DE1808719C3 - Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrahlen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, durch Bestrahlung mit LadungsträgerstrahlenInfo
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Description
^o Da genügend intensive Ladungsträgerstrahlen im
Hochvakuum ei/eugt werden müssen, wird bei bekannten
Verfahren und Vorrichtungen der angegebenen Art entweder der in einer Hochvakuumkammer
erzeugte Ladungsträgerstrahl in einen unter höherem Druck, beispielsweise Atmosphärencru^k, siehenden
be*:rahlungsraum ausgeschleust, etwa mit Hilfe von
strahlungsdurchlässigen Fenstern, oder es wird der zu bestrahlende Gegenstand in einen unter V;.kuum stehenden
Bestrahlungsraum eingebracht oder eingeschleust.
Bei der zuerst genannten Verfahrensweise erspari man sich den Aufwand für eine cvakuierbarc Arbeitskammer
und die damit verbundenen Hilfsaggregatc wie Vakuumschleusen und Pumpen. Deshalb hat mar
dieses Verfahren in der Praxis bisher im allgemeiner vorgezogen. Dabei wurde der Arbeitsraum meist unter
normalem Atmosphärendruck gehalten, und dei Ladungsträgerstrahl wurde aus dem unter Hochvakuum
stehenden Strahlerzeuger durch ein möglichs gut strahlendurchlässiges Fenster, beispielsweise au;
dünnem Aluminium, ausgeschleust. Dabei mußte mar
jedoch wegen der unvermeidlichen Strahlungsabsorp tion im Fenster sehr hohe Beschleunigungsspanuun
gen und Teilchengeschwindigkeiten anwenden, so dat der dafür erforderliche verhältnismäßig hohe baulicht
Aufwand den kostenmäßigen Vorteil, der durch dei Verzicht auf eine evakuierte Arbeitskammer erziel
wurde, zum Teil wieder aufhob. Außerdem w;ir di(
Ausnutzung der Strahlung bei der Behandlung verhältnismäßig dünner Schichten, z. B. Lackschichten,
nur gering, da schnelle Teilchen ein hohes Durchdringungsvermögen haben. Darüber hinaus waren bei
praktisch brauchbaren Abständen zwischen dem Fenster und dem zu bestrahlenden Gegenstand die Absorptionsverluste
und die unerwünschte Streuung in der den Gegenstand umgebenden Atmosphäre auch
bei hohen Teilchengeschwindigkeiten bereits recht störend.
Die zweitgenanntc Möglichkeit, den zu bestrahlenden Gegenstand in einem evakuierten Arbeitsraum
zu bestrahlen, wurde im allgemeinen nur bei verhältnismäßig kleinen und/oder strangförmigen Gegenständen
angewendet. Andererseits bietet diese Arbeitsweise jedoch den Vorteil, daß niedrigere
I LÜchengeschwindigkeiten verwendet werden können
und störende Streuungen an Fenste.material oder in einer den Gegenstand umgebenden Gasatmosphäre
iveiigehend vermieden werden. Niedrige Teilchengeschwiiidigkeiten
sind vorteilhaft, weil die Kosten für den Strahlerzeuger sehr stark von der benötigten Teilchenbeschleunigung
abhängen und weil die Durchdringungsfähigkeitgeringer
ist, so daß auch in dünnen Schichten, beispielsweise Lackschichten, ein erheblicher
Teil der Strahlungsenergie absorbiert werden kann und die zur Sirahlerzeugung aufgewendete Leistung somit besser ausgenutzt wird.
Mit den bekannten Verfahren und Vorrichuingen
zum Behandeln von Oberflächen, und zwar sowohl bei Verfahren der zuerst beschriebenen, in der Praxis
eingeführten Art mit strahlungsdurchlässigcm Fenster und hohen Teilchengeschwindigkeiten, als auch bei
den zuletzt beschriebenen Verfahren mii evakuierbarer Arbeitskammer konnten bisher nur sehr einfache
Oberflächenformen behandelt werden, wie sie beispielsweise bei Bändern, Platten oder Foliei. forkommen.
So sind beispielsweise ein Verfahren und eine Einrichtung zur Bestrahlung eines Kunststoffüberzuges
auf einem draht- oder bandförmigen, elektrisch leitenden Träger mit Ladungsträgerstrahlcn bekannt
(deutsche Auslegeschrift 1025 471S), bei denen der
Kunststoffträger durch eine kontinuierliche Vakuumschleuse hindurchgcschleust und in deren Hochvakuumraum
der Bestrahlung mindestens einer Ladungsträgerstrahlungsquelle ausgesetzt wird, wobei der
Kunststoffträger die Endelektrode des Beschleunigung:,
.ystems der Strahlquelle bildet. Die Strahlquelte
konnte dabei ringförmig ausgebildet und konzentrisch zu dem Kunststoffträger angeordnet sein, oder es waren
menrere Ladungsträgerstrahlungsquellen vorgesehen und vorzugsweise gleichmäßig verteilt und konzentrisch
in beug auf die Führung des zu bestrahlenden Ki'nststoffträgers angeordnet.
im Zusammenhang mit dem oben beschriebenen bekannten Verfahren mit hohen Teilchengeschwindigkeiten
und strahlungsdurchlässigem Fenster ist ferner schon vorgeschlagen worden, kompliziertere
Oberflächenformen wie sie z.B. bei Rohren u.dgl. vorkommen, in der Weise zu behandeln, daß man entweder
mehrere Sirahlqucllen verwendet oder das strahlungsdurchlässige Fenster und die Anode, in der
sich dieses Fenster normalerweise befindet, der Oberflächenfor. ι der zu behandelnden Gegenstände anpaßt.
Dieser letztgenannte Vorschlag macht deutlich, daß es bei den bekannten Verfahren mit Ausschleusung
des Strahls in einen Raum höheren Gasdrucks entscheidend darauf ankommt, den Abstand /wischen
dem strahlungsdurchlässigen Fenster und dem Gegenstand so gering wie möglich zu halten, um Absorption
und Streuung in der den Gegenstand umgebenden Atmosphäre gering zu halten.
Es ist ferner schon vorgeschlagen worden (deutsche Auslegeschrift 1050 459), die Durchstrahlung vor
dicken Gegenständen mit schnellen Elektronen dadurch zu verbessern, daß man den Elektronenstrahl
in zwei Komponenten aufgespaltet und die eine Komponente direkt auf eine Seite des Gegenstandes auftreffen
läßt, während die andere Komponente durch ein Ablenkfeld um 180° umgelenkt und auf die entgegengesetzte
Seite des Gegenstandes geleitet wird. Bei diesem bekannten Verfahren müssen ohnehin wegen
vier Dicke der zu bestrahlenden Gegenstände verhältnismäßig schnelle Elektronen verwendet werden, so
daß es verständlich erscheint, daß bei diesem bekannten Verfahren die beschriebene Arbeitsweise mit
Ausschleusung des Strahis durch ein strahJendurch-
ao lässiges Fenster angewendet wird. Dabei wird ein nur
schwach fokussierter Strahl mit verhältnismäßig großem Querschnitt verwendet, der die ganze Oberfläche
des zu behandelnden Gegenstandes einschließt. Bei diesem Verfahren ist es nachteilig, daß wegen der hohen
Elektronengeschwindigkeit ein verhältnismäßig starkes Ablenkfeld erforderlich ist, und die durch die
Umlenkung erforderliche Länge des Strahlweges führt, da keine unter vermindertem Druck stehende
Arbeitskammer verwendet wird, notwendigerwcise zu
verhältnismäßig hohen Verlusten durch Absorption und Streuung in der Gasatmosphäre. In der Praxis
konnte sich dieses Verfahren deshalb nicht durchsetzen.
Die Erfindung geht von der Aufgabe aus, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Behandeln von
Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, ?u schaffen, die ohne bauliche Änderungen
für Gegenstände beliebiger und auch komplizierter Oberflächenformen verwendbar sind.
Zur Lösung dieser Aufgabe schafft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Behandeln von Ober
flächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, von Gegenständen durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrphlen, insbesondere Klektronenstrahlen, bei dem der Gegenstand in eine unter vermindertem Druck gehaltene Arbeitskammer eingebracht und cm von einer Strahlquellc ausgehender Ladungsträgerstrahl abgelenkt und auf die zu behandelnde Oberfläche geleitet wird, wobei das Verfahren dadurch ge-
flächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, von Gegenständen durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrphlen, insbesondere Klektronenstrahlen, bei dem der Gegenstand in eine unter vermindertem Druck gehaltene Arbeitskammer eingebracht und cm von einer Strahlquellc ausgehender Ladungsträgerstrahl abgelenkt und auf die zu behandelnde Oberfläche geleitet wird, wobei das Verfahren dadurch ge-
5η kennzeichnet ist, daß der in an sich bekannter Weise
durch freie Öffnungen ausgeblendete Strahl mittels steuerbarer Ablenkfelder auf der Oberfläche entlanggeführt
und in Abhängigkeit von der Form des Gegenstandes dosier· wird.
Bei dem erfindungsgeiräßen Verfahren wird somit
die eingangs beschriebene Arbeitsweise verwendet,
bei der der Gegenband in eine evakuierte Arbeitskammer eingebracht wird. Wie schon weiter vo:n ancedeuti.«,
ergeben sich dabei gegenüber der Arbeitsweise mit ausgeschleustem Strahl beträchtliche
Vorteile durch bessere Ausnutzung der Strahlungsenergie und geringeren Aufwand beim Strahlerzeuger,
so daß schon wegen dieser Vorteile der bauliche Mehraufwand für eine evakuierbare Arbeitskammer
annehmbar erscheint; die Evakuierung selbst macht bei dem heutigen Stand der Hochvakuumtechnik auch
bei verhältnismäßig großen Arbeitskammern keine besonderen Schwierigkeiten. Bei dem erfindungsge-
mäßen Verfahren ergeben sich jedoch außer den angegebenen
bekannten Vorteilen, die offenbar bisher
allein nicht ausreichend waren, um der beschriebenen Arbeitsweise mit evakuierbarer Arbeitskammer eine
Verbreitung in der Praxis zu sichern, zusätzliche entscheidende Vorteile, und zwar im Hinblick auf die Behandlung
beliebig geformter Oberflächen und exakte Strahlungsdosierung, so daß das erfindungsgemäße
Verfahren trotz der Notwendigkeit, eine evakuierte Arbeitskammer zu verwenden, den bisher in der Praxis
überwiegend anzutreffenden Verfahren mit Sirahlen hoher Teilchengeschwindifkeit und st.aHungsdurchlassigcm
Fenster zweifelsfrei überlegen ist.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird als entscheidender Vorteil eine universelle Anpassungsfähigkeit
an beliebige Oberfläcnenformen und Behandlungsvorschriften dadurch erzielt, daß zwei entscheidende
Verfahrensschritte ineinandergreifen, nämlich das Weiterführen des Stnhls über die zu
behandelnde Oberflächenschicht und die dabei erfolgende
Dosierung, die entsprechend der in jedem Oberflächenelement gewünschten Dosis d 'rch entsprechende
Steuerung der Ablenkfelder und/oder der Strahlparameter eingestellt werden kanr. Es können
somit nach dem erfindungsgemäßen Verfahren verschiedenartig geformte Gegenstände und/oder \ ;rschicdenartig
zu behandelnde Oberflächen mit ein und derselben Apparatur behandelt werden, wobei es
lediglich erforderlich ist, die Ablenkung und Dosierung entsprechend dem gewünschten Bestrahlungsprogramm
zu steuern oder zu programmieren, um m dem jeweils bestrahlten Bereich der Oberfläche eine
gewünschte Absorption von Strahlungsenergie zu erzielen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann der Strahl von den steuerbaren Ablenkfeldern :n erforderlichenfalls
komplizierten Bahnen auf jede ge wünschte Stelle der zu behandelnden Oberfläche geleitet
werden; die dabei vielfach notwendigen verhältnismäßig langen Strahlwege können infolge des
in der Arbeitskammer herrschenden niedrigen Drukkcsin
Kauf genommen werden, ohne daß übermäßige Verluste an Strahlungsenergie auftreten. Die Steuerung
der Ablenkfelder und gegebenenfalls auch der Strahlparameter in Abhängigkeit von der Form der
zu behandelnden Oberfläche und der gewünschten Absorption von Strahlungsenergie stellt sicher, daß
der Strahl alle Stellen des vorgegebenen Umfangsbereichs
des Gegenstandes erreicht und den dort befindlichen Oberflächenstellen stets die richtige Menge an
Strahlungsenergie zuführt. Da infolge der Verwendung freier Durchtrittsöffnungen für den Strahl und
einer unter vermindertem Druck gehaltenen Arbeits kammer verhältnismäßig geringe Teilchengeschwindigkeiten
verwendet werden können, bei Elektronenstrahlen beispielsweise Teilchengeschwindigkeiten
unter 100 keV, kann man die gewünschten Ablenkungen mit Ablenkfeldern verhältnismäßig niedriger Intensität
erzielen und erhält auch in dünnen Oberflächenschichten eine gute Ausnutzung der Strahlungsenergie;
außerdem ist auch die Intensität der beim Auftreffen auf den Gegenstand entstehenden Röntgenstrahlung
verhältnismäßig gering. Überdies sind die durch Wechselwirkung mit Gasmolekülen verursachten
unerwünschten Erscheinungen wie Sekun-. därstrahlung. Streuung und Defokussierung, entsprechend
dem in der Arbeitskammer angewandten Vakuum so weit herabgesetzt, daß sie in der Praxis
nicht mehr «<ören. Insgesamt zeichnet sich somit das
erfindungsgemäße Verfahren durch große Anpassungsfähigkeit und eine vollständig kontrollierbare
und definierte Bestrahlungssituation aus.
Die Ablenkung von Korpuskularstrahlen mit Hilfe von Ablcnkfeldern ist naturgemäß an sich bekannt.
Auch bei der Behandlung von Oberflächen von Gegenständen mit schnellen Elektronen äst es bereits bekannt,
den Strahl durch ein Ablenkfeld zellenförmig
ίο über eine im wesentlichen ebene zu behandelnde
Oberfläche zu führen. Dies entspricht dem in der Elektronenstrahltechnik allgemein bekannten zellenförmigen
Abtasten. In diesem Zusammenhang ist es auch bekannt, die Strahlintcnsität während des Ablenkvorgqnces
so zu verändern, diß «lic dem Kosinus des Auftrcffwinkeis entsprechende Abnahme der Bestrahlungsdichte
kompcnsieit wird. Auch dabei war
jedoch nicht davon die Rede, daß der Strahl nacheinander durch mehrere unabhängig steuerbare Ablenk-
2h felder geführt und von diesen auf alle Stellen eines
vorgegebenen Umfangbereichs eines Gegenstandes mit behebig ge.ormter Oberfläche gelcittt wird Im
übrigen ist natürlich auch bei der erfindungsgemäßen
Arbeitsweise die Berücksichtigung des Auftreffwinkels
be: der Einsteuering der Dosierung ohne weiteres möglich und vorgesehen; in jedem Fall kann durch
entsprechende Steuerung der Ablcnkgeschwindi^keit
und/oder der Strahlparameter dafür gesorgt werden, daß pro Flächen- oder Mengeneinheit der zu behandelnden
Oberfläche eine vorgegebene, vorzugsweise auch etwa konstante Energiemenge aus dem St 1 :■■'■'
absorbiert wird Dabei besteht überdies die Möglichkeit,
auch die die Durchdringungsfähigkeit des Strahk bestimmenden Strahlparameter zu steuern, so daß sieh
eine gewünschte Verteilung der Energjeabsorptior;
aus dem Strahl über die Tiefe einer zu behandelnden
Oberflächenschicht ergibt So kann man beispielsweise beim Härten einer I.ackschicht erreichen, daß
die Härte der Lackschicht von innen nach außen zunimmt. Eine solche Steuerung der Strahlungsparameter
kann in Ausgestaltung der Erfindung beispielsweise so erfolgen, daß der Strahl impulsartig gesteuert
wird, wobei gegebenenfalls die Ablenkfelder synchron mit der Impulssteuerung angepaßt werden müssen.
ebenso wie bei anderen Veränderungen der fur die Ablenkfähigkcit des Strahls maßgebenden Sirahlparameter.
Eine ersichtlich vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens ist dadurch gekenn-
zeichnet, daß die Oberfläche des Gegenstandes in einer
Koordinatenrichtung durch eine Bewegung des Gegenstandes relativ zur Strahlquelle und in einer an
deren Koordinatenrichtung durch Ablenkung de·· Strahls vom Strahl überstrichen wird.
Eine vielfach günstigere großflächigere Bestrah
lung läßt sich in weiterer Ausgestaltung der Erfindung dadurch erzielen, daß der Strahl während seines Wei
terwanderns über die Oberfläche periodisch hin- unc herbewegt wird. Eine großflächigere Bestrahluni
kann auch dadurch erzielt werden, daß der Strahl vo dem Auftreffen auf die Oberfläche aufgefächert wird
beispielsweise bis auf einen Auftreffdurchmesser ii der Größenordnung von einem Zentimeter.
Die beschriebene universelle Anpassungsfähigkei
des erfindungsgemäßen Verfahrens kann in weitere Ausgestaltung der Erfindung auch dazu verwende
werden, um mehrere verschiedene Bestrahlungsvor gänpc nacheinander an ein und demselben Gegen
stund auszuführen, wobei jeweils ein Strahl über die
Oberfläche des Gegenstandes geführt und entsprechend den in den jeweils bestrahlten Oberflächenbereichen
erforderlichen Slrahlungsdosen gesteuert wird. Auf diese Weise können ein zur Vorbereitung
einer Beschichtung, insbesondere zur"Reinigung der zu beschichtenden Oberfläche, dienender Bestrahlungsvorgang,
der eigentliche Beschichtungsvorgang und ein zum Härten der Beschichtung dienender Bestrahlungsvorgang nacheinander ausgeführt werden,
wobei vorrichtungsmäßig eine Einrichtung zum Aufbringen der Beschichtung in der Arbeitskammer vor
zusehen ist.
Besonders gunstig ist es bei dieser Arbeitsweise, wenn der in die Arbeitskammer eingebrachte Gegenstand
in einem ersten Durchgang an der Strahlquelle
vorbeibewegt und durch Bestrahlung mit einem Strahl gereinigt und danach mit einer aufgebrachten zu behandelnden
Oberflächenschicht in einem /weilen
Durchgang an der Strahlquelle vorbeihewegi und zwecks Behandlung der Oberflächenschicht mit einem
Strahl bestrahlt wird. Dabei ergibt sich eine besonders einfache Arbeitsweise dann, wenn der zum Reinigen
dienende Strahl und der zum Behandeln der Beschichtung dienende Strahl aus derselben Strahlquclle
entnommen und von den gleichen unabhängig steuerbaren Ablenkfeldern nacheinander über vorgegebene
Bereiche d.r Oberfläche des Gegenstandes geführt werden, wobei wahrend des Rc'm'gur.gsvorßangcs d'c
Ar-lcnkfelder und, falls gewünscht, die Sirahlparametci
des Suahls in Abhängigkeit von dtr Form der zu
reinigenden Oberflaehe und entsprechend dei in dem
jeweils bestrahlten Bereich der Oberfläche gewünschten
Rcinigungswirkung eingestellt werden.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens und seine! Aiisgesialtunse" kann erfindiingsgemaß
eine Vorrichtung dienen, die eine evakuierbare Arbeitskammer, ein McuciLurcs Strahlerzeugungssystem,
das durch freie Öffnungen mit der Arbeitskammer verbunden ist. und eine im Eintrittsbereich der
Arbeitskammer vorgesehene steuerbare Ablenkeinrichtung aufweist, wobei diese Vorrichtung dadurch
gekennzeichnet ist. daß mehrere steuerbare Ablenkcinnehtungen
um wenigstens einen Teil des Umfangs der zu behandelnden Oberfläche angeordnet sind In
weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist dabei vorzugsweise zur Steuerung des Strahlerzeugungssystems
und der Ablenkeinrichtungcn eine Hauptsteuereinrichtung vorgesehen. Mit dieser können die Ablcnkeinnchtungen
und das Strahlcrzcugungssystcm in Abhängigkeit von der Form der zu behandelnden
Oberfläche und der in den einzelnen Oberflächenbercichcn
jeweils gewünschten Bestrahlungsdosen derart gesteuert werden, vorzugsweise nach einem Programm,
daß je nach den bei einem Gegenstand zu erfüllenden Bestrahlungsanfordcrungen ein vorgebbarer
Zusammenhang zwischen der die Bestrahlungssielle bestimmenden Einstellung der Ablenkcinrichtungen
und den an der jeweiligen Bcstrahlungsstelle gewünschten Bcstrahlungsbcdingungcn besteht. Auf
diese Weise gestattet es die Erfindung, auch komplizierte Obcrf lächcnbcrciche an allen Stellen mit vorgegebenen
Strahlungsdosen zu versehen. Besonders vorteilhaft ist es, daß bei der serienweisen Behandlung
von Gegenständen ein einmal festgelegtes Programm bei jedem einzelnen Bcstrahlungsvorgang unverändert wiederholt werden kann. Der einmalige Arbeitsaufwand für die Anfertigung des Programms spielt
dann bei einer derartigen Serien-Arbeitsweise keine ins Gewicht fallende Rolle.
liine weitere vorteilhafte Ausgestaltung der erfinliungsgcmäßcn
Vorrichtung besteht darin, daß die Arbcitskammci durch eine Zwischenwand, die einen
schmalen Schlitz für den Durchtritt des Strahls aufweist, in eine die Ablenkeinrichlungen enthaltende
Ablenkkammer und eine den Gegenstand mit der zu behandelnden Oberflächenschicht aufnehmende Bein
Strahlungskammer unterteilt ist, die beide für sich
evakuierbar sind und ein Druckstufensystem bilden. Ein derartiges Druckstufensystem erleichtert die Evakuierung
und die Entfernung von eventuell bei der Bestrahlung entstehenden Produkten. Im übrigen
kann die Vorrichtung leicht so ausgelegt werden, daß der Strahl stets in ein und derselben Ebene, in der
der erwähnte schmale Schlitz anzuordnen ist, auf den zu behandelnden Gegenstand auftrifft. Dabei ergeben
sich besonders übersichtliche Verhältnisse.
jn Im übrigen versteht es sich, daß der Strahl auch
so abgelenkt werden kann, daß er stets in einer anderen aach schräg liegenden Ebene verläuft, wie überhaupt
die Richtung, in der der Strahl zum Gegenstand hin verläuft, in weiten Grenzen willkürlich vorgebbar
ist.
AusführungsbcKpieie der Erfindung werden im
folgenden an Hand der Zeichnungen naher beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 einen schematischen Querschnitt durch eine erfindungsgcmäße Vorrichtung,
Fig 2 eine schematischc Schnittdarstellung nach
der Linie H-II d>.r Fig. 1.
Fig. 3 in ähnlicher Darstellung wie Fig. 1 eine pndcrc
Ausführungsiorm der Erfindung im Schnitt nach
der Linie IH-III der Fig. 4,
Fig. 4 in schematischcr Darstellung einen Längsschniü
durch die in Fig. 3 dargestellte Vorrichtung nach der Linie IV-IV der Fig. 3,
Fig. 5 in vergrößerter Darstellung den in Fig. 4
-o mit einem gestrichelten Kreis eingerahmten Bereich
bei einer abgewandelten Ausfrhrungsform,
F i g. β ebenfalls in vergrößerter Darstellung den in Fi g. 4 mit einem gestrichelten Kreis umrahmten Bereich
bei einer anderen abgewandelten Ausführungsform.
Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung enthält eine Arbeitskammer 1, die auf einem Gestell 2 ruht und
über einen Pumpstutzen 3 evakuiert ist. Die dargestellte Arbeitskammer hat etwa die Form eines liegen-
5D den Zylinders; Fi g. 1 ist ein Radiaischnitt etwa durch
die Mitte dieses Zylinders. An den beiden Enden isi die Arbeitskammer durch (nicht dargestellte) Vorrichtungen
gasdicht verschlossen. Diese Vorrichtungen können beispielsweise auch eine Vakuumschleuse
bekannter Bauart enthalten. In die Arbeitskammer 1 wird der Gegenstand 4 eingebracht, dessen Oberflä
ehe behandelt werden soll. In Fi g. 1 sind die Vorrich
tungen zum Halten und Wcilerbewegen des Gegen Standes 4 nicht dargestellt.
Aus einem ganz schematisch angedeuteten Strahl crzeugungssystcm S tritt ein Ladungsträgerstrahl
?„ B. ein Elektronenstrahl 6, in die Arbeitskammer ] ein. Der untere Teil des Strahlerzeugers S stellt cii
an die Arbeitskammer 1 angeschlossenes Verbin dungsstück 7dar. Der Elektronenstrahl tritt nur durci
freie öffnungen, beispielsweise die in Fig. 1 darge stellte feine Blendenöffnung 8, in die Arbcitskam
mer 1 ein. Oberhalb der Blendenöffnung 8 ist eh
zweiter Pumpstutzen 9 vorgesehen, der zur Evakuierung
des Strahlerzeugers 5 dient. Die Blende 10, in der sich die Blendenöffnung 8 befindet, bildet somit
einen Teil eines Druckstufensystems. Natürlich können in bekannter Weise auch noch weitere Blenden
und Pumpstutzen vorgesehen sein.
Der Strahlerzeuger 5 wird über schematisch dargestellte Steuerleitungen 11 von einer Strahlsteuereinrichtung
12 gesteuert. Diese bestimmt beispielsweise den Strahlstrom und die Beschleunigungsspannung
des Ladungsträgerstrahls.
Im Eintrittsbereich der Arbeitskammer 1, wo der im Strahlerzeugungssystem 5 erzeugte Ladungsträgerstrahl
6 in die Arbeitskammer eintritt, ist eine magnetische Ablenkeinrichtung 13 vorgesehen, die ein
senkrecht zur Zeichnungsebene der Fig. 1 verlaufendes steuerbares Magnetfeld erzeugt. Ferner sind weitere
steuerbare magnetische Ablenkeinrichtungen 14, 15 und 16 um den Umfang des Gegenstandes 4 herum
verteilt in der Arbeitskammer 1 angeordnet. Auch diese Ablenkeinrichtungen erzeugen Magnetfelder,
deren Kraftlinien senkrecht zur Ebene der Fi g. 1 stehen.
Der Aufbau einer der weiteren Ablenkeinrichtungen, nämlich der Ablenkeinrichtung 16, ist im Zusammenha:.£
mit Fig. 2 genauer zu erkennen; die Ablenkeinrichtungen 14 und 15 sind ganz entsprechend
aufgebaut. Die Ablenkeinrichtung 16 besteht aus einem ersten Polstück 17 aus magnetisierbarer! Material
in Form eines länglichen U-Profils. Auf den Innenseiten
der Schenkel des U-Profils sitzen insgesamt vier Erregerwicklungen, von denen in Fig. 1 nur die
Wicklungen 18 und ?·> und in F i g. 2 nur die Wicklungen
18 und 20'u ei kennen sind. Jede Erregerwicklung
hat einen !wrn und ein daran angesetztes Polstück
in Form einer länglichen Platte. Da der in Fig. 1 dargestellte Schnitt durch die in Fig. 2 mit I-I bezeichnete
Ebene verläuft, ist in Fig. 1 jeweils nur eines der zweiten Polstücke erkennbar, bei der genauer dargestellten
Ablenkeinrichtung 16 also das Polstück 21. Die Vorrichtungen zum Befestigen der Ablenkeinrichtungen
und zum Anschließen der Erregerwicklungen sind nicht dargestellt. Die Erregerwicklungen sind
so gepolt, daß zwischen den zweiten Polstücken 21, 22 ein nahezu homogenes Magnetfeld aufgebaut wird.
Man erkennt, daß bei der dargestellten Vorrichtung die ebene Spalte 23 zwischen den zweiten Polstücken
21 und 22 alier Ablenkeinrichtungen in einer Ebene liegen, so daß ein in dieser Ebene durch die Ablenkeinrichtungen
verlaufender Ladungsträgerstrahl eine Ablenkung in dieser Ebene erfährt.
Sämtliche Ablenkeinrichtungen sind in nicht weiter dargestellter Weise an eine Ablenk-Steuereinrichtung
24 angeschlossen. Die Strahlsteuereinrichtung 12 und die Ablenk-Steuereinrichtung 24 sind beide an eine
Hauptstcuereinrichtung 25 angeschlossen und werden von dieser synchron gesteuert, beispielsweise in Abhängigkeit
von einem in der Hauptsteuereinrichtung
25 einstellbaren festen Programm. In Fig. I sind einige Einstellungen des behandelnden Elektronenstrahls
6 angedeutet, wie sie beim Ablauf eines auf die Oberflächenform des Gegenstandes 4 abgestimmten
Programms nacheinander durchlaufen werden können. Bei unwirksamer Ablenkeinrichtung 13 (die
ähnlich aufgebaut ist wie die weiteren Abienkeinrichtungcn
14, 15, 16) ergibt sich der Strahlverlauf 6a. Durch schwache Erregung der Ablenkeinrichtung 13
kann man den Strahl nach links (oder bei umgekehrter Polarität des Ablenkfeldes nach rechts) ablenken,
beispielsweise in die Position 66; dabei wird ein entsprechender Umfangsbercich des Gegenstandes 4
vom Strahl überstrichen. Da die Erregung der Ablenkeinrichtung 13 über die Ahlcnk-Steuereinrichtung
24 von der Hauptsteuereinrichtung 25 her synchron mit etwaigen Veränderungen der Strahlsteuereinrichtung
12 nach dem für den Gegenstand abgestimmten Programm eingestellt wird, erhält man
ίο an jeder Stelle der zu behandelnden Oberfläche des
Gegensiandes 4 die jeweils gewünschte Bestrahlungsintensität und -dauer.
Bei stärkerer Erregung der Ablenkeinrichtung 13 kommt der Strahl schließlich in eine Lage 6c, in weleher
er mit Hilfe der in geeigneter Weise erregten weiteren Ablenkeinrichtung 14 wieder auf die Oberfläche
des Gegenstandes 4 umgelenkt werden kann. Bevorzugt wird jedoch eine Verfahrensweise, bei der der
Strahl von der Ablenkeinrichtung 13 noch weiter bis in die Position 6d abgelenkt wird, in welcher der Strahl
in den oberen Endbereich der weiteren Ablenkeinrichtung 14 eintritt. Im weiteren Verlauf der Best th
lung wird dann die Erregung der Ablenkeinrichtung 13 konstant gehalten, und es wird zunächst nur die
»5 Erregung der Ablenkeinrichtung 14 verändert, und
zwar so, daß nacheinander die als Beispiel herausgegriffenen Strahlzustände be, ftf und 6g durchlaufen
werden. Dabei wird der in Fig. 1 linke Umfangsbercich des Gegenstandes 4 bestrahlt, wobei weder die
Ablenkdaten (z.B. Ablenkgeschwindigkeit) und gegebenenfalls auch die Strahldaten mit Hilfe der von
der Hauptsteuereinrichtung 25 synchron gesteuerten
Ablenk-Steuereinrichtung 24 bzw. Strahlsteuercinrichtung 12 so gesteuert werden, daß sich an jeder
Stelle des überfahrenen Oberflächenbereichs die gewünschten Bestrahlungsdaten ergeben. In der Position
6g tritt der Strahl in die nächste Ablenkeinrichtung 15 über. Man erkennt, daß man dann auch die
Errepur.g der Ablenkeinrichtung 14 konstant halten
und die Weiterführung des Strahls über den in Fig I unteren Umfangsbereich des Gegenstandes 4 allein
durch Verändern der Erregung der Ablenkeinrichtung 15 bewirken kann. Dabei können nacheinander
die Strahlpositionen €h und 6i durchlaufen werden.
Es wäre durchaus möglich, den Strahl, etwa in der Position 6Jk, in die nächste Ablenkeinrichtung 16 weiterzuleiten, doch wird man es im allgemeinen vorziehen,
die in Fig. ! rechte Hälfte des Umfanges des
Gegenstandes 4 dadurch mit dem Strahl zu überstreichen, daß man die Ablenkeinrichtung 13 mit entgegengesetzter
Polarität betreibt und den Strahl demgemäß von der Ablenkeinrichtung 13 dann in die
Ablenkeinrichtung 16 und danach noch in die Ablenkeinrichtung 15 weiterführt.
Nach einem vollständigen Umlauf des Strahls über den Umfang des Gegenstandes 4 wird der Gegenstand
in der zur Ebene der Fig. 1 senkrechten Richtung weitergeführt: diese Bewegung kann natürlich auch
kontinuierlich erfolgen, ««>
daß sich eine spiralartige Abtastung der Oberfläche des Gegenstandes 4 ergibt Es wird also die Oberfläche des Gegenstandes in einer
Koordinatenrichtung durch die Bewegung des Gegenstandes relativ zur Strahlquelle und in der anderen
Koordinatenrichtung durch Ablenkung des Strahls behänden. Die Einrichtungen zum Vorschub des Gegenstandes
4 durch die Arbeitskammer sind nichf dargestellt; sie stehen vorzugsweise ebenfalls unter
dem Einfluß der Hauptstcuereinrichtung 25, so daß
sich eine gewünschte Synchronisierung mit den Steucrvorgängen
ergibt, die von der Slrahlsteuereinrichtung
12 und der Abicnk-Steuereinrichiung 24 bewirkt werden.
Bei der Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl werden vorzugsweise Bcschleunigungsspannungen bis
zu 100 kV verwendet; derartige Beschleunigungsspannungen lassen sich in verhältnismäßig kompakten
Strahlcrzeugcrn anwenden und bieten die eingangs beschriebenen Vorteile. Das Durchdringungsvcunö-
§en des Elektronenstrahls hängt bekanntermaßen von der Beschleunigungsspannung ab. Man kann demgemäß
durch entsprechende Steuerung der Strahlstromitärke (oder der Ablenkgeschwindigkeit) und der Beschleunigungsspannung
erreichen, daß an jeder beliebigen Stelle der behandelten Oberfläche ein vorgegebener
Elekironenstrom mit vorgegebener Geschwindigkeit auftrifft. Dabei läßt sich beispielsweise
ohne Schwierigkeiten erreichen, daß pro Vicnger>~inheit
der die Oberflächenschicht bildenden Substanz »«>
eine vorgegebene, vorzugsweise konstante Energiemenge aus dem Strahl absorbiert wird. Der Einfluß
des Auftreffwinkels auf die Bestrahlungs-Stromdichte kann dabei naturlich berücksichtigt werden. Je nachdem,
ob man eine in verschiedenen Tiefen der Ober- *5 flaehenschicht gleichmäßige Bestrahlung oder eine
mit der Tiefe veränderliche Bcstrahlungswirkung wünscht, kann man die Beschleunigungsspannung,
d.h. also die Durchdringungsfähigkeit der Strahlung, entsprechend steuern. Besonders vorteilhaft ist es
vielfach, wenn man den Strahl impulsartig steuert, wobei nur während eines Teils der Gesamt-Einwirkungsdauer
pro Oberflächenelement eine verhältnismäßig hohe Beschleunigungsspannung zur Anwendung
kommt, so daß sich die Bestrahlungswirkung in der äußersten Oberflächenschicht konzentriert. Auf
diese Weise kann man z.B. erreichen, daß Lackschichten eine verhältnismäßig harte Außenfläche erhalten,
während die Masse der Lackschicht noch geringfügig elastisch bleibt. Man kann diesen Vorgang
;uich so auffassen oder ausführen, daß zwei oder mehrere
Strahlkomponentcn mit verschiedenen Geschwindigkeiten
verwendet werden.
Die in den Fig. 3 und 4 schematisch dargestellte
Vorrichtung unterscheidet sich von der in Fi g. 1 gezeigten Vorrichtung im wesentlichen dadurch, daß außer
der im Strahl-Eintrittsbereich angeordneten Ablenkeinrichtung noch insgesamt elf weitere Ablenkeinrichtungen
um den Umfang des zu behandelnden Gegenstandes herum verteilt angeordnet sind.
Die in den Fig. 3 und 4 dargestellte Vorrichtung
enthält wieder eine zylindrische, liegend angeordnete Arbeitskammer 101, die auf einem Gestell 102 ruht
und über einen Pumpstutzen 103 evakuierbar ist. Im Inneren der Kammer ist ein Gegenstand 104 angedeutet,
dessen Oberfläche behandelt werden soll. Das Strahlerzeugungssystem 105 ist wieder in der Mitte
oberhalb der Arbeitskammer 101 angeordnet; es erzeugt einen Elektronenstrahl 106, der durch ein Verbindungsstück
107, das von einer Blendenöffnung 108 des Strahlerzeugungssystems 105 ausgeht, in den Einirittsbereich
der Arbeitskammer 101 eintritt. Der oberhalb der Blendenöffnung 108 liegende Teil des
Strahlerzeugungssystems kann über einen zweiten Pumpstutzen 109 evakuiert werden, so daß sich durch
die Wirkung der Blende 110, in der sich die Blendenöffnung
108 befindet, ein Druckstufensystem ergibt. Das Strahlerzcugungssystcm 105 ist über Steucrlcitungen
111 an eine Strahlsteuereinrichtung 112 angeschlossen. Im Eintrittsbereich des Elektronenstrahls
106 ist eine elektromagnetische Ablenkeinrichtung 113 vorgesehen, die ein senkrecht zur Zeichenebene
der Fig. 3 stehendes steuerbares Magnetfeld erzeugt.
Um den Umfang des Gegenstandes 104 herum sind in der Arbeitskammer eine Anzahl von weiteren Ablenkeinrichtungen
verteilt, hier insgesamt elf Ablenkeinrichtungen, von denen im Verlauf der weiteren Beschreibung
nur die der ersten Ablenkeinrichtung 113 unmittelbar benachbarten ersten und zweiten weiteren
Ablenkeinrichtungen 114 und 115 sowie die sechste weitere Ablenkeinrichtung 116 im einzelnen
erwähnt werten. Wie am Beispiel der sechsten weiteren
Ablenkeinrichtung 116 im Zusammenhang mit Fi g. 4 ohne weiteres zu erkennen ist, enthält jede der
weiteren Ablenkeinrichtungen zwei Polstücke 121. 122, die in ihren einen, vergrößerten und an ihren
Kanten abgerundeten Endabschnitten 131,132 enger bcieinanderlicgen und an ihren anderen, weiter auseinanderliegendcn
und schmaleren Endabschnitten 133, 134 durch einen Kern 135 miteinander verbunden
sind, auf dem sich eine Erregerwicklung 118 befindet. Die zwischen den eng beieinanderliegenden
Endabschnitten 131 und 132 gebildeten Spalte 123 sämtlicher Ablenkeinrichtungen liegen gemeinsam in
der Radialebene, in der der Elektronenstrahl 106 in die Arbeitskammer 101 eintritt. Die Erregerwicklungen
118 werden aus einer Ablenk-Steuereinrichtung 124 gespeist, die ihrerseits von einer Hauptsteuereinrichtung
125 gesteuert wird. Die Hauptsteuereinrichtung 125 steuert gleichzeitig auch eine Strahlstcuereinrichtung
112, die ihrerseits über nur schematisch angedeutete Steuerleitungen 111 das Elektronenstrahl-Erzeugungssystern
105 steuert.
Der Aufbau der Ablenkeinrichtung 113 weicht aus räumlichen Gründen etwas von dem Aufbau der weiteren
Ablenkeinrichtungen ab. Wie aus den Fig. 3 und 4 ersichtlich ist, sind auch hier zwei abgewinkelte
Polstücke 121a, 122a vorgesehen, die mit ihren einen, vergrößerten und an ihren Kanten abgerundeten
Endabschnitten 131a, 132a eng beieinanderliegen und einen Spalt 123a für den Durchtritt des Elektronenstrahls
106 bilden, während die anderen Endabschnitte weiter auseinanderliegen. Diese anderen
Endabschnitte sind hier in zwei Teilabschnitte verzweigt, die beiderseits des Verbindungsstücks 107
durch die Wand der Arbeitskammer 101 treten. In Fig. 3 sind die Verzweigungen 133a und 133b des
Polstücks 121a zu erkennen, während in Fig. 4 jeweils die einen Verzweigungen 133a bzw. 134a dei
beiden Polstücke 121a bzw. 122a zu erkennen sind Statt einer einzigen Erregerwicklung, wie bei den weiteren
Ablenkeinrichtungen, sind bei der Ablenkein richtung 113 zwei Erregerwicklungen 118a und 118?
vorgesehen. Im übrigen ist die Funktion der Ablenk einrichtung 113 die gleiche wie bei den weiteren Ab
lenkeinrichtungen.
Die Ablenkung des Elektronenstrahls erfolgt be der Vorrichtung nach den F i g. 3 und 4 grundsätzlic!
in gleicher Weise wie bei der Vorrichtung nach Fi g. 1 In F i g. 3 sind mehrere Strahlpositionen 106a... 106
angedeutet, die vom Strahl nacheinander durchlaufe werden. In der Posilion 106a ist die Ablenkeinricr
lung 113 abgeschaltet. In der Ablcnkposition 106 ist allein die Ablenkeinrichtung 113 wirksam. In de
Posilion 106c ist die Ablenkeinrichtung 113 auf eine starken Ablenkwert eingestellt, so daß der Strahl ai
der Ablenkeinrichtung 113 in die niichslfolgende Ablenkeinrichtung
114 überführt wird, die auf einen verhältnismäßig starken Ablenkwerl eingestellt ist, so
daß der Strahl die Bearbeitung im Anschluß an die Bearbeitungsstclle fortsetzt, die als letzte von dem allein
durch die Ablenkeinrichtung 113 gegangenen Strahl erreicht wurde. Durch fortschreitende Abschwächung
des in der Ablenkeinrichtung 114 erzeugten Ablenkfeldes werden dann die Strahlpositionen
106a und 106f durchlaufen, und danach wird bei konstant bleibender geringer Ablenkung der Strahl
weiter in die nächste weitere Ablenkeinrichtung 115 überführt, wo er zunächst verhältnismäßig stark (Position
106/) und dann fortschreitend schwächer abgelenkt wird, bis er in die nächstfolgende Ablenkeinrichtung
übergeht, usw. Auch hier ist es möglich, abschnittsweise jeweils nur die Ablenkwirkung einer
Ablenkeinrichtung zu steuern, während die Wirkung der übrigen Ablenkeinrichtungen konstant gehalten
wird. Die Verwendung einer größeren Anzahl von Ablenkeinrichtungen, entsprechend der Darstellung
nach Fig. 3, bietet den Vorteil, daß der in der Arbeitskammer zur Verfügung stehende Platz besser
ausgenutzt werden kann. Nachteilig ist jedoch dabei, daß die Sicu>
ung komplizierter wird und an den Rändern der von den einzelnen Ablenkeinrichtungen
erzeugten Ablenkfelder Inhomogenitäten auftreten, die unter Umständen zu einer zu starke" Defokussierung
führen können. Vielfach wird ein Kompromiß zweckmäßig sein, wobei z. B. auch Polstücke in Form
von Ringscheibensektoren verwendet werden können. In Fig. 3 ist eine mögliche Arbeitsweise der
Steuereinrichtungen näher dargestellt. Die Hauptsteuereinrichtung 125 enthält als wesentlichen Bestandteil
einen bandförmigen Informationsträger 136, beispielsweise ein Magnetband, der in mehreren Spuren
getrennte Informationen für die einzelnen Ablenkeinrichtungen und die Strahlparameter enthält. In
Fi g. 3 ist nur die Spur 137 näher bezeichnet. Der Informationsträger
136 wird von einer nicht dargestellten Antriebsvorrichtung mit vorgegebener Geschwindigkeit
angetrieben; dieser Antrieb kann auch mit einer Vorschubbewegung des Gegenstandes 104
durch die Arbeitskammer 101 synchronisiert sein. Die
Ablenk-Steuereinrichtung 124 enthält für jede Ablenkeinrichtung 113, 114... einen Ablesekopf 138,
139..., der die zugeordnete Spur des Informationsträgers 136 abliest, und eine vom Ablesekopf gesteuerte
Verstärkereinheit 140, 141..., die den Erregerstrom der Erregerwicklung der zugeoriiiu-u n Ablenkeinrichtung
113, 114... bestimmt. Die Strahlsteuercinrichtung 112 enthält ebenfalls Ableseköpfe
142, 143 die aus entsprechenden Spuren des Informationsträgers 136 Steuerinformationen für die
einzelnen Strahlparameler ablesen und über Verstärker
das Strahlerzeugungssystcm 105 entsprechend steuern. In dieser oder ähnlicher Weise können beliebige,
fest vorgegebene Zusammenhänge zwischen den für die Bewegung und Einwirkung des Strahls
maßgebenden Parametern in einfacher Weise nach einem festen Programm zum Ablauf gebracht werden.
Bei der in den Fig. 3 und 4 dargestellten Vorrichtung
befinden sich die Erregerwicklungen außerhalb der Arbeitskammer 101. Die Arbeitskammer muß aus
nicht oder nur schwach magnetisierbarem Material ausgeführt sein. Statt dessen kann natürlich auch eine
Konstruktion ähnlich wie in F i g. 1 verwendet werden, beidcrdic gesamten Ablenkcinrichiungen einschließlich
ihrer Erregerwicklungen innerhalb der Arbeitskammer liegen.
Bei der in den Fig. 3 und 4 dargestellten Vorrichtung ist die Arbeitskammer 101 durch eine aus zwei
zylindrischen Abschnitten 144, 145 bestehende zylindrische Zwischenwand in eine die Abicnkeinrichtungen
enthaltende ringförmige Ablenkkammer 146 und eine den Gegenstand enthaltende Bcstrahlungskammer
147 unterteilt. Die Iiestrahlungskammer 147 ist
ίο über „-inen eigenen Pumpstutzen 148 evakuierbar, so
daß die beiden Kammern ein Druckstufensystem bilden. Zwischen den benachbarten Rändern der Zylinderabschnitle
144 und 145 ist ein Schlitz 149 für den Durchtritt des Elektronenstrahls 106 in die Bestrahlungskammer
147 freigelassen. Dieser Schlitz 149 liegt in derselben Ebene wie die zwischen den Polstükken
der Ablenkeinrichtungen gebildeten Spalten 123. 123a. Die einander gegenüberliegenden Ränder der
Zylinderabschnitte 144 und 145 sind mit nach innen
ao abgebogenen Flanschabschnitten 150, 151 versehen,
die den Strömungswiderstand zwischen der Bestrahlungskammer 147 und der Ablenkkammer 146 in gewünschter
Weise vergrößern. Diese Flanschabschnitte können auch zur Erzeugung einer zusätzlichen, quer
as zur Umfangsrichtung des Gegenstandes 104 gerichteten
Ablenkung dienen. Zu diesem Zweck kai... beispielsweise
(nicht dargestellt) auf dem einen Flansch-' abschnitt ein gegen den Flan:,chabschp»tt elektrisch
isolierter Belag aufgebracht sein, der mit einer Ab lcnkspannung gespeist wird. Eine andere Ausführungsmöglichkeit
einer solchen zusätzlichen Ahlenkeinrichtung ist in Fig. 5 dargestellt. An den aus nichtmagnetisierbarem
Material bestehenden Flanschabschnitten 150, 151 sind in Umfangsrichtung vcrlaufende
Elektromagnete 152 bzw. 153 angeordnet, die im Schlitz 149 ein zusätzliches steuerbares .Ablenkfeld
hervorrufen können Viit derartigen zusätzlichen Ablenkeinrichtungcn ist es beispielsweise ohne
weiteres möglich, den Strahl nach dem Eintritt in die Bestrahlungskammer 147 zusätzlich quer zur Strahlricht'ing
periodisch abzulenken, so daß der bestrahlte Umfangsbercich des Gegenstandes 104 verbreitert
wird. Statt der zusätzlichen Ablenkung quer zur Strahlrichtung kann eine Verbreiterung des besrrahlten
Bereichs auch durch Auffächern odtr Defokussieren
des Strahls erzielt werden. Dabei ist es zweckmäßig, die Auffächerung oder Defokussierung erst nach
dem Durchtritt durch die Ablenkeinrichtungen, also kurz vor dem Auftrcffcn des Strahls auf den Gegenstand
104, vorzunehmen. Eine solche zwischen den Ablenkfeldern und der zu bestrahlenden Obe fläche
angeordnete Defokussiereinrichtung kann ähnlich aufgebaut sein wie die in Fig. 5 dargestellte zusätzliche
Ablenkeinrichtung. Vielfach wird.es genügen, cinen entlang des Schlitzes 149 verlaufenden Defokussiermagneten
zu verwenden. In Fig. 6 ist eine Auslührunpsmöglichkeit dargestellt, bei der die
Flanschahschnitlc 150,151 mit je einem ringförmigen Fokussiermagneten 154bzw. 155 belegt sind. Die Dcfokussiermagneten
sind hier als Dauermagnete ausgeführt, die in Radialrichtung magnetisiert sind. Es besteht
natürlich auch die Möglichkeit, den Strahl an anderer Stelle, beispielsweise vor dem Eintritt in die
Ablenkeinhchtungcn, zu defokussieren oder ihm eine
6^ zusätzliche Ablenkbewegung /u erteilen. Diesem
Zw.ck kann beispielsweise die in Fig. 3 angedeutete
zusätzliche Ablenkeinrichtung 156 dienen, die in dem Verbindungsstück 107 angeordnet ist. Die zusätzli-
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so
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chen Ablenkeinrichtungen können auch synchron mit den übrigen Ablenkeinrichtungen betrieben werden;
dies ist in Fig. 3 durch die zusätzlichen Steuerleitur»-
gen 157 angedeutet.
In den Fig. 3 und 4 sind einige weitere Einrichtungen angedeutet. Zur gesteuerten Weiterbewegung des
Gegenstandes 104 durch die Arbeitskammer dient eine Vorschubeinrichtung. Diese besteht aus Schienen
158,159, die in Längsrichtung durch die Arbeitskammer verlaufen, einem auf den Schienen rollenden
Transportgestell 160 und einem Antriebselement 161, beispielsweise in Form einer Kette oder eines Seils,
das über Rollen 162, 163 von einem Antriebsmotor 164 in Bewegung gesetzt wird. Als Antriebsmotor 164
kann beispielsweise ein selbstsynchronisierender Motor verwendet werden, so daß die Vorschubbewegung
des Gegenstandes 104durch die Arbeitskammer ohne weiteres mit der Ablenk-Steuereinrichtung synchronisiert
werden kann.
Falls beim Härten von Lackschichten vor dem Aufbiingen
der Lackschicht eine vorbereitende Oberflächenbehandlung /weckmäßig ist, kann man diese
zweckmäßigerweise in der ohnehin benötigten evakuierbaren Arbeitskammer mit ucn Ladungsträgerstrahl
ausführen. In Fig. 4 sind sowohl Einrichtungen
zum Aufbringen einer Lackschic'ui als auch Einrichtungen
zur Ausführung von vorbereitenden Oberflächenbehandlungen angedeutet. Als Beispiel sei folgender
Arbeitsablauf erläuiert. Ein Gegenstand 104
soll mit einer Lackschicht versehen werden, und danach soll die Lackschicht gehärtet werden. De·· Gegenstand
104 wird in die Vorrichtung nach Fig. 4 von rechts her eingeführt, beispielsweise durch eine (nicht
dargestellte) Vakuumschleuse, und von der Vorschubeinrichtung nach links durch die Arbeitskammer
101 bewegt. Beim Weiterbewegen des Gegenstandes 104 nach links am Schlitz 149 vorbei kann mit Hilfe
des Elektronenstrahls 106 die noch unbeschichtete Oberfläche des Gegenstandes 104 in ganz ähnlicher
Weise bestrahlt werden wie später bei der Härtung der aufgebrachten Oberflächenschicht. Auch die Synchronisierung
der Steuerung des Strahls mit der Vorschubbewegung des Gegenstandes kann in der gleichen
Weise erfolgen wie bei der späteren Behandlung der aufgebrachten Oberf lä.nenschicht. Zur Reinigung
der Oberfläche kann auc; zusätzlich eine über den Umfang der Arbeitskammer verlaufende, vorzugsweise
an die Oberflächenform des Gegenstandes 10-angepaßte Glimmentladungselektrode 165 mit isolie
render Halterung 166 und Zule^ng 167 vorgesehen
sein.
Bei der weiteren Bewegung des Gegenstandes 10*
nach links gelangen die am Schlitz 149 vorbeigegan genen Oberflächenbereiche in den Wirkungsbereicl
einer Lack-Auftragsvorrichtung 168, die beispiels weise auch als elektrostatische Lackiereinrichtunj.
ίο ausgebildet sein kann. Nachdem der Gegenstand 104
in dem nach links verlaufenden ersten Durchgant vollständigan der Lack-Auftragsvorrichtung 168 vorbeibewegt
worden ist, wird die Bewegungsrichtung der Vorschubeinrichtungen umgekehrt, und der Gegenstand
wird in einem zweiten, hier nach rechts verlaufenden Durchgang erneut am Schlitz 149 vorbeibewegt,
und dabei wird durch erneute Bestrahlung mil dem Elektronenstrahl 106 die aufgebrachte Lackschicht
gehärtet. Es ist natürlich auch möglich, beide
Durchgänge in de.selben Richtung vorzunehmen; in
diesem Fall kann der Gegenstand auch nach links aus der Arbeitskammer herausbewegt werden. Die in
Fig. 4 schematiscii angedeutete Tür 169 kann dann
gegebenenfalls durch eine Vakuumschleuse ersetzt
K werden. In jedem Fall können sämtliche Arbeitsgänge von der Hauntsteuereinrichtung 125 so gesteuert werden,
daß sie mit der richtigen gegenseitigen Zuordnung und mit den jeweils erforderlichen Betriebsparametern
ablaufen. Der zum Reinigen dienende Strahl und der zum Behandeln der Oberflächenschicht dienende
Strahl werden dabei aus derselben Strahlquelle entnommen und unter Verwendung der gleichen Ablenkeinrichtungen
nacheinander über vorgegebene Bereiche der Oberfläche des Gegenstandes geführt.
Während des Reinigungsvorganges werden die Ablenkfelder und, falls gewünscht, auch die Strahlparameter
des Strahls in Abhängigkeit von der Form üur
zu reinigenden Oberfläche und entsprechend der in dem jeweils bestrahlten Bereich der Oberfläche gcwünschten
Reinigungswirkung eingestellt.
Es ist im Rahmen der Erfindung auch möglich,
mehrere Strahlcrzeugungssysteme um den Umfang der Arbeitskammer herum verteilt anzuordnen; wegen
der größeren Einfachheit und der geringeren Kosten wird man jedoch in den meisten Fällen die
Verwendung eines einzigen Strahlerzeugers vorziehen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1 808 713
Patentansprüche:
1. Verfahren zum Behandeln von Oberflächen, insbesondere zum Härten von Lackschichten, von
Gegenständen durch Bestrahlung mit Ladungsträgerstrahlen, insbesondere Elektronenstrahlen,
bei dem der Gegenstand in eine unter vermindertem Druck gehaltene Arbeitskammer eingebracht
und ein von einer Strahlquelle ausgehender Ladungsträgerstrahl abgelenkt und auf die zu behandelnde
Oberfläche geleitel wird, dadurch gekennzeichnet, daß der in an sich bekannter
Weise durch freie Öffnungen ausgeblendete Strahl mittels steuerbarer Ablenkfelder auf der Oberfläche
entlang geführt und in Abhängigkeit von der Form des Gegenstandes dosiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl impulsartig gesteuert
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Gegenstandes
in einer Koordinatenrichtung durch tine Bewegung des Gegenstandes relativ zur Strah!-
quclle und in einer anderen Koordinatenrichtung durch Ablenkung des Strahls vom Strahl überstrichen
wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl während seines Weiu_rwanderns über die Oberfläi lie
quer zur Wanderungsrichtung periodisch hin und her bewegt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl vor dem Auftreffen auf die Oberfläche aufgefächert wird.
(■>. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis
5, dadurch gekennzeichnet, daß in zeitlich nacheinander an demselben Gegenstand auszuführenden
verschiedenen Bestrahlungsvorgangen jeweils ein Strahl über die Oberfläche des Gegenstandes
geführt und entsprechend den bei dem jeweiligen Bestranlungsvi>rgang in den jewc's bestrahlten
Gberfladienbercichen erforderlichen Strahlungsdosen gesteuert wird.
7. Vertahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß ein zur Vorbereitung einer Beschichtung, insbesondere zur Reinigung der zu beschic'iienden
Oberfläche dienender Bcstrahlungsvorgang,
der Beschichtungsvorg;>ng und ein zum Harten der Beschichtung dienender Bestrahlungsvorgang
nacheinander ausgeführt werden.
S. Verfahren nach Anspruch ft oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß der in die Arbeitskammer
eingebrachte Gegenstand in einem ersten Durchgang an der Strahlquelle vorbeibewegt und durch
Bestrahlung mit einem Strahl gereinigt und danai h mit einer aufgebrachten zu behandelnden Oberflächenschicht
in einem zweiten Durchgang an der Strahlquelle vorbeibewegt unu zwecks Behandlung
der Oberflächenschicht in:' einem Strahl bestrahlt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß der zum Reinigen dienende
Strahl und der zum Behandeln der Oberflächenschicht dienende Strahl aus derselben Strahlquelle
entnommen und von den gleichen unabhängig steuerbaren Ablenkfeldern nacheinander auf der
Oberfläche entlanggeführt und in Abhängigkeit
von der Form der Oberfläche dosier« wird.
10. Vorrichtung zum Behandeln von Oberflächen nach einem der Ansprüche 1 bis 9 mit ciner
evakuierbaren Arbeitskammer, einem steuerbaren Strahlerzeugungssystem, das durch freie Öffnungen
mit der Arbeitskammer verbunden ist, und einer im Eintrittsbereich der Arbeitskammer vorgesehenen
steuerbaren Ablenkeinrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere steuerbare Ablenkeinrichtungen (13. 14, 15, 16; 113, 114,
il5, 116...) um wenigstens einen Teil des Umfangs der zu behandelnden Oberfläche angeordnet
sind.
Π. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß zur Steuerung des Strahlerzeugungssystems
und der Ablenkeinrichtungen eine Hauptsleutreiiirichtung (25. 125) vorgesehen
ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Arbeitskammer (101) durch eine Zwischenwand (144, 145). die
einen schmalen Schlitz (49) für den Durchtritt des
Strahls (106) aufweist, in eine die Ablenkeinrichtungen (113, 114, 115, 116...) enthaltende Ablenkkammer
(146) und eine den Gegenstand mit der zu behandelnden Oberfläche aufnehmende
Besirahiungskammer (147) unterteilt ist, die beide
fur sich evakuierbar sind und ein Druckstufensystem bilden.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10
bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß in der Arbeitskammer (101) eine Einrichtung (168) zum
Aufbringen einer zu behandelnden Oberflächenschicht auf den Gegenstand (104) vorgesehen ist.
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