DE1811158A1 - Glasgegenstaende mit strahlungsdaemmendem Oberflaechenbelag - Google Patents
Glasgegenstaende mit strahlungsdaemmendem OberflaechenbelagInfo
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Description
Glasgegenstände mit strahlungsdämmendem Oberflächenbelag
Die Erfindung betrifft Glasgegenstände, insbesondere Scheiben, Zylinder oder Formkörper, aus Glas oder glasartigen Massen,
deren Oberfläche einen Belag aufweist, welcher eine den Transmissionsund/oder
Reflexionsgrad von elektromagnetischer Strahlung verändernde Wirkung besitzt.
Bekanntlich werden Gläser, z. B. Fenster- oder Filterscheiben,
deren Strahlungsdurchlässigkeit durch aufgebrachte dünne Oberflächenschichten einen vorbestimmten spektralen Verlauf zeigt,
für verschiedenste Zwecke verwendet. So werden beispielsweise mit gewissen Metallfilmen belegte Gläser dazu benutzt, von dem
kontinuierlichen Spektrum eines Strahlers im wesentlichen nur sichtbares Licht hindurchzulassen, längerwellige Strahlung dagegen
überwiegend zu reflektieren bzw. zu absorbieren. Zum Zwecke selektiver Reflexion von sichtbarer, UV- oder IR-Strahlung
ist ferner die Verwendung dielektrischer Einfach- oder Mehrfachschichten seit langem bekannt. Als besonders vielseitig
im technischen Einsatz verwendbar, haben sich in neuerer Zeit organogene oder aus organischen Lösungen niedergeschlagene
Oxidschichten erwiesen. Es handelt sich hierbei um Metalloxide, die entweder durch thermische Zersetzung dampfförmiger organischer
Metallverbindungen oder feindisperser organischer Lösungen von Metallverbindungen oder auch nach Bildung eines gleich-
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mäßigen flüssigen Films solcher Lösungen mittels Hydrolyse
und/oder Pyrolyse auf der Glasober fläche erzeugt-werden· Unter
den zahlreichen hierfür verwendeten Stoffen war bisher noch kein Metall bzw. Metalloxid bekannt, mit dem in technisch und
wirtschaftlich befriedigender Weise eine annähernd gleichmäßig im sichtbaren und nahen IR-Spektralbereich verlaufende Absorptionskon
starte mit Werten bis zur Größenordnung <v 10 /cm erreicht
werden kann. Für diese Aufgabe wurde zwar bereits vorgeschlagen,
oxidische Schichtmaterialien, wie z. B. TiO2' Snö2' Tnö2
oder ZxO2, mit Zusatz von kolloidalem Au oder Pt zu verwenden»
In beiden Fällen erhält man jedoch eine durch Farbwirkungen
auffallende Selektivität bereits bei mäßigen mittleren Absorptionswerten;
außerdem ist die Stabilität der zu ihrer Herstellung nötigen Lösungen relativ gering, was sich bei dem hohen
Preis dieser Stoffe sehr nachteilig auswirkt. Zur Erzielung einer gleichmäßig über ein breiteres Spektralgebiet verlaufenden
Absorption wurden schließlich auch schon Schichten aus
niederen Übergangsmetalloxiden vorgeschlagen, die aus Lösungen erhalten werden, wenn man die flüssigen Filme unter reduzierenden
Bedingungen erhitzt. Eine solche Behandlung stößt bei großen Flächen jedoch auf erhebliche technische Schwierigkeiten.
Wie Versuche gezeigt haben, eignen sich Schichten, welche aus
einer Oxidmatrix mit eingelagertem feinstverteiltem Palladium bestehen, besonders gut zum Zwecke einer angenähert frequenzunabhängigen
Dämpfung von elektromagnetischer Strahlung durch damit belegte Glaskörper. Erfindungsgemäß bestehen solche
Schichten aus einem oder mehreren Oxid(en) von Metallen aus
der Gruppe der Ordnungszahlen 11 bis 15, 19 bis 32, 39 bis 42,y
44, 45, 47 bis 51, 56 bis 60, 73, 74, 90 und 92 und enthalten mindestens 5 Gew.-% Pd in feinster Verteilung. Das Pd soll
dabei vorzugsweise in elementarer Form (z» B. feinkristallin oder als Metallkolloid) vorliegen; jedoch ist auch die Anwesenheit
von oxidisch gebundenem Pd meist nicht störend. Der Bin-
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it** *
dungssustand sowie die Grüße der Pd-Partikel wird sowohl durch
die Natur dar Itatrixoxlde als durch dia Präparationsmethode
der Schichten bestimmt. Der Partikeldurchmeseer kann leicht
durch elektronenaiikroekopiiche Untersuchung bestimmt werden
und soll «wecka&ßig etwa 300 8 nicht überschreiten, um das Auftreten einer aterklichen Lichtstreuung *u vermeiden, für die
herstellung der erfindungsgemäßen Schichten kommen verschiedene
Methoden in Betracht. Man kann sie sowohl durch die bekannten Methoden der Verdampfung oder Zerstäubung im Vakuum wie auch M
durch chemische Miede rechlag «aethoden auf Glas au ft ringen. So- *
weit es sich um Glasgegenstände von großen Abmessungen oder komplizierteren Formen handelt, sind die letzteren im allgemeinen technisch einfacher und besonders wirtschaftlich durchzuführen.
In diesen Falle geht man zur Herstellung der Oberflächenschichten zweckmäßig von zwei Lösungen aus. Lösung A enthält in einem
organischen Lösungsmittel, z. B. Alkohol, eine oder mehrere
Verbindungen von Metallen der genannten Ordnungszahlen gelöst, so daß aus dieser Lösung in an sich bekannter Heise auf einer
Glasoberfläche Filme niedergeschlagen werden können, die durch thermische Behandlung in eine festhaftende, durchsichtige Oxid- M
schicht Übergehen. Lösung B enthält in einem Lösungsmittel, das mit Lösung A verträglich 1st, eine dissoziierende oder als
Komplex lösliche Pd-Verbindung. Die beiden Lösungen werden in
dem Verhältnis vermischt, das der gewünschten Pd-Konzentration
in der Oxidschicht entspricht, und bis zur Einstellung des Reaktionsgleichgewichtes (i. a. etwa 24 Stunden) stehen gelassen.
Öle Beschichtung des Glasgegenstandes erfolgt dann nach an sich bekannten Methoden, welche eine möglichst gleichmäßige Filmbildung auf der Glasoberfläche ermöglichen, z. B. durch Tauchen in
der Lösung und Herausziehen unter kontrollierten Bedingungen. Anschließend wird der Gegenstand zur Verfestigung des Films in
einem Ofen auf einer Temperatur von mindestens 200°, Vorzugs-
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weise 350 - 450°, solange §ehalten« bis sieh durch hydrolytische und/oder pyrolytisch« Unsettling ®in wischfester überzug
von genügender Härte gebildet hat«
Wie sich weiter gezeigt hat, sind die Bjctlnktionseigenschaften
de* Pd in einer Oxldraatrixschleht von bestimmter Zusainraensetzung nicht in jedem Falle gleich, sondern einerseits von der
Anwesenheit gewisser Begleitstoffe in der Lösung ■, _ andererseits
von der Zusammensetzung der umgebenden Atmosphäre beim Einbrennen abhängig. Eine besondere Bolle spielt dabei das Redoxpotential der Lösung für deren Stabilität. Es wurde gefunden,
daß man diese wesentlich erhöhen kann, wenn man zum Lösung*-
gemisch Stoffe zugibt, die das Redoxpotential so einstellen,
daß eine Reduktion der Pd-Verbindung durch chemische oder
photochemische Reaktionen verhindert wird. Dies gelingt bei
dissoziierbaren Pd-Verbindungen z» B. dussh die Verwendung von
Mineral säuren, bei Pd-halt igen Komplexverbindungen durch Zugabe
von Aminen zur Lösung. Während des Einbrennens kann nan durch
die Anwesenheit reduzierend wirkender Gase, wie H2 oder CO,
erreichen, daß die Oxidbildung des M weitgehend unter drückt
wird, wodurch die spektrale Extinktion der Schichten i» Sicht"
baren von der Wellenlänge nahezu unabhängig bleibt· Durch dies· Maßnahmen wird gleichzeitig ein Optimum an Härte und Beständigkeit der Schichten erzielt.
Als besonders günstige Matrixsubstanz eignen sich SiO-, 2
und/oder CeO2, die imstande sind, auch größere Mengen von Pd
feinstverteilt und stabil aufzunehmen. Im Falle einer CeO2-Matrix ergeben sich überraschenderweise neben der Extinktion
der Schichten auch Halbleitereigenschaften. Auch Ztieätaa anderer Oxide, die in verschiedenen Wertigkeits8tufenauftreten,
können in der Kombination mit eingebautem Pd derartige Effekte
hervorbringen. Hierzu gehören z. B. Antimonoxid tmü
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~" 5 —
Je nach der Verwendung der Schichten wird die Schichtdicke beim
Aufbringen einzustellen sein. Zur Erzielung optischer und/oder
elektrischer Effekte braucht die zu wählende Gesamtschichtdicke i. a. 200 bis 300 nra nicht zu überschreiten, jedoch genügt zur
Erzielung einer genügenden Extinktionswirkung vielfach schon eine Schichtdicke von 20 bis 100 nra.
Die Pd-haltige Schicht kann auch mit weiteren dielektrischen
Schichten kombiniert werden und so eine Teilschicht eines Mehrfachschichtensystems
bilden. In manchen Fällen ist es z. B. M vorteilhaft, die erhöhte Reflexion einer Pd-haltigen Schicht
durch eine oder mehrere zusätzlich aufgebrachte Schichten niedrigerer
Brechung zu vermindern. Ein besonders geeignetes System, welches eine extrem niedrige Reflexion von Tafelglas im sichtbaren
Wellenlängenbereich ergibt, besteht beispielsweise aus einer Oxidschicht von einer optischen Dicke von A/4 und einer
Brechzahl von etwa 1,8, aus einer darüberliegenden Pd-haltigen
TiO,- oder CeO2-Schicht von 3/βλ bis 1/2 X Dicke und einer
Deckschicht aus SiO2 van A/4-Dicke. Mit diesem System erzielt
man bei Fensterglas eine angenehme Dämpfung des Tageslichtes, die je nach dem Pd-Gehalt etwa zwischen 10 und 60 % liegen j
kann, unter gleichzeitiger Ausschaltung störender Reflexe. Bei
der Verwendung der erfindungsgemäßen Schichten zur Kontrolle %
der Sonneneinstrahlung in Gebäuden kann ebenfalls eine zusätzliche
Schicht von etwa K/k -Dicke die Intensität des reflektierten
Lichtes herabsetzen, ohne die Infrarot-Reflexion wesentlich zu beeinträchtigen. Diese Schicht kann sowohl vor oder nach der
Pd-haltigen Schicht aufgebracht sein. Dabei empfiehlt es sich,
zur Vermeidung von störenden Farbeffekten eine Oxidschicht von
mittlerer Brechzahl, z. B. 1,7 bis 1,8, als zusätzliche Schicht zu verwenden.
Zur Erläuterung der chemischen Niedersehlagsmethode für die
erfindungsgemäßen Schichten dienen die nachfolgenden Beispiele:
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Be i »3 giis 1 1
Lösung Ä
Lösung Ä
75 g Oxthokieselsäuremethylester vörden mit 67,5 al. I3O unter
Zusatz von 7,5 ml Essigsäure verseift und mit Alkohol auf 33 g SiO2 pro Liter verdünnt.
Lösung B
W 10 g PdCl2 werden in Io ml konz. HCl gelöst und die Lösung mit
Alkohol auf 60 ml verdünnt.
Nach 24 h werden 5OOO ml Lösung A mit 2OO ml Lösung B vermischt.
Die gesamte Lösung kann nach kurzer Zeit verwendet werden, indem man den zu belegenden Glasgegenstand entweder in
die Lösung eintaucht und z. B. mit einer Geschwindigkeit zwischen 0,1 bis 1 cm/sec aus der Lösung herausbewegt, oder aber
mittels einer Zerstäubervorrichtung mit der Flüssigkeit besprüht. Man erreicht bei einer beidseitig auf diese Weise
belegten Platte einen Absorptionsanteil im sichtbaren Bereich bis zu etwa 20 %, wähxend die Reflexion praktisch nicht von
fe der des unbelegten Glases abweicht.
Beispiel 2
Lösung A
Lösung A
344 g Titantetrabutylat werden in etwa der halben Menge des insgesamt zuzugebenden Alkoholvoluraens gelöst.
Lösung B
180 ml der Lösung B von Beispiel 1 werden nach Zugabe von 2(XSO
ml Alkohol mit 180 g Triätfaanoiaraln unter kräftigem Riöiren
versetzt. Der sich bildende Niederschlag vor* Trlätlianolamin-
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Da· flltarat wird alt dar Lösung A unter weiterer Zugabe von
35 g Triethanolamin zur Stabilisation der Lösung vermischt.
Die LÖ«ang wird sodann mit Alkohol auf 5000 ml Gesamtvolumen
verdOnnt.
Di· Bearbeitung der Lösungen kann wie in Beispiel 1 erfolgen.
Die erhaltenen Schichten se igen hohen Reflexionsgrad im sichtbaren tttfd nahen Infrarot-Gebiet bei einem Absorptionsanteil
von 15 bis 30 %, je nach der gewählten Schichtdicke.
50,4 g Ce(NO3)j»6 H2O werden in Alkohol gelöst; die Lösung
wird mit 25 ml der Lösung B von Beispiel 1 sowie 10 g Glycerin vermischt und mit Alkohol auf 500 ml Gesamtmenge verdünnt. Die
daraus erhaltenen Schichten zeigen optische Extinktion und gleichseitig eine deutliche Leitfähigkeit. Die Schichten können
daher sum twecke der Ableitung von statischen Ladungen sowie sur Abschirmung gegen langwellige elektromagnetische
Strahlung verwendet werden.
56 g In(NO3J3".5 H2O und 25 g Ce(NO3J3-6 H3O werden in Alkohol
gelöst} sur Lösung gibt man 20 ml der Lösung B von Beispiel 1
sowie 5 g Glycerin und verdünnt auf 800 ml Gesamtmenge. Verarbeitung kann wie bei Beispiel 1 erfolgen.
Zu 1000 ml Lösung gemäß Beispiel 2 gibt man 1,5 g AgNO. und 50 ml Xthanolamin. Die damit erzielten Schichten zeigen eine
bevorzugte Extinktion für den mittleren sichtbaren Wellenbereich.
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Zu der gemäß Beispiel 2 angebeteten Lösung gibt man zusätzlich 22 g MaOC2H5. Die erhaltenen Schichten haben glasartigen
Charakter und entsprechend ihrem Alkaligehalt eine erhöhte Wärmedehnung, die der Glasunterlage angepaßt werden kann.
Anstelle des Titantetrabutylats nach Beispiel 2 löst man 225 g
Th(NO3)4»6 H2O oder 160 g TaCl5 oder 750 g Al(NO3J3^ H2O oder
270 g La (NO3)3-6 H2O in Alkohol. Die Lösung wird jeweils mit
Lösung B, Beispiel 2, in der angegebenen Menge (ohne zusätzliches Triäthanolamin) versetzt.
Man löst 22,5 g (CrCl2*(H3O)4)C1»2 H3O in 1/2 ltr. Alkohol und
gibt 1/2 Ltr. einer gemäß Lösung A, Beispiel 2, angesetzten Lösung hinzu, die 60 g SiO2 pro Ltr. enthält. Zum Lösungsgemisch gibt man 24 ml der Lösung B von Beispiel 1. Die erhaltenen Schichten zeichnen sich durch eine kräftige Extinktion
für das UV- und das kurzwellige sichtbare Licht aus.
In ähnlicher Weise läßt sich das Pd in Schichten einbauen, die man aus Lösungen von Bariumrhodanid oder der Nitrate von Cd,
Fe, Co oder Ni erhält, wobei ebenfalls ein Zusatz eines Titanbzw. Kieselsäureesters zur Erhöhung der mechanischen und chemischen Beständigkeit sowie zur Änderung der spektralen Transmissions- und Reflexionseigenschäften der erzielten Schichten
beitragen kann.
In einer Vakuumatafaampfapparatur wird eine Mischung aus 9 g
fein gepulvertem SlO und 1 g Fd-Metall in'einem Verdampfer™
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*■ · ft I
schiffchen entweder durch Bestrahlung mittels einer Elektronenkanone oder durch flash-Verdampfung sublimiert und auf einer
Glasplatte kondensiert. Man erzielt damit Schichten mit einer ähnlichen Filterwirkung wie im Falle von Beispiel 1.
Zur weiteren Erläuterung der erfindungsgemäßen Gegenstände dienen die Figuren, welche folgende Ausführungen darstellen:
Figur 1 eine mit einer einfachen Pd-haItigen Schicht
überzogene Glasplatte;
Figur 2 ein Schichtsystem zur gleichzeitigen Strahlungs-^
dämpfung und Entspiegelung;
Figur 3 ein DoppelSchichtsystem zur Reduktion der solaren
Einstrahlung.
1 den zu überziehenden Glasgegenstand, z. B. eine Glasplatte;
2 die Pd-haltige Oxidschicht gemäß der Erfindung;
3 eine Schicht mittlerer Brechung;
4 eine Deckschicht von möglichst niedriger Brechung.
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Claims (1)
- Patentansprüche: /fO1. Mit dünner Oberflächenschicht zum Zwecke der Durchlässigkeits- und/oder Reflexionsänderung von elektromagnetischer Strahlung belegter Glasgegenstand, insbesondere Glasplatte, -Zylinder oder -Formkörper, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus einem oder mehreren Oxid(en) von Metallen aus der Gruppe der Ordnungszahlen 11 bis 15, 19 bis 32, 39 bis 42, 44, 45, 47 bis 51, 56 bis 60, 73, 74, 90 und 92 besteht und bis 50 Gew.-% Palladium in feinster Verteilung enthält.2. Glasgegenstand mit Oberflächenschicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, das die Schicht aus O bis 95 % TiO2 und/oder O bis 95 % SiO2 und 5 bis 50 t Pd besteht.3. Glasgegenstand mit Oberflächenschicht nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus 50 bis 95 t CeO2, O bis 45 % SiO2 oder TiO2 und 5 bis 50 % Pd besteht.4. Glasgegenstand mit Oberflächenschicht nach Anspruch 1,2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Dicke der Oberflächenschicht zwischen 20 und 300 nra liegt.5. Glasgegenstand mit Oberflächenschicht nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Pd-haltige Schicht eine oder mehrere Teilschichten1 eines Mehrfachschichten-Systems bildet.6. Glasgegenstand mit Oberflächenschicht nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Mehrfachschichten-System eine > re flex vermindernde Wirkung auf der Glasoberfläche aufweist und gleichzeitig die Lichtdurchlässigkeit mn 10 bis 60 % herabsetzt.7. Glasgegenstand mit Oberflächenschicht nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Pd-haXtige Schicht mit einer Schicht raa mittlerer oder alfnirigei: Bxecbsahl trnäoptischen Dick« von <* Λ/4 kombiniert ist, durch welche der AefUxiemsgred «er M-halUgen fokicht la Sichtbaren τ.min-·. Verfahren zur Berstellung von eXasgegenstinden nach 1 bis 7, dadoroh gekennseiohnet, daB «an su einertösung von Verbindungen von mindestens einen !!•tall a«s der Gruppe der Ordnungssahlen 11 bis 15, 19 bis 32, 39 bis 42, 44, 45, 47 bis 51, 56 bis 60, 73, 74, 90 und 92 die Lösung einer dissosiierenden oder als Komplex löslichen Pd-Verbindung sugibt, den Gegenstand mit einem Film aus der erhaltenen Lösung übersieht und gleichseitig oder anschließend einer Wlrmebeaandlung unterwirft, wobei durch hydrolytische und/oder pyrolytische Umsetzung eine Verfestigung der Pd-haltigen Schicht erfolgt.9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man sur Mischung der beiden Lösungen Stoffe zugibt, die das Redoxpotential in der Lösung so einstellen, daß eine Reduktion der fd"Verbindung durch chemische oder photochemische Reaktionen verhindert und die Lösung dadurch stabilisiert wird.10. Verfahren nach Anspruch 9, gekennzeichnet durch Verwendung von Sturen bei diesosiierbaren Pd-Verbindungen bzw. von Aminen bei Pd-haltigen Komplexverbindungen als Stabilisatoren.11. Verfahren nach den Ansprüchen 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daft die wärmebehandlung de's niedergeschlagenen Pdhaltigen Films in einer sauerstofffreien bzw. -armen Schutzgasatmosphäre erfolgt.009825/0758 ORIGINAL INSPECTEDΌ.Leerseite
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DE19681811158 DE1811158A1 (de) | 1968-11-27 | 1968-11-27 | Glasgegenstaende mit strahlungsdaemmendem Oberflaechenbelag |
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
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1968
- 1968-11-27 DE DE19681811158 patent/DE1811158A1/de active Pending
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
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EP0131827A1 (de) * | 1983-07-08 | 1985-01-23 | Schott Glaswerke | Tauchverfahren zur Herstellung transparenter, elektrisch leitfähiger, dotierter Indiumoxidschichten |
US4849252A (en) * | 1983-07-08 | 1989-07-18 | Schott-Glasswerke | Dipping process for the production of transparent, electrically conductive, augmented indium oxide layers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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CH532537A (de) | 1973-01-15 |
GB1289498A (de) | 1972-09-20 |
FR2024343A1 (de) | 1970-08-28 |
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