DE1772288B2 - ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL - Google Patents
ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIALInfo
- Publication number
- DE1772288B2 DE1772288B2 DE19681772288 DE1772288A DE1772288B2 DE 1772288 B2 DE1772288 B2 DE 1772288B2 DE 19681772288 DE19681772288 DE 19681772288 DE 1772288 A DE1772288 A DE 1772288A DE 1772288 B2 DE1772288 B2 DE 1772288B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- arsenic
- selenium
- layer
- recording material
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08207—Selenium-based
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
3535
Die Erfindung betrifft elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial, das eine photoleitfähige Schicht aus glasartigem Selen und bis zu 1 Gew.-% Arsen enthält.The invention relates to electrophotographic recording material, which contains a photoconductive layer of vitreous selenium and up to 1% by weight arsenic.
Glasartiges Se'en bleibt das am häufigsten verwendete photoleitende Material in der in großem Maßstabe durchgeführten Xerographie (vgl. US-PS 29 70 906 und GB-PS 8 12 917), da es in der Lage ist, eine elektrostatische Ladung während relativ langer Zeitspannen fest- und beizubehalten, sofern es nicht der Einwirkung von Licht ausgesetzt wird. Außerdem ist glasartiges Selen im Vergleich zu anderen photoleitenden Materialien gegenüber Licht relativ empfindlich. Zusätzlich besitzt glasartiges Selen eine derart ausreichende Festigkeit und Stabilität, daß es einige 100 oder sogar einige 1000 Mal verwendet werden kann. Glasartiges Selen ist jedoch gegenüber einem schädlichen Kristallwachstum, insbesondere an seiner Oberfläehe, anfällig, wenn die Platte während des Betriebs erhitzt wird. Dieses Kristallwachstum in dem Selen zerstört seine photoleitenden Isoliereigenschaften und stellt eine Grenze für die wirksame Lebensdauer einer Selenplatte dar. Wenn auch die Farbempfindlichkeit von (10 glasartigem Selen zufriedenstellend ist, so ist sie dennoch ausschließlich auf das Blau- oder Blaugrünband des sichtbaren Spektrums beschränkt.Vitreous se'en remains the most commonly used photoconductive material in the large-scale performed xerography (see. US-PS 29 70 906 and GB-PS 8 12 917) as it is able to hold an electrostatic charge for relatively long periods of time fixed and retained, provided it is not exposed to light. Also is Vitreous selenium is relatively sensitive to light compared to other photoconductive materials. In addition, vitreous selenium has such sufficient strength and stability that it is several 100 or can even be used some 1000 times. However, vitreous selenium is harmful to one Crystal growth, especially on its surface, is susceptible if the plate is in use is heated. This crystal growth in the selenium destroys its photoconductive insulating properties and represents a limit for the effective lifespan of a selenium plate. Even if the color sensitivity of (10 vitreous selenium is satisfactory, it is still exclusively on the blue or blue-green band the visible spectrum is limited.
Obwohl glasartiges Selen eine in der Xerographie eingesetzte Standardsubstanz ist, so können doch viele <>s seiner Eigenschaften durch die Zugabe von Legierungselementen verbessert werden, welche bestimmte Eigenschaften, wie beispielsweise die Farbempfindlichkeit, die Lichtempfindlichkeit, die thermische Stabilität od. dgl, erhöhen. In der britischen Patentschrift 8 76 569 sowie in der US-Patentschrift 28 22 300 werden die Vorteile der Modifizierung von glasartigem Selen durch die Zugabe merklicher Mengen an Arsen zur Erzielung eines breiteren Farbempfindlichkeitsbereichs, zur Erhöhung der fotografischen Gesamtempfindlichkeit sowie zur Verbesserung der thermischen Stabilität der fotoleitenden Schicht beschrieben. Wenn auch in den vorstehend angegebenen Literaturstellen angegeben ist, daß das Arsen in Mengen bis zu ungefähr 50 Gew.-% eingesetzt wird, so ist es dennoch bekannt, daß Arsenkonzentrationen von mehr als ungefähr 5 Gew.-% zwar eine erhöhte Farbempfindlichkeit zur Folge haben, jedoch der Platte die Eigenschaft verleihen, daß sie ein hohes Restpotential mit positiver Ladung zurückbehält, wobei zusätzlich hohe, durch Licht bedingte Ermüdungserscheinungen auftreten. Diese zuletzt genannten Erscheinungen haben das Entstehen von Geisterbildern zur Folge, die nach einem ausgedehnten, sich wiederholenden Aufnehmen von Bildern auftreten und ein sehr schwaches Restnegativbild in den Hintergrundflächen zur Folge haben.Although vitreous selenium is a standard substance used in xerography, many can <> s its properties due to the addition of alloying elements which certain properties, such as color sensitivity, the Photosensitivity, thermal stability or the like increase. In British Patent 8 76 569 as well in US Pat. No. 2,822,300, the advantages of modifying vitreous selenium by the Addition of appreciable amounts of arsenic to achieve a wider color sensitivity range, to increase the overall photographic sensitivity and to improve the thermal stability of the photoconductive layer described. If it is also indicated in the literature references given above, that the arsenic is used in amounts of up to about 50% by weight, it is nevertheless known that Arsenic concentrations of more than approximately 5% by weight result in increased color sensitivity, but give the plate the property that it retains a high residual potential with a positive charge, in addition, there are high signs of fatigue caused by light. These last mentioned Appearances result in the formation of ghosting, which occurs after an extended, repetitive one Taking pictures occur and a very weak residual negative image in the background areas have as a consequence.
Die aus der DT-AS 10 77 976 bekannte Xerographieplatte, die eine photoleitfähige Schicht aus einem gleichförmigen Gemisch von 0,5 bis 20 Gew.-% Arsen und glasigem Selen enthält, weist ebenfalls die geschilderten Nachteile auf.The known from DT-AS 10 77 976 xerography plate, which has a photoconductive layer from a uniform mixture of 0.5 to 20 wt .-% arsenic and vitreous selenium, also has the outlined disadvantages.
Zur Erzielung einer optimalen Kombination aus photoleitendea Eigenschaften in einem gegebenen Fotoempfänger wurden aus vielen Schichten bestehende Fotoempfänger entwickelt, um einige der vorstehend angegebenen Nachteile zu überwinden. Diese Strukturen können beispielsweise eine Schicht aus Selen enthalten, das mit einer Schicht aus einer Selen-Tellur-Legierung überzogen ist. In der britischen Patentschrift 7 55 683 wird eine derartige Struktur boschrieben, durch welche eine verbesserte Empfindlichkeit dadurch erzielt wird, daß eine Hauptschicht oder relativ dicke Schicht aus einem glasartigen Selen verwendet wird, das mit einer dünnen Schicht überzogen ist, die aus einer Legierung aus Selen und Tellur besteht. Wenn auch diese Struktur eine panchromatische Empfindlichkeit aufweist, so wird sie dennoch schnell infolge einer Oberflächenkristallisation zerstört, die während des Betriebs des Xerographen auftritt. Zusätzlich weist diese Struktur eine hohe Lichtermüdung auf. Es wurden schützende organische und anorganische Überzüge entwickelt, um zu verhindern, daß in der Oberschicht eine Kristallisation auftritt. Jedoch besteht ein Hauptproblem dieser Überzüge darin, daß sie nicht dazu in der Lage sind, innerhalb eines breiten Bereichs von Umgebungsbedingungen in zufriedenstellender Weise zu arbeiten.To achieve an optimal combination of photoconductive properties in a given Photoreceptors were developed from multi-layer photoreceptors to replace some of the above to overcome specified disadvantages. These structures can, for example, be a layer of selenium included, which is coated with a layer of a selenium-tellurium alloy. In British patent specification A structure of this type is written in 7 55 683, by means of which an improved sensitivity is thereby achieved is that a main layer or relatively thick layer of a vitreous selenium is used, which is with is coated with a thin layer made of an alloy of selenium and tellurium. If also If this structure has panchromatic sensitivity, it nevertheless quickly becomes due to a Destroys surface crystallization that occurs during operation of the xerograph. Additionally points this structure shows a high level of light fatigue. There were protective organic and inorganic coatings designed to prevent crystallization from occurring in the top layer. However, there is a major problem of these coatings in that they are incapable of doing so, within a wide range of Environmental conditions to work in a satisfactory manner.
Aus den vorstehenden Ausführungen ist zu ersehen, daß bei dem Entwerfen eines Fotoempfängers für ein bestimmtes Anwendungsgebiet die physikalische Stabilität, wie beispielsweise eine Beständigkeit gegenüber der Einwirkung von Wärme unter den Betriebsbedingungen, in Kombination mit optimalen elektrischen Eigenschaften wesentliche Faktoren bei der Auswahl eines bestimmten Photoempfängers darstellen.From the foregoing it can be seen that in designing a photoreceptor for a certain area of application the physical stability, such as resistance to the action of heat under the operating conditions, in combination with optimal electrical Properties are essential factors in the selection of a particular photoreceiver.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein verbessertes elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial zu schaffen, das bei guter Farbempfindlichkeit möglichst geringes Kristallwachstum in der photoleitfähigen Schicht aufweist. Diese Aufgabe wird durch die Erfindung gelöst.The object of the invention is to provide an improved electrophotographic recording material create the lowest possible crystal growth in the photoconductive with good color sensitivity Has layer. This object is achieved by the invention.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer - gegebenenfalls mit einem Halogen dotierten - photoleitfähigen Schicht aus glasartigem Selen und bis zu 1 Gew.-% Arsen, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die photoleitfähige Schicht in Richtung vom Schichtträger zur freien Oberfläche eine zunehmende Arsenkonzentration aufweist, wobei die Arsenkonzentration an der freien Oberfläche mehr als 1,0 Gew.-% beträgtThe subject of the invention is thus an electrophotographic Recording material with a layer support and one - optionally with a halogen doped - photoconductive layer made of vitreous selenium and up to 1 wt .-% arsenic, which thereby is characterized in that the photoconductive layer in the direction from the support to the free surface a has increasing arsenic concentration, the arsenic concentration on the free surface more than Is 1.0 wt%
Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial zeichnet sich gegenüber bekannten Materialien durch verbesserte thermische Stabilität sowie gute photoleitende Eigenschaften aus.The recording material according to the invention is distinguished from known materials improved thermal stability and good photoconductive properties.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung enthält die photoleitfähige Schicht zwischen 0,1 und 1,0 Gew.-%, vorzugsweise zwischen 0,35 und 0,65 Gew.-% Arsen, wobei die Arsenkonzentration in Richtung vom Schichtträger zur freien Oberfläche von 0 auf 13 Gew.-%, insbesondere von 0 auf 5 Gew.-% ansteigt.According to a preferred embodiment of the invention, the photoconductive layer contains between 0.1 and 1.0% by weight, preferably between 0.35 and 0.65% by weight arsenic, the arsenic concentration in Direction from the substrate to the free surface from 0 to 13% by weight, in particular from 0 to 5% by weight increases.
Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform enthält die photoleiifähige Schicht zwischen 0,35 und 0,65 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 Gew.-% Arsen, wobei die Arsenkonzentration in Richtung vom Schichtträger zur freien Oberfläche von 0,1 auf 1,5 Gew.-% ansteigt. Hierdurch werden eine ausgezeichnete thermische Stabilität sowie hervorragende photoleitende Eigenschaften erzieltAccording to a particularly preferred embodiment, the photoconductive layer contains between 0.35 and 0.65% by weight, preferably 0.5% by weight, arsenic, with the arsenic concentration in the direction of the Layer support to the free surface increases from 0.1 to 1.5 wt .-%. This will be an excellent thermal stability and excellent photoconductive properties achieved
Die Dicke der photoleitenden Schicht hängt von dem Verwendungszweck ab, welchem die Legierung zugeführt werden soll. Die Legierung kann auf einem Substraimaterial abgelagert werden, welches beispielsweise aus einem Metall, einem überzogenen Glas oder Kunststoff, einem Papier od. dgl. bestehen kann. Zusätzlich kann die erfindungsgemäße Legierung in Vielschichtstrukturen, auf die nachstehend noch näher eingegangen wird, verwendet werden oder allein als getrennte photoleitende Schicht auf irgendeiner geeigneten Unterlage eingesetzt werden.The thickness of the photoconductive layer depends on the application to which the alloy is put shall be. The alloy can be deposited on a substrate material, which for example can consist of a metal, a coated glass or plastic, a paper or the like. In addition, the alloy according to the invention can be used in multilayer structures, which will be discussed in more detail below or used alone as a separate photoconductive layer on any suitable Underlay can be used.
Vorzugsweise beträgt die Dicke der photoleitfähigen Schicht 20 bis 80 μπι.The thickness of the photoconductive layer is preferably 20 to 80 μm.
Die Vorteile dieses verbesserten elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials gehen aus der nachfolgenden Beschreibung sowie den Zeichnungen näher hervor.The advantages of this improved electrophotographic recording material are evident from the following Description and drawings.
F i g. 1 stellt eine schematische Darstellung einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials dar;F i g. Fig. 1 is a schematic representation of an embodiment of the electrophotographic of the present invention Recording material;
F i g. 2 zeigt typische Erhitzungszyklen für die Vakuumaufdampfung der erfindungsgemäßen Legierungen im Vergleich zu glasartigem Selen;F i g. 2 shows typical heating cycles for vacuum evaporation of the alloys according to the invention compared to vitreous selenium;
F i g. 3 zeigt die Arsenkonzentrationsgradienten für Abschnitte, die aus drei Walzen ausgeschnitten wurden, welche verschiedene Arsenkonzentrationen aufweisen.F i g. 3 shows the arsenic concentration gradients for sections cut from three rolls, which have different arsenic concentrations.
In der Fig.! kennzeichnet die Bezugszahl 10 eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials. Diese Platte besitzt einen leitenden Schichtträger 11, beispielsweise aus Messing, Aluminium, Stahl od. dgl. Der Träger kann jede beliebige Dicke besitzen, wobei er steif oder biegsam sein kann und jede gewünschte Form aufweisen kann, wie beispielsweise die Form einer Folie, eines Gewebes, einer Platte, eines Zylinders, einer Walze od. dgl. Der Träger kann auch aus anderen Materialien bestehen, beispielsweise aus einem metallisierten Papier, aus Kunststoffolien, die mit einer dünnen Schicht eines Metalls, wie beispielsweise Aluminium, oder Kupferjodid überzogen sind, oder aus Glas, das mit einer dünnen Schicht aus Chrom- oder Zinnoxyd überzogen ist. Gegebenenfalls kann die Arsen-Selen-Schicht auch auf einem nichtleitenden Substrat aufgebracht sein und nach bekannten Methoden elektrostatisch aufgeladen werden, wie sie in der Xerographie für fotoleitende Materialien üblich sind, die isolierende Unterlagen besitzen. Zusätzlich kann gegebenenfalls ein Träger 11 vorgesehen sein.In the figure! Reference numeral 10 denotes an embodiment of the electrophotographic according to the invention Recording material. This plate has a conductive layer support 11, for example Made of brass, aluminum, steel or the like. The carrier can have any thickness, whereby it is stiff or can be flexible and can have any desired shape, such as the shape of a film, a fabric, a plate, a cylinder, a roller or the like. The carrier can also consist of others Materials consist, for example, of a metallized paper, of plastic films, which are covered with a thin Layer of a metal, such as aluminum, or copper iodide coated, or made of glass that is coated with is coated with a thin layer of chromium or tin oxide. If necessary, the arsenic-selenium layer also be applied to a non-conductive substrate and electrostatically by known methods be charged, as they are common in xerography for photoconductive materials, the insulating Own documents. In addition, a carrier 11 can optionally be provided.
ίο Die Schicht 12 besteht aus einer fotoleitenden Schicht aus Selen (mit einem für xerographische Zwecke erforderlichen Reinheitsgrad), wie es beispielsweise in der US-Patentschrift 29 70 906 beschrieben wird. Dieses Selen ist mit hochreinem elementaren Arsen in einer Gesamtkonzentration von ungefähr 0,1-1,0% legiert und weist einen Zusammensetzungsgradienten an Arsen auf, der von ungefähr 13 Gew.-% an der exponierten oberen Oberfläche der Schicht 12 bis herab zu 0% Arsen an der Substratgrenzfläche der xerographischen Platte schwankt. Die Dicke der Schicht 12 kann nur 0,1 μ oder bis zu 300 μ oder darüber betragen. Für die meisten technischen Anwendungsgebiete liegt diese Dicke, sofern eine einzelne photoleitende Schicht verwendet wird, im allgemeinen zwischen ungefähr 20 und 80 μ.ίο The layer 12 consists of a photoconductive layer from selenium (with a degree of purity required for xerographic purposes), as it is for example in US Pat. No. 2,970,906. This selenium is in one with highly pure elemental arsenic Total concentration of about 0.1-1.0% is alloyed and has a composition gradient of arsenic which ranges from about 13% by weight on the exposed upper surface of layer 12 down to 0% Arsenic fluctuates at the substrate interface of the xerographic plate. The thickness of the layer 12 can only be 0.1 μ or up to 300 μ or more. For most technical areas of application, this thickness is if a single photoconductive layer is used, generally between about 20 and 80 microns.
Gegebenenfalls kann die Arsen-Selen-Schicht mit kleinen Mengen (ungefähr 10—10 000 ppm) eines Halogens, wie beispielsweise Jod oder Chlor, zur Verbesserung der elektrischen Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht dotiert sein. Eine derartige Ausführungsform wird in der DT-OS 15 22711 beschrieben. Optionally, the arsenic-selenium layer may contain small amounts (about 10-10,000 ppm) of one Halogen, such as iodine or chlorine, to improve the electrical properties of the light-sensitive layer be doped. Such an embodiment is described in DT-OS 15 22711.
Die Kristallisation des Selens sowie der Selen-Arsen-Legierungen ist von großer Bedeutung hinsichtlich der Lagerung sowie der Lebensdauer der Trommeln in den Maschinen. Es hat sich herausgestellt, daß sowohl eine Kristallisation der oberen Oberflächen als auch der Substratoberflächen in Form von Kugelkörperchen erfolgt, die durch Kristallkeimbildung und Wachsen der Kristalle erzeugt werden, wenn das Selen oder die Selen-Arsen-Legierung übermäßig erhitzt wird. Es hat sich ferner herausgestellt, daß die Einwirkung von Licht in Kombination mit Wärme die Kristallisationsgeschwindigkeit des Selens beschleunigt. Die Kristallkeimbildung sowie das anschließende Kristallwachstum stellen sowohl an der Grenzfläche als auch an der exponierten oberen Oberfläche des Selens und der Selenlegierungen ein ernstes Problem dar, wobei jedoch das schwerwiegendere Problem die Kristallkeimbildung und das anschließende Kristallwachstum an der oberen Oberfläche ist. Dies ist deshalb der Fall, da Kristallisationsflächen an der oberen Oberfläche die Bildung einer Platte zur Folge haben, welche Flächen aufweist, die keine elektrostatische Ladung infolge der permanenten Leitfähigkeit von kristallisiertem Selen beibehält.The crystallization of selenium and the selenium-arsenic alloys is of great importance with regard to the Storage as well as the service life of the drums in the machines. It has been found that both one Crystallization of the upper surfaces as well as the substrate surfaces in the form of spherical bodies which are generated by nucleation and growth of crystals if the selenium or the Selenium-arsenic alloy is excessively heated. It has also been found that the action of light in combination with heat accelerates the crystallization rate of selenium. The nucleation as well as the subsequent crystal growth are both at the interface and at the exposed upper surface of the selenium and selenium alloys pose a serious problem, however the more serious problem is the nucleation and subsequent crystal growth on the top Surface is. This is because crystallization surfaces on the upper surface cause the formation of a Plate, which has surfaces that have no electrostatic charge as a result of permanent Maintains conductivity of crystallized selenium.
ss Obwohl diese Wirkung auch an der Substratgrenzfläche auftreten kann, ist es in diesem Fall insofern nicht derart schwerwiegend, als eine teilweise Kristallisation einer Substratgrenzfläche lediglich die Folge hat, daß dieser Teil der Platte nicht als Teil der Gesamtdicke der Plattess Although this effect also occurs at the substrate interface can occur, it is not so severe in this case as partial crystallization of a The only consequence of the substrate interface is that this part of the plate is not part of the total thickness of the plate
do geeignet ist. Eine Kristallisation an der Substratgrenzfläche macht jedoch die Platte nicht vollständig für xerographische Verwendungszwecke wertlos.do is suitable. A crystallization at the substrate interface however, it does not render the plate completely worthless for xerographic uses.
Es hat sich herausgestellt, daß bei irgendeiner geeigneten Temperatur die Anzahl der beobachtetenIt has been found that at any suitable temperature the number of observed
<\s Kerne mit steigendem Arsengehalt abfällt. Die Zugabe von Arsen ermöglicht ferner eine größere Stabilität gegenüber den Umgebungseinflüssen als sie Selen gegenüber dem Wachsen von Kristallkeimen bei der<\ s cores decrease with increasing arsenic content. The addition arsenic also enables greater stability to environmental influences than selenium compared to the growth of crystal nuclei in the
1 / I Cd C* 1 / I Cd C *
Einwirkung von Licht, Wasser, Fingerabdrücken, restlichen Chemikalien aus dem Kopierpapier od. dgl. besitzt. Eine derartige Steuerung der neuen erfindungsgemäßen Legierungen, daß sie eine erhöhte Arsenmenge an der Oberfläche und eine kleinere Arsenmenge an der Substratgrenzfläche aufweist, macht sich die Tatsache zunutze, daß eine größere thermische Stabilität gegenüber einer Kristallisation an der Oberfläche der xerographischen Platte erforderlich ist. Die neue erfindungsgemäße Legierung wird daher dadurch hergestellt, daß die Aufdampfungsbedingungen derart gesteuert werden, daß während der anfänglichen Verdampfungsstufen im wesentlichen 100%iges Selen auf dem Trägersubstrat kondensiert wird, wobei mit fortschreitender Verdampfung der Legierung steigende Mengen an Arsen verdampft werden, so daß eine fertige Platte erhalten wird, die einen steilen Konzentrationsgradienten aufweist, der sich von der Substratgrenzfläche zu der exponierten oberen Oberfläche der Schicht erstreckt. Dieses Konzept hat in vorteilhafter Weise die Verwendung einer sehr kleinen Gesamtmenge an Arsen zur Folge, wobei dennoch das Arsen in seiner größten Konzentration verwendet wird, indem eine höhere Konzentration an der Stelle vorgesehen wird, an welcher das Arsen sowohl hinsichtlich der thermischen Stabilität als auch eines breiten Farbempfindlichkeitsbereiches wirksam ist. In praktisch allen Fällen sollte zur Erzielung einer stark erhöhten thermischen Stabilität das Arsen an der Oberfläche wenigstens in einer Menge von ungefähr 1,0% vorliegen, während die Menge an der Substratgrenzfläche tatsächlich 0 sein kann, gewöhnlich jedoch in einer Menge von ungefähr 0,1% vorliegt. Die allgemein anwendbare Methode zur Herstellung der neuen erfindungsgemäßen Zusammensetzungen besteht in einer Vakuumaufdampfung unter Einhaltung von Vakua, die von ungefähr 10" bis 10 ; Torr schwanken. Die Aufdampfungsgeschwindigkeit für eine jeweils eingehaltene Erhitzungszeit ist insofern kritisch, als die Verdampfungsbedingungen derart gesteuert werden müssen, daß die Hauptmenge des aus der Quelle oder aus dem Schiffchen aufgedampften Arsens während des Endes des Aufdampfungszyklus aufgedampft wird, so daß eine größere Arsenkonzentration an der Oberfläche erzielt wird. Daraus folgt, daß während der anfänglichen Aufdampfungsstufen im wesentlichen reines Selen auf das Substrat aufgedampft wird, während wachsende Mengen an Arsen während der späteren Stufen des Aufdampfungszyklus aufgedampft werden.Exposure to light, water, fingerprints, residual chemicals from the copy paper or the like. Has. Controlling the novel alloys of the present invention to have an increased amount of arsenic on the surface and a smaller amount of arsenic at the substrate interface takes advantage of the fact that greater thermal stability is required against crystallization on the surface of the xerographic plate. The new alloy according to the invention is therefore produced by controlling the evaporation conditions in such a way that essentially 100% selenium is condensed on the carrier substrate during the initial evaporation stages, with increasing amounts of arsenic being evaporated as the alloy evaporation progresses, so that a finished Plate is obtained having a steep concentration gradient extending from the substrate interface to the exposed top surface of the layer. This concept advantageously results in the use of a very small total amount of arsenic while still using the arsenic in its greatest concentration by providing a higher concentration at the point where the arsenic, both in terms of thermal stability and one, is used is effective over a wide range of color sensitivity. In virtually all cases, to achieve greatly increased thermal stability, the arsenic should be present at the surface in an amount of at least about 1.0%, while the amount at the substrate interface can actually be zero, but usually in an amount of about 0.1 % is present. The generally applicable method for the preparation of the novel compositions according to the invention consists in vacuum deposition while maintaining vacuums which vary from approximately 10 "to 10; Torr. The rate of deposition for a given heating time is critical in that the evaporation conditions must be controlled such that Most of the arsenic evaporated from the source or boat is evaporated during the end of the evaporation cycle so that a greater concentration of arsenic is obtained on the surface increasing amounts of arsenic are deposited during the later stages of the deposition cycle.
Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen fotoleitenden Legierungen wird das Substrat, auf welches das fotoleitende Material aufgedampft wird, auf einer Temperatur zwischen ungefähr 50 und 80° C gehalten. Gegebenenfalls kann eine mit Wasser beheizte Platte oder eine andere geeignete Einrichtung zur Aufrechterhaltung einer konstanten Substrattemperatur verwendet werden. Im allgemeinen wird eine 60^-Selen-Arsen-Legierungsschicht, die ungefähr 0,5 Gew.-% Arsen enthält, erhalten, wenn das Aufdampfen ungefähr 30 Minuten lang bei einem Vakuum von ungefähr 5 χ 10~5 Torr bei einer Temperatur von ungefähr 3000C durchgeführt wird.In the manufacture of the photoconductive alloys according to the invention, the substrate on which the photoconductive material is vapor-deposited is kept at a temperature between approximately 50 and 80.degree. If necessary, a plate heated with water or some other suitable device can be used to maintain a constant substrate temperature. In general, a 60 ^ -Selenium-arsenic alloy layer about 0.5 wt .-% arsenic contains, obtained when the vapor deposition for about 30 minutes χ 10 -5 Torr at a temperature of about at a vacuum of about 5 300 0 C is carried out.
In der GB-PS 8 76 569, der US-PS 28 22 300 sowie in der DT-OS 15 22711 werden typische Vakuumaufdampfungsmethoden beschrieben. Es ist jedoch darauf hinzuweisen, daß die erfindungsgemäß angewendete Methode, obwohl sie den in den vorstehend genannten Literaturstellen beschriebenen Methoden ähnlich ist insofern eine Besonderheit aufweist, als die Erhitzungsgeschwindigkeit sorgfältig gesteuert werden muß, damit der gewünschte Zusammensetzungsgradient, der eine deutlich verbesserte fotoleitende Schicht mit den obenIn GB-PS 8 76 569, US-PS 28 22 300 and DT-OS 15 22711 typical vacuum vapor deposition methods described. It should be noted, however, that the invention used Method, although it is similar to the methods described in the references cited above has a peculiarity in that the heating rate must be carefully controlled in order to do so the desired compositional gradient that would provide a significantly improved photoconductive layer with the above
s angegebenen gewünschten Vorteilen ermöglicht, in dem Endprodukt erhalten wird.s specified desired benefits allows in the Final product is obtained.
In der Fig. 2 werden typische Erhitzungszyklen zur Bildung einer βΟ-μ-Schicht aus Legierungen, die ungefähr 0,1, 0,5 und 1,0 Gew.-% Arsen in SelenTypical heating cycles are shown in FIG Formation of a βΟ-μ layer from alloys containing approximately 0.1, 0.5 and 1.0% by weight of arsenic in selenium
ίο <- ithalten, im Vergleich zur Herstellung eines üblichen glasartigen Selens gezeigt. Die Kurven gelten für ein Vakuum von ungefähr 10 ■> Torr. Wie aus der Kurve I hervorgeht, besteht eine typische Aufdarnpfung zur Bildung eines glasartigen Selens darin, daß eine Quelle,ίο <- hold it, compared to making a usual one vitreous selenium shown. The curves apply to a vacuum of approximately 10 ■> Torr. As can be seen from curve I, there is a typical evaporation for Formation of a vitreous selenium in the fact that a source
is die Selenschrot oder -pellets enthält, schnell auf ungefähr 1500C in weniger als ungefähr 3 Minuten erhitzt wird. Während dieser Phase des Erhitzungszyklus wird die Selenprobe hauptsächlich geschmolzen und entgast, wobei nur eine sehr geringfügige Kondensation des Selens an dem Substrat stattfindet. Während der nächsten 20 bis 30 Minuten steigt die Geschwindigkeit der Temperaturerhöhung mit einer viel niedrigeren Geschwindigkeit an (vgl. F i g. 2), wobei die Verdampfung nach ungefähr 30 bis 35 Minuten imis the selenium containing shot or pellets, is rapidly heated to about 150 0 C in less than about 3 minutes. During this phase of the heating cycle, the selenium sample is mainly melted and degassed with very little condensation of the selenium on the substrate. Over the next 20 to 30 minutes, the rate of temperature increase increases at a much slower rate (see FIG. 2), with evaporation after approximately 30 to 35 minutes
2s wesentlichen beendet ist. Wie aus der Kurve I für Selen zu ersehen ist, zeigt ein typischer Aufdampfungserhitzungszyklus eine maximale Aufdampfungstemperatur von ungefähr 250-2900C. Die Kurven II, III und IV zeigen jeweils wachsende Mengen an Arsen, welches2s has essentially ended. As can be seen from the curve I of selenium, a typical Aufdampfungserhitzungszyklus shows a maximum deposition temperature of about 250-290 0 C. The curves II, III and IV show, respectively, increasing amounts of arsenic, which
yo dem Selen zugesetzt worden ist. Die Menge ι an Arsen schwanken insgesamt von 0,1, 0,5 bis 1,0%. Diese Mengen stellen die Gesamtmengen an Arsen dar, das ir. der Legierung aufgedampft ist. Man sieht, daß für wachsende Arsenmengen die Aufdampfungstemperatur ansteigt, und zwar von ungefähr 300° C für 0,1% Arsen bis zu ungefähr 35O°C für 1,0% Arsen. Die Erhitzungszyklen, weiche durch die Kurven II, 111 und IV wiedergegeben werden, ergeben wachsende Arsenmengen, die an das Substrat am Ende des Aufdampfungszyklus abgegeben oder an dem Substrat kondensiert werden. Dies bedeutet mit anderen Worten, daß in der Zeitspanne zwischen ungefähr 0 und 5 Minuten im wesentlichen reines Selen auf dem Substrat kondensiert wird, wobei wachsende Arsenmengen mit zunehmender Zeit aus dem Schiffchen austreten. In einer Zeitspanne von 15 bis ungefähr 30 Minuten steigt die Arsenmenge die auf einem Substrat kondensiert oder aus dem Schiffchen verdampft wird, schnell proportional zu der Arsenmenge in dem Schiffchen an, wobei die am Ende yo to which selenium has been added. The amount of arsenic vary from 0.1, 0.5 to 1.0%. These amounts represent the total amounts of arsenic vapor deposited on the alloy. It can be seen that for increasing amounts of arsenic, the vapor deposition temperature increases, from about 300 ° C for 0.1% arsenic to about 350 ° C for 1.0% arsenic. The heating cycles represented by curves II, III and IV result in increasing amounts of arsenic which are released to the substrate at the end of the vapor deposition cycle or which are condensed on the substrate. In other words, this means that essentially pure selenium is condensed on the substrate in the period between approximately 0 and 5 minutes, with increasing amounts of arsenic emerging from the boat with increasing time. Over a period of 15 to about 30 minutes, the amount of arsenic condensed on a substrate or evaporated from the boat increases rapidly in proportion to the amount of arsenic in the boat, which in the end
so der Oberfläche vorliegenden Arsenmengen für die dre gezeigten typischen Kurven zwischen 1,0% Arsen aul der Oberfläche der 0,1% Arsenlegierung, 4,0% Arser auf der Oberfläche der 0,5% Arsenlegierung unc ungefähr 8,0% Arsen auf der Oberfläche der Legierungso the surface amounts of arsenic present for the dre Typical curves shown between 1.0% arsenic on the surface of 0.1% arsenic alloy, 4.0% arsenic on the surface of the 0.5% arsenic alloy and approximately 8.0% arsenic on the surface of the alloy
ss die 1,0% Arsen enthält, schwanken. Die Arsenmenge ar der Oberfläche und an der Grenzfläche kann dadurcr gesteuert werden, daß die Arsenmenge in der Legierung variert wird oder indem die Temperatur der Legie rungsquelle während des Aufdampfungszyklus veränss containing 1.0% arsenic vary. The amount of arsenic ar the surface and at the interface can be controlled by the fact that the amount of arsenic in the alloy is varied or by changing the temperature of the alloy source during the vapor deposition cycle
dertwird.becomes.
Bei Einhaltung der durch die F i g. 2 wiedergegebenei typischen Aufdampfungsgeschwindigkeiten wird eil Arsengradient von der Grenzfläche der photoleitendei Legierung bis zu der exponierten äußeren Oberflächi für drei typische Legierungen, die 03, 04 bzw. 0,8°Λ Arsen insgesamt enthalten, erhalten (vgl. Fig.3). Wii aus den Kurven hervorgehl, zeigt jede der dre Legierungen einen stark ausgeprägten KonzentrationsIn compliance with the F i g. 2 reproduced i Typical evaporation rates will be an arsenic gradient from the photoconductive interface Alloy up to the exposed outer surface for three typical alloys, the 03, 04 and 0.8 ° Λ, respectively Total arsenic contained, preserved (see Fig. 3). Wii As can be seen from the curves, each of the three alloys shows a very pronounced concentration
57105710
gradienten, ausgehend von der Legierungsgrenzfläche, an welcher etwa 0% Arsen beobachtet wird, und ansteigend zu der Oberfläche, an welcher der Arsen-Prozentsatz von ungefähr 1,2 bis zu 3,75% Arsen schwanken kann. Die durch die Fig. 3 gezeigten Ergebnisse wurden mittels einer Elektronen-Probemikroanalysenvorrichtung gemessen.gradients starting from the alloy interface where about 0% arsenic is observed, and increasing to the surface at which the arsenic percentage is from about 1.2 up to 3.75% arsenic can fluctuate. The results shown by Fig. 3 were measured by means of an electron sample microanalyser.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung in spezifischer Weise an Hand einer Methode zur Herstellung einer thermisch stabilen photoleitenden Arsen-Selen-Schicht. Die Prozentangaben beziehen sich, sofern nicht anders angegeben, auf das Gewicht. Diese Beispiele sollen die verschiedenen bevorzugten Ausführungsformen zur Herstellung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials und einer photoleitfähigen Schicht, die einen steilen Arsenkonzentrationsgradienten aufweist, zeigen.The following examples illustrate the invention in specifically on the basis of a method for producing a thermally stable photoconductive Arsenic-selenium layer. Unless otherwise stated, the percentages relate to weight. These examples are intended to show the various preferred embodiments for producing the recording material according to the invention and a photoconductive layer which has a steep arsenic concentration gradient.
Eine Ausgangslegierung wird hergestellt, indem elementares Arsen und Selen in einer Menge von 0,5 Gcw.-% Arsen und 99,5 Gew.-% Selen ausgewogen werden, worauf die Mischung in einer Siliciumdioxiu- Glasampulle unter Vakuum verschlossen wird. Die Mischung wird anschließend auf ungefähr 460 C während einer Zeitspanne von ungefähr 2 Stunden in einem sich hin- und herbewegenden Ofen erhitzt und anschließend auf Zimmertemperatur abgekühlt. Die erhaltene homogene Arsen-Selen-Legierung wird anschließend zu einem relativ feinkörnigen majc.K... wobei der Durchmesser der einzelnen Teilchen kleiner als ungefähr 1 mm ist, in einer Kugelmühle vermählen. A starting alloy is produced by weighing elemental arsenic and selenium in an amount of 0.5% by weight arsenic and 99.5 % by weight selenium , whereupon the mixture is sealed in a silicon dioxide glass ampoule under vacuum. The mixture is then heated to about 460 ° C over a period of about 2 hours in a reciprocating oven and then cooled to room temperature. The homogeneous arsenic-selenium alloy obtained is then ground in a ball mill to a relatively fine-grained majc.K ... where the diameter of the individual particles is less than approximately 1 mm.
Beispiele 2bis6Examples 2 to 6
Vier weitere Ausgangslegierungen werden getrennt nach der in Beispiel 1 beschriebenen Methode hergestellt. Diese Ausgangslegierungen enthalten υ,ι, 0,35, 0,65 bzw. 1.0 Gew.-% Arsen, wobei der Rest aus Selen besteht. Four further starting alloys are produced separately using the method described in Example 1. These starting alloys contain υ, ι, 0.35, 0.65 and 1.0 % by weight of arsenic, the remainder being selenium .
Eine photoleitfähige Schicht von 60 μιτι Dicke die eine Gesamtkonzentration an Arsen in Selen von 0,5 /o enthält und auf einer Aluminiumwalze abgeschieden ist, wird wie folgt hergestellt: .A photoconductive layer of 60 μm thick a total concentration of arsenic in selenium of 0.5 / o contains and is deposited on an aluminum roller, is made as follows:.
Ein oxydiertes Aluminiumsubstrat in Form einer zylindrischen Trommel mit einem Durchmesser von ungefähr 203 mm und einer Länge von 305 mm wird m eine Vakuumkammer in direktem Kontakt m.t einem rotierenden, mittels Wasser beheizten Dorn gegeben. Die Temperatur der Walze wird auf ungefähr 60 C eingestellt. Eine Quelle der Arsen-Selen-Leg.erung, die 0,5 Gew.-o/o Arsen enthält und nach der in Beispiel 1 beschriebenen Methode hergestellt wird (Gewicht der Probe = 120 g) wird in ein offenes Verdampfungsschiffchen aus rostfreiem Stahl gegeben worai.das Schiffchen ungefähr 254 mm (10 inches) un erhalb,der Walzenoberfliche aufgestellt wird Das Schiffchen wird mit einer elektrischen Energiequelle verbunden, die dazu geeignet ist, die Temperatur des Schiffchens » steuerl Die Kammer wird anschließend bis auf en Vakuum von ungefähr 10- Torr evakuiert, wöbe.^die Trommel mit einer Geschwindigke.t von ungefähr UpM gedreht wird. Während der ersten 2 bis:3_M nuten dö Erhitzens wird das Schiffchen auf «ngfah^0 C erhitzt. Während dieser Stufe des Erh.tzungszyklus findet praktisch keine Verdampfung statt Die Probe schmilzt innerhalb des Schiffchens, wöbe, e.ne genngfu gige Entgasung auftritt. Während der nächsten 28 bis 30 Minuten wird die Temperatur des Schiffchens im wesentlichen gleichmäßig mit einer Geschwindigkeit von ungefähr 4 bis 5°C pro Minute bis auf eine An oxidized aluminum substrate in the form of a cylindrical drum with a diameter of approximately 203 mm and a length of 305 mm is placed in a vacuum chamber in direct contact with a rotating, water- heated mandrel. The temperature of the roll is set to about 60 C. A source of the arsenic-selenium alloy which contains 0.5% by weight of arsenic and is prepared according to the method described in Example 1 ( sample weight = 120 g) is placed in an open stainless steel evaporation boat worai. the boat about 254 mm (10 inches) below the roller surface. The boat is connected to a source of electrical energy suitable for controlling the temperature of the boat. Torr evacuated, wöbe. ^ The drum is rotated at a speed of about rpm. During the first 2 to: 3_M utes dö heating is heated on the boat "ngf ah ^ 0 C. During this stage of the etching cycle, there is practically no evaporation. The sample melts inside the boat, if sufficient degassing occurs. Over the next 28 to 30 minutes, the temperature of the boat becomes substantially uniform at a rate of about 4 to 5 ° C per minute to one
S Endtemperatur von ungefähr 3000C am Ende einer Gesamtzeit von ungefähr 30 bis 35 Minuten erhöht. Damit ist der Verdampfungszyklus beendet. Die elektrische Energiezufuhr zu dem Arsen-Selen-enthaltende:n Schiffchen wird unterbrochen. Die Walze wirdS the final temperature is increased by approximately 300 ° C. at the end of a total time of approximately 30 to 35 minutes. This ends the evaporation cycle. The electrical energy supply to the arsenic-selenium-containing boat is interrupted. The roller will
ίο anschließend abgekühlt und das Vakuum belüftet. Anschließend kann die mit einer Arsen-Selen-Legierung überzogene Walze aus der Kammer entnommen werden.ίο then cooled and the vacuum vented. The roller coated with an arsenic-selenium alloy can then be removed from the chamber will.
Vier weitere Walzen, die 0,1, 0,35, 0,65 und 1,0 Gew.-% Arsen in Selen (hergestellt nach der Methode der Beispiele 2 bis 6) enthalten, werden nach der in Beispiel 7 beschriebenen Methode unter Einhaltung der nachstehend angegebenen Erhitzungsgeschwindigkeiten hergestellt: Four further rolls, which contain 0.1, 0.35, 0.65 and 1.0% by weight of arsenic in selenium (produced according to the method of Examples 2 to 6), are carried out according to the method described in Example 7 while adhering to at the heating rates given below:
0,1%. Arsen0.1%. arsenic
1. Erhitzen auf 150°C in ungefähr 3 Minuten.1. Heat to 150 ° C in about 3 minutes.
2. Fortsetzung des Erhitzens auf 3000C mit einer '? Geschwindigkeit von 4 bis 5°C pro Minute.2. Continuation of the heating to 300 0 C with a ' ? Speed from 4 to 5 ° C per minute.
3. Halten auf 3000C während einer Zeitspanne von ungefähr 5 Minuten, anschließend Abkühlung wie in Beispiel 7.3. Hold at 300 ° C. for a period of approximately 5 minutes, followed by cooling as in example 7.
1. Erhitzen auf 150°C in ungefähr 3 Minuten.1. Heat to 150 ° C in about 3 minutes.
2. Fortsetzung des Erhitzens auf ungefähr 3100C mit einer Geschwindigkeit von 4 bis 5° C pro Minute.2. Continuation of heating to about 310 0 C at a rate of 4 ° to 5 ° C per minute.
3. Halten bei 3100C während einer Zeitspanne von ^s ungefähr 5 Minuten, anschließend Abkühlung wie in 3. Hold at 310 ° C. for a period of 5 minutes, then cool down as in FIG
0,65% Arsen0.65% arsenic
1. Erhitzen auf 160°C in ungefähr 2V2 Minuten.1. Heat to 160 ° C in about 2/2 minutes.
2. Fortsetzung des Erhitzens auf 320 C mit einer 4J Geschwindigkeit von 4 bis 5°C pro Minute. 2. Continue heating to 320 ° C at a 4J rate of 4 to 5 ° C per minute.
3. Halten auf 3200C während einer Zeitspanne von ungefähr 5 Minuten und Abkühlen wie in Beispiel 7.3. Hold at 320 ° C. for a period of approximately 5 minutes and cool as in example 7.
1,0% Arsen
1. Erhitzen auf 175°C in 2V2 Minuten1.0% arsenic
1. Heat to 175 ° C in 2V 2 minutes
2. Fortsetzung des Erhitzens auf ungefähr 3500C mil einer Geschwindigkeit von 4 bis 5° C pro Minute. 2. Continuation of heating to about 350 0 C mil a rate of 4 ° to 5 ° C per minute.
3. Halten bei 3500C während einer Zeitspanne von ί Minuten und Abkühlen wie in Beispiel 7.3. Hold at 350 ° C. for a period of ί minutes and cool as in Example 7.
"° Beispiel 12 "° Example 12
Eine photoleitfähige Schicht aus glasartigem Seier von 60 μιτι Dicke wird auf einer Aluminiumwalze nacr der in Beispiel 7 beschriebenen Weise unter Verwen dung eines Selenschrots (3,2 bis 4,8 mm) mit einem fü xerographische Zwecke erforderlichen Reinheitsgrat unter Einhaltung des nachstehend angegebenen Erhit zungszyklus aufgebracht: A photoconductive layer of vitreous Seier of 60 μm thickness is applied to an aluminum roller in the manner described in Example 7 using selenium shot (3.2 to 4.8 mm) with a degree of purity required for xerographic purposes while observing the heating cycle given below applied:
1. Erhitzen auf 150° C in ungefähr 3 Minuten. 2. Erhitzen auf 2000C mit einer Geschwindigkeit voi 4 bis 5° C pro Minute. 1. Heat to 150 ° C in about 3 minutes. 2. Heat to 200 0 C at a rate voi 4 to 5 ° C per minute.
3. Halten bei 2800C während einer Zeitspanne voi ungefähr 5 Minuten und Abkühlen wie in Beispiel 7 3. Hold at 280 ° C. for a period of approximately 5 minutes and cool as in Example 7
Beispiel 13Example 13
Die gemäß der Beispiele 7 bis 12 hergestellten siebe Walzen werden jeweils getrennt in einer BürokopieiThe sieve rollers produced according to Examples 7 to 12 are each separately in an office copy
709521/31709521/31
T5 T 5
Y I I Δ ZOO YII Δ ZOO
maschine der Anmelderin (Kopierqualität) getestet. Alle Walzen liefern ausgezeichnete Kopien mit einer hohen Dichte und einem guten Auflösungsvermögen.machine of the applicant (copy quality) tested. All Rollers make excellent copies with a high density and good resolution.
Sechs weitere Walzen werden für weitere Tests hergestellt. Zwei dieser Walzen enthalten 0,5% As (Beispiel 7), zwei Walzen enthalten 1,0% As (Beispiel 11) und zwei mit einem glasartigen Selen überzogene Walzen enthalten kein Arsen (Beispiel 12). Die sechs Walzen werden anschließend in der folgenden Weise wärmebehandelt.Six more rolls are being made for further testing. Two of these rolls contain 0.5% As (Example 7), two rolls contain 1.0% As (Example 11) and two rollers coated with a vitreous selenium do not contain arsenic (Example 12). The six Rolls are then heat treated in the following manner.
1. Eine Walze einer jeden Zusammensetzung wird 240 Minuten lang auf 63° C erhitzt.1. A roller of each composition is heated to 63 ° C for 240 minutes.
2. Eine Walze einer jeden Zusammensetzung wird 100 Minuten lang auf 68° C erhitzt.2. A roller of each composition is heated to 68 ° C for 100 minutes.
Die Proben werden anschließend mikroskopisch auf eine mögliche Kristallkeimbildung und/oder ein mögliches Kristallwachstum untersucht. Die Ergebnisse sind in der Tabelle I zusammengefaßt.The samples are then microscopic for a possible nucleation and / or a possible Investigated crystal growth. The results are summarized in Table I.
Wärmebehandlung der oberen OberflächeHeat treatment of the upper surface
% As Wärmebehandlung 240 Minuten, 63° C% As heat treatment 240 minutes, 63 ° C
100 Minuten, 68°C100 minutes, 68 ° C
Anzahl der Keimdurch- Anzahl der Keim-
Keime/cm2 messer, μ Keime/cm2 durchmesser, μ Number of germs number of germs
Germs / cm 2 knife, μ germs / cm 2 diameter, μ
6464
3535
Wie aus der Tabelle I zu ersehen ist, wird eint beträchtliche Anzahl von Kristallkeimen mit einei ausreichenden Größe in einem nichtlegierten glasarti gen Selen beobachtet, während die Arsen-Selen-Legie rungsproben keinerlei Anzeichen einer Kristallinitäi aufweisen. Die Größe der Kristallkeime in der Tabelle I entspricht der bei jeder Walze beobachteten durchschnittlichen Größe.As can be seen from Table I, a considerable number of crystal nuclei are formed with one Sufficient size observed in a non-alloyed vitreous selenium, while the arsenic-selenium alloy samples showed no signs of crystallinity exhibit. The size of the seed crystals in Table I corresponds to the average observed for each roll Size.
Elf weitere Walzen, die 0,5% Arsen enthalten, werden nach der Methode gemäß Beispiel 7 hergestellt und mittels einer Elektronen-Probenmikroanalysiervorrichtung zur Untersuchung des Konzentrationsgradienten des Arsens geprüft. Die Arsengradienten der elf Walzen (Proben 1 bis 11) sind in der Tabelle II zusammengefaßt:Eleven further rolls containing 0.5% arsenic are produced according to the method of Example 7 and by means of an electron sample microanalyzer to study the concentration gradient of arsenic checked. The arsenic gradients of the eleven rollers (samples 1 to 11) are summarized in Table II:
Gewichts-% ArsenWeight% arsenic
ObereUpper
Oberflächesurface
Untere Oberfläche (Substratgrenzfläche) Lower surface (substrate interface)
1
2
3
4
5
6
7
8
9
i0
111
2
3
4th
5
6th
7th
8th
9
i0
11th
3,43.4
9,09.0
3,33.3
4,74.7
3,63.6
3,03.0
4,44.4
0,980.98
9,29.2
1,81.8
0,970.97
0,080.08
0,060.06
0,020.02
0,050.05
0,100.10
0,020.02
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
Claims (5)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US63517367A | 1967-05-01 | 1967-05-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1772288A1 DE1772288A1 (en) | 1971-03-04 |
DE1772288B2 true DE1772288B2 (en) | 1977-05-26 |
Family
ID=24546745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681772288 Withdrawn DE1772288B2 (en) | 1967-05-01 | 1968-04-25 | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
AT (1) | AT293168B (en) |
BE (1) | BE714205A (en) |
CH (1) | CH509613A (en) |
DE (1) | DE1772288B2 (en) |
DK (1) | DK127201B (en) |
ES (1) | ES353384A1 (en) |
FR (1) | FR1584518A (en) |
GB (1) | GB1203851A (en) |
LU (1) | LU55957A1 (en) |
NL (1) | NL161895C (en) |
SE (1) | SE330331B (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3200961A1 (en) * | 1981-01-14 | 1982-08-19 | Ricoh Co., Ltd., Tokyo | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL AND METHOD |
DE3201987A1 (en) * | 1981-01-23 | 1982-10-07 | Ricoh Co., Ltd., Tokyo | Electrophotographic recording material and process |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3223571C1 (en) * | 1982-06-24 | 1983-12-22 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Electrophotographic recording material |
JPS5931147A (en) * | 1982-08-17 | 1984-02-20 | 株式会社豊田中央研究所 | Visible-ray transmitting heat wave shielding membrane and its manufacture |
-
1968
- 1968-04-24 AT AT401068A patent/AT293168B/en not_active IP Right Cessation
- 1968-04-24 CH CH604068A patent/CH509613A/en not_active IP Right Cessation
- 1968-04-24 LU LU55957A patent/LU55957A1/xx unknown
- 1968-04-25 DE DE19681772288 patent/DE1772288B2/en not_active Withdrawn
- 1968-04-25 BE BE714205D patent/BE714205A/xx unknown
- 1968-04-26 SE SE563968A patent/SE330331B/xx unknown
- 1968-04-30 GB GB2042868A patent/GB1203851A/en not_active Expired
- 1968-04-30 FR FR1584518D patent/FR1584518A/fr not_active Expired
- 1968-04-30 ES ES353384A patent/ES353384A1/en not_active Expired
- 1968-05-01 NL NL6806174A patent/NL161895C/en not_active IP Right Cessation
- 1968-05-01 DK DK200268A patent/DK127201B/en unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3200961A1 (en) * | 1981-01-14 | 1982-08-19 | Ricoh Co., Ltd., Tokyo | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL AND METHOD |
DE3201987A1 (en) * | 1981-01-23 | 1982-10-07 | Ricoh Co., Ltd., Tokyo | Electrophotographic recording material and process |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1203851A (en) | 1970-09-03 |
AT293168B (en) | 1971-09-27 |
NL6806174A (en) | 1968-11-04 |
DE1772288A1 (en) | 1971-03-04 |
NL161895B (en) | 1979-10-15 |
DK127201B (en) | 1973-10-01 |
SE330331B (en) | 1970-11-09 |
LU55957A1 (en) | 1969-02-05 |
ES353384A1 (en) | 1970-01-16 |
BE714205A (en) | 1968-10-25 |
FR1584518A (en) | 1969-12-26 |
NL161895C (en) | 1980-03-17 |
CH509613A (en) | 1971-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1522711C3 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE1597882B2 (en) | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL | |
DE2027323A1 (en) | Electrophotographic plate and imaging method using it | |
DE2615624A1 (en) | MULTI-LAYER PHOTO RECEPTOR ELEMENTS | |
DE1608200B2 (en) | LIGHT-SENSITIVE RECORDING MATERIAL WITH A GLASS-LIKE PHOTOLICONDUCTIVE LAYER OF ARSENIC, ANTIMONY AND SELENIUM, THAT IS CHARACTERIZED BY IMPROVING THE ELECTRICAL PROPERTIES | |
DE1772288B2 (en) | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL | |
DE2030716A1 (en) | Photosensitive image layer | |
DE3414099C2 (en) | ||
DE1797162C3 (en) | Process for the production of an electrophotographic recording material | |
DE1572375B2 (en) | Multilayer electrophotographic recording material | |
DE2339115C2 (en) | Method for producing an electrophotographic recording material | |
DE2061655C3 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE2553825C2 (en) | Method for producing an electrophotographic recording material | |
DE2064247C3 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE3135229C2 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE2553826A1 (en) | Electrophotographic material prodn. by vacuum evaporation - of selenium and/or tellurium using excess vapour source | |
DE1772037B2 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE2425286B2 (en) | METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL | |
DE2305342C3 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE2042592C3 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE1608200C3 (en) | Photosensitive recording material with a vitreous photoconductive layer made of arsenic, antimony and selenium, which is characterized by improving the electrical properties | |
DE1597882C3 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE3337814C2 (en) | Electrophotographic recording material and method for making the same | |
DE3000305A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING AN ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL | |
DE2721252A1 (en) | PHOTOCONDUCTIVE ELEMENT |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BHN | Withdrawal |