DE2042592C3

DE2042592C3 - Electrophotographic recording material

Info

Publication number: DE2042592C3
Application number: DE19702042592
Authority: DE
Inventors: Hiroshi Yokohama Kanagawa; Kitajima Nobuo Akishima Tokio; Masaki Tatsuo Tokio; Hanada (Japan)
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1969-08-27
Filing date: 1970-08-27
Publication date: 1978-02-09

Description

Dicke zwischen etwa 10 und 300 μπι haben. Aus wirtschaftlichen Gründen liegt die Dicke vorzugsweise im Bereich von 20 bis 80μΐη. Grundsätzlich hat eine relativ dicke Schicht von mehr als 300 μπι eine geringere Haftfähigkeit gegenüber der Unterlage, so daß auch aus dieser Sicht eine Dicke von 20 bis 80 μπι zweckmäßig ist.Have thickness between about 10 and 300 μm. For economic For reasons, the thickness is preferably in the range from 20 to 80μΐη. Basically one has relatively thick layer of more than 300 μπι a smaller one Adhesion to the base, so that also from this point of view, a thickness of 20 to 80 μπι is appropriate.

Das Verhältnis der Zusätze zu der Legierung ist in weitem Bereich veränderbar. Beispielsweise kann Tellur in eine;.! Verhältnis von 5 bis 25 Gewichts-Prozent enthalten sein. Bei einem Gehalt von weniger als 5% nimmt die Empfindlichkeit gegenüber rotem Licht etwas ab, während bei einem Gehalt von mehr als 25% eine nachteilig hohe Dunkel-Entladung eintritt. Zur ausreichenden Stabilisierung sind nur geringe Zusätze von Germanium und/oder Silizium nötig. Ein größerer Zusatz dieser Stoffe bringt eine Verringerung der Empfindlichkeit mit sich, so daß der Gehalt nicht mehr als 5% betragen sollte. Vorzugsweise liegt der Gehalt an diesen Stoffen im Bereich von 0,00] bis ao 1 Gewichtsprozent, so daß die Herstellung vereinfacht ist.The ratio of the additives to the alloy can be varied over a wide range. For example, tellurium can be converted into a;.! Ratio of 5 to 25 percent by weight must be included. If the content is less than 5% , the sensitivity to red light decreases somewhat, while if the content is more than 25%, a disadvantageously high dark discharge occurs. Only small additions of germanium and / or silicon are necessary for adequate stabilization. A larger addition of these substances brings about a reduction in sensitivity, so that the content should not be more than 5%. The content of these substances is preferably in the range from 0.00] to 1% by weight, so that production is simplified.

Eine im wesentlichen glasige Legierungsschicht 3 setzt sich hauptsächlich aus Selen und einem Zusatz, Germanium und/oder Silizium, zusammen und ist auf die Schicht 2 aufgetragen. Die Dicke der Schicht 3 liegt gewöhnlich im Bereich zwischen 0,1 und 3 um. Zusammen mit der unteren Schicht 2 verleiht die Schicht 3 dem lichtempfindlichen Material panchromatische Eigenschaften, d. h. eine ausreichende Empfindlichkeit im sichtbaren Lichtbereich bis zu einer Wellenlänge von 4000 Ä. Der Gehalt an Germanium und/oder Silizium ist in der Schicht 3 vorzugsweise etwas höher als in der Schicht 2 und bewegt sich gewöhnlich zwischen 0,1 und 5 Gewichtsprozent, um eine genügend stabile Legierung zu erhalten.An essentially vitreous alloy layer 3 consists mainly of selenium and an additive, Germanium and / or silicon, together and is applied to layer 2. The thickness of layer 3 usually ranges between 0.1 and 3 µm. Together with the lower layer 2, the Layer 3 has panchromatic properties of the photosensitive material, d. H. sufficient sensitivity in the visible light range up to a wavelength of 4000 Å. The content of germanium and / or silicon is preferably somewhat higher in layer 3 than in layer 2 and usually moves between 0.1 and 5 percent by weight in order to obtain a sufficiently stable alloy.

In der bevorzugten Ausführung ist die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht aus einer Unterlage und einer aus zwei Schichten gebildeten, darauf aufgetragenen Fotowiderstandschicht zusammengesetzt.In the preferred embodiment, the photosensitive layer according to the invention consists of a support and a photoresist layer formed of two layers and coated thereon.

Eine Isolierschicht 4 ist nicht immer notwendig, erbringt jedoch einen wirksamen Schutz der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht und erhöht deren Lebensdauer. Die Schicht 4 ist beispielsweise aus einem Polyester-Schichtmaterial gebildet.An insulating layer 4 is not always necessary, but provides an effective protection of the surface the photosensitive layer and increases its service life. Layer 4 is for example formed from a polyester sheet material.

Die derart aufgebaute lichtempfindliche Schicht mit einer Isolierschicht 4 i:t für elektrophotographische Verfahren entsprechend dem Beispiel 1 in der japanischen Offenlegungsschrift 23910/1967 vorteilhaft verwendbar.The photosensitive layer thus constructed with an insulating layer 4 i: t for electrophotographic Process corresponding to Example 1 in Japanese Patent Application Laid-Open No. 23910/1967 is advantageous usable.

Die eine Isolierschicht der angeführten Art aufweisende lichtempfindliche Schicht ist mit einem Bild belichtbar, sofern die Unterlage oder die Isoliefschicht durch eine Strahlung, auf die die Photowiderstandsschicht anspricht, durchbringbar ist. Dementsprechend ist die Isolierschicht vorzugsweise durchsichtig. The photosensitive layer having an insulating layer of the type mentioned is with an image exposable, provided the base or the insulating layer is exposed to radiation by the photoresist layer responds, is achievable. Accordingly, the insulating layer is preferably transparent.

Zur Schaffung eines neuen Verwendungszweckes des lichtempfindlichen Materials kann das Material in einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführung eine Wandlerschicht aufweisen, in der ein Strahlenbild in Form eines Widerstandsmusters speicherbar ist.In order to create a new intended use of the photosensitive material, in a further embodiment according to the invention the material can have a converter layer in which a radiation image can be stored in the form of a resistance pattern.

Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht ist nach verschiedenen Verfahren herstellbar. Besonders geeignet ist ein Aufdampf-Verfahren, von dem einige Beispiele nachstehend angeführt, sind.The photosensitive layer according to the invention can be produced by various processes. Especially a vapor deposition process is suitable, some examples of which are given below.

In einem Verfahren werden eine Selen, Tellur, Germanium und/oder Silizium enthaltende und eine Seien, Germanium und/oder Silizium enthaltende Legierung nacheinander in Vakuum von 10"⁷ bis 10~^s mm Hg auf eine Unterlage aufgedampft. Ebenso isx es möglich, die beiden Legierungen an verschiedenen Zufuhrstellen in einem gemeinsamen Vakuumgefäß anzuordnen und nacheinander ohne Unterbrechung des Vakuums aufzubringen.In one process, an alloy containing selenium, tellurium, germanium and / or silicon and an alloy containing selenium, germanium and / or silicon are vapor-deposited on a substrate ^{one after the other in a vacuum of 10 "7} to 10 ~ ^{s mm Hg} to arrange both alloys at different feed points in a common vacuum vessel and to apply them one after the other without interrupting the vacuum.

In einem anderen Verfahren werden die einzelnen Bestandteile der Legierung getrennt in ein gemeinsames Vakuum gebracht und die Temperatur der einzelnen Bestandteile derart überwacht, daß eine Beschichtung mit einer die verschiedenen Bestandteile im gewünschten Verhältnis enthaltenden Legierung erfolgt.In another process, the individual components of the alloy are separated into a common one Brought a vacuum and monitored the temperature of the individual components in such a way that a coating with an alloy containing the various components in the desired ratio he follows.

Als weiteres Verfahren eignet sich ein solches, bei dem ein Gemisch aus Selen, Tellur, Germanium und/ oder Silizium in Pulverform in entsprechenden Mengen in ein Gefäß bei etwa 400 bis 600°C eingebracht und zum Auftrag auf eine Unterlage verdampft wird.Another suitable method is one in which a mixture of selenium, tellurium, germanium and / or silicon in powder form in appropriate amounts in a vessel at about 400 to 600 ° C and is evaporated for application on a base.

Bei den angegebenen Verfahren wird die Unterlage auf einer Temperatur von etwa 50 bis 80°C gehalten. Zum Aufrechterhalten dieser konstanten Temperatur ist eine Kühlvorrichtung, beispielsweise eine wassergekühlte Platte vorgesehen. Beim Aufdampfen bei etwa 28O⁰C in Vakuum von etwa 5 · 10~^s mm Hg während etwa einer Stunde entsteht eine aus einer Legierung von Selen, Tellur, Germanium und/oder Silizium bestehende Schicht in einer Dicke von etwa 60 μπι.The substrate is kept at a temperature of about 50 to 80.degree. C. in the specified processes. A cooling device, for example a water-cooled plate, is provided to maintain this constant temperature. Vapor deposition at about 28O ⁰ C in vacuum of about 5 x 10 ~ ^s mm Hg for about one hour results in a made of an alloy of selenium, tellurium, germanium and / or silicon layer in a thickness of about 60 μπι.

Nachstehend sind einige Beispiele zur Erläuterung der Erfindung angeführt, welche jedoch keine Beschränkung der Erfindung darstellen.Some examples are given below to illustrate the invention, but these are not restrictive represent the invention.

example 1

Eine Aluminiumplatte von 1 mm Dicke und einer Größe von 200 · 200 mm wurde mittels eines Fensterleders poliert und mit Trichloräthylendumpf gereinigt und dient als Unterlage für lichtempfindliches Material.An aluminum plate 1 mm thick and 200 x 200 mm in size was made using a chamois leather polished and cleaned with trichlorethylene dull and serves as a base for light-sensitive material.

Die Aluminiumplattr wurde in einem Vakuumgefäß in enge Berührung mit einer Kupferplatte gebracht, um ihre Temperatur bei etwa 60 bis 70° C zu halten. In einem Abstand von etwa 250 mm unterhalb der Aluminiumplatte befand sich ein Gefäß mit einem zahlreiche kleine Löcher enthaltenden Deckel. In das Gefäß wird eine Legierung aus 85 Gewichtsprozent Selen, 15 Gewichtsprozent Tellur, und 0,1 Gewichtsprozent Germanium gebracht. Zwischen der Unterlage und dem Gefäß war eine Absperreinrichtung angeordnet. The aluminum plate was brought into close contact with a copper plate in a vacuum vessel, to keep their temperature around 60 to 70 ° C. At a distance of about 250 mm below the aluminum plate was a vessel with a lid containing numerous small holes. In the The vessel is an alloy of 85 percent by weight selenium, 15 percent by weight tellurium, and 0.1 percent by weight Germanium brought. A shut-off device was arranged between the base and the vessel.

Zunächst wurde während 30 Minuten bei 180°C Gas evakuiert, anschließend wurde das die Legierung enthaltende Gefäß auf eine Temperatur von 250° C gebracht und die Absperreinrichtung geöffnet. Nach Bedampfen während 30 Minuten wird die Absperreinrichtung wieder geschlossen. Dabei wird eine Schicht mit einer Dicke von etwa 40μαι gebildet. Darauf wird während 4 Minuten eine weitere Bedampfung mit einer 95 Gewichtsprozent Selen und 5 Gewichtsprozent Germanium enthaltenden Legie rung bei etwa 400 ⁰C vorgenommen, wobei eine Schicht von etwa 0,5 μπι Dicke entstand. In den beiden angeführten Bedampfungsgängen wurde der Druck auf ΙΟ"⁶ bis 10~⁴ mm Hg gehalten. Nach dem Schließen der Absperreinrichtung wurde die Unterlage auf Zimmertemperatur abgeschreckt. Die Herstellung des lichtempfindlichen Materials wurde durchFirst, it was evacuated for 30 minutes at 180 ° C gas, then the vessel containing the alloy has been brought to a temperature of 250 ° C and opens the shut-off device. After steaming for 30 minutes, the shut-off device is closed again. A layer with a thickness of about 40μαι is formed. Thereupon a further vapor deposition of a 95 percent by weight selenium and 5 weight percent germanium containing alloy coins tion performed at about 400 ⁰ C, whereby a layer of about 0.5 μπι thickness was for 4 minutes. In both cited Bedampfungsgängen the pressure on ΙΟ was held ^"6 to 10 ~ ⁴ mm Hg. After closing the shut-off device, the pad was quenched to room temperature. The production of the light-sensitive material was prepared by

Auftragen von bei Zimmertemperatur verfestigbarem Epoxydharz zur Herstellung einer 12,5 μπι dicken Polyesterschicht abgeschlossen.Applying epoxy resin that can be solidified at room temperature to produce a 12.5 μm thick Polyester layer completed.

Die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials wurde durch Koronaentladung von etwa 7000 V mit einer negativen Ladung von 2000 V versehen und anschließend unter gleichzeitiger Belichtung mit einem Strahlenbild einer Koronaentladung mit der vorstehend angeführten entgegengesetzten Polarität ausgesetzt. Schließlich wurde die gesamte Fläche zum Herstellen eines latenten elektrostatischen Bildes, einer gleichmäßigen Strahlung ausgesetzt.The surface of the photosensitive material was corona discharge of about 7000 V using provided a negative charge of 2000 V and then with simultaneous exposure to a Radiation image exposed to a corona discharge with the opposite polarity given above. Finally, the entire area was used to create an electrostatic latent image, exposed to uniform radiation.

Die lichtempfindliche Schicht erwies sich über den gesamten Bereich des sichtbaren Lichts empfindlich, wobei die Empfindlichkeit bis zu 1 Lux · sec betrug. Damit liegt die Empfindlichkeit beim mehr als zehnfachem der bekannten sogenannten xerographischen Platten auf Selenbasis.The photosensitive layer was found to be sensitive over the entire range of visible light, the sensitivity being up to 1 lux · sec. This means that the sensitivity is more than tenfold the well-known so-called xerographic plates based on selenium.

Durch Entwickeln der latenten Bilder mittels positiv geladenen Farbtonern werden klare Bilder mit guter Aufiösungsfähigkeit erhalten. Bei Verwendung von flüssigen Tonern nahm das Auflösungsvermögen noch zu.By developing the latent images using positive When charged color toners, clear images with good resolving power are obtained. When using liquid toners, the resolving power increased.

Zum Ermittelnder Haltbarkeit wurde das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material bis zur gewaltsamen Zerstörung auf 50, 60, 7O⁰C usw. erhitzt und die Ergebnisse mit herkömmlichen Platten auf Selenbasis verglichen. Dabei wurde festgestellt, daß das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material auchFor the investigating durability of the light-sensitive material of the invention to the violent destruction at 50, 60, 7O ⁰ C, etc. was heated and the results compared with conventional plates selenium-based. It was found that the photosensitive material of the present invention also

ίο dann ebenso stabil und haltbar ist wie herkömmliche Selenplatten, wenn keine isolierende Oberflächenschicht darauf vorgesehen ist. Wenn dagegen eine isolierende Oberflächenschicht aufgetragen war, wurde das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material kaum angegriffen. Das mit einer Isolierschicht als Oberfläche versehene lichtempfindliche Material war darüber hinaus mechanisch fest, und seine Eigenschafter blieben nahezu unverändert.
Ein Vergleich der Eigenschaften des verschiedenerίο is just as stable and durable as conventional selenium plates if no insulating surface layer is provided on them. On the other hand, when an insulating surface layer was applied, the photosensitive material of the present invention was hardly attacked. In addition, the photosensitive material provided with an insulating layer as a surface was mechanically strong and its properties remained almost unchanged.
A comparison of the characteristics of the different

ao Materials zeigt folgende Tabelle:ao Materials shows the following table:

Empfindlichkeitsensitivity
Lux · secLux sec SpektralSpectral
empfindlichkeitsensitivity Lebensdauerlifespan
(herkömmliche(conventional
Schichten = 1)Layers = 1) Erfindungsgemäßes lichtempfindliches Material mit
isolierender Oberflächenschicht Photosensitive material according to the invention with
insulating surface layer 1
1
201
1
20th Panchro
matisch
Panchro
matisch
Geringe
Empfindlich
keit im Rot
bereichPanchro
matic
Panchro
matic
Low
Sensitive
speed in red
Area Höher als 5
Höher als 3
1Higher than 5
Higher than 3
1 Erfindungsgemäßes Material ohne isolierende Schicht
Herkömmliches Material auf Selen-Basis Material according to the invention without an insulating layer
Conventional selenium-based material

Example 2

Ein pulverförmiges Gemisch aus Selen, Tellur, und Germanium mit einem Reinheitsgrad von mehr als 99,99% wurde bei einem Vakuum von etwa 10"^s mm Hg in eine Quarzphiole eingeschlossen. Zum Schmelzen des Inhalts wurde die Phiole während 5 Stunden auf 500° C erhitzt. Während des Erhitzens wurde die Phiole gedreht, um eine homogene Schmelze zu erhalten. Anschließend wurde die Phiole in Wasser eingetaucht, um die erhaltene glasige Legierung aus Selen, Tellur und Germanium abzuschrecken. In diesem Verfahren wurden zehn glasige Legierungen Nr. 1 bis 10 mit verschiedener Zusammensetzung erzeugt. Die Änderung der Zusammensetzung erfolgte durch Änderung des Gemischverhältnisses der pulverförmigen Grundstoffe Selen, Tellur und Germanium.A powdered mixture of selenium, tellurium and germanium with a purity of more than 99.99% was ^{enclosed in a quartz vial at a vacuum of about 10 "s} mm Hg. The vial was heated to 500 ° C. for 5 hours to melt the contents During the heating, the vial was rotated to obtain a homogeneous melt. Then, the vial was immersed in water to quench the resulting glassy alloy of selenium, tellurium and germanium. In this process, ten glassy alloys No. The composition was changed by changing the mixture ratio of the powdery raw materials selenium, tellurium and germanium.

Glasige LegierungGlassy alloy

Nr. 1 .
Nr. 2.
Nr. 3.
Nr. 4.
Nr. 5.
Nr. 6.
Nr. 7 .
Nr. 8..
Nr. 9 .
Nr. 10Number 1 .
No. 2.
No. 3.
No. 4.
No. 5.
No. 6.
No. 7.
No. 8 ..
No. 9.
No. 10

Gehalt (Gewichtsprozent) Selen Tellur I GermaniumContent (weight percent) Selenium tellurium I germanium

99,9
97,9
94,9
89,9
84,9
79,9
74,9
69,9
59,9
49,999.9
97.9
94.9
89.9
84.9
79.9
74.9
69.9
59.9
49.9

1010

1515th

2020th

2525th

3030th

4040

5050

0,1
0,1
0,1
0,1
0,1
0,1
0,1
0,1
0,1
0,1 Die vorstehend angeführten glasigen Legierung« wurden in einer Schichtdicke von 60 μπι durch Auf dampfen im Vakuum auf eine Aiuminium-Unterlagi aufgebracht. Beim Aufdampfen betrug das Vakuun ΙΟ"⁴ bis 10~⁶ mm Hg, die Temperatur der Aluminium unterlage betrug 60 bis 80°C und die Aufdampf temperatur wurde bei 350⁰C gehalten.0.1
0.1
0.1
0.1
0.1
0.1
0.1
0.1
0.1
0.1 The above-mentioned vitreous alloy «were applied in a layer thickness of 60 μm by vacuum evaporation to an aluminum substrate. During vapor deposition, the Vakuun ΙΟ "was ⁴ to 10 ^-6 mm Hg, the temperature of the aluminum base was 60 to 80 ° C and the vapor deposition temperature was maintained at 350 ⁰ C.

Unter Anwendung des Verfahrens nach Beispiel: wurde auf diese Beschichtungen eine 97 Gewichts prozent Selen und 3 Gewichtsprozent Germanium ent haltende Legierung im Vakuum aufgedampft, um ein« Schicht mit einer Dicke von etwa 1 μπι zu bilden. So mit wurden mit den Legierungen 1 bis 10 lichtempfind liehe Platten 1 bit 10 hergestellt. Die Lichtempfindlich keit und der Dunkelheitswert dieser Platten wurd< unter den nachstehend angegebenen Bedingungen ge messen.Using the procedure of Example: A 97 weight was placed on these coatings percent selenium and 3 percent by weight germanium-containing alloy evaporated in a vacuum to create a « To form a layer with a thickness of about 1 μm. So with 1 to 10 photosensitive plates 1 bit 10 were produced with the alloys 1 to 10. The photosensitive The speed and darkness value of these plates were determined under the conditions given below measure up.

Die Lichtempfindlichkeit wurde gemessen, inden die lichtempfindliche Platte auf einen drehbar« Elektrometer gesetzt und positiv aufgeladen wurde Dann wurde die Platte mit einer 60-Watt-Wolfram Wendellampe angestrahlt und die zum Absenken de Potentials auf V10 des Ausgangswerts benötigte Licht menge (lux ■ sec) gemessen. Der gemessene Wer wurde als Empfindlichkeitswert ausgedrückt Das Be strahlen wurde jeweils bei einem Ausgangswert voi 500 V begonnen.The photosensitivity was measured by placing the photosensitive plate on a rotatable « Electrometer was set and positive charge was then made to the plate with a 60 watt tungsten The filament lamp is illuminated and the light required to lower the potential to V10 of the initial value amount (lux ■ sec) measured. The measured who was expressed as a sensitivity value. The irradiation was in each case at an initial value of voi 500 V started.

Der Dunkelschwundwert wurde durch Aufladen dei Oberfläche der Platten auf etwa +800 V mittels ein© Koronaentladung von +6 KV mit nachfolgende] Ruhe an einem dunklen Ort und Messung der zur VerThe dark fading value was obtained by charging Surface of the plates to about +800 V by means of a © corona discharge of +6 KV with the following] Rest in a dark place and measure the ver

ringcrung tier Ladung auf den halben Ausgangswert, also auf 4(K) V, benötigten Zeit ermittelt. Der reziproke Wert dieser Zeil wird als Dunkelschwundwurt angenommen, um den Vergleich mit dem Knipfindlichkeitswerl zu erleichtern. Der Wert der lichtempfindlichen Platte 1 wurde als Vcrglcichsbasis genommen.reduction of animal charge to half the initial value, i.e. to 4 (K) V, the required time is determined. The reciprocal value of this Zeil is called dark shrinkage assumed to make the comparison with the Knipfindlichkeitswerl to facilitate. The value of the photosensitive plate 1 was taken as a basis of comparison.

Die Lichicinpfindlichkcitswcrtc und Dunkelschwunilwcrtc der Platten 1 bis 10 entsprechend den vorstehenden Meßverfahren sind in folgender Tabelle angegebenThe lichicin-sensitive wcrtc and Dunkelschwunilwcrtc of plates 1 to 10 according to the above measurement methods are shown in the following table specified

Licht
empfindliche
l'roboplatlclight
sensitive
l'roboplatlc Lichtcmpfimllich-
keiKwertLight sensitive-
keiKwert Dunkcl-
scliwundwcrlDark
scliwundwcrl Nr. 1
Nr. 2
Nr. 1
Nr. 4
Nr. 5
Nr. 6
Nr. 7
Nr. 8
Nr. 9
Nr. 10 number 1
No. 2
number 1
No. 4
No. 5
No. 6
No. 7
No. 8
No. 9
No. 10 30
25
21
IS
18
15
13
12
10
730th
25th
21
IS
18th
15th
13th
12th
10
7th 1,0
1,2
1,28
1,8
2,3
2,8
4,6
7,8
10,5
13,01.0
1.2
1.28
1.8
2.3
2.8
4.6
7.8
10.5
13.0

keil diente das gleiche Verfahren wie im Beispiel 2. Das Verfahren zur Messung der Haltbarkeit ist nachstehend erläutert. keil was followed by the same procedure as in Example 2. The method for measuring the durability is explained below.

Die lichtempfindliche Platte wurde durch Korona-The photosensitive plate was corona

'5 entladung von ί 6 KV gleichmäßig positiv aufgeladen und darauf der Belichtung mittels einer in 30 cm [Entfernung angebrachten Wolframlampe von 10 W während 2 Sekunden durch ein positives Durchlichtbild hindurch ausgesetzt. Das entstehende latente Bild 5 discharge of ί 6 KV uniformly positively charged and then exposed to exposure by means of a 10 W tungsten lamp at a distance of 30 cm for 2 seconds through a positive transmitted light image. The emerging latent image

ίο wurde im Magnetbürslverfahren zu einem sichtbaren Bild entwickelt und dieses auf Papier übertragen. Nach dem Übertragen wurde die lichtempfindliche Platte gereinigt und zur Entfernung von elektrischer Restladungeiner Koronaentladung ausgesetzt. Der Kopier- Vorgang wurde in der beschriebenen Weise wiederholt. Die Haltbarkeit bestimmte sich dabei nach der Anzahl der mit einem klaren Bild erzielbaren Kopien. Als Kopie mit klarem Bild wurde die Forderung zugrunde gelegt, daß mit bloßem Auge nicht mehr als ίο was developed into a visible image using the magnetic brush process and transferred to paper. After the transfer , the photosensitive plate was cleaned and corona discharged to remove residual electrical charge. The copying process was repeated in the manner described. The durability was determined by the number of copies that can be made with a clear image. A copy with a clear picture was based on the requirement that no more than

»ο 30 Streupunkte auf 100 cm² der Papierkopie erkennbar sind.»Ο 30 scatter points can be seen on 100 cm ^{2 of} the paper copy.

Die ermittelten Werte für die Platten 1 bis 13 sind in der folgenden Tabelle angegeben.The values determined for plates 1 to 13 are given in the table below.

Vorstehende Ergebnisse zeigen, daß die lichtempfindlichen Platten Nr. 3 bis 7, also die Platten von 2 bis 25",, Tellur, hervorragende elektropholographische Eigenschaften aufweisen.The above results show that the photosensitive plates Nos. 3 to 7, that is, the plates of 2 to 25 "" tellurium, have excellent electropholographic properties.

Example 3

In gleicher Weise wie im Beispiel 2 wurden mittels Selen, Tellur und Germanium in Pulverform die fol genden 13 glasigen Legierungen hergestellt. In the same way as in Example 2, the fol lowing 13 glassy alloys were produced using selenium, tellurium and germanium in powder form.

Glasige
LegierungenGlassy
Alloys

Nr. 1 . Nr. 2 . Nr. 3 . Nr. 4 . Nr. 5 . Nr. 6 . Nr. 7 . Nr. 8 . Nr. 9 . Nr. 10 Nr. 11 Nr. 12 Nr. 13Number 1 . No. 2 . No. 3. No. 4. No. 5. No. 6. No. 7. No. 8. No. 9. No. 10 No. 11 No. 12 No. 13

Gehalt an Metallkomponenten (Gewichtsprozent)Content of metal components (percent by weight)

Licht
empfindliche
Probeplattelight
sensitive
Sample plate Lichtempfindlich
keitswertSensitive to light
worth Haltbarkeitdurability 3o 1 3o 1
2 2
3 3
4 4th
5 5
35 6 35 6
7 7th
8 8th
9 9
10 10
40 11 40 11
12 12th
13 13th 15
16
16
17
19
29
34
40
43
50
71
85
104 15th
16
16
17th
19th
29
34
40
43
50
71
85
104 5 7005 700
7 9007 900
3110031100
38 20038 200
52 40052 400
56 00056,000
57 90057 900
61 50061 500
62 70062 700
66 10066 100
74 40074 400
76 80076 800
8010080100

Selenselenium

TellurTellurium

GermaniumGermanium

8585

84,000984,0009

84,00984.009

84,0984.09

84,984.9

83,583.5

15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 1515 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15

0,00010.0001

0,0010.001

0,010.01

0,10.1

1,51.5

7 10 157 10 15

Die vorstehenden Ergebnisse zeigen, daß die Platten 3 bis 10 besonders hochwertig sind, daß also ein Germaniumgehalt von 0,001 bis 5 % besonders gute Eigenschaften für die Elektrophotographie erbringt. Eine Wiederholung des gleichen Verfahrens mit Silizium an Stelle von Germanium erbrachte gute Ergebnisse. Wenn dabei beispielsweise Silizium jeweils in der Hälfte der Germaniummenge verwendet wurde, betrugen die Werte für Lichtempfindlichkeit und Haltbarkeit 80% der für Germaniumzusatz ermittelten.The above results show that plates 3 to 10 are of particularly high quality, that is to say that a germanium content of 0.001 to 5% produces particularly good properties for electrophotography. One Repeating the same procedure with silicon in place of germanium gave good results. If, for example, half the amount of germanium was used in each case, the values for photosensitivity and durability were 80% of those determined for the addition of germanium.

Beispiel 4Example 4

Die vorstehend bezeichneten glasigen Legierungen wurden unter den im Beispiel 2 angegebenen Bedingungen durch Vakuum-Aufdampfen in einer 60 μηι dicken Schicht auf eine Aluminiumunterlage aufgetragen. Auf diese Schicht wurde eine weitere Schicht entsprechend Beispiel 2 aufgetragen. In dieser Weise wurden lichtempfindliche Platten 1 bis 13 hergestellt. Die Lichtempfindlichkeit und Haltbarkeit der Platten wurde gemessen. Zur Messung der Lichtempfindlich-The above-mentioned glassy alloys were under the conditions given in Example 2 by vacuum vapor deposition in a 60 μm applied in a thick layer on an aluminum base. On top of this layer was another layer applied according to Example 2. Photosensitive plates 1 to 13 were prepared in this way. The photosensitivity and durability of the plates were measured. For measuring the light-sensitive Im gleichen Verfahren wie im Beispiel 2 wurden 84,9% Selen, 15% Tellur und 0,1 % Germanium zur Herstellung einer glasigen Legierung verwendet Die Legierung wurde in einem Verfahren nach Beispiel 1 in einer Dicke von 40 μπα auf eine Aluminiumunterlageplatte gleichmäßig aufgedampft. Für die zweite auf diese Schicht aufzutragende Glasurschicht wurden die folgenden 14 verschiedenen glasigen Legierungen in einem Verfahren nach Beispiel 2 hergestellt.In the same procedure as in Example 2 were 84.9% selenium, 15% tellurium and 0.1% germanium are used to make a glassy alloy Alloy was uniformly vapor-deposited in a method according to Example 1 in a thickness of 40 μπα onto an aluminum support plate. For the second layer of glaze to be applied to this layer, the following 14 different ones were made vitreous alloys produced in a process according to Example 2.

Legierungalloy Legierung
(Gewicht
Selenalloy
(Weight
selenium sverhältnis
spreizen!)
Germaniumratio
spread!)
Germanium Nr. 1 number 1 99,9999.99 00 Nr. 2 No. 2 99,999.9 0,010.01 Nr 3No. 3 99,599.5 0,10.1 Nr. 4 No. 4 9999 0,50.5 Nr. 5No. 5 98
9598
95 2
52
5 Nr. 6 No. 6 9393 77th Nr. 7 No. 7 9090 1010 Nr 8No. 8 88
85
8088
85
80 12
15
2012th
15th
20th Nr. 9 No. 9 75
65
5075
65
50 25
35
5025th
35
50 Nr. 10No. 10 Nr. 11 No. 11 Nr. 12No. 12 Nr. 13 No. 13 Nr. 14 No. 14

Die vorstehend bezeichneten glasigen Legierungen wurden unter den im Beispiel 1 angegebenen Bedingungen auf die zunächst angeführte Schicht aufgedampft und damit eine Schichtdicke von 0,4 μιτι erzielt. Dabei wurden die in nachstehender Tabelle angeführten lichtempfindlichen Platten 1 bis 14, deren zweite Schicht jeweils den angeführten Legierungen 1 bis 14 entspricht, erhalten. Die Lichtempfindlichkeit und Haltbarkeit der Platten wurde nach den in den Beispielen 2 und 3 angegebenen Verfahren ermittelt.The above-mentioned glassy alloys were produced under the conditions given in Example 1 vapor-deposited onto the initially mentioned layer and thus a layer thickness of 0.4 μm is achieved. The photosensitive plates 1 to 14 listed in the table below, their second layer corresponds to the listed alloys 1 to 14, respectively. The sensitivity to light and the shelf life of the panels was determined according to the procedures given in Examples 2 and 3.

Die folgende Tabelle zeigt die ermittelten Ergebnisse:The following table shows the results obtained:

Aus den vorstehenden lirgebnissen wurde bezüglich der zweiten Schicht geschlossen, dal.! bei ansteigendem Germaniumgelullt der Legierung die Haltbarkeit zunimmt, während die Lichtempfindlichkeit abnimmt. In bezug auf den Verlauf dieser Zu- bzw. Abnahme ist zu erkennen, daß die lichtempfindlichen Platten Nr. 3 bis 11, insbesondere 3 bis 6, hervorragend sind, dall also ein Germaniumgehalt im Bereich von 0,1 bis 20'',,, vorzugsweise zwischen 0,1 und 5"„ hervorragende elektrophotographische Higenschaften erbringt. Außerdem ist ersichtlich, daß die Platte 1 ohne Germanium schlechte Haltbarkeit aufweist.From the above results it was concluded with regard to the second layer that! with increasing Germanium gelullt the alloy the durability increases while the photosensitivity decreases. With regard to the course of this increase or decrease, it can be seen that the photosensitive plates No. 3 to 11, especially 3 to 6, are excellent, so that a germanium content in the range from 0.1 to 20 ", preferably between 0.1 and 5" is excellent provides electrophotographic properties. It can also be seen that the plate 1 without Germanium has poor durability.

Unter Verwendung gleicher Anteile Germanium und Silizium, jedoch ohne weitere Änderung der Mischungsverhältnisse, des vorstehenden Beispiels, wurde eine Legierung für die zweite Schicht hergestellt. So wurde beispielsweise bei der Legierung 3 der vorsiehenden Tabelle jeweils 0,05";, Germanium und Silizium verwendet, so daß deren Summe noch immer 0,1% betrug. Bei der Legierung 8 betrugen die Anteile jeweils 5%, was zusammen einen Germaniuni/Siliziumanteil von 10",', ergab. Mittels dieser Legierungen als zweite Beschichtung wurden die lichtempfindlichen Platten 1 bis 14 der nachstehenden Tabelle erzeugt.Using the same proportions of germanium and silicon, but without further changing the Mixing proportions of the above example, an alloy for the second layer was prepared. For example, for alloy 3 in the table provided, 0.05 ", germanium and silicon used so that their total was still 0.1%. In the case of alloy 8, the proportions were each 5%, which together is a Germaniuni / silicon content of 10 ", '. Using these alloys as a second coating, the photosensitive Plates 1 to 14 of the table below are generated.

Die ermittelte Lichtempfindlichkeit und Haltbarkeit dieser lichtempfindlichen Platten sind in der folgenden Tabelle angegeben.The photosensitivity and durability of these photosensitive plates were found to be as follows Table given.

Licht
empfindliche
Probeplattelight
sensitive
Sample plate Lichtempfindlich
keilswertSensitive to light
wedge value Haltbarkeitdurability 1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14 1
2
3
4th
5
6th
7th
8th
9
10
11th
12th
13th
14th 15
17
19
22
23
26
29
32
40
41
48
56
61
8015th
17th
19th
22nd
23
26th
29
32
40
41
48
56
61
80 5 600
10100
20 700
28 800
37 400
45 500
49 200
52 700
53 000
54100
56 800
57 300
59 400
60 8005,600
10100
20 700
28 800
37 400
45 500
49 200
52 700
53,000
54100
56 800
57 300
59 400
60 800

Licht
empfindliche
Probeplattelight
sensitive
Sample plate Lichtemplindlich-
keitswertLight-sensitive
worth Haltbarkeitdurability 35 1
2
3
4
5
40 6
7
8
9
10
45 11
12
13
14 35 1
2
3
4th
5
40 6
7th
8th
9
10
45 11
12th
13th
14th 17
19
20
22
26
35
40
48
55
67
89
102
135
143 17th
19th
20th
22nd
26th
35
40
48
55
67
89
102
135
143 5 600
12 900
25 500
30 100
41200
50 500
52 200
55 600
59 700
60 700
61 100
63 100
63 800
640005,600
12 900
25 500
30 100
41200
50 500
52 200
55 600
59 700
60 700
61 100
63 100
63 800
64000

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims

1 2 could therefore not satisfy, and the development claims: of photoconductive layers with high sensitivity, panchromatic properties and longer

1. Electrophotographic recording material life is in view of recent entrial with a support, a first selenium and 5 winding of multicolor electrophotographic Tellurium-containing photoconductive layer, a process is still required.

second selenium-containing photoconductive layer The object of the invention is to provide a new photoconductive

and, if necessary, with an insulating cover- able layer to be created that is easy to manufacture for

layer, thereby ge ken η ζ e i ch η e t that the multicolor electrophotography is suitable and

both photoconductive layers an additive from io in terms of sensitivity, panchromatic properties

Contains germanium and / or silicon. Shafts and service life variable over a wide range

2. Recording material according to claim 1, there is.

characterized in that the selenium and tellurium This object is achieved according to the invention

containing layer not more than 5, preferential solution that both photoconductive layers one

contain between 0.001 and 1 percent by weight Ger- 15 additive made of germanium and / or silicon,

contains manium and / or silicon. The electrophotographic recording material

3. Recording material according to claim 1, according to the invention by adding germanium, characterized in that the selenium and tellurium and / or silicon is a stable ternary or quaternary alloy to form an alloy of selenium and a layer containing between 20 and 80 μm thick tellurium . ^ao which is used as a charge storage layer on the base

4. Recording material according to claim 1, which is reversible.

characterized in that the selenium and tellurium are present on such an alloy layer Layer between 5 and 25 weight-bearing layer consists of an alloy contains percent tellurium. Selenium, germanium and / or silicon, the sensitivity of which

5. The recording material as claimed in claim 1, is present in the short-wave, that is to say blue, region of light characterized in that the second selenium is present and thus the sensitivity range is animal-keeping Layer between 0.1 and 5 weight- named selenium, tellurium, germanium and / or silicon percent germanium and / or silicon. containing alloy added so that a pan-

6. Recording material according to claim 1, a da- chromatic and highly sensitive layer is formed, characterized in that the second selenium is 30 The alloy layer is stable, and the crystallization holding layer more germanium and / or SiIi- in the surface is far reduced, so that this zium contains as the layer containing selenium and tellurium can simultaneously form the protective layer. Layer. This means that no special protective layer is necessary, like this

7. Recording material according to claim 1, that a permanent photoconductive material with characterized in that the second selenium can be produced from fewer layers than known material holding layer between 0.1 and 3 μm thick. is. It follows that the panchromatic

Properties, life and sensitivity of a selenium-based photoconductive material are improved according to the invention in that only

40 two coats can be applied. That way

The improved selenium-based photoconductive layer is particularly useful for multicolor electrophotography suitable and easy to manufacture at low cost

The invention relates to an electrophoto bar, since only two layers have to be applied,
Graphic recording material with a photoconductive layer relating to the quantitative and qualitative combination, a first deposition of the individual layers containing selenium and tellurium, a second selenium configurations of the invention are given in the photoconductive layer containing subordinate claims.

if with an insulating top layer. The invention is based on execution

Since mainly selenium-containing photoconductive 50 examples in connection with the drawing in more detail Capable layers generally have a low level of recommendation, which in a schematic representation is a have sensitivity to red light, so they have an enlarged sectional view of an embodiment does not have the panchromatic properties for the reproduction of color images under the electrophotographic based on the invention, shows drawing material.

is it z. B. from the German Auslegeschrift 1 277 016 55 An electrically conductive base 1 is made of brass, known, this disadvantage by the addition of tellurium from aluminum, copper or the like. In the form of a sheet, at the same time, with one sensitive in the red area being a material web, a plate, a cylinder, a amorphous selenium-tellurium mixture is produced. Drum or in any other form with any

A good thickness is then produced on this selenium-tellurium layer. Likewise, metallized paper is a relatively thick layer of vitreous selenium in a vacuum and with a metallic coating, for example vaporized. The greater the tellurium content, the more panchromatic the aluminum, copper iodide or the like. The alloy becomes more panchromatic because it can be used. In a special embodiment, the sensitivity to red light can increase. the surface of the pad with a thin insulating on the other hand causes a high tellurium addition in the layer to be coated. In another embodiment of the order of 40 percent by weight, the base can also be left out,
Borrowed shortening of the life of the photoconductive A substantially vitreous alloy layer 2

capable layer. is made of selenium, tellurium, germanium and / or silicon

The previously known photoconductive layers composed. The glassy layer 2 can be a