DE1920183B2 - Verfahren zum beschluss eines elektrisch isolierenden materials mit ionen zur zerstaeubung, dotierung oder analyse des materials - Google Patents

Verfahren zum beschluss eines elektrisch isolierenden materials mit ionen zur zerstaeubung, dotierung oder analyse des materials

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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3917491A (en) * 1974-01-08 1975-11-04 Us Army Methods for fabricating resistant MOS devices
US4110625A (en) * 1976-12-20 1978-08-29 International Business Machines Corporation Method and apparatus for monitoring the dose of ion implanted into a target by counting emitted X-rays
USRE33344E (en) * 1977-04-22 1990-09-18 Finnigan Corporation Apparatus and method for detecting negative ions
US4132614A (en) * 1977-10-26 1979-01-02 International Business Machines Corporation Etching by sputtering from an intermetallic target to form negative metallic ions which produce etching of a juxtaposed substrate
US4416725A (en) * 1982-12-30 1983-11-22 International Business Machines Corporation Copper texturing process
GB8404173D0 (en) * 1984-02-17 1984-03-21 Ti Group Services Ltd Controlling current density
JP2568006B2 (ja) * 1990-08-23 1996-12-25 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション イオン化空気により対象物から電荷を放電させる方法及びそのための装置
FR2806527B1 (fr) * 2000-03-20 2002-10-25 Schlumberger Technologies Inc Colonne a focalisation simultanee d'un faisceau de particules et d'un faisceau optique
US11031205B1 (en) 2020-02-04 2021-06-08 Georg-August-Universität Göttingen Stiftung Öffentlichen Rechts, Universitätsmedizin Device for generating negative ions by impinging positive ions on a target

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2947868A (en) * 1959-07-27 1960-08-02 Geophysics Corp Of America Mass spectrometer
US3336475A (en) * 1964-02-05 1967-08-15 Electro Optical Systems Inc Device for forming negative ions from iodine gas and a lanthanum boride contact ionizer surface
US3328210A (en) * 1964-10-26 1967-06-27 North American Aviation Inc Method of treating semiconductor device by ionic bombardment
US3341754A (en) * 1966-01-20 1967-09-12 Ion Physics Corp Semiconductor resistor containing interstitial and substitutional ions formed by an ion implantation method

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Publication number Publication date
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DE1920183A1 (de) 1970-08-27
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JPS567292B1 (de) 1981-02-17
DE1920183C3 (de) 1981-10-29
GB1259505A (de) 1972-01-05

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