DE1808719B2 - Verfahren und Vorrichtung zusn Be handeln von Oberflachen, insbesondere zum Harten von Lackschichten, durch Be strahlung mit Ladungstragerstrahlen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zusn Be handeln von Oberflachen, insbesondere zum Harten von Lackschichten, durch Be strahlung mit LadungstragerstrahlenInfo
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Description
Da genügend intensive Ladungsträgerstrahlen im Hochvakuum erzeugt werden müssen, wird bei bekannten
Verfahren und Vorrichtungen der angegebenen Art entweder der in einer Hochvakuumkammer
erzeugte Ladungsträgerstrahl in einen unter höherem Druck, beispielsweise Atmosphärendruck, stehenden
Bestrahlungsraum ausgeschleust, etwa mit Hilfe von strahlungsdurchlässigen Fenstern, oder es wird der zu
bestrahlende Gegenstand in einen unter Vakuum stehenden Bestrahlungsraum eingebracht oder eingeschleust.
Bei der zuerst genannten Verfahrensweise erspart man sich den Aufwand für eine evakuierbare Arbeitskammer
und die damit verbundenen Hilfsaggregate wie Vakuumschleusen und Pumpen. Deshalb hat man
dieses Verfahren in der Praxis bisher im allgemeinen vorgezogen. Dabei wurde der Arbeitsraum meist unter
normalem Atmosphärendruck gehalten, und der Ladungsträgerstrahl wurde aus dem unter Hochvakuum
stehenden Strahlerzeuger durch ein möglichst gut strahlendurchlässiges Fenster, beispielsweise aus
dünnem Aluminium, ausgeschleust. Dabei mußte man jedoch wegen der unvermeidlichen Strahlungsabsorption
im Fenster sehr hohe Beschleunigungsspannungen und Teilchengeschwindigkeiten anwenden, so daß
der dafür erforderliche verhältnismäßig hohe bauliche Aufwand den kostenmäßigen Vorteil, der durch den
Verzicht auf eine evakuierte Arbeitskammer erzielt wurde, zum Teil wieder aufhob. Außerdem war die
Ausnutzung der Strahlung bei der Behandlung verhältnismäßig
dünner Schichten, z. B. Lackschichten, nur gering, da schnelle Teilchen ein hohes Durchdringungsvermögen
haben. Darüber hinaus waren bei praktisch brauchbaren Abständen zwischen dem Fenster
und dem zu bestrahlenden Gegenstand die Absorptionsverluste und die unerwünschte Streuung in
der den Gegenstand umgebenden Atmosphäre auch bei hohen Teilchengeschwindigkeiten bereits recht
störend.
Die zweitgenannte Möglichkeit, den zu bestrahlenden Gegenstand in einem evakuierten Arbeitsraum
zu bestrahlen, wurde im allgemeinen nur bei verhältnismäßig kleinen und/oder strangförmigen Gegenständen
angewendet. Andererseits bietet diese Arbeitsweise jedoch den Vorteil, daß niedrigere
Teilchengeschwindigkeiten verwendet werden können und störende Streuungen an Fenstermateriai oder
in einer den Gegenstand umgehenden Gasatmosphäre weitgehend vermieden werden. Niedrige Teilchengeschwindigkeiten
sind vorteilhaft, weil die Kosten für den Strahlerzeuger sehr stark von der benötigten Teilchenbeschleunigung
abhängen und weil die Durchdringungsfähigkeitgeringer
ist, so daß auch in dünnen Schichten, beispielsweise Lackschichten, ein erheblicher
Teil der Strahlungsenergie absorbiert werden kann und die zur Strahlerzeugung aufgewendete Leistung
somit besser ausgenutzt wird.
Mit den bekannten Verfahren und Vorrichtungen zum Behandeln von Oberflächen, und zwar sowohl
bei Verfahren der zuerst beschriebenen, in der Praxis eingeführten Art mit strahlungsdurchlässigem Fenster
und hohen Teilchengeschwindigkeiten, als auch bei den zuletzt beschriebenen Verfahren mit evakuierbarer
Arbeitskammer konnten bisher nur sehr einfache Oberflächenformen behandelt werden, wie sie beispielsweise
bei Bändern, Platten oder Folien vorkommen. So sind beispielsweise ein Verfahren und eine
Einrichtung zur Bestrahlung eines Kunststoffüberzuges auf einem draht- oder bandförmigen, elektrisch
leitenden Träger mit Ladungsträgerstrahlen bekannt (deutsche Auslegeschrift 1025 475). bei denen der
Kunststoffträger durch eine kontinuierliche Vakuumschleuse hindurchgeschleust und in deren Hochvakuumraum
der Bestrahlung mindestens einer Ladungsträgerstrahlungsquelle ausgesetzt wird, wobei der
Kunststoffträger die Endelektrode des Beschleunigungssystems der Strahlquelle bildet. Die Strahlquelle
konnte dabei ringförmig ausgebildet und konzentrisch zu dem Kunststoffträger angeordnet sein, oder es waren
mehrere Ladungsträgerstrahlungsqueilen vorgesehen und vorzugsweise gleichmäßig verteilt und konzentrisch
in bezug auf die Führung des zu bestrahlenden Kunststoffträgers angeordnet.
Im Zusammenhang mit dem oben beschriebenen bekannten Verfahren mit hohen Teilchengeschwindigkeiten
und strahlungsdurchlässigem Fenster ist ferner schon vorgeschlagen worden, kompliziertere
Oberflächenformen wie sie z.B. bei Rohren u.dgl. vorkommen, in der Weise zu behandeln, daß man entweder
mehrere Strahlqucllen verwendet oder das slrahlungsdurchlässigc Fenster und die Anode, in der
sich dieses Fenster normalerweise befindet, der Oberfläclienform der zu behandelnden Gegenstände anpaßt.
Dieser letztgenannte Vorschlag macht deutlich, daß es bei den bekannten Verfahren mit Aussehleusung
des Strahls in einen Raum höheren Gasdrucks entscheidend darauf ankommt, den Abstand zwischen
dem strahlungsdurchlässigen Fenster und dem Gegenstand so gering wie möglich zu halten, um Absorption
und Streuung in der den Gegenstand umgebenden Atmosphäre gering zu halten.
Es ist ferner schon vorgeschlagen worden (deutsche Auslegeschrift 1050459), die Durchstrahlung von
dicken Gegenständen mit schnellen Elektronen dadurch zu verbessern, daß man den Elektronenstrahl
in zwei Komponenten aufgespaltet und die eine Kom-
ponente direkt auf eine Seite des Gegenstandes auftreffen läßt, während die andere Komponente durch
ein Ablenkfeld um 180° umgelenkt und auf die entgegengesetzte Seite des Gegenstandes geleilet wird. Bei
diesem bekannten Verfahren müssen ohnehin wegen der Dicke der zu bestrahlenden Gegenstände verhältnismäßig
schnelle Elektronen verwendet werden, so daß es verständlich erscheint, daß bei diesem bekannten
Verfahren die beschriebene Arbeitsweise mit Ausschleusung des Strahls durch ein strahlendurchlässiges
Fenster angewendet wird. Dabei wird ein nur schwach fokussierter Strahl mit verhältnismäßig großem
Querschnitt verwendet, der die ganze Oberfläche des zu behandelnden Gegenstandes einschließt. Bei
diesem Verfahren ist es nachteilig, daß wegen der hohen Elektronengeschwindigkeit ein verhältnismäßig
starkes Ablenkfeld erforderlich ist, und die durch die Umlenkung erforderliche Länge des Strahlweges
führt, da keine unter vermindertem Druck stehende Arbeitskammer verwendet wird, notwendigerweise zu
verhältnismäßig hohen Verlusten durch Absorption und Streuung in der Gasatmosphäre. In der Praxis
konnte sich dieses Verfahren deshalb nicht durchsetzen.
Die Erfindung geht von der Aufgabe aus, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Behandeln von
Oberflächen insbesondere zum Härten von Lackschichten, /1 schaffen, die ohne bauliche Änderungen
für Gegenstande beliebiger und auch komplizierter Oberflächenformen verwendbar sind.
Zur Lösung dieser Aufgabe schafft die vorliegende
Erfindung ein Verfahren zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten,
von Gegenständen durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrahlen, insbesondere Elektronenstrahlen, bei
dem der Gegenstand in eine unter vermindertem Druck gehaltene Arbeitskammer eingebracht und ein
von einer Strahlquelle ausgehender Ladungsträgerstrahl abgelenkt und auf die zu behandelnde Oberfläche
geleitet wird, wobei das Verfahren dadurch ge-
kennzeichnet ist, daß der in an sich bekannter Weise
durch freie Offnungen ausgeblendete Strahl mittels steuerbarer Ablenkfelder auf der Oberfläche entlanggeführt
und in Abhängigkeit von der Form des Gegenstandes dosiert wird.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird somit die eingangs beschriebene Arbeitsweise verwendet,
bei der der Gegenstand in eine evakuierte Arbeitskammer eingebracht wird. Wie schon weiter vorn angedeutet,
ergeben sich dabei gegenüber der Arbeits-
fio weise mit ausgeschleustem Strahl beträchtliche Vorteile durch bessere Ausnutzung der Strahlungsenergie
und geringeren Aufwand beim Strahlerzeuger, so daß schon wegen dieser Vorteile der bauliche
Mehraufwand für eine evakuierbare Arbeitskammer annehmbar erscheint; die Evakuierung selbst macht
bei dem heutigen Stand der Hochvakuumtechnik auch bei verhältnismäßig großen Arbeitskammern keine
besonderen Schwierigkeiten. Bei dem erfindungsge-
maßen Verfahren ergeben sich jedoch außer den angegebenen
bekannten Vorteilen, die offenbar bisher allein nicht ausreichend waren, um der beschriebenen
Arbeitsweise mit evakuierbarer Arbeitskammer eine Verbreitung in der Praxis zu sichern, zusätzliche entscheidende
Vorteile, und zwar im Hinblick auf die Behandlung beliebig geformter Oberflächen und exakte
Strahlungsdosierung, so daß das erfindungsgemäße Verfahren trotz der Notwendigkeit, eine evakuierte
Arbeitskammer zu verwenden, den bisher in der Praxis überwiegend anzutreffenden Verfahren mit Strahlen
hoher Teilchengeschwindigkeit und strahlungsdurchlässigem Fenster zweifelsfrei überlegen ist.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird als entscheidender Vorteil eine universelle Anpassungsfähigkeit
an beliebige Oberflächenformen und Behandlungsvorschriften dadurch erzielt, daß zwei entscheidende
Verfahrensschritte ineinandergreifen, nämlich das Weiterführen des Strahls über die zu
behandelnde Oberflächenschicht und die dabei erfolgende Dosierung, die entsprechend der in jedem
Oberflächenelemen". gewünschten Dosis durch entsprechende Steuerung der Ablenkfelder und/oder der
Strahlparameter eingestellt werden kann. Es können somit nach dem erfindungsgemäßen Verfahren verschiedenartig
geformte Gegenstände und/oder verschiedenartig zu behandelnde Oberflächen mit ein
und derselben Apparatur behandelt werden, wobei es lediglich erforderlich ist, die Ablenkung und Dosierung
entsprechend dem gewünschten Bestrahlungsprogramm zu steuern oder zu programmieren, um in
dem jeweils bestrahlten Bereich der Oberfläche eine gewünschte Absorption von Strahlungsenergie zu erzielen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann der Strahl von den steuerbaren Ablenkfeldern in erforderlichenfalls
komplizierten Bahnen auf jede gewünschte Stelle der zu behandelnden Oberfläche geleitet
werden; die dabei vielfach notwendigen verhältnismäßig langen Strahlwege können infolge des
in der Arbeitskammer herrschenden niedrigen Drukkes in Kauf genommen werden, ohne daß übermäßige
Verluste an Strahlungsenergie auftreten. Die Steuerung der Ablenkfelder und gegebenenfalls auch der
Strahlparameter in Abhängigkeit von der Form der zu behandelnden Oberfläche und der gewünschten
Absorption von Strahlungsenergie stelät sicher, daß der Strahl alle Stellen des vorgegebenen Umfangsbereichs
des Gegenstandes erreicht und den dort befindlichen Oberflächenstellen stets die richtige Menge an
Strahlungsenergie zuführt. Da infolge der Verwendung freier Durchtrittsöffnungen für den Strahl und
einer unter vermindertem Druck gehaltenen Arbeitskammer verhältnismäßig geringe Teilchengeschwindigkeiten
verwendet werden können, bei Elektronenstrahlen beispielsweise Teilchengeschwindigkeiten
unter 100 keV, kann man die gewünschten Ablenkungen mit Ablenkfeldern verhältnismäßig niedriger Intensität
erzielen und erhält auch in dünnen Oberflächenschichten eine gute Ausnutzung der Strahlungsenergie:
außerdem ist auch dte Intensität der beim Auftreffen auf den Gegenstand entstehenden Röntgenstrahlung
verhältnismäßig gering. Überdies sind die durch Wechselwirkung mit Gasmole kulen verur
sachten unerwünschten Erscheinungen wie Sekundärstrahlung, Streuung und Defokussierung, entsprechend dem in der Arbeitskammer angewandten
Vakuum so weit herabgesetzt, daß sie in der Praxis nicht mehr stören. Insgesamt zeichnet sich somit das
crfindungsgemäßc Verfahren durch große Anpassungsfähigkeit und eine vollständig kontrollierbare
und definierte Bestrahlungssituation aus.
Die Ablenkung von Korpuskularstrahlen mit Hilfe von Ablenkfeldern ist naturgemäß an sich bekannt.
Auch bei der Behandlung von Oberflächen von Gegenständen mit schnellen Elektronen ist es bereits bekannt,
den Strahl durch ein Ablenkfeld zellenförmig
ίο über eine im wesentlichen ebene zu behandelnde
Oberfläche zu führen. Dies entspricht dem in der Elektronenstrahltechnik allgemein bekannten zellenförmigen
Abtasten. In diesem Zusammenhang ist es auch bekannt, die Strahlintensität während des Ablenkvorganges
so zu verändern, daß die dem Kosinus des Auftreffwinkels entsprechende Abnahme der Bestrahlungsdichte
kompensiert wird. Auch dabei war jedoch nicht davon die Rede, daß der Strahl nacheinander
durch mehrere unabhängig steuerbare Ablenkfelder geführt und von diesen auf alle Stellen eines
vorgegebenen Umfangbereichs eines Gegenstandes mit beliebig geformter Oberfläche geleitet wird. Im
übrigen ist natürlich auch bei der erfindungsgemäßen I Arbeitsweise die Berücksichtigung des Auftreffwin- j
kels bei der Einsteuerung der Dosierung ohne weite- \
res möglich und vorgesehen; in jedem Fall kann durch ; entsprechende Steuerung der Ablenkgeschwindigkeit
und/oder der .Strahlparameter dafür gesorgt werden, daß pro Flächen- oder Mengeneinheit der zu behandelnden
Oberfläche eine vorgegebene, vorzugsweise auch etwa konstante Energiemenge aus dem Strahl
absorbiert wird. Dabei besieht überdies die Möglichkeit, auch die die Durchdringungsfähigkeit des Strahls
bestimmenden Strahlparameter zu steuern, so daß sich eine gewünschte Verteilung der Energieabsorption
aus dem Strahl über die Tiefe einer zu behandelnden Oberflächenschicht ergibt. So kann man beispielsweise
beim Härten einer Lackschicht erreichen, daß die Härte der Lackschicht von innen nach außen zunimmt.
Eine solche Steuerung der Strahlungsparameter kann in Ausgestaltung der Erfindung beispielsweise
so erfolgen, daß der Strahl impulsartig gesteuert wird, wobei gegebenenfalls die Ablenkfelder synchron
mit der Impulssteuerung angepaßt werden müssen, ebenso wie bei anderen Veränderungen der für die
Abienkfähigkeit des Strahls maßgebenden Strahlparameter.
Eine ersichtlich vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberfläche des Gegenstandes in einer Koordinatenrichtung durch eine Bewegung des
Gegenstandes relativ zur Strahlquelle und in einer anderen Koordinatenrichtung durch Ablenkung des
Strahls vom Strahl überstrichen wird.
Eine vielfach günstigere großflächigere Bestrahlung läßt sich in weiterer Ausgestaltung der Erfindung
dadurch erzielen, daß der Strahl während seines Weiterwanderns über die Oberfläche periodisch hin- und
herbewegt wird. Eine großflächigere Bestrahlung kann auch dadurch erzielt werden, daß der Strahl vor
dem Auftreffen auf die Oberfläche aufgefächert wird, beispielsweise bis auf einen Auftreffdurchmesser in
der Größenordnung von einem Zentimeter.
Die beschriebene universelle Anpassungsfähigkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens kann in weiterer
Ausgestaltung der Erfindung auch dazu verwendet werden, um mehrere verschiedene Bestrahlungsvorgänge nacheinander an ein und demselben Gegen-
stand auszuführen, wobei jeweils ein Strahl über die Oberfläche des Gegenstandes geführt und entsprechend
den in den jeweils bestrahlten Oberflächenbereichen erforderlichen Strahlungsdosen gesteuert
wird. Auf drese Weise können ein zur Vorbereitung einer Beschichtung, insbesondere zur Reinigung der
zu beschichtenden Oberfläche, dienender Bestrahlungsvorgang, der eigentliche Beschichtungsvorgang
und ein zum Härten der Beschichtung dienender Bestrahlungsvorgang nacheinander ausgeführt werden.
wobei vorrichtungsmäßig eine Einrichtung zum Aufbringen der Beschichtung in der Arbeitskammer vorzusehen
ist.
Besonders günstig ist es bei dieser Arbeitsweise, wenn der in die Arbeitskammer eingebrachte Gegenstand
in einem ersten Purchgang an der Strahlquelle vorbeibewegt und durch Bestrahlung mit einem Strahl
gereinigt und danach mit einer aufgebrachten zu behandelnden Oberflächenschicht in einem zweiten
Durchgang an der Strahlquelle vorbeibewegt und zwecks Behandlung der Oberflächenschicht mit einem
Strahl bestrahlt wird. Dabei ergibt sich eine besonders einfache Arbeitsweise dann, wenn der zum Reinigen
dienende Strahl und der zum Behandeln der Beschichtung dienende Strahl aus derselben Strahlquelle
entnommen und von den gleichen unabhängig steuerbaren Ablcnkfeldern nacheinander über vorgegebene
Bereiche der Oberfläche des Gegenstandes geführt werden, wobei während des Reinigungsvorganges die
Ablenkfelder und, falls gewünscht, die Strahlparametcr des Strahls in Abhängigkeit von der Form der zu
reinigenden Oberfläche und entsprechend der in dem jeweils bestrahlten Bereich der Oberfläche gewünschten
Reinigungswirkung eingestellt werden.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens und seiner Ausgestaltungen kann erfindungsgemäß
eine Vorrichtung dienen, die eine evakuierbare Arbeitskammer, ein steuerbares Strahlerzeugungssystem,
das durch freie Öffnungen mit der Arbeitskammer verbunden ist, und eine im Eintrittsbereich der
Arbeitskammer vorgesehene steuerbare Ablenkeinrichtung aufweist, wobei diese Vorrichtung dadurch
gekennzeichnet ist, daß mehrere steuerbare Ablenkeinrichtungen um wenigstens einen Teil des Umfangs
der zu behandelnden Oberfläche angeordnet sind. In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist dabei vorzugsweise
zur Steuerung des Strahlerzeugungssystems und der Ablenkeinrichtungen eine Hauptsteuereinrichtung
vorgesehen. Mit dieser können die Ablenkeinrichtungen und das Strahlerzeugungssystem in Abhängigkett
von der Form der zu behandelnden Oberfläche und der in den einzelnen Oberflachenbert-Khen
jeweils gewünschten Bestrahlungsdosen derart gesteuert werden, vorzugsweise nach einem Programm,
daß je nach den bei einem Gegenstand zu erfüllenden Bestrahkingsanforderungen ein vorgebbarer Zusammenhang zwischen der die Bestrahlungssteile bestanmendea Einstellung der Ablenkeinrichtungen
und des an der jeweiligen Bestrahlungsstelle gewünschten Bestraoteagsbedangujagen besteht. Auf So
diese Weise gestattet es die Erfindung, auch komplizierte OberÖäcaenbereiciie aa allen Stellen mit vorgegebenen
StraMnngsdosen zu versehen. Besonders
vorteilhaft ist es, daß bei der serienweisen Be handking
von Gegenständen em einmal festgelegtes Programm
bei jedem «rmrehign BestrafekmgSVorgang unverändert
wiederholt werden kann. Der einmalige Arbeitsaufwand für die Abfertigung des Programms spielt
dann bei einer derartigen Serien-Arbeitsweise keine ins Gewicht fallende Rolle.
Eine weitere vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrichtung besteht darin, daß die
Arbeitskammer durch eine Zwischenwand, die einen schmalen Schlitz für den Durchtritt des Strahls aufweist,
in eine die Ablcnkeinrichlungcn enthaltende Ablcnkkammer und eine den Gegenstand mit der zu
behandelnden Oberflächenschicht aufnehmende Besirahlungskammer
unterteilt ist, die beide für sich evakuierbar sind und ein Druckstufensystem bilden.
Ein derartiges Druckstufensystein erleichtert die Evakuierung und die Entfernung von eventuell bei der
Bestrahlung entstehenden Produkten. Im übrigen kann die Vorrichtung leicht so ausgelegt werden, daß
der Strahl stets in ein und derselben Ebene, in der der erwähnte schmale Schlitz anzuordnen ist, auf den
zu behandelnden Gegenstand auftriffl. Dabei ergeben sich besonders übersichtliche Verhältnisse.
Im übrigen verstellt es sich, daß der Strahl auch so abgelenkt werden kann, daß er stets in einer anderen,
auch schräg liegenden Ebene verläuft, wie überhaupt die Richtung, in der der Strahl zum Gegenstand
hin verläuft, in weilen Grenzen willkürlich vorgebbai
ist.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden an Hand der Zeichnungen näher beschrieben.
Es zeigt
Fi g. 1 einen schematischen Querschnitt durch eine
erfindungsgemäße Vorrichtung,
Fig. 2 eine schematische Schnittdarstcllung nach der Linie H-II der Fig. 1,
Fig. 3 in ähnlicher Darstellung wie Fig. 1 eine an
dere Ausführungsform der Erfindung im Schnitt nach der Linie III-III der Fig. 4,
Fig. 4 in schcmatischcr Darstellung einen Längsschnitt
durch die in Fig. 3 dargestellte Vorrichtung nach der Linie IV-IV der Fig. 3,
Fig. 5 in vergrößerter Darstellung den in Fig. 4
mit einem gestrichenen Kreis eingerahmten Bereich bei einer abgewandelten Ausführungsform,
Fig. 6 ebenfalls in vergrößerter Darstellung den in
Fig. 4 mit einem gestrichelten Kreis umrahmten Bereich bei einer anderen abgewandelten Ausführungsform.
Die in Fig. i uaigestc'lie Vorrichtung enthält eine
Arbeitskammer 1, die auf einem Gestell 2 ruht und über einen Pumpstutzen 3 evakuiert ist. Die dargestellte
Arbeitskammer hat etwa die Form eines liegen den Zylinders. Fi g. 1 ist ein Radialst hnitt etwa durch
die Mitte dieses Zylinders. An den beiden Enden rs1 die Arbeitskammer durch (nicht dargestellte) Vor
richtungen gasdicht verschlossen. Diese Vorrichtun gen können beispielsweise auch eine Vakuumschleuse
bekannter Bauart enthatten. In die Arbeitskammer ] wird der Gegenstand 4 eingebracht, dessen Oberflache
behandelt werden soll. In F i g. 1 sind die Vorrichtungen zum Halten und Weiterbewegen des C»egenstandes
4 nicht dargestellt.
Aus einem ganz schema tisch angedeuteten Strahl
erzeugungssystem 5 tritt ein Ladungsträgerstrahl ζ. B. ein Elektronenstrahl 6, in die Arbeitskammer 1
ein. Der untere Teil des Strahlerzeuger 5 steif eir
an die Arbeitskammer 1 angeschlossenes Verbin
dungsstuck 7dar. Der Elektronenstrahl tritt nur draret
freie öffnungen, beispielsweise die in Pig. 1 darge
stellte feine Blendenöffnung 8, in die Arbeitskammer
1 ein. Oberhalb der Blendenoffnang 8 ist en
zweiter Pumpstutzen 9 vorgesehen, der zur Evakuierung
des Strahlcr/.eugcrs 5 dient. Die Blende 10, in der sieh die Blendenöffnung 8 befindet, bildet somit
einen Teil eines Drucksüifensystems. Natürlich können
in bekannter Weise auch noch weitere Blenden und Pumpstutzen vorgesehen sein.
Der Strahlerzeuger 5 wird über schematisch dargestellte Steucrleihmgen 11 von einer Strahlsteuereinrichtung
12 gesteuert. Diese bestimmt beispielsweise den Strahlsimm und die Beschleunigungsspannung
des Ladungsträgerstrahl.
Im I intrittsbereieh der Arbeitskammer 1, wo der im Strahler/.eugungssyslcm 5 erzeugte Ladungsträgerstrahl
6 in die Arbeitskammer eintritt, ist eine magnetische Ablenkeinrichtung 13 vorgesehen, die ein
senkrecht zur /eichnungsebene der Fig. 1 verlaufendes
steuerbares Magnetfeld erzeugt. Ferner sind weiier·..·
steuerbar·..· magnetische Ablenkeinrichtungen 14, 15 und 16 um den Umfang des Gegenstandes 4 herum
verteilt in der Arbeitskammer 1 angeordnet. Auch diese Ablenkeinrichtungen erzeugen Magnetfelder,
deren Kraftlinien senkrecht zur Ebene der Fi g. 1 stehen.
Der Aufbau einer der weiteren Ablenkeinrichtun- gen, nämlich der Ablenkeinrichtung 16, ist im Zusammenhang
mit Fig. 2 genauer zu erkennen: die Able nkeinrichtungen 14 und 15 sind ganz entsprechend
aufgebaut. Die Ablenkeinrichtung 16 besteht aus einem ersten Polstück 17 aus magnetisierbarem Material
in Form eines länglichen U-Profils. Auf den Innenseiten der Schenkel des U-Profils sitzen insgesamt
vier Erregerwicklungen, von denen in Fig. 1 nur die Wicklungen 18 und 19 und in F i g. 2 nur die Wicklungen
18 und 20 zu erkennen sind. Jede Erregerwicklung hat einen Kern und ein daran angesetztes Polstück
in Form einer länglichen Platte. Da der in F i g. 1 dargestellte Schnitt durch die in Fig. 2 mit I-I bezeichnete
Ebene verläuft, ist in Fig. 1 jeweils nur eines der zweiten Polstücke erkennbar, bei der genauer dargestellten
Ablenkeinrichtung 16 also das Polstück 21. Die Vorrichtungen zum Befestigen der Ablenkeinrichtungen
und zum Anschließen der Erregerwicklungen sind nicht dargestellt. Die Erregerwicklungen sind
so gepolt, daß zwischen den zweiten Polstücken 21, 22 ein nahezu homogenes Magnetfeld aufgebaut wird.
Man erkennt, daß bei der dargestellten Vorrichtung die ebene Spalte 23 zwischen den zweiten Polstücken
21 und 22 aller Ablenkeinrichtungen in einer Ebene liegen, so daß ein in dieser Ebene durch die Ablenkeinrichtungen
verlaufender Ladungsträgerstrahl eine Ablenkung in dieser Ebene erfährt.
Sämtliche Ablenkeinrichtungen sind in nicht weiter dargestellter Weise an eine Ablenk-Steuereinrichtung
24 angeschlossen. Die Strahlsteuereinrichtung 12 und die Ablenk-Steuereinrichtung 24 sind beide an eine
Hauptsteuereinrichtung 25 angeschlossen und werden von dieser synchron gesteuert, beispielsweise in Abhängigkeit von einem in der Hauptsteuereinrichtung
25 einstellbaren festen Programm. In Fig. 1 sind einige Einstellungen des behandelnden Elektronenstrahls 6 angedeutet, wie sie beim Ablauf eines auf
die Oberflächenform des Gegenstandes 4 abgestimmten Programms nacheinander durchlaufen werden
können. Bei unwirksamer Ablenkeinrichtung 13 (die ähnlich aufgebaut ist wie die weiteren Ablenkeinrichtungen 14, 15, 16) ergibt sich der Strahlverlauf 6a.
Durch schwache Erregung der Ablenkeinrichtung 13 kann man den Strahl nach links (oder bei umgekehrter
Polarität des Ablenkfeldes nach rechts) ablenken, beispielsweise in die Position 6b; dabei wird ein entsprechender
Umfangsbereich des Gegenstandes 4 vom Strahl überstrichen. Da die Erregung der Ablenkeinrichtung
13 über die Ablenk-Steuereinrichtung 24 von der Hauptsteuereinrichtung 25 her synchron mit etwaigen Veränderungen der Strahlsteuereinrichtung
12 nach dem für den Gegenstand abgestimmten Programm eingestellt wird, erhält man
ίο an jeder Stelle der zu behandelnden Oberfläche des
Gegenstandes 4die jeweils gewünschte Bestrahlungsintensität und -dauer.
Bei stärkerer Erregung der Ablenkeinrichtung 13 kommt der Strahl schließlich in eine Lage 6c, in weleher
er mit Hilfe der in geeigneter Weise erregten weiteren Ablenkeinrichtung 14 wieder auf die Oberfläche
des Gegenstandes 4 umgelenkt werden kann. Bevorzugt wird jedoch eine Verfahrensweise, bei der der
Strahl von der Ablenkeinrichtung 13 noch weiter bis
ao in die Position 6d abgelenkt wird, in welcher der Strahl
in den oberen Endbereich der weiteren Ablenkeinrichtung 14 eintritt. Im weiteren Verlauf der Bestrahlung
wird dann die Erregung der Ablenkeinrichtung 13 konstant gehalten, und es wird zunächst nur die
Erregung der Ablenkeinrichtung 14 verändert, und zwar so, daß nacheinander die als Beispiel herausgegriffenen
Strahlzustände 6e, 6/ und 6g durchlaufen werden. Dabei wird der in Fig. 1 linke Umfangsbereich
des Gegenstandes 4 bestrahlt, wobei weder die Ablenkdaten (z.B. Ablenkgeschwindigkeit) und gegebenenfalls
auch die Strahldaten mit Hilfe der von der Hauptsteuereinrichtung 25 synchron gesteuerten
Ablenk-Steuereinrichtung 24 bzw. Strahlsteuereinrichtung 12 so gesteuert werden, daß sich an jeder
Stelle des überfahrenen Oberflächenbereichs die gewünschten Bestrahlungsdaten ergeben. In der Position
6g tritt der Strahl in die nächste Ablenkeinrichtung 15 über. Man erkennt, daß man dann auch die
Erregung der Ablenkeinrichtung 14 konstant halten und die Weiterführung des Strahls über den in Fi g. 1
unteren Umfangsbereich des Gegenstandes 4 allein durch Verändern der Erregung der Ablenkeinrichtung
15 bewirken kann. Dabei können nacheinander die Strahlpositionen 6h und 6i durchiaufen werden.
Es wäre durchaus möglich, den Strahl, etwa in der Position 6k, in die nächste Ablenkeinrichtung 16 weiterzuleiten,
doch wird man es im allgemeinen vorziehen, die in Fig. 1 rechte Hälfte des Umfanges des
Gegenstandes 4 dadurch mit dem Strahl zu überstreichen, daß man die Ablenkeinrichtung 13 mit entgegengesetzter
Polarität betreibt und den Strahl demgemäß von der Ablenkeinrichtung 13 dann in die
Ablenkeinrichtung 16 und danach noch in die Ablenkeinrichtung 15 weiterführt.
Nach einem vollständigen Umlauf des Strahls über den Umfang des Gegenstandes 4 wird der Gegenstand
in der zur Ebene der Fig. 1 senkrechten Richtung weitergeführt; diese Bewegung kann natürlich auch
kontinuierlich erfolgen, so daß sich eine spiralartige Abtastung der Oberfläche des Gegenstandes 4 ergibt.
Es wird also die Oberfläche des Gegenstandes in einet Koordinatenrichtung durch die Bewegung des Gegenstandes relativ zur Strahlquelle und in der anderen
Koordinatenrichtung durch Ablenkung des Strahls behandelt. Die Einrichtungen zum Vorschub des Gegenstandes 4 durch die Arbeitskammer sind nicht
dargestellt; sie stehen vorzugsweise ebenfalls untei dem Einfluß der Hauptsteuereinrichtung 25, so dai
sich eine gewünschte Synchronisierung mit den Steuervorgängen
ergibt, die von der Strahlsteuereinrichtung 12 und der Ablenk-Steuereinrichtung 24 bewirkt
weiden.
Bei der Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl werden vorzugsweise Beschleunigungsspannungen bis
zu 100 kV verwendet; derartige Beschleunigungsspannungen lassen sich in verhältnismäßig kompakten
Strahlerzeugern anwenden und bieten die eingangs beschriebenen Vorteile. Das Durchdringungsvermögen
des Elektronenstrahls hängt bekanntermaßen von der Beschleunigungsspannung ab. Man kann demgemäß
durch entsprechende Steuerung der Strahlstromstärke (oder der Ablenkgeschw indigkeit) und der Beschleunigungsspannung
erreichen, daß an jeder beliebigen Stelle der behandelten Oberfläche ein vorgegebener
Elektronenstrom mit vorgegebener Geschwindigkeit auftrifft. Dabei läßt sich beispielsweise
ohne Schwierigkeiten erreichen, daß pro Mengeneinheit der die C)berflächenschicht bildenden Substanz ao
eine vorgegebene, vorzugsweise konstante Energiemenge aus dem Strahl absorbiert wird. Der Einfluß
des Auftreffwinkels auf die Bestrahlungs-Stromdichte kann dabei natürlich berücksichtigt werden. Je nachdem,
ob man eine in verschiedenen Tiefen der Ober- «5 flächcnschicht gleichmäßige Bestrahlung oder eine
mit der Tiefe veränderliche Bestrahlungswirkung wünscht, kann man die Beschleunigungsspannung,
d.h. also die Durchdringungsfähigkeit der Strahlung, entsprechend steuern. Besonders vorteilhaft ist es
vielfach, wenn man den Strahl impulsartig steuert, wobei nur während eines Teils der Gesamt-Einwirkungsdauer
pro Oberflächenelement eine verhältnismäßig hohe Beschleunigungsspannung zur Anwendung
kommt, so daß sich die Bestrahlungswirkung in der äußersten Oberflächenschicht konzentriert. Auf
diese Weise kann man z. B. erreichen, daß Lackschichten eine verhältnismäßig harte Außenfläche erhalten,
während die Masse der Lackschicht noch geringfügig elastisch bleibt. Man kann diesen Vorgang
auch so auffassen oder ausführen, daß zwei oder mehrere Sirahlkomponenten mit verschiedenen Geschwindigkeiten
verwendet werden.
Die in den Fig. 3 und 4 schematisch dargestellte Vorrichtung unterscheidet sich von der in Fig. 1 gczeigten
Vorrichtung im wesentlichen dadurch, daß außer der im Strahl-Eintrittsbereich angeordneten Ablenkeinrichtung
noch insgesamt elf weitere Ablenkeinrichtungen um den Umfang des zu behandelnden
Gegenstandes herum verteilt angeordnet sind.
Die in den Fig. 3 und 4 dargestellte Vorrichtung
enthält wieder eine zylindrische, liegend angeordnete Arbeitskammer 101, die auf einem Gestell 102 ruht
und über einen Pumpstutzen 103 evakuierbar ist. Im Inneren der Kammer ist ein Gegenstand 104 angedeutet,
dessen Oberfläche behandelt werden soll. Das Strahlerzeugungssystem 105 ist wieder in der Mitte
oberhalb der Arbeitskammer 101 angeordnet; es er
zeugt einen Elektronenstrahl 106, der durch ein Ver bindungsstück 107, das von einer Blendenöffnung 108
des Strahlerzeugungssystems 105 ausgeht, in den Ein trittsbereich der Arbeitskammer 101 eintritt. Der
oberhalb der Blendenöffnung 108 liegende Teil des Strahlerzeugungssystems kann über einen zweiten
Pumpstutzen 109 evakuiert werden, so daß sich durch die Wirkung der Blende 110, in der sich die Blendenöffnung 108 befindet, ein Druckstufensystem ergibt.
Das Strahlerzeugungssystem 105 ist über Steuerleitungen 111 an eine Strahlsteuereinrichtung 112 angeschlossen.
Im Eintrittsbereich des Elektronenstrahls 106 ist eine elektromagnetische Ablenkeinrichtung
1131 vorgesehen, die ein senkrecht zur Zeichenebene der Fig. 3 stehendes steuerbares Magnetfeld erzeugt.
Um den Umfang des Gegenstandes 104 herum sind in der Arbeitskammer eine Anzahl von weiteren Ablcnkeinrichtungen
verteilt, hier insgesamt elf Ablenkeinrichtungen, von denen im Verlauf der weiteren Beschreibung
nur die der ersten Ablenkeinrichtung 113 unmittelbar benachbarten ersten und zweiten weiteren
Ablenkeinrichtungen 114 und 115 sowie die sechste weitere Ablenkeinrichtung 116 im einzelnen
erwähnt werden. Wie am Beispiel der sechsten weiteren Ablenkeinrichtung 116 im Zusammenhang mit
Fig. 4 ohne weiteres zu erkennen ist, enthält jede der
weiteren Ablenkeinrichtungen zwei Polstücke 121, 122, die in ihren einen, vergrößerten und an ihren
Kanten abgerundeten Endabschnitten 131,132 enger beieinanderliegen und an ihren anderen, weiter auseinanderliegenden
und schmaleren Endabschnitten 133, 134 durch einen Kern 135 miteinander verbunden
sind, auf dem sich eine Erregerwicklung 118 befindet. Die zwischen den eng beieinanderliegenden
Endabschnitten 131 und 132 gebildeten Spalte 123 sämtlicher Ablenkeinrichtungen liegen gemeinsam in
der Radialebene, in der der Elektronenstrahl 106 in die Arbeitskammer 101 eintritt. Die Erregerwicklungen
118 werden aus einer Ablenk-Steuereinrichtung 124 gespeist, die ihrerseits von einer Hauptsteuereinrichtung
125 gesteuert wird. Die Hauptsteuereinrichtung 125 steuert gleichzeitig auch eine Strahlsteuereinrichtung
112, die ihrerseits über nur schematisch angedeutete Steuerleitungen 111 das Elektronenstrahl-Erzeugungssystem
105 steuert.
Der Aufbau der Ablenkeinrichtung 113 weicht aus; räumlichen Gründen etwas von dem Aufbau der weiteren
Ablenkeinrichtungen ab. Wie aus den Fig. 3 und 4 ersichtlich ist, sind auch hier zwei abgewinkelte
Polstücke 121a, 122a vorgesehen, die mit ihren einen, vergrößerten und an ihren Kanten abgerundeten
Endabschnitten 131a, 132a eng beieinanderliegen und einen Spalt 123a für den Durchtritt des Elektronenstrahls
106 bilden, während die anderen Endabschnitte weiter auseinhnderliegen. Diese anderen
Endabschnitte sind hier in zwei Teilabschnitte verzweigt, die beiderseits des Verbindungsstücks 1OT
durch die Wand der Arbeitskammer 101 treten. In Fig. 3 sind die Verzweigungen 133a und 133b des
Polstücks 121a zu erkennen, wahrend in Fig. 4 jeweils
die einen Verzweigungen 133a bzw. 134a del beiden Polstücke 121a bzw. 122a zu erkennen sind
Statt einer einzigen Erregerwicklung, wie bei den wei teren Ablenkeinrichtungen, sind bei der Ablenkein
richtung 113 zwei Erregerwicklungen 118a und 118i vorgesehen. Im übrigen ist die Funktion der Ablenk
einrichtung 113 die gleiche wie bei den weiteren Ab' lenkeinrichtungen.
Die Ablenkung des Elektronenstrahls erfolgt be der Vorrichtung nach den F i g. 3 und 4 grundsätzlicl
in gleicher Weise wie bei der Vorrichtung nach Fi g. 1
In F i g. 3 sind mehrere Strahlpositionen 106a... 106/ angedeutet, die vom Strahl nacheinander durchlaufet
werden. In der Position 106a ist die Ablenkeinrich tung 113 abgeschaltet. In der Ablenkposition 1061
ist allein die Ablenkeinrichtung 113 wirksam. In de Position 106c ist die Ablenkeinrichtung 113 auf einei
starken Ablenkwert eingestellt, so daß der Strahl au
der Ablenkeinrichtung 113 in die nächstfolgende Ablenkeinrichtung 114 überführt wird, die auf einen verhältnismäßig
starken Ablenkwert eingestellt ist, so daß der Strahl die Bearbeitung im Anschluß an die
Bearbeitungsstelle fortsetzt, die als letzte von dem allein durch die Ablenkeinrichtung 113 gegangenen
Strahl erreicht wurde. Durch fortschreitende Abschwächung des in der Ablenkeinrichtung 114 erzeugten
Ablenkfeldes werden dann die Strahlpositionen 106d und 106e durchlaufen, und danach wird bei
konstant bleibender geringer Ablenkung der Strahl weiter in die nächste weitere Ablenkeinrichtung 115
überführt, wo er zunächst verhältnismäßig stark (Position 106/) und dann fortschreitend schwächer abgelenkt
wird, bis er in die nächstfolgende Ablenkeinrichtung übergeht, usw. Auch hier ist es möglich,
abschnittsweise jeweils nur die Ablenkwirkung einer Ablenkeinrichtung zu steuern, während die Wirkung
der übrigen Ablenkeinrichtungen konstant gehalten wird. Die Verwendung einer größeren Anzahl von
Ablenkeinrichtungen, entsprechend der Darstellung nach Fig. 3, bietet den Vorteil, daß der in der Arbeitskammer
zur Verfugung stehende Platz besser ausgenutzt werden kann. Nachteilig ist jedoch dabei,
daß die Steuerung komplizierter wird und an den Rändern der von den einzelnen Ablenkeinrichtungen
erzeugten Ablenkfelder Inhomogenitäten auftreten, die unter Umständen zu einer zu starken Defokussierung
führen können. Vielfach wird ein Kompromiß zweckmäßig sein, wobei z. B. auch Polstücke in Form
von Ringscheibensektoren verwendet werden können. In F i g. 3 ist eine mögliche Arbeitsweise der
Steuereinrichtungen näher dargestellt. Die Hauptsteuereinrichtung 125 enthält als wesentlichen Bestandteil
einen bandförmigen Informationsträger 136, beispielsweise ein Magnetband, der in mehreren Spuren
getrennte Informationen für die einzelnen Ablenkeinrichtungen und die Strahlparameter enthält. In
F i g. 3 ist nur die Spur 137 näher bezeichnet. Der Informationsträger 136 wird von einer nicht dargestellten
Antriebsvorrichtung mit vorgegebener Geschwindigkeit angetrieben; dieser Antrieb kann auch mit
einer Vorschubbewegung des Gegenstandes 104 durch die Arbeitskammer 101 synchronisiert sein. Die
Ablenk-Steuereinrichtung 124 enthält für jede Ablenkeinrichtung 113, 114... einen Ablesekopf 138,
139..., der die zugeordnete Spur des Informationsträgers 136 abliest, und eine vom Ablesekopf gesteuerte
Verstärkereinheit 140,141..., die den Erregerstrom der Erregerwicklung der zugeordneten Ablenkeinrichtung
113, 114... bestimmt. Die Strahlsteuereinrichtung 112 enthält ebenfalls Ableseköpfe
142,143..., die aus entsprechenden Spuren des Informationsträgers
136 Steuerinformationen für die einzelnen Strahlparameter ablesen und über Verstärker
das Strahlerzeugungssystem 105 entsprechend steuern. In dieser oder ähnlicher Weise können beliebige,
fest vorgegebene Zusammenhänge zwischen den für die Bewegung und Einwirkung des Strahls
maßgebenden Parametern in einfacher Weise nach einem festen Programm zum Ablauf gebracht werden.
Bei der in den Fi g. 3 und 4 dargestellten Vorrichtung
befinden sich die Erregerwicklungen außerhalb der Arbeitskammer 101. Die Arbeitskammer muß aus
nicht oder nur schwach magnetisierbarem Material ^»geführt sein. Statt dessen kann natürlich auch eine
r^onstruktion ähnlich wie in F i g. 1 verwendet werden,
e er die gesamten Ablenkeinrichtungen einschließlich
ihrer Erregerwicklungen innerhalb der Arbeitskammer liegen.
Bei der in den Fig. 3 und 4 dargestellten Vorrichtung
ist die Arbeitskammer 101 durch eine aus zwei
zylindrischen Abschnitten 144,145 bestehende zylindrische
Zwischenwand in eine die Ablenkeinrichtungen enthaltende ringförmige Ablenkkammer 146 und
eine den Gegenstand enthaltende Bestrahlungskammer 147 unterteilt. Die Bestrahlungskammer 147 ist
ίο über einen eigenen Pumpstutzen 148 evakuierbar, so
daß die beiden Kammern ein Druckstufensystem bilden. Zwischen den benachbarten Rändern der Zylinderabschnitte
144 und 145 ist ein Schlitz 149 für den Durchtritt des Elektronenstrahls 106 in die Bestrahlungskammer
147 freigelassen. Dieser Schlitz 149 liegt in derselben Ebene wie die zwischen den Polstükken
der Ablenkeinrichtungen gebildeten Spalten 123, 123«. Die einander gegenüberliegenden Ränder der
Zylinderabschnitte 144 und 145 sind mit nach innen
so abgebogenen Fiansehabichnittcn 150, 151 versehen,
die den Strömungswiderstand zwischen der Bestrahlungskammer 147 und der Ablenkkammer 146 in gewünschter
Weise vergrößern. Diese Flanschabschnitte können auch zur Erzeugung einer zusätzlichen, quer
»5 zur Umfangsrichtungdes Gegenstandes 104 gerichteten
Ablenkung dienen. Zu diesem Zweck kann beispielsweise (nicht dargestellt) auf dem einen Flanschabschnitt
ein gegen den Flanschabschnitt elektrisch isolierter Belag aufgebracht sein, der mit einer Ablenkspannung
gespeist wird. Eine andere Ausführungsmöglichkeit einer solchen zusätzlichen Ablenkeinrichtung
ist in Fig. 5 dargestellt. An den aus nichtmagnetisierbarem Material bestehenden Flanschabschnitten
150, 151 sind in Umf angsrichtung verlaufende Elektromagnete 152 bzw. 153 angeordnet,
die im Schlitz 149 ein zusätzliches steuerbares Ablenkfeld hervorrufen können. Mit derartigen zusätzlichen
Ablenkeinrichtungen ist es beispielsweise ohne weiteres möglich, den Strahl nach dem Eintritt in die
Bestrahlungskammer 147 zusätzlich quer zur Strahlrichtung periodisch abzulenken, so daß der bestrahlte
Umfangsbereich des Gegenstandes 104 verbreitert wird. Statt der zusätzlichen Ablenkung quer zur
Strahlrichtung kann eine Verbreiterung des bestrahlten Bereichs auch durch Auffächern oder Defokussieren
des Strahls erzielt werden. Dabei ist es zweckmäßig, die Auffächerung oder Defokussierung erst nach
dem Durchtritt durch die Ablenkeinrichtungen, also kurz vor dem Auftreffen des Strahls auf den Gegenstand
104, vorzunehmen. Eine solche zwischen den Ablenkfeldern und der zu bestrahlenden Oberfläche
angeordnete Defokussiereinrichtung kann ähnlich aufgebaut sein wie die in F i g. 5 dargestellte zusätzliche
Ablenkeinrichtung. Vielfach wird es genügen, ei-
5g nen entlang des Schlitzes 149 verlaufenden Defokussiermagneten
zu verwenden. In Fig. 6 ist eine Ausführungsmöglichkeit dargestellt, bei der die
Flanschabschnitte 150,151 mit je einem ringförmigei Fokussiermagneten 154 bzw. 155 belegt sind. Die De
(S0 fokussiermagneten sind hier als Dauermagnete ausge
führt, die in Radialrichtung magnetisiert sind. Es be steht natürlich auch die Möglichkeit, den Strahl a
anderer Stelle, beispielsweise vor dem Eintritt in di Ablenkeinrichtungen, zu defokussieren oder ihm ein
6S zusätzliche Ablenkbewegung zu erteilen. Dieser
Zweck kann beispielsweise die in Fig. 3 angedeutei zusätzliche Ablenkeinrichtung 156 dienen, die in dei
Verbindungsstück 107 angeordnet ist. Die zusätzl
is 16
chen Ablenkeinrichtungen können auch synchron mit weise an ^ Oberflächeiiformd« Gegenstand« 104
den übrigen Ablenkeinricatungen betrieben werden; *α^^ΟΙααω^Λ^^^ΐα rsehen
chen Ablenkeinrichtungen kön y ^ e
den übrigen Ablenkeinricatungen betrieben werden; *α^^.ΟΙααω^Λ^^^ΐα vorgesehen
dies ist in Fig. 3 durch die zusätzlichen Steuerleitun- render Halterung 166 und Zuleitung io/ vo g
^nF^f3uid4sindeinige weitere Einrichtun- 5 ^
genangedeufet.Zurgesteuerten Weiterbewegung des nach links
Gegenstandes 104 durch die Arbeitskammer dient
genangedeufet.Zurgesteuerten Weiterbgg ^^
Gegenstandes 104 durch die Arbeitskammer dient gfne^OD^a*en^e^n " f ?J ^p
einlvorschubeinrichtung.DiesebestehtausSchienen einer Lack-Auftngf™JJ«*gS Skiereinrichtung
i i Lärih dh di Abitk weise auch als ^kfjgSTtoGband 104
einlvorschubeinrichtung.DiesebestehtausSch gfJJg Skiereinrichtung
158,159, die in Längsrichtung durch die Arbeitskam- weise auch als ^kfjgSeTctoGegenband 104
mer verlaufen, einem auf den Schienen rollenden io ausgebildet se in kann · ™<*deinJ**V» Durchgang
TransportgestellieOundeinemAntriebselementlöl, indem nach links veAjJj^JJSSmeS·"
beispielsweise in Form einer Kette oder eines Seüs, vo lstandigan der ^-A^g^o^cn g
das über Rollen 162, 163 von einem Antriebsmotor beibewegt worden ist, *«f *^?«Sd der Ge-164inBewegunggesetztwird.AlsAntriebsmotorl64
der Vorschubeinnch^n umgekehrt una
kann beispielsweise ein selbstsynchronisierender Mo- 15 genstand wird m einem z™**^™e™149 vorbeitor
verwendet werden, so daß die Vorschubbewegung laufenden Durchgang,erneut am£Jta™
des Gegenstandes 104 durch die Arbeitskammer ohne bewegt und dabei wird ^^"JJ^Ste Lackweitere^
mit der Abfeuereinrichtung synchro- %£™£™££ £«£ Ä beide
^ 2^
^L^HärvonLackschi vordem Auf- *o 2^**^™ZS£S£S?£
bringen der Lackschicht eine vorbereitende Oberflä- diesem Fall kann der Gegenstand auch^nach links a
chenbehandlung zweckmäßig ist, kann man diese der Arbeitskammer herausbewegt wert en. U J
zweckmäßigerweise in der ohnehin benötigten evaku- F i g. 4 schematisch «"gedeutete T^169 ka,nndann
ierbaren Arbeitskammer mit dem Ladungsträger- gegebenenfalls durch eine ^^j^i^
strahl ausführen. In Fig. 4 sind sowohl Einrichtungen «5 werden. In jedem Fall können samthcheArbeitsgarige
zum Aufbringen einer Lackschicht als auch Einrich- von der ^umsteuereinrichtung125 soJ^uertwer
tungen zur Ausführung von vorbereitenden Oberflä- den, daß sie nut der richtigen Segej^^S
chenbehandlungen angedeutet. Als Beispiel sei fol- nung und mit den jeweils ^0
gender Arbeitsablauf erläutert. Ein Gegenstand 104 rametern ablaufen. Der zu
soll mit einer Lackschicht versehen werden, und da- 30 und der zum Behandeln der
nach soll die Lackschicht gehärtet werden. Der Ge- nende Strahl werden dabei »^
genstand 104 wird in die Vorrichtung nach F i g. 4 von entnommen und unter Verwendung de
rechts her eingeführt, beispielsweise durch eine (nicht lenkeinncntungen nachemande^ Ober JWgJ
dargestellte) Vakuumschleuse, und von der Vor- Bereiche der Oberflache des Gegenstandes gefuhrt,
schubeinrichtung nach links durch die Arbeitskammer 35 Während des Reinigungsvorganges werden die Ab
101 bewegt. Beim Weiterbewegen des Gegenstandes lenkfelder und, falls gewünscht ^ch die Strahlpara
104 nach links am Schlitz 149 vorbei kann mit Hilfe meter des Strahls in A^.8"^* ^^nd^der in
des Elektronenstrahls 106 die noch unbeschichtete zu reinigenden Oberflache und en^h^d °er *n
Oberfläche des Gegenstandes 104 in ganz ähnlicher dem jeweils bestrahlten Bereich der Oberfläche ge
Weise bestrahlt werden wie später bei der Härtung 40 wünschten Reinigungswirkung <^gest^,· _
der aufgebrachten Oberflächenschicht. Auch die Syn- Es ist im Rahmen der Erfindung auch meghch
chronisierung der Steuerung des Strahls mit der Vor- mehrere Strahlerzeugungssysteme um>dlen Umfang
Schubbewegung des Gegenstandes kann in der glei- der Arbeitskammer herum verteilt anordnen we
chen Weise erfolgen wie bei der späteren Behandlung gen der größeren Einfachheit undi der^g«mgeren
deraufgebrachtenOberflächenschicht.ZurReinigung 45 Kosten wird man jedoch » *?2^n^
der Oberfläche kann auch zusätzlich eine über den Verwendung eines einzigen Strahlerzeugers vor
Umfang der Arbeitskammer verlaufende, Vorzugs- ziehen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (13)
1. Verfahren zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, von
Gegenständen durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrahlen, insbesondere Elektronenstrahlen,
bei dem der Gegenstand in eine unter vermindertem Druck gehaltene Arbeitskammer eingebracht
und ein von einer Strahlquelle ausgehender Ladungsträgerstrahl abgelenkt und auf die zu behandelnde
Oberfläche geleitet wird, dadurch gekennzeichnet, daß der in an sich bekannter Weise durch freie öffnungen ausgeblendete Strahl
mittels steuerbarer Ablenkfelder auf der Oberfläche entlang geführt und in Abhängigkeit von der
Form des Gegenstandes dosiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl impulsartig gesteuert
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Gegenstandes
in einer Koordinatenrichtung durch eine Bewegung des Gegenstandes relativ zur Strahlquelle
und in einer anderen Koordinatenrichtung durch Ablenkung des Strahls vom Strahl überstrichen
wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl während seines Weiterwanderns über die Oberfläche
quer zur Wanderungsrichtung periodisch hin und her bewegt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl vor dem Auftreffen auf die Oberfläche aufgefächert wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis
5, dadurch gekennzeichnet, daß in zeitlich nacheinander an demselben Gegenstand auszuführenden
verschiedenen Bestrahlungsvorgängen jeweils ein Strahl über die Oberfläche des Gegenstandes
geführt und entsprechend den bei dem jeweiligen Bestrahlungsvorgang in den jeweils bestrahlten
Oberflächenbereichen erforderlichen Strahlungsdosen gesteuert wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß ein zur Vorbereitung einer Beschichtung,
insbesondere zur Reinigung der zu beschichtenden Oberfläche dienender Bestrahlungsvorgang,
der Beschichtungsvorgang und ein zum Härten der Beschichtung dienender Bestrahlungsvorgang
nacheinander ausgeführt werden.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß der in die Arbeitskammer
eingebrachte Gegenstand in einem ersten Durchgang an der Strahlquelle vorbeibewegt und durch
Bestrahlung mit einem Strahl gereinigt und danach mit einer aufgebrachten zu behandelnden Oberflächenschicht
in einem zweiten Durchgang an der Strahlquelle vorbeibewegt und zwecks Behandlung
der Oberflächenschicht mit einem Strahl bestrahlt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß der zum Reinigen dienende
Strahl und der zum Behandeln der Oberflächenschicht dienende Strahl aus derselben Strahlquelle
entnommen und von den gleichen unabhängig steuerbaren Ablenkfeldern nacheinander auf der
Oberfläche entlanggeführt und in Abhängigkeit
von der Form der Oberfläche dosiert wird.
10. Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen nach einem der Ansprüche 1 bis 9 mit einer
evakuierbaren Arbeitskammer, einem steuerbaren Strahlerzeugungssystem, das durch freie öffnungen
mit der Arbeitskammer verbunden ist, und einer im Eintrittsbereich der Arbeitskammer vorgesehenen
steuerbaren Ablenkeinrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere steuerbare Ablenkeinrichtungen (13, 14, 15, 16; 113, 114,
115, 116...) um wenigstens einen Teil des Umfangs der zu behandelnden Oberfläche angeordnet
sind.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß zur Steuerung des Strahlerzeugungssystems
und der Ablenkeinrichtungen eine Hauptsteuereinrichtung (25; 125) vorgesehen ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch lOoder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Arbeitskammer (101) durch eine Zwischenwand (144, 145), die
einen schmalen Schlitz (49) für den Durchtritt des Strahls (106) aufweist, in eine die Ablenkeinrichtungen
(113, 114, 115, 116...) enthaltende Ablenkkammer (146) und eine den Gegenstand mit
der zu behandelnden Oberfläche aufnehmende Bestrahlungskammer (147) unterteilt ist, die beide
für sich evakuierbar sind und ein Druckstufensystem bilden.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß in der Arbeitskammer
(101) eine Einrichtung (168) zum Aufbringen einer zu behandelnden Oberflächenschicht
auf den Gegenstand (104) vorgesehen ist.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1808719A DE1808719C3 (de) | 1968-11-13 | 1968-11-13 | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrahlen |
CH1637769A CH504780A (de) | 1968-11-13 | 1969-11-04 | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächenschichten durch Bestrahlen mit Ladungsträgerstrahlen |
GB54388/69A GB1284784A (en) | 1968-11-13 | 1969-11-06 | Method and apparatus for the treatment of surface layers by irradiation with charge carrier beams |
US875670A US3687716A (en) | 1968-11-13 | 1969-11-12 | Method and apparatus for electron beam treatment of surface layers |
FR696938691A FR2023187B1 (de) | 1968-11-13 | 1969-11-12 | |
NL6917019A NL6917019A (de) | 1968-11-13 | 1969-11-12 | |
JP44091063A JPS4910818B1 (de) | 1968-11-13 | 1969-11-13 | |
BE741623D BE741623A (de) | 1968-11-13 | 1969-11-13 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1808719A DE1808719C3 (de) | 1968-11-13 | 1968-11-13 | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrahlen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1808719A1 DE1808719A1 (de) | 1970-05-27 |
DE1808719B2 true DE1808719B2 (de) | 1973-09-20 |
DE1808719C3 DE1808719C3 (de) | 1974-04-25 |
Family
ID=5713233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1808719A Expired DE1808719C3 (de) | 1968-11-13 | 1968-11-13 | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrahlen |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3687716A (de) |
JP (1) | JPS4910818B1 (de) |
BE (1) | BE741623A (de) |
CH (1) | CH504780A (de) |
DE (1) | DE1808719C3 (de) |
FR (1) | FR2023187B1 (de) |
GB (1) | GB1284784A (de) |
NL (1) | NL6917019A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19525669A1 (de) * | 1995-07-14 | 1997-01-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum multifunktionalen Elektronenstrahlbehandeln von Bauteilen |
DE102009013143B3 (de) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | Daimler Ag | Vorrichtung zum Härten einer Beschichtung |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1395201A (en) * | 1972-09-04 | 1975-05-21 | Nat Res Dev | Magnetic lenses |
GB1454817A (en) * | 1973-09-11 | 1976-11-03 | Sumitomo Electric Industries | Irradiation apparatus |
FR2358193A1 (fr) * | 1976-07-15 | 1978-02-10 | Sumitomo Electric Industries | Appareil pour l'irradiation d'articles longs tels que des conducteurs electriques isoles |
SU797089A1 (ru) * | 1978-03-30 | 1981-01-15 | Предприятие П/Я А-7904 | Способ облучени объектов пучкомуСКОРЕННыХ зАР жЕННыХ чАСТиц |
JPS54164332A (en) * | 1978-06-15 | 1979-12-27 | Matsushita Electric Works Ltd | Spacer adjusting casing |
US4295048A (en) * | 1980-04-28 | 1981-10-13 | Cleland Marshall R | Method and system for scanning a beam of charged particles to control irradiation dosage |
FR2571995B1 (fr) * | 1984-10-22 | 1986-12-26 | Soudure Autogene Francaise | Machine pour le soudage externe de tubes bout a bout, par faisceau d'electrons |
US4633611A (en) * | 1984-12-31 | 1987-01-06 | Bakish Materials Corporation | Process and apparatus for disinfecting seeds |
GB8601420D0 (en) * | 1986-01-21 | 1986-02-26 | Welding Inst | Controlling charged particle beams |
US4763005A (en) * | 1986-08-06 | 1988-08-09 | Schumer Steven E | Rotating field electron beam apparatus and method |
US5049755A (en) * | 1988-01-22 | 1991-09-17 | Stenbacka Rolf | Method and apparatus for the treatment of surfaces of machine components |
CN110180431B (zh) * | 2019-05-20 | 2021-10-15 | 张燕 | 一种排料设备 |
-
1968
- 1968-11-13 DE DE1808719A patent/DE1808719C3/de not_active Expired
-
1969
- 1969-11-04 CH CH1637769A patent/CH504780A/de not_active IP Right Cessation
- 1969-11-06 GB GB54388/69A patent/GB1284784A/en not_active Expired
- 1969-11-12 US US875670A patent/US3687716A/en not_active Expired - Lifetime
- 1969-11-12 NL NL6917019A patent/NL6917019A/xx unknown
- 1969-11-12 FR FR696938691A patent/FR2023187B1/fr not_active Expired
- 1969-11-13 JP JP44091063A patent/JPS4910818B1/ja active Pending
- 1969-11-13 BE BE741623D patent/BE741623A/xx unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19525669A1 (de) * | 1995-07-14 | 1997-01-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum multifunktionalen Elektronenstrahlbehandeln von Bauteilen |
DE102009013143B3 (de) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | Daimler Ag | Vorrichtung zum Härten einer Beschichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH504780A (de) | 1971-03-15 |
GB1284784A (en) | 1972-08-09 |
BE741623A (de) | 1970-05-13 |
NL6917019A (de) | 1970-05-15 |
US3687716A (en) | 1972-08-29 |
DE1808719A1 (de) | 1970-05-27 |
DE1808719C3 (de) | 1974-04-25 |
JPS4910818B1 (de) | 1974-03-13 |
FR2023187B1 (de) | 1973-03-16 |
FR2023187A1 (de) | 1970-08-07 |
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