DE19521419C2 - Verdampfereinheit zur Verdampfung von Materialien im elektrischen Vakuumbogen - Google Patents

Description

Gegenstand der Erfindung ist eine Verdampfereinheit zur Ver­ dampfung von Materialien im elektrischen Vakuumbogen in einer Vakuumkammer, enthaltend einen Elektrodenträger 1 mit Wasser­ kühlung 2 und eine auf dem Elektrodenträger angeordnete Elek­ trode 4, die als Kathode schaltbar ist und die von einer Elektrodenabschirmung 5 umgeben ist, die zur Elektrode 4 und zur Vakuumkammer 7 isoliert angeordnet ist.

Es ist bekannt, die Oberfläche von Werkzeugen oder auch von anderen Stoffen, wie Kunststoffen oder Keramik, mit harten und verschleißmindernden Schichten zu versehen. So werden bei­ spielsweise Verbindungen, wie Titannitrid, Titancarbonnitrid, Titancarbid und Mehrlagenschichten oder Mischschichten wie Titanaluminiumnitrid auf Materialien aufgebracht. Es sind im wesentlichen zwei Verfahren bekannt, mit denen diese Beschich­ tungen erzeugt werden. Zum einen das sogenannte CVD-Verfahren (chemical vapor deposition), bei dem die Werkzeuge bei Tempe­ raturen von 800 bis 1100°C beschichtet werden.

Ein weiteres Beschichtungsverfahren ist das PVD-Verfahren (physical vapor deposition), das bei Temperaturen unter 500°C erfolgt. Dabei wird im allgemeinen ein Beschichtungsmaterial verdampft oder zerstäubt und anschließend ionisiert und auf ein mit einer negativen Substratvorspannung versehenes Sub­ strat aufgebracht. Bei der Durchführung dieses Beschichtungs­ verfahrens tritt üblicherweise bei Werkzeugstählen keine Form- oder Gefügeänderung des zu beschichtenden Materials auf, so daß keine nachträgliche Bearbeitung der Werkstücke erfolgen muß. Die einzelnen PVD-Verfahren unterscheiden sich nur in der Art ihrer Verdampfungsquelle. Bekannt sind das Aufdampfen un­ ter Vakuum, die Kathodenzerstäubung, das ionisierte reaktive Aufdampfen und Verdampfen mittels Bogenentladung oder Elek­ tronenstrahlkanone.

Bei der Kathodenzerstäubung wird als Verdampfungsquelle eine feste Platte benutzt, die mit einer negativen Vorspannung ver­ sehen ist. Das in der Vakuumkammer erzeugte Plasma enthält positive Ionen, die die als Quelle benutzte feste Platte ab­ tragen. Das abgetragene Material schlägt sich dann auf dem Substrat nieder. Bei der Hochleistungskathodenzerstäubung wird zusätzlich hinter der Kathode ein Magnetron angeordnet, daß die Zerstäubungsrate durch Ablenkung der Elektronen erhöht, so daß mehr positive Ionen das Plasma abtragen können.

Auch reaktive PVD-Verfahren sind bekannt, bei denen die Sub­ stanz, mit der beschichtet wird, erst in der Vakuumkammer er­ zeugt wird. Ein solches Verfahren ist das ionisierte aktive Aufdampfen (Ion Plating), wobei mittels eines Elektronen­ strahls Verdampfungsmaterial aus einem Tiegel, der als Anode geschaltet ist, ionisiert wird. Die ionisierten Atome werden durch die negative Spannung am Substrat auf dieses hin be­ schleunigt. Durch Ionisation entstehen ferner positive Reak­ tionsgasionen, die ebenfalls auf das negative Substrat be­ schleunigt werden. An der Substratoberfläche entladen sich Verdampfungsmaterial und Reaktionsgasionen und vereinigen sich zu einer Hartstoffschicht.

Ein weiteres bekanntes PVD-Verfahren ist das Verfahren des Verdampfens mittels Bogenentladung (arc discharge). Bei diesem Verfahren wird mit einem oder mehreren Lichtbogenverdampfern gearbeitet, die in jeder Raumlage der Vakuumkammer angeordnet werden können. Diese Verdampfer enthalten das zu verdampfende Material. Das Verdampfungsmaterial wird als Kathode am negati­ ven Pol einer Spannungsquelle geschaltet. Durch Kontakt der Kathodenoberfläche mit einem geerdeten Trigger wird ein elek­ trischer Lichtbogen erzeugt, der zwischen Kathode und Anode brennt. Dieser Lichtbogen greift die Kathode an ihrer Ober­ fläche an. Durch diese lokale Erhitzung wird das Kathodenmate­ rial verdampft und als ionisiertes Metallplasma durch eine negative Substratvorspannung (Bias) auf das Substrat hin be­ schleunigt. Hochionisierte und hochenergetische Metallteilchen aus dem Plasma kondensieren nach der Reaktion mit dem in die Kammer eingelassenen Reaktionsgas auf der Substratoberfläche und bilden so beispielsweise bei der Verwendung von Titan als Verdampfungsmaterial eine Titannitridschicht. Alle PVD-Verfah­ ren werden unter Hochvakuum durchgeführt. Eine Beschichtung im Vakuum ist notwendig, damit eine Oxidation der erzeugten Schichten und der Oberflächen der Werkzeuge vermieden wird.

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Verdampfereinheit, die in den vorbeschriebenen PVD-Verfahren eingesetzt werden kann. Die erfindungsgemäße Verdampfereinheit wird als Kathode beim Verdampfen mittels Bogenentladung verwendet.

Aus dem Stand der Technik sind verschiedene Verdampfereinhei­ ten bekannt. So beschreibt die DE 34 13 701 A1 eine Verdamp­ fereinheit für eine Vakuumkammer. Diese Verdampfereinheit ent­ hält einen äußeren Plattenring, der sich im elektrischen Kon­ takt und dem Dichtungseingriff mit einem Kammerflansch der Vakuumkammer befindet. Zwischen dem äußeren Plattenring und dem Kammerflansch sind Dichtungsmittel und Isolationsmittel vorgesehen. Weiterhin ist ein innerer Plattenring vorhanden, der eine Kathodenbaugruppe trägt. Auch der innere Plattenring verfügt über eine entsprechende Abdichtung gegenüber dem äuße­ ren Kammerring (siehe Fig. 7). Auf der der Kammer zugewandten Seite ist weiterhin eine Kathodenabschirmung angeordnet, die mit Bolzen auf der äußeren Platte befestigt ist. Weiterhin ist eine Triggereinheit vorgesehen zur Zündung des Vakuumbogens. Aufgrund des Aufbaus mit einem inneren und einem äußeren Plat­ tenring handelt es sich hier um eine zweiteilige Verdampfer­ einheit.

Eine solche Vorrichtung besitzt doch erhebliche Nachteile. Durch den zweiteiligen Aufbau der Verdampfereinheit sind zwi­ schen Verdampfereinheit und Kammerwand zwei Dichtungen und Isolatoren notwendig. Zum einen die Dichtung des äußeren Rings zur Kammerwand, zum anderen die Dichtung des inneren Rings zum äußeren Ring. Dadurch bestehen erheblich größere Leckagemög­ lichkeiten, als bei Verwendung von nur einem einteiligen Auf­ bau.

Weiterhin besitzt die Kathodenabschirmung im Vergleich zur Kathode einen erheblich größeren Durchmesser und auf der äuße­ ren Platte ist noch eine Triggereinheit angeordnet. Dies führt dazu, daß die gesamte Verdampfereinheit einen großen Durch­ messer besitzt im Vergleich zum Durchmesser der Kathode. Dies hat zur Folge, daß eine erheblich geringe Kathodenoberfläche zur Verdampfung zur Verfügung steht, was zu kürzeren Kathoden­ standzeiten führt und einen häufigeren Austausch der Kathoden erfordert.

Weiterhin ist aufgrund der Tatsache, daß die Triggereinheit ebenfalls an der Verdampfereinheit montiert ist, eine Abnahme der gesamten Einheit notwendig, auch wenn nur die Triggerein­ heit oder die Kathode gewartet werden muß.

Eine derartige Anordnung ist für einen modularen Aufbau von mehreren hintereinander oder übereinander geschalteten kleine­ ren Vakuumkammern ungeeignet.

Die Verwendung von L-Ring-Dichtungen zur Abdichtung gegenüber der Vakuumkammer hat den Nachteil, daß diese bei der Beschich­ tung bedampft werden. Dies kann insbesondere bei der äußeren Dichtung der Fall sein, da diese über den Spalt zwischen dem Bolzen der Kathodenabschirmung und der Kammerwand zugänglich ist. Auf diese Art und Weise kann es zu einer Beschichtung der L-Ring-Dichtung kommen. Hierdurch wird die Isolation der Ka­ thode von der Vakuumkammerwand aufgehoben und es kommt zu ei­ nem Überspringen des Vakuumbogens auf das Vakuumkammergehäuse, was zur Folge hat, daß aufgrund der großen Hitze die gesamte Verdampfereinheit in der Vakuumkammer festgeschweißt wird und damit unbrauchbar wird.

Aufgrund des großen Durchmessers der gesamten Einheit im Ver­ gleich zum Durchmesser der Kathode, ist es nicht möglich, die Triggereinheit außerhalb der Verdampfereinheit anzuordnen, weil dann der Zünddraht zu lang ist und verbiegen würde.

Einen weiteren Stand der Technik beschreiben die Druckschrif­ ten US 4,430,184 und US 4,559,121. Hier wird eine Verdampfer­ einheit beschrieben, die einen großen Kathodendurchmesser im Vergleich zur gesamten Verdampfereinheit besitzt. Hierbei wird jedoch als Kathodenabschirmung ein Isolator aus einem nicht leitenden Nitridmaterial verwendet, insbesondere Bornitrid. Die Verwendung dieser Substanzen hat jedoch den Nachteil, daß sie relativ weich, zerbrechlich und teuer sind. Nach jedem Betreiben der Verdampfereinheit muß der Bornitridring von der teilweise bedampften Metallschicht gereinigt werden. Aufgrund der geringen Härte des Bornitrids kommt es dabei zu einer Ab­ tragung der Substanz. Wird der Spalt zwischen der Kathode und dem Bornitridring dadurch zu groß, führt dies dazu, daß der Vakuumbogen beim Betrieb in diese Spalte gerät und erlischt oder zwischen Kammer und Elektrode brennt, was zum Verschwei­ ßen der Elektrode mit der Kammer führt.

Die DE 37 07 545 A1 beschreibt eine Anordnung zur Stabilisie­ rung eines Lichtbogens mit einem Begrenzungsring aus Kupfer oder Aluminium, der gegenüber Anode und Kathode isoliert ist.

Ausgehend von diesem Stand der Technik war es das Problem der Erfindung, eine Verdampfereinheit zu entwickeln, die die oben bezeichneten Nachteile des Standes der Technik nicht aufweist, bei der die Verwendung von Bornitrid nicht nötig ist und die ein günstigeres Verhältnis von Elektrodendurchmesser zu Elek­ trodenabschirmung besitzt.

Dieses technische Problem wird gelöst durch eine Verdampfer­ einheit mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Das Verhältnis des Durchmessers der Elektrode 4 zur Differenz von Innen- und Au­ ßendurchmesser der Elektrodenabschirmung 5 ist bevorzugt 1 : 2 bis 5 : 1.

In einer besonderen Ausführungsform ist die Verdampfereinheit als Kathode schaltbar. Die Elektrodenabschirmung 5 kann ring­ förmig aufgebaut sein und umgibt dann die Elektrode 4. Es wer­ den bevorzugt paramagnetische oder ferromagnetische Metalle oder Legierungen eingesetzt. Die Elektrodenabschirmung besteht bevorzugt aus Ferrit enthaltendem Stahl.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform wird die Elek­ trodenabschirmung 5 von ihrer Größe so gewählt, daß bei in die Vakuumkammer 7 eingesetzter Verdampfereinheit der Raum zwi­ schen Elektrode 4 und Vakuumkammerwand 7 abgedeckt wird. Hier­ durch wird vermieden, daß die L-Ring-Dichtung 6 zwischen Ver­ dampfereinheit und Vakuumkammer 7 während des Verdampfungs­ vorganges mit Metall bedampft wird. Auf diese Art und Weise wird eine sogenannte Labyrinthdichtung erzeugt. Da der ioni­ sierte Metalldampf gerichtet ist, kann dieser durch dieses Labyrinth nicht an die Dichtung zwischen Verdampfereinheit und Kammergehäuse geraten.

So wird die Bedampfung der L-Ring-Dichtung während des Be­ triebs der Verdampfereinheit vermieden und die Gefahr eines unerwünschten Überspringens des Vakuumbogens über die Dichtung auf das Kammergehäuse mit der Folge des Verschweißens der Ver­ dampfereinheit in der Kammerwand vermieden.

In einer bevorzugten Ausführungsform ist das Verhältnis von Elektrodendurchmesser zur Differenz von Außendurchmesser und Innendurchmesser der Elektrodenabschirmung 5 1,5 : 1 bis 3 : 1. In besonders bevorzugter Weise besitzt die Elektrode 4 einen Durchmesser von 60 bis 100 mm, und die Elektrodenabschirmung einen Außendurchmesser von 110 bis 190 mm. Die Elektrodenab­ schirmung wird über eine Elektrodenabschirmungsträgerplatte 11 an der Überwurfmutter 10 befestigt und ist verschiebbar, so daß die Elektrodenabschirmung 5 eine Flucht mit der Elektro­ denoberfläche 4 bilden kann.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform ist auf dem Elektrodenträger 1 auf der der Elektrode 4 abgewandten Seite mindestens ein Magnet 3 angeordnet. Dieser bewirkt, daß der Vakuumbogen auf der Elektrode 4 gehalten wird. Es ist bevor­ zugt, daß die Elektrode 4 über ihren äußeren Rand an dem Elek­ trodenträger 1 befestigt wird.

Die gesamte Verdampfereinheit kann mittels eines an der Vaku­ umkammer 7 angeordneten Schnellspanners 8 an der Vakuumkammer befestigt werden. Weiterhin ist es bevorzugt, daß die Verdamp­ fereinheit keine Triggerbaugruppe enthält.

Ausgehend von den Druckschriften US 4,430,184 und US 4,559,121 war es bei der Entwicklung der erfindungsgemäßen Verdampfer­ einheit völlig überraschend, daß auch mit Materialien aus Me­ tallen eine hervorragende Elektrodenabschirmung möglich ist, wie diese bisher nur von Materialien wie Bornitrid bekannt ist. Die entsprechende allgemeine Lehre ist beispielsweise der US 4,430,184 zu entnehmen, wo es heißt, daß als Isolator ins­ besondere solche Stoffe verwendet werden können, die bei mitt­ leren Energiewellen der geladenen Teilchen des Lichtbogens ein Sekundärelektrodenemissionsverhältnis haben, das kleiner als 1 ist und die eine Oberflächenenergie haben, die kleiner ist als die des verdampften Elektrodenmaterials, so daß der Kathoden­ fleck auf der Elektrodenoberfläche begrenzt wird. Es wird wei­ terhin ausgeführt, daß insbesondere Nitride diese Eigenschaf­ ten besitzen, nicht jedoch Metalle, die erheblich größere Sekundärelektrodenemissionsverhältnisse von mehr als 1 besit­ zen.

Entgegen dieser Lehre ist bei der erfindungsgemäßen Verdamp­ fereinheit kein Bornitrid mehr notwendig für die Elektroden­ abschirmung. Vielmehr wird die Elektrodenabschirmung durch relativ preiswerte metallische Materialien oder Legierungen ersetzt. Ein besonders guter Effekt wird dadurch erreicht, daß als Metalle magnetisierbare Metalle oder Legierungen einge­ setzt werden. Hierzu zählen insbesondere paramagnetische oder ferromagnetische Metalle und Legierungen.

Hieraus ergeben sich für die Anwendung der Verdampfereinheit in Vakuumkammern erhebliche Vorteile. Das bisher verwendete Bornitrid ist teuer, es ist leicht brüchig und ein relativ weiches Material. Nach dem Betrieb der Verdampfereinheit bil­ det sich im allgemeinen immer eine geringe Metallschicht auf der Elektrodenabschirmung. Diese ist bei Verwendung von Metal­ len oder Legierungen ohne weiteres abwischbar, muß jedoch bei Verwendung von Bornitrid aufwendig abgekratzt werden. Dadurch nutzt sich der Bornitridring schnell ab oder er kann bei dem Reinigungsprozeß leicht brechen und muß dann ausgetauscht wer­ den. Diese Nachteile besitzt eine Elektrodenabschirmung aus Metall oder einer Legierung nicht. Somit ist der Wartungsauf­ wand bei der erfindungsgemäßen Verdampfereinheit erheblich geringer.

Weiterhin kommt es aufgrund der Abdeckung der L-Ring-Dichtun­ gen 6 durch die Elektrodenabschirmung 5 nicht mehr zum Bedamp­ fen der Ringe. Ein Überspringen des Vakuumbogens auf die Vaku­ umkammerwand kann so sinnvoll verhindert werden.

Aber auch gegenüber dem Stand der Technik der DE 34 13 701 A1 ergeben sich erhebliche Vorteile. Die erfindungsgemäße Ver­ dampfereinheit besteht nämlich entgegen dem Stand der Technik aus einer Baugruppe. Somit besitzt sie nur eine L-Ring-Dich­ tung, ein geringeres Gewicht und ist besser handhabbar. Wei­ terhin ergeben sich durch die Verwendung nur einer Dichtung geringere Leckagemöglichkeiten als bei der Verdampfereinheit gemäß des Standes der Technik.

Ein weiterer wichtiger Vorteil der erfindungsgemäßen Verdamp­ fungseinheit ist, daß aufgrund des großen Durchmessers der Kathode die Triggereinheit von der Verdampfereinheit völlig getrennt angebracht werden kann. Dies erleichtert erheblich die Wartung, da jeweils nur das Teil ausgewechselt werden muß, das gewartet werden muß. Bei dem Stand der Technik der DE 34 13 701 A1 ist es dagegen notwendig, die gesamte Verdampfer­ einheit auch dann auszubauen, wenn beispielsweise nur die Zündeinheit oder nur die Elektrode gewartet werden muß.

Mit der Vergrößerung des Elektrodendurchmessers im Vergleich zum gesamten Durchmesser der Verdampfereinheit beziehungsweise der Elektrodenabschirmung, wird eine Vergrößerung der aktiven Kathodenoberfläche erreicht. Dadurch ist es möglich, bei glei­ cher Stromstärke des Bogenstromes mit einer geringeren spezi­ fischen Stromdichte zu operieren und es kommt zu einer gerin­ geren Emission von Tropfen.

Aufgrund des größeren Abdampfwinkels der erfindungsgemäßen Verdampfereinheit wird ein besserer Schichtaufbau beim Be­ schichten erreicht, als bei Verdampfereinheiten, die nur eine Kathode geringen Durchmessers und daher einen geringen Ab­ dampfwinkel besitzen. Dies ermöglicht insbesondere die Verwen­ dung der Verdampfereinheit in Vakuumkammern modularer Bauwei­ se, in denen die Verdampfereinheiten jedes Moduls in sehr ge­ ringem Abstand angeordnet werden können, wodurch ein erheblich höherer Elektrodenquerschnitt erzielt werden kann.

Die erfindungsgemäße Verdampfereinheit wird für die Vakuumbo­ genverdampfung eingesetzt. Dann werden der Elektrodenträger und die Elektrode kathodisch geschaltet und durch die L-Ring- Dichtung zur Kammerwand isoliert. Die Kathodenabschirmung ist dann zur Kathode wie zur Kammerwand isoliert und besitzt schwebendes Potential.

Fig. 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Verdampfereinheit. Die Verdampfereinheit besteht aus dem Elek­ trodenträger 1 der Elektrode 4 und der Elektrodenabschirmung 5. Weiterhin ist eine Schnellspannvorrichtung 8 vorhanden, die an der Vakuumkammer 7 angebracht ist. Der Schnellspanner 8 dient dazu, die Verdampfereinheit ohne aufwendige Schrauben oder Bolzen in die entsprechende Öffnung in der Vakuumkammer­ wand einzuführen und dicht zu fixieren. Es können auch mehrere Schnellspannvorrichtungen vorhanden sein. Die Elektrode 4 wird auf den Elektrodenträger 1 aufgesetzt und mit einer Überwurf­ mutter 10 an dem Elektrodenträger 1 festgeschraubt. Die Elek­ trodenabschirmung 5 wird auf der Trägerplatte 11 der Elektro­ denabschirmung befestigt. Die Trägerplatte 11 besteht aus iso­ lierendem Material, ist vakuumtauglich, statisch stabil und wärmebeständig. Die Ziffer 12 bezeichnet eine äußere O-Ring- Dichtung, Ziffer 9 eine innere O-Ring-Dichtung, die zwischen dem Elektrodenträger 1 und der hinteren Abdeckung 13 des Elek­ trodenträgers 1 angeordnet sind.

Die Ziffer 15 bezeichnet die Einlaß- und Auslaßkanäle für das Kühlwasser. Die L-Ring-Dichtung 6 isoliert die Verdampferein­ heit von der Kammerwand und dichtet gleichzeitig ab. Der Ma­ gnet 3, der vorzugsweise mittig auf der Elektrodenabschirmung angeordnet ist, hält den Vakuumbogen auf der Elektrode. Er kann in bevorzugter Ausführungsform mit einer Abschirmung 14 versehen sein, so daß die magnetische Feldstärke außen gerin­ ger ist als innen.

Fig. 2 zeigt eine Sprengzeichnung der Verdampfereinheit. Die Elektrodenabschirmung 5 wird mit Hilfe von Schrauben an der Trägerplatte 11 für die Elektrodenabschirmung 5 befestigt. Die Trägerplatte ist so beschaffen, daß sie mit der Abschirmung 5 auf die Überwurfmutter 10 geschoben werden kann. Sie ist dort beliebig verschiebbar und kann in eine Flucht mit der Ober­ fläche der Elektrode 4 gebracht werden. Mit der Überwurfmutter 10 wird die Elektrode 4 auf dem Elektrodenträger 1 fest­ geschraubt. Der Elektrodenträger 1 besitzt vorzugsweise eine hintere Abdeckung 13. Zwischen Elektrodenträger 1 und Elek­ trode 4 ist die L-Ring-Dichtung angeordnet, der die in der Vakuumkammer liegenden Teile der Verdampfereinheit von dem außenliegenden Teilen der Verdampfereinheit abdichtet und iso­ liert.

Die hintere Abdeckung 13 wird an dem Elektrodenträger 1 mit Schrauben befestigt. Sie verfügt über Einlaß- und Auslaßöff­ nungen 15 für Kühlwasser. Die Ziffern 12 und 9 bezeichnen O- Ring-Dichtungen zur Abdichtung des Kühlwasserkreislaufes. Die hintere Abdeckung des Elektrodenträgers 13 besteht bevorzugt aus Edelstahl.

Claims (10)

1. Verdampfereinheit zur Verdampfung von Materialien im elektrischen Vakuumbogen in einer Vakuumkammer, enthal­ tend einen Elektrodenträger (1) mit Wasserkühlung (2) und eine auf dem Elektrodenträger angeordnete Elektrode (4), die als Kathode schaltbar ist und die von einer Elek­ trodenabschirmung (5) umgeben ist, die zur Elektrode (4) und zur Vakuumkammer (7) isoliert angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Verdampfereinheit aus einer ein­ teiligen Baugruppe besteht und die Elektrodenabschirmung (5) mittels einer isolierenden Trägerplatte (11) an der Elek­ trodenhalterung (10) befestigt ist, wobei die Elektroden­ abschirmung (5) aus einem magnetisierbaren Metall oder einer magnetisierbaren Legierung besteht.

2. Verdampfereinheit nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich­ net, daß die Elektrodenabschirmung (5) die Elektrode (4) ringförmig umgibt.

3. Verdampfereinheit nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrodenabschirmung (5) aus Ferrit enthaltenden Stahl besteht.

4. Verdampfereinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 3, da­ durch gekennzeichnet, daß die Elektrodenabschirmung so groß ist, daß bei in die Vakuumkammer (7) eingesetzter Verdampfereinheit der Raum zwischen Elektrode und Vakuum­ kammerwand abgedeckt wird.

5. Verdampfereinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da­ durch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Elektroden­ durchmesser zur Differenz von Außendurchmesser und Innen­ durchmesser der Elektrodenabschirmung (5) 1 : 2 bis 5 : 1 ist.

6. Verdampfereinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 5, da­ durch gekennzeichnet, daß auf dem Elektrodenträger (1) auf der der Elektrode (4) abgewandten Seite mindestens ein Magnet (3) angeordnet ist.

7. Verdampfereinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 6, da­ durch gekennzeichnet, daß die Verdampfereinheit mittels eines an der Vakuumkammer (7) angeordneten Schnellspan­ ners (8) an der Vakuumkammer befestigt wird.

8. Verdampfereinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 7, da­ durch gekennzeichnet, daß die Verdampfereinheit keine Triggerbaugruppe enthält.

9. Verdampfereinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 8, da­ durch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des Durchmessers der Elektrode zur Differenz von Innen- und Außendurch­ messer der Elektrodenabschirmung 1,5 : 2 bis 3 : 1 ist.

10. Verdampfereinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 9, da­ durch gekennzeichnet, daß die Elektrode (4) über ihren äußeren Rand an dem Elektrodenträger (1) befestigt ist.