung, bestimmt. Das Gleichspannungsfeld stellt sich
infolge der sich während der Glimmentladung entste
henden Elektronen und positiv geladenen Ionen dadurch
ein, daß die Elektronen aufgrund ihrer höheren Beweg
lichkeit schneller mit den Oberflächen der Elektrode sowie
Probe in Wechselwirkung treten als die positiv ge
ladenen Ionen, die aufgrund ihrer verminderten Beweg
lichkeit eine längere Verweildauer im Glimmladungsraum
besitzen. An den Oberflächen der Elektrode können die
auf ihr auftreffenden Elektronen rekombinieren und
entsprechend abfließen. Das Abfließen der Ladungsträger
ist jedoch an der nicht leitenden Probenober
fläche nicht möglich, zumal die Probe kapazitiv ange
koppelt ist. Auf diese Weise der kapazitiven Ankopplung
der Probe können auch leitende Proben-, bzw.
Trägermaterialien mit leitenden Schichten analysiert
werden.
Somit bilden die Elektronen eine negative Raumladung
über der Probenoberfläche aus, die gegenüber der vor
zugsweise geerdeten Elektrode ein Gleichspannungs
potential bilden. Ebenso haben die Größen der Elektroden-
und Probenoberfläche entscheidenden Einfluß auf die DC-
Bias-Gleichspannung, denn je größer die Proben
oberfläche in dem geschilderten Fall ausgebildet ist,
um so mehr Elektronen können sich auf dieser Oberfläche
sammeln und zum negativen Gleichspannungspotential
beitragen.
Im Rahmen dieser sich ausbildenden DC-Bias-
Gleichspannung werden nun die positiv geladenen Ionen
auf die Probenoberfläche beschleunigt und bewirken auf
diese Weise den Zerstäubungsprozeß.
Bei der Durchführung einer spektralanalytischen Messung zur
Ermittlung der Materialzusammensetzung in der Probe ist es
erforderlich, während der Messungen die
Meßbedingungen gleichbleibend einzustellen, da anson
sten bspw. Schwankungen in den abgesputterten
Elementverhältnissen auftreten, die eine Interpretation
der Meßergebnisse erheblich erschweren. Dies setzt auch
voraus, daß die sich ausbildende DC-Bias-Gleichspannung
erfaßt und bei Spannungsänderungen entsprechend
konstant geregelt wird. Gleiches gilt für die Lei
stungsdichte im Plasma, das sich innerhalb des
Glimmladungsraum ausbildet.
Aus der EP 0 645 618 geht eine gattungsgemäße
Vorrichtung zur Elementanalytik hervor, die zur
Eliminierung von Änderungen in den Plasmaparametern,
die durch variierende elektrische Verhältnisse her
rühren, Lösungsansätze bietet. So wird
in dieser Druckschrift vorgeschlagen, mit Hilfe
eines Strom- und Spannungsmessers, die
jeweils im Versorgungskreis einer HF-Stromversorgungs
einheit vorgesehen sind und mit einer Meßwertverarbei
tungseinheit verbunden sind, eine prozeßnahe
Leistungsmessung vorzunehmen. Die
Meßwertverarbeitungseinheit regelt in Abhängigkeit der
erfaßten Spannungs- und Stromwerte die Ausgangsleistung
der HF-Stromversorgungseinheit. Als Nachteile dieser
bekannten Lösung sind zum einen der hohe apparative
Aufwand zu nennen, der überdies einen nicht zu
verachtenden Platzbedarf in der gesamten Beschaltung
der Vorrichtung erfordert. Zum anderen werden Meßwerte,
Strom- und Spannung, die im HF-Kreis vorherrschen,
erfaßt, die jedoch außerhalb der Probe bzw. außerhalb
des Glimmentladungsraumes abgegriffen werden. Eine
mögliche Einflußnahme der sich ständig ändernden Pro
bengeometrie und der DC-Bias-Gleichspannung zwischen
der Elektrode und der Probe können auf diese Weise
nicht direkt erfaßt werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine
gattungsgemäße Vorrichtung zur Analyse von Werkstoff
proben, die im Rahmen einer Hochfrequenzglimmentladung
analysiert werden, derart weiterzubilden, daß eine
direkte Erfassung der DC-Bias-Gleichspannung, die sich
zwischen der Elektrode und der Probe einstellt, wie
vorstehend beschrieben, direkt erfaßt werden kann.
Ferner soll die DC-Bias-Gleichspannung während einer
Messung, d. h. spektroskopischen Untersuchung der in der
Probe enthaltenen Teilchen, konstant gehalten bzw.
nachgefüllt werden können.
Die Lösung der Aufgabe ist im Anspruch 1 angegeben.
Vorteilhafte Ausführungsformen sind Gegenstand der
Unteransprüche.
Erfindungsgemäß ist eine Vorrichtung zur Analyse von
Werkstoffproben, insbesondere von elektrisch nicht
leitfähigen Proben, mittels Hochfrequenz-
Glimmentladung, mit einer, einen Glimmentladungsraum
unmittelbar, wenigstens teilweise umschließenden,
hohlförmig ausgebildeten Elektrode, einer
Haltevorrichtung für eine Probe, mit der die Probe von
der Elektrode beabstandet anbringbar ist, so daß ein
Bereich freier Probenoberfläche dem Glimmentladungsraum
exponiert gegenüberliegt, und einer Gegenelektrode, die
die Probe mit einem HF-Generator verbindet, derart
ausgebildet, daß eine floatend beschaltete Zu
satzelektrode zwischen der Probe und der Elektrode
vorgesehen ist, die mit einer Spannungs-Meß
einrichtung verbunden ist.
Das sich ausbildende Gleichspannungsfeld zwischen der
Elektrode und der Probe soll erfindungsgemäß mit einer
Zusatzelektrode erfaßt werden, die vorzugsweise unmit
telbar auf der Probe aufliegt und vorzugsweise die
Probenstelle umgibt, die durch den Abtrageprozeß abge
sputtert wird. Die Zusatzelektrode befindet sich dabei
in der Projektion der Elektrodenwände auf die Probe
noberfläche jeweils unter den Elektrodenwänden, so daß
sie im Dunkelraum unmittelbar an der Außengrenze des
sich durch den Sputterprozeß ausbildenden Brennfleckes
auf der Probenoberfläche angeordnet ist. Die Zusatz
elektrode ist floatend beschaltet und weist
insbesondere in ihrer elektrischen Anschlußleitung
wenigstens eine Kapazität auf, durch die mögliche
Ladungsträger am Abfließen behindert werden. Mit Hilfe
eines geeigneten Spannungsmessers kann das sich
zwischen der Elektrode und der Probe einstellende
Gleichfeld erfaßt werden ohne dabei selbst das
Gleichfeld zu stören. Ein Regelkreis, der mit dem HF-
Generator verbunden ist, stellt sicher, daß bei sich
ändernden Gleichspannungsverhältnissen die HF-Spannung,
die an der Gegenelektrode an der Probe anliegt,
derart geregelt wird, daß sich das Gleichspannungs
feld konstant einstellen läßt.
Je nach Geometrie der Elektrode und Probe eignen sich
als Zusatzelektrodenform dünne elektrisch leitende
Ringe, Ringsegmente, Stifte, elektrisch leitende
Beschichtungen, die direkt auf der Probe abgeschieden
sind und den Brennfleck während des Sputterprozesses
nicht verdecken bzw. am Brennfleckbereich auf der Probe
vorher abgesputtert werden, oder ein bloßer Draht, der
über die Probenoberfläche gespannt ist.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines
Ausführungsbeispieles unter Bezugnahme auf die
Zeichnung exemplarisch beschrieben. Die einzige Figur
zeigt einen schematisierten Querschnitt durch eine
Vorrichtung gemäß Anspruch 1 mit der erfindungsgemäß
angeordneten Zusatzelektrode.
Die in der Figur dargestellte HF-Glimmentladungsvor
richtung weist eine Elektrode 1 auf, die als Hohlzylin
derelektrode ausgebildet und geerdet ist. Beabstandet
von der metallischen Elektrode 1, ist die Probe 2 ange
bracht, die im dargestellten Beispiel aus elektrisch
nichtleitendem Material besteht. Zwischen Elektrode 1
und Probe 2 ist die erfindungsgemäße floatend ge
schaltete Zusatzelektrode 3 vorgesehen, die ent
sprechend der Wandkontur der Elektrode 1 den sich
während der Glimmentladung ausbildenden Brennfleck 8
auf der Probe 2 umgibt.
Zwischen der Elektrode 1 und der Zusatzelektrode 3 ist
vorzugsweise ein Spaltöffnung 4 vorgesehen, durch die die
im Glimmentladungsraum 5 vorherrschenden lokalen
Druckverhältnisse verändert werden können.
Wie bereits vorstehend beschrieben, werden die axial
zur Elektrode 1 eingeleiteten Trägergasatome durch ein
HF-Hochspannungsfeld im Glimmentladungsraum 5
ionisiert. Ein HF-Generator 6, der mit einer
Gegenelektrode 7, die an der Probe 2 kontaktiert ist,
generiert das HF-Hochspannungsfeld innerhalb des
Glimmentladungsraumes 5. Infolge der
Ionisation und der daraus entstehenden positiv
geladenen Ionen und Elektronen bildet sich an der
Probenoberfläche 8 eine negative Raumladungszone aus,
da durch die kapazitive Ankopplung der Probe durch die
Kondensatoren C₁ und C₂ ein Ladungsträgerabfluß verhin
dert wird. Durch die sich ausbildende negative
Raumladung wird die metallisch ausgebildete Elektrode 1
zur Anode, wodurch sich das vorbeschriebene Gleichspannungs
feld bzw. die DC-Bias-Gleichspannung ausbildet.
Zur Erfassung der DC-Bias-Gleichspannung dient die
Zusatzelektrode 3, die über ein Gehäuse 9 direkt mit
der Probe 2 verbunden ist. Alternativ kann die Zu
satzelektrode auch in unmittelbarer Nähe zur Probe
noberfläche angeordnet sein. Ein Dichtungsring 10 sorgt
dafür, daß kein Gasfluß aus oder in den Glimment
ladungsraum 5 stattfinden kann. Die Zusatzelektrode 3 ist
über eine Spannungsmeßeinheit Ubias floatend beschaltet, die
zur weiteren Regelung mit dem HF-Generator 6 verbunden
ist, der an einer Stromversorgungsquelle 11 ange
schlossen ist. Sollte sich im laufe des
Sputterabtrages die Gleichspannung zwischen der
Elektrode 1 und Probe 2 ändern, so wird diese Änderung
erfaßt und über eine entsprechende Nachregelung der HF-
Spannung entsprechend kompensiert. Auf diese Weise ist
es erstmals möglich, die DC-Bias-Gleichspannung am Ort
des Sputterprozesses zu erfassen und in Abhängigkeit
sich einstellender Änderungen durch entsprechende Rege
lung der HF-Spannung entsprechend entgegenzuwirken. Mit
Hilfe dieser Zusatzelektrodenanordnung kann somit er
stmals sichergestellt werden, daß die DC-Bias-
Gleichspannung während der Messung zur Erfassung der
spektroskopischen Eigenschaften der in der Probe 2
enthaltenden Elemente, konstant gehalten werden kann.
Außerdem steht eine Meßgröße zur Verfügung, die in
direktem Zusammenhang mit dem Sputterprozeß steht und
für die Auswertung des Analysensignals benutzt werden
kann.
Alternativ zu der in der Figur gezeigten Ausführungs
form der Glimmentladungsvorrichtung, kann die Gegen
elektrode auch auf der Probenoberseite bzw. um die
Probe angeordnet werden. Ebenso ist es nicht notwendig,
daß die Gegenelektrode in unmittelbarem Kontakt zur
Probe angebracht ist. Um Überhitzungen im Proben
material, die im Wege des Sputterprozesses auftreten
können, zu vermeiden, kann die Probe und/oder die Ge
genelektrode gekühlt werden.
Um die Gesamtvorrichtung individuell auf verschiedene
Probengrößen anordnen zu können, ist es vorteilhaft,
daß der Elektrodenkörper im Gehäuse nicht fest sondern
herausnehmbar angeordnet ist. Dies ist beispielsweise
über übliche Klemm-, Steck- oder Schraubverbindungen
möglich. Ebenso ist in Abstimmung mit der Elektroden
körpergröße die Zusatzelektrode vorzugsweise zweiteilig
ausgeführt, so daß der innere Bereich der Zusatzelektrode
durch entsprechend ausgebildete Elektrodenmodulteile
den jeweiligen Größen des Elektrodenkörpers angepaßt
werden kann. Eine derartige Ausbildung ist auch zur
Reinigung der Anordnung von Sputterresten vorteilhaft.
Alternativ zu der in der Figur dargestellten Ausbildung
und Anordnung der Zusatzelektrode kann die Zu
satzelektrode auch mit dem Elektrodenkörper kombiniert
werden. Hierzu ist in vorteilhafter Weise die Elektrode
im Bereich, der der Probe zugewandt ist, aus elektrisch
nicht leitendem Material ausgebildet, mit dem in
Richtung der Probenoberfläche die Zusatzelektrode direkt
verbunden ist. Auf diese Weise
ist gewährleistet, daß bei vollständiger Beschichtung
bzw. bei Verbrauch der gesamten Elektrodenoberfläche
samt Zusatzelektrode ein Austausch modularig erfolgen
kann, ohne den Gesamtaufbau der Vorrichtung demontieren
zu müssen.
Im Falle dieser Anordnung ist es vorteilhaft, daß die
äußerste Spitze der Zusatzelektrode, die dem
Glimmentladungsbereich unmittelbar benachbart ist, frei
ist, d. h. daß ein Spalt am Innendurchmesser zwischen
Zusatzelektrode und Elektrode sowie zwischen Zu
satzelektrode und Probe besteht.
Claims (27)
1. Vorrichtung zur Analyse von Werkstoffproben, insbe
sondere von elektrisch nicht leitfähigen Proben, mittels
Hochfrequenz-Glimmentladung,
mit einer, einen Glimmentladungsraum unmittelbar, wenigstens teilweise umschließenden, hohlförmig ausge bildeten Elektrode,
einer Haltevorrichtung für eine Probe, mit der die Probe von der Elektrode beabstandet anbringbar ist, so daß ein Bereich freier Probenoberfläche dem Glimmentladungsraum exponiert gegenüberliegt,
und einer Gegenelektrode, die die Probe mit einem HF- Generator verbindet,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine floatend beschaltete Zusatzelektrode zwischen der Probe und der Elektrode vorgesehen ist, die mit einer Spannungs-Meßeinrichtung verbunden ist.
mit einer, einen Glimmentladungsraum unmittelbar, wenigstens teilweise umschließenden, hohlförmig ausge bildeten Elektrode,
einer Haltevorrichtung für eine Probe, mit der die Probe von der Elektrode beabstandet anbringbar ist, so daß ein Bereich freier Probenoberfläche dem Glimmentladungsraum exponiert gegenüberliegt,
und einer Gegenelektrode, die die Probe mit einem HF- Generator verbindet,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine floatend beschaltete Zusatzelektrode zwischen der Probe und der Elektrode vorgesehen ist, die mit einer Spannungs-Meßeinrichtung verbunden ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die hohlförmig ausgebildete Elektrode auf Masse-
Potential liegt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die hohlförmig ausgebildete Elektrode
zylinderförmig ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Elektrode einen Innendurchmesser aufweist mit einer
Innenkontur, deren Projektion auf die Probenoberfläche
die Zusatzelektrode zur Innenseite nicht überragt.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Zusatzelektrode ringförmig ist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Zusatzelektrode aus Ringsegmenten, Pins oder
einem Draht besteht.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Zusatzelektrode unmittelbar auf der Probe,
bspw. als Schicht, aufgebracht ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Zusatzelektrode im Astonschen Dunkelraum zwi
schen Elektrode und Probe angeordnet ist.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gegen
elektrode auf der dem Glimmladungsraum abgewandten Seite
der Probe angebracht ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gegen
elektrode auf der dem Glimmladungsraum zugewandten
Seite der Probe angebracht ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gegen
elektrode die Probe umgibt.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gegen
elektrode von der Probe beabstandet ist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Probe
kühlbar ist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gegen
elektrode kühlbar ist.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Spaltöffnung
zwischen der Elektrode und der Probe vorgesehene
ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Ab
saugvorrichtung vorgesehen ist, die mit der
Spaltöffnung zwischen der Elektrode und der Probe ver
bunden ist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16,
dadurch gekennzeichnet, daß sich an der
Spaltöffnung ein Spaltkanal anschließt, der zwischen
Elektrode und Probe mit elektrisch isolierendem
Material beschichtet ist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 17,
dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode
mittels Klemmen oder Schraubverbindungen im Inneren
eines Gehäuses befestigt ist, so daß sie leicht aus
tauschbar ist.
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 18,
dadurch gekennzeichnet, daß der HF-Ge
nerator mit einem Anpaßglied verbunden ist.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 19,
dadurch gekennzeichnet, daß der HF-Generator
freischwingend arbeitet und direkt an die Gegenelektrode
angeschlossen ist.
21. Vorrichtung nach Anspruch 20,
dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem
Generator und der Gegenelektrode ein Transformationsglied ge
schaltet ist.
22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 21,
dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode
im Bereich, der der Probe zugewandt ist, aus elektrisch
nichtleitendem Material besteht.
23. Vorrichtung nach Anspruch 22,
dadurch gekennzeichnet, daß die Zu
satzelektrode mit dem elektrisch nichtleitenden Bereich
der Elektrode fest verbunden ist.
24. Vorrichtung nach Anspruch 23,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Spalt am
Innendurchmesser zwischen Zusatzelektrode und Elektrode
sowie zwischen Zusatzelektrode und Probe besteht.
25. Verfahren zur Analyse von Werkstoffproben unter Ver
wendung der Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß sich während der Probenanalyse in unmittelbarer
Nähe von der Probenoberfläche ein Potentialverlauf
einstellt, der mit einer floatend beschalteten
Elektrode erfaßt wird und zur Regelung des HF-Ge
nerators verwendet wird.
26. Verfahren nach Anspruch 25,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Regelung
des HF-Generators derart erfolgt, daß das zwischen
der Elektrode und der Probe herrschende
Gleichspannungsverhältnis einem vorgegebenen Wert
nachgeführt wird.
27. Verfahren nach Anspruch 25 oder 26,
dadurch gekennzeichnet, daß die Spannungs-
Meßeinrichtung die Hochfrequenz-Spannung erfaßt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995140434 DE19540434C1 (de) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | Vorrichtung zur Analyse von Werkstoffproben, insbesondere von elektrisch nicht leitfähigen Proben, mittels Hochfrequenz-Glimmentladung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995140434 DE19540434C1 (de) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | Vorrichtung zur Analyse von Werkstoffproben, insbesondere von elektrisch nicht leitfähigen Proben, mittels Hochfrequenz-Glimmentladung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19540434C1 true DE19540434C1 (de) | 1997-06-12 |
Family
ID=7776193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1995140434 Expired - Fee Related DE19540434C1 (de) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | Vorrichtung zur Analyse von Werkstoffproben, insbesondere von elektrisch nicht leitfähigen Proben, mittels Hochfrequenz-Glimmentladung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19540434C1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999059385A1 (en) * | 1998-05-12 | 1999-11-18 | Masarykova Univerzita | The method of making a physically and chemically active environment by means of a plasma jet and the related plasma jet |
WO2021078924A1 (de) * | 2019-10-24 | 2021-04-29 | Hochschule Für Angewandte Wissenschaft Und Kunst Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Verfahren und messkopf zum plasmagestützten messen eines körpers |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0645618A1 (de) * | 1993-09-28 | 1995-03-29 | Institut für Festkörper- und Werkstofforschung Dresden e.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Elementanalytik |
-
1995
- 1995-10-30 DE DE1995140434 patent/DE19540434C1/de not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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