DE1667188A1 - Verfahren zur Behandlung von Feststoffen in Lichtbogenentladungen und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens - Google Patents

Verfahren zur Behandlung von Feststoffen in Lichtbogenentladungen und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens

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Description

DIPU.-INS. DR. IUR. DIPL.-INS. VOLKER BUSSE DIETRICH BUSSE
45 OSNABROCK, den 9. November 1967
MDSERSTRASSE 2O/24 V/DB/4 MHD RESEARCH, INC.
1535 Monrovia Avenue, Newport Beach,
Californien, USA
Verfahren zur Behandlung von Peststoffen in Lichtbogenentladungen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
Die Erfindung betrifft allgemein eine Heiß-Plasmagas-Behandlung von Feststoffen in feiner Verteilung. Im einzelnen bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Durchführung einer derartigen Behandlung, die sich z.B. zur Durchführung chemischer Reaktionen bei hohen Temperaturen eignet, insbesondere solchen, bei denen ein Peststoff mit ( hohem Schmelzpunkt verdampft wird und mit Gasen oder anderen ' hohe Schmelzpunkte aufweisenden Peststoffen reagieren soll. : Ein Beispiel ist die Erzeugung sehr fein verteilter Partikel, z.B. Kieselerde-Pulver.
ώ -^slerde-Pulver mit submikronal großen Partikeln wurde bis-"-*? durch ein Verfahren erzeugt, das die Hydrolislerung von PJ"4,£ittmte*rarthlorid einschließt. Hierbei ist das Erzeugnis ■· -».isigfc, Spuren absorbierten Wassers und Chlorwasserstoff ■ aufzunehmen. Bei Pulvern mit großen Oberfläche?? können bereits j geringe Werte absorbierten Stoffes einen merklichen und oftmals 9
BAD OBiQiMAL
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unerwünschten Einfluß auf Eigenschaften, wie Benetzbarkeit, Mischungscharakteristika in Polymerisationsprodukten, iskosität in Lösungen usw., haben. Zur Vermeidung derartiger Verunreinigungen zielten durchgeführte Versuche auf die Verdampfung und anschließende Rekcnäensation von Peststoffen als fein verteiltes Pulver hin. Derartige Versuche jedoch waren mit beträchtlichen Schwierigkeiten verbunden, wenn die Schmelzpunkte der Feststoffe hochliegen, d.h. über 1000° betragen, wie das bei Kieselerde der Fall ist.
Hiervon ausgehend betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Reduzierung der Größe einer Partikelzufuhr und ist dadurch gekennzeichnet, daß die Zugabe mit einem heißen Plasmagas in Berührung gebracht und mit dem Gas durch eine verlängerte Aufenthaltszone 'geleitet sowie zwecks wesentlicher Steigerung der Verdampfung der Zugabe in dieser Zone auf einer hinreichend erhöhten Temperatur gehalten wird, und daß die in gesteigertem Maße verdampfte Zugabe in Form eines fein verteilten Pulvers kondensiert wird. Dabei wird das Halten der Zufuhr bzw. Zugabe bei erhöhter Temperatur dadurch ausgeführt, daß die ümgrenzungsfläche der verlängerten Aufenthaltszone auf erhöhter Temperatur gehalten wird. Der Arbeitsgang wird in der Weise durchgeführt, daß eine elektrische Lichtbogenentladung erzeugt wird, Gas, z.B. Stickstoff, in die Entladung und Zusatzmittel in das Gas eingeleitet wird. feie ersichtlich, besteht die Funktion der Hauptkammer darin, Saß eine hinreichende Halte- bzw. Einwirkungszeit für den
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Pulverzusatz und das heiß-e Plasmagas geschaffen wird, um zu einem Gleichgewicht zu kommen, d.h. zu einer vollständigen Verdampfung des zugesetzten Pulvers. Da ein heißes Plasmagas in hohem Maße Energie ausstrahlt, setzen die heißen Wandungen der Aufenthaltskammer Strahlungswärmeverluste herab und die hohe Plasmaterapeiibar wird beibehalten. Das Behandeln eines verdampfte Kieselerde enthaltenden, heißen Gasstroms geht oftmals mit erheblichen Störungen einher, und zwar infolge der sich an kalten Flächen auskondensierenden bzw. niederschlagenden und dadurch die Gasdurchlasse verstopfenden Kieselerde. Durch die heißen Wandungen der Aufenthaltskammer wird dieses Problem wirksam gelöst.
Die Kondensationsstufe umfaßt ein in Berührungbringen des in erhöhtem Maße verdampften Zusatzes mit dem kühlen Löschgas, dessen in den verdampften Zusatz eingeleiteter Strom gesteuert1 werden kann, um die Größe des letztendlich vom Gas abgesonderten, pu;lverförmigen Produktes steuern zu können. Durch die innige Berührung der heißen Stoffe mit einem kalten Gasstrom wird ein hoher Abkühlungsgrad erreicht, woraus eine Kondensation bzw.ein Niederschlagen pulverförmiger Kieselerde in sehr fein verteiter Form resultiert. Das Pulver in dem Löschgas kann durch herkömmliche Mittel, wie Zyklone, Filterbeutel und elektrostatische Abscheider, ausgesondert werden und die erhaltenen, pulverfreien Gase können als Plasmagas und Löschgas wieder verdichtet und in den Kreislauf zurückgeführt werden. Dementsprechend schafft die Erfindung mit Hilfe eines neuen Verfahrens zum Verdampfen und Rekondensieren von Feststoffen
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mit hohem Siedepunkt in einem neuen Plasmalichtbogen-Reaktor ein neues und von Verunreinigungen freies Pulver mit Partikelkorngrößen von 5 bis 500 Mikron. Derartige Peststoffe können z.B. sein: Kieselerde (silica), Magnesiumoxyd, Zirkonerde, Aluminiumoxyd sowie Metalle, wie Eisen, Aluminium, Kupfer, Nickel und deren Legierungen.
Nach der Erfindung ist ferner eine Vorrichtung zur Durchführung des Plasmaverfahrens vorgesehen, mit Anoden- und Kathodenelementen, die Durchgänge zur Aufnahme eines die Elemente durchdringenden Lichtbogenentladungsverlaufs und zum Durchlaß eines Gasstroms durch eines der Elemente bilden, Mittels zur Blockierung des durch das andere der Elemente strömenden Gasstroms sowie Mitteln zum Einleiten elektrischen Stroms in die Elemente und zum Erzeugen des Lichtbogenentladungsverlaufs. Die Vorrichtung bildet eine verlängerte Verdampfungszone, die zur Aufnahme des zugeführten Gases mit dem in dem einen Element b efindlichen Durchlaß in Verbindung steht und eine eine erhöhte Verdampfung des in der Verdampfungs- oder Aufenthaltszone strömenden Zusatzmittels sicherstellende, hinreichende Länge hat. Die Wandungen der Zone werden zwecks Erreichung der gewünschten, erhöhten Verdampfung des Zusatzes und zwecks Erhalts des gewünschten sub-mikronalen Pulvers, auf erhöhter Temperatur gehalten. Zusätze und Gas werden zu Anfang getrennt oder gemeinsam über einen Kanal in der Vorrichtung eingeleitet, um in wenigstens einen der Durchlässe im Bereich stromauf der Aufenthalts- oder Verdampfungszone und nahe dem Lichtbogenverlauf einzuströmen. Die Vorrichtung ist auch für Verfahren
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geeignet, bei denen die Aufenthaltszone primär zur unterstützung anderer chemischer Reaktionen als der Verdampfungserhöhung eines pulverförmigen Zusatzes, dient. Die Erfindung zeichnet sich weiterhin aus durch eine Einrichtung zur Kühlbzw. Löschmitteleinleitung in den Bereich stromab geleiteter heißer Gase unter Ansprechen auf den Strom innerhalb der Zone zwecks Bewirkung einer Kondensation der verdampften Zugabe in Form eines fein verteilten Pulvers. Gemäß einem weiteren Merkmal ist die Erfindung gekennzeichnet durch Mittel zur Regulierung der Zuführmenge des Löschmittels, um die ümgrenzungsfläche der Verdaipiungszone zwecks Steuerung (d.h. zwecks Hemmung oder Stabilisierung) der Kondensation des Zusatzmittels an der ümgrenzungs fläche auf hinreichend erhöhter Temperatur zu halten sowie außerdem, um die Menge des Pulverproduktes zu steuern. Weiterhin zeichnet sidi die Erfindung aus durch Mittel zum Trennen des Pulverproduktes aus dem Löschgas, durch Mittel zum Vorheizen bzw. Vorwärmen des Zusatzes durch Hindurchleiten durch einen mit der Verdampfungszone in Wärmeaustausch stehenden Kanal und durch Mittel zur gesonderten Abkühlung der Verdampfungszone.
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Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der anschließenden Beschreibung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der Zeichnung; in der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 einen Vertikalschnitt durch eine bevorzugte Ausführungsform der Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens,
Fig. 2 einen Schnitt nach Linie 2-2 in Fig. 1 und Fig. 3 abgebrochene Querschnittsansichten von von der und 4
Vorrichtung nach Fig. 1 abgewandelten Ausführungsformen.
In Fig. 1 ist der Aufbau der Vorrichtung veranschaulicht, bei der Anoden- und Kathodenelemente 11,12 Durchlässe zur Aufnahme eines die Elemente durchdringenden Lichtbogenentladungsverlaufs 100 und für ein Passieren des Gasstromes durch eines der Et-lemente, z.B. die Kathode 12, bilden. Die Elektrodenelemente können aus Wolfram bestehen und sind in aus Kupfer bestehende Buchsen 13 und 14 eingesetzt. Die entsprechenden Durchlässe weisen Einschnürungsbereiche 22 und 22a sowie erweiterte Bereiche 19 und 19a auf, von denen die Durchlaßerweiterung 19 eine Mischkammer bildet, deren Funktion anschließend beschrieben werden soll.
Ein hitzebeständiger Gasring 15 aus z.B. Aluminiumoxyd 1st in einen Gasringhalter 16 eingesetzt, der aus Teflon bestehen kann und die Elektroden gegeneinander isoliert sowie außerdemein
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Einleiten eines Arbeits- bzw. Betriebsgases aus einer Kammer 17 durch die Gasringöffnungen oder -kanäle 18 ermöglicht. Von deh letzteren kommend passiert der Gasstrom den zwischen den Stirnflächen der Elektroden gebildeten Raum 1Oi9 um in die oben bereits erwähnten Durchlässe einzutreten. Das in den Durchlaß 19a einströmende Gas kehrt mittig in den Einsehnürungsbereich 22 zurück, um zusammen mit dem direkt in den Einschnürungsbereich einströmenden Gas stromab in die Mischzone 19 zu gelangen.
Die Lichtbogenentladung 100 baut sich, wie durch die Pfeile dargestellt, zwischen den Elektroden auf und das die Lichtbogenentladung passierende Gas wird zwecks Bildung eines Plasmas auf eine hohe Temperatur erwärmt. Die Plasmatemperatur kann z.B. weit über 1000° C liegen und beträgt bei der Behandlung von Kieselerde über 2000° C. Die Lichtbogenentladung kann l durch Mittel zum Hinleiten eines elektrischen Stromes zu den Elektroden erzeugt werden. Derartige Mittel weisen eine elektrische Stromquelle 102 für Gleich- oder Wechselstrom sowie Leitungen 103 und 104 auf, die die Stromquelle mit Platten 27 und 28 verbinden, an denen die Buchsen 13 und Ik bei 27a und 28a befestigt sind. Die Buchsen stehen mit den Elektroden in elektrischer Verbindung. Die Einrichtung wird in einem Gehäuse 10 gehalten, das aus Nylon bestehen kann.
Der Lichtbogenentladungsverlauf durchdringt beide Elektrodenelemente. Der Durchlaß 19a in der Elektrode 11 jedoch ist bei
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105 durch eine Verlängerung der Buchse 13 blockiert, so daß das in den Durchlaß 19a eintretende Gas nicht oben aus demselben ausströmen kann. Demzufolge muß alles Gas zwecks Verdampfung des Zusatzes durch die Kathode 12 und in die Mischzone 19 strömen, wie beschrieben werden wird. Andererseits fördert die Fähigkeit der Lichtbogenentladung, die Durchlässe in der Anode und Kathode zu durchdringen und innerhalb der vergrößerten Durchlaßquerschnittsbereiche in denselben zufenden, einen variablen oder instabilen Angriff des Lichtbogens an den Elektrodenflächen. Um etwaige Tendenzen zu Hochtemperaturerosionen der Elektrodenflächen zu verringern, wird ein solcher instabiler Angriff durch den Gasstrom innerhalb der Durchlaßerweiterungen 19 und 19a gefördert. In typischer Weise oszilliert der Lichtbogen zwischen den dargestellten, verschiedenen Lichtbogenangriffspunkten.
Wie aus Fig. 2 ersichtlich, erstrecken sich die Gasringöffnungen 18 im wesentlichen tangential zu einer Kreisfläche 18a, deren Mittelpunkt die Mittelachse 106 der Vorrichtung bildet, wodurch die Betriebsgase in einer Wirbelbewegung eingeleitet werden und die Eigenbewegung der Lichtbogenangriffspunkte an den Elektroden zunimmt. Als Ergebnis rotiert der Lichtbogen um die Mittelachse 106 und oszilliert dementsprechend entlang derselben, wobei die Länge des Lichtbogens durch Verändern der Strommenge des Betriebsgases, z.B. Stickstoff, um einen gewissen Grad verändert werden kann. Eine Hochtemperaturerosion der Elektroden wird
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— Q —
außerdem durch Wasserkühlung herabgesetzt. Z.B. kann Kühlwasser über Durchgänge 107 und 108 durch ringförmige Kanäle 29 und 30 in den Elektroden zirkulieren. Ein aufgesetztes Planschteil 32, das aus Kupfer bestehen kann, wird mit in einem Durchlaß 31 zirkulierendem Wasser gekühlt, dessen Zugang über einen Durchgang 109 möglich ist. Das Flanschteil 32 steht über ein Gewinde 110 mit einem verlängerten Teil der Zylinderbuchse Ik in Verbindung.
Die Vorrichtung weist Durchgänge 111 zum Zuführen von Beigabemittel in verteilter Form auf, das in wenigstens einen der von den Elektroden gebildeten Durchlässe und in denselben, insofern als die Mittellinie 106 vorzugsweise vertikal orientiert ist, nach unten strömt. Dabei wird das Beigabepulver von einem Trägergas, z.B. Stickstoff, mitgenommen, wobei der Strom durch die Öffnungen 23 in der Eektrode 12 eingestrahlt wird. Die radialen Einspritzöffnungen führen zu einer guten Vermischung des Beigabematerials mit den heißen, in der Mischkammer oder dem*Durchlaß 19 befindlichen Betriebsgasen. Vorzugsweise stehen die Öffnungen 23 mit dem Innern des Durchlasses 19 nahe dem stromab gelegenen Endpunkt des Lichtbogens 100 in Verbindung, wie dargestellt, wobei die Lichtbogenlänge völlig unabhängig von den Zufuhren ist. Stattdessen kann die Zufuhr auch über den Kanal 17* die Einlaßöffnung 18 und den Zwischenraum 101 eingeleitet werden, um Innerhalb des Einschnürungsbereiches 22 in einer Richtung stromab zu strömen.
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Der Durchmesser der Mischkammer 19 ist bei 112 in seinem stromab der öffnungen 23 gelegenen Bereich verkleinert, wodurch für eine bessere Durchmischung des Beigabepulvers und dadurch des Trägergases mit dem heißen Betriebsplasma eine zusätzliche !Turbulenz des Plasmagases herbeigeführt wird. Die Mischkammer wird auf erhöhter Temperatur gehalten, indem eine direkte Wasserkühlung derselben vermieden wird, wobei eine Wärmeübertragung durch Leiten der Wärme von der. Elektrode 12 an die Buchse 14 und anschließend an das Kühlmittel im Durchgang 30 erfolgt.
Nach einem bedeutenden Merkmal der Erfindung strömen Zusätze und Gas durch eine verlängerte Aufenthaltszone, wobei die Zufuhr in derselben auf einer hinreichend erhöhten Temperatur gehalten wird, um eine Verdampfung des Zusatzes zwecks Reduzierung der Stöffpartikelgrößen wesentlich heraufzusetzen. Als Beispiel hierzu strömt der Zusatz durch die verlängerte, rohrförmige Zone 20 nach unten, die in einem sich von der Kathode 12 aus erstreckenden Rohr 20a gebildet ist. Hierbei wird die ümgrenzungsfläche der Zone 20, z.B. die Wandung 20b des Rohres 20a auf erhöh-ter Temperatur gehalten, d.h. nahe der Mischzonentemperatur, und die Länge der Zone 20 ist vorbestimmt, um zwecks Erhalts des gewünschten sub-mikronalen Stofferzeugnisses eine erhöhte Verdampfung der Zufuhr sicherzustellen. In diesem Zusammenhang ergibt sich in Fällen, wo die Wandung 20b der Aufenthaltszone nicht auf einer erhöhten Temperatur gehalten wird, eine unvollständige Verdampfung des Zusatzpulvers; außerdem kondensiert der verdampfte Zusatz
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an der demgegenüber kühleren Wand. Letzteres führt bereits nach kurzer Betriebszeit zu einer Blockierung bzw. Verstopfung des Gasdurchlasses mit kondensiertem Material. Andererseits reicht durch Halten der Oberflächentemperatur der Wandung auf genügender Höhe eine Haltezeit von 0,1 bis 1 Millisekunden aus, um eine im wesentlichen vollständige Verdampfung eines einer lichten Maschenweite von 0,074 mm entsprechenden (200) mesh Bei gabepul ve rs aus Kieselerde zu erhalten. Ein bevorzugter Werkstoff für das Rohr 20a ist Wolfram, das einer Verdampfung bei hohen Pulverzufuhren standhält.
Eine Gaskühlung des Rohres 20a vermeidet alle mit einer Verdampfung der Rohrinnenwandung zusammenhängenden Probleme. Deshalb kann z.B. bei 113 Gas eingeleitet werden, das in einen zwischen dem Rohr 20a und einem Zylinderteil 26 aus Kupfer gebildeten Durchgang 25 strömt. Ein solches Gas kann z.B. aus einem Löschgas bestehen, das durch eine öffnung 21I in den ringförmigen Durchgang 25 einströmt, wobei ein an dem Löschvorgang teilnehmendes, am unteren Ende des Zylinderteils 26 angeordnetes, nachstehend mit Löschring bezeichnetes Zubehörteil 21 das Löschgas gegen den bei 114 aus dem unteren Ende des Rohres 20a austretenden, verdampften Zusatz-Abgang treibt. An dieser Stelle vermischt sich das Löschgas, z.B. kühler Stickstoff, mit dem verdampften Zusatzmittel und anderen aus der Zone 20 austretenden Gasen, was eine Kondensation des Zusatzes in sehr fein verteilter Form zur Folge hat. Durch Variieren der Strommenge des Löschgases, z.B. durch Regulieren ?ίϊ·ΰπ Ventils 115» kann das Maß der Abkühlung der heuten
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Stoffe verändert und die Partikelgröße des Stoffes gesteuert werden.
Unter bestimmten Betriebsbedingungen ist es möglich, auf der Fläche 20b eine dünne Schicht flüssigen Zusatzes, von z.B. Kieselerde, zu erhalten, die geeignet ist, irgendwelche Verunreinigungen des pulverförmigen Erzeugnisses mit verdampftem Material von der Wandung des Rohres 20a zu vermeiden. Ein derartiger Vorgang würde einer Vergrößerung des Löschgasstromes gleichkommen, was zu einer Herabsetzung der Temperatur der Wandung 20b und einer Kondensation des Zusatzes führen würde, um eine dünne Schicht desselben an der Wandung zu erhalten. Darüberhinaus kann dieser Vorgang derart sein, daß die an der Wandung 20b befindliche Flüssigkeit durch die in dem Löschring 21 befindliche Öffnung 116 und durch die Löschzone 114 nach unten abläuft bzw. abtropft, um sich als Schlacke unten zu sammeln. Eine solche Schlacke kann als Mittel zum Trennen bzw. Ausfällen bestimmter, in der Zufuhr enthaltener Verunreinigungen Wirken.
Es sei bemerkt, daß der Löschring 21, der aus Kupfer bestehen kann und bei 117 am unteren Ende des Zylinderteils 26 befestigt ist, das Löschgas gegen die Mittellinie des Rohres 20a zwingt, wo es sich mit den aus demselben austretenden, heißen Stoffen vermischt, woraus eine Kondensation des hoch verdampften Zuführmittels in sehr fein verteilter Form resultiert. Durch Verändern der Strommenge des Löschgases, kann der Grad der Abkühlung der heißen Stoffe verändert und die Partikelgröße des Stoffes gesteuert werden.
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Obwohl die obere Elektrode 11 entweder die Anode oder Kathode bilden kann, wurde herausgefunden, daß ein besserer Arbeitsablauf erreicht wird, wenn die obere Elektrode zur Anode und die untere Elektrode zur Kathode gemacht wird. Dadurch erhält man einen größeren Lichtbogen innerhalb der Durchlässe 22 und 19 der Kathode, woraus wiederum ein höherer Wärmewirkungsgrad resultiert. Normalerweise ist die untere oder Kathodenelektrode 12 dort geerdet, wo die Stromquelle 102 für den Betrieb Gleichstrom zuführt. Verschiedene O-Ringe 33 bis 38 aus Gummi verhindern, daß Kühlwasser und Gasströme in die oder aus den entsprechenden Durchlässen gelangen.
Im Bereich unterhalb der Löschringöffnung 116 strömen die gelöschten Stoffe durch ein eine Durchgangszone 220 bildendes, rohrförmiges Bauteil 120 nach unten. Das Bauteil 120 wird mit durch einen ringförmigen Zwischenraum 121 fließendem Kühlwasser gekühlt. Mittel zum Ausscheiden bzw. Abtrennen des im Kondensat fein verteilten Pulvers können die Form eines Siebes oder einer Leinwand od.dgl. haben, die zweckmäßig am Bauteil 120 befestigt werden.
Ein weiteres wesentliches Merkmal der Erfindung betrifft den extrem niedrigen Erosionsgrad der Elektroden und der Wandungen der Misch- und heißen Aufenthaltskammern. Bei Eintreten einer Erosion wird das pulverförmige Erzeugnis oftmals verfärbt. Bei einer Kupfererosion und Kieseierdezufuhr z.B. kann das Erzeugnis eine purpurrötliche Farbe annehmen. Bei einer
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Wolframerosion kann es sich dagegen bläulich verfärben. Die Erfindung schafft eine Vorrichtung, die die Herstellung eines feinen, pulverförmigen Erzeugnisses mit der gleichen Farbe, wie der des ursprünglichen Ausgangsmaterials ermöglicht.
In Betrieb der in Fig. 1 bis 3 dargestellten Ausführung nach der Erfindung wurde als Betriebsgas Stickstoffgas verwendet, während zur Erzeugung sub-mikronalen Kieselerde-Pulvers pulverhaltiges Trägergas und Löschgas sowie ein weißes Quarzsandpulver (-200 mesh) als Beigabe zur Anwendung kamen. Die folgende Tabelle zeigt die Ergebnisse verschiedener Versuche:
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Typische Betriebsparameter für eine klein bemessene Vorrichtung
Versuch Nr. 1
Leerlaufspannung
Betriebsspannung (Volt) Betriebsstrom (Ampdre)
Eingangsleistung, KW9 Gleichstrom
Gasströme:
Betriebsgas;Stickstoff (scfh)
Pulver-Trägergas, Stickstoff (scfh)
Löschgas, Stickstoff (scfh)
Zusatz-Pulvermenge (-200 mesh) Kieselerde (lb/hr)
Druck am Eingang zum Gasring (psig)
Ausgangsdruck, unmittelbar stromab der Elektrode gemessen (psig)
Eigenschaften des Stoffes;
Oberfläche (m /gm) (B.E.T. Stickstoffabsorbtion)
Partikelgröße, Millimicron 20-110 10-70
(Pore Volume) Porenvolumen (KWh/lb Kieselerde)
1+2+345 800 800 800 800 800 250 250 290 260 225
90 80 100 84 90
22.5 20.0 29.0 21.8 20.2
120 135 125 135 HO
45+ 50+ 50 45 45
330 550 320 620 200
2.1+ 1.0+ 2.0 0.9 1.5
40 30 32 25 32
108
282 129 240 120
- 10-25020-200 0.23 0.66 -
11 20 14.5 24.2 13.5
+ Trägergas mit Zusatzpulver, Welches dem Betriebsgas zugesetzt und durch den Gasring geleitet wird.
10 9 8 2 4/1 4Z1i
Unter Bezugnahme auf Fig. 3 zeigt die dargestellte Abwandlung einen durch einen Ringkragen 130 getrennten Durchlaß zwischen Elementen 20a und 26. Der obere Teil 25a des Durchlasses läßt
bein demselben /findliches Kühlmittel nach unten durch, wo es über eine bei 132 ventilgesteuerte Leitung 131 abfließt. In den unteren Teil 25b des Durchlasses zwischen den Elementen 20a und 26 wird über eine Leitung 133 und ein Ventil 131* ein flüssiges oder gasförmiges Kühlmittel eingeleitet, daß. in die Löschzone 114, wie oben bereits beschrieben, austritt. Wie oben strömen die heißen Stoffe innerhalb der Aufenthaltszone 20 nach unten. Als Ergebnis kann die Steuerung des Löschmittelstroms zur Regelung der Partikelgröße von der Steuerung der Wärmeübertragung zwischen den innerhalb der Hauptzone strömenden Stoffen und dem im Durchlaß 25a strömenden Kühlmittel abgetrennt werden.
Pig. H veranschaulicht eine weitere, der Ausführung in Fig.3 ähnliche Abwandlung und benutzt deshalb für die gleichen Teile die gleichen Bezugsziffern. Bei diesem Beispiel hat das Kühlmittel die Form eines Beigabepulvers, das in einem bei l40 dem Ventil 132 und einer Leitung 13I zugeführten Trägergas mitgenommen wird. Beigabe plus Trägergas strömen dann im oberen Durchgang 25a nach oben, um durch die öffnung 2k abgeführt und für den Kreislauf an den Zufuhreinlaß bei 23 oder 17» wie oben beschrieben, weitergeleitet zu werden. Auf diese Weise kann für eine höhere Leistungsausbeute bzw. einen höheren Wirkungsgrad die Zufuhr durch die innerhalb der Hauptzone strömenden heißen Stoffe vorgewärmt werden.
10982A/U21

Claims (26)

  1. \Belegexem^i^n 466 Irift
    Ansprüche:
    1· Verfahren zur !Reduzierung der Größe einer Zugabe aus Partikeln, dadurch gekennzeichnet, daß die Zugabe mit einem heißen Plasmagas in Berührung gebracht und mit dem Gas durch eine verlängerte Aufenthaltszone (20) geleitet sowie zwecks wesentlicher Steigerung der Verdampfung der Zugabe in dieser Zone auf einer hinreichend erhöhten Temperatur gehalten wird, und daß die in gesteigertem Maße verdampfte Zugabe in Form eines fein verteilten Pulvers kondensiert wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Halten der Zugabe auf einer erhöhten Temperatur durch Aufrechterhalten der Umgrenzungsfläche der Zone auf erhöhter Temperatur herbeigeführt wird»
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, daduroh gekennzeichnet, daß als Zugabe Kieselerde verwendet wird.
  4. 4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet-, daß die Hauptmasse des kondensierten Stoffes aus pulverartigen Partikeln von weniger als ein Mikron Größe besteht.
  5. 5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bi· 4» dadurch gekennzeichnet, daß in der Arbeitestufe eine elektrische Lichtbogenentladung (100) erzeugt und in die Lichtbogenentladung (100) ein Trägergas mit in demselben mitgenommener Zugabe eingeleitet wird.
    109824/U21 original
    -<β- 1**7188
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als Trägergas Stickstoff verwendet wird.
  7. 7· Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine elektrische Liehfbogenentladung (100) erzeugt wird, das Gas in den Lichtbogen (100) einströmt und die Zugabe nahe dem stromab gelegenen Ende des Lichtbogens (bei 23) in das Gas eingeleitet wird.
  8. 8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 3 bis 7, α dadurch gekennzeichnet, daß in der Arbeitsstufe zur Vervollständigung der Verdampfung die Zugabe durch eine heiße Aufenthaltszone (20) geleitet und die Umgrenzungsfläche der Zone (20) auf einer hinreichend erhöhten Temperatur gehalten wird, um an der Umgrenzungsfläche eine Kondensation von Kieselerde zu hemmen bzw. zu unterbinden.
  9. 9. Verfahren nach Anspruoh 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Zugabe zweoks Vervollständigung der Verdampfung durch eine hei** ße Aufenthaltszone (20) geleitet und an der ümgrenzungsfläohe der Zone (20) ein Film flüssiger Kieselerde aufrechterhalten wird.
  10. 10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9» dadurch gekennzeichnet, daß in der Kondensationsstufe die verdampfte Zugabe mit kühlem Löschgas in Berührung gebracht wird.
  11. 11. Verfahren nach Anspruoh. 10» daduroh gekennzeichnet, daß die Berührung dadurch erreicht wirdf daß das Lösohgae in die verdampfte Zugabe eingeleitet und - zur Steuerung der Größe dee pulverigen Erzeugnisses der Löechgaeetrom gesteuert wird.
    109824/U21
    ORIGINAL !
  12. 12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß das fein verteilte Pulver von dem Löschgas getrennt wird.
  13. 13. - Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasentladungsplasmas, mit Anoden- und Kathodenelementen, die Durchgänge■zur Aufnahme eines die Elemente durchdringenden Lichtbogehentladungsverlaufs bilden sowie Mitteln zur Stromzuführung zu diesen zwecks Erzeugung der Lichtbogenentladung, dadurch gekennzeichnet, daß ein Element (11) durch ein Glied (105) für einen Gasdurchgang blokkiert und das andere Element (12) für diesen freigegeben ist·
  14. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13» dadurch gekennzeichnet, daß sich zwecks Erzeugung eines nach unten gerichteten Strömungsverlaufs des Gases der in dem Element (12) befindliche Durchlaß (22) im wesentlichen senkrecht erstreckt.
  15. 15. Vorrichtung nach Anspruch 13 oder 14, gekennzeich- * net durch einen Einlaß (23) zum Zuführen einer grobkörnigen Pulverzugabe und eines Gasstroms für ein Strömen in wenigstens einen der Durchlässe (22,22a).
  16. 16. Vorrichtung nach Anspruch 15, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (111) zum Einleiten der Zugabe und des Gasstroms in den Einlaß (23).
  17. 17· Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der im Element (12) befindliche Durchlaß (22) im Bereich stromab des Durchlaßeingangs (bei 19) vergrößert ist und
    " 109824/U 2.1"'
    daß der Einlaß (23) so angeordnet ist, daß ein Zuführen der Zugabe zu der Seite des Durchlasses mit dem vergrößerten Teil (19) erfolgt.
  18. 18. "Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 13 bis 17, gekennzeichnet durch eine verlängerte Verdampfungszone (20), die mit dem Durchlaß (22,19) im Element (12) zur Aufnahme des Gases verbunden ist, und daß die Zone (20) eine eine gesteigerte Verdampfung bei erhöhter Temperatur der in derselben strömenden Zugabe sicherstellende, hinreichende Länge hat.
  19. 19. Vorrichtung nach Anspruch I84 gekennzeichnet durch eine Einrichtung (113, 24, 25,21) zur Kühl- bzw. Löschmitteleinleitung in den Bereich stromab geleiteter heißer Gase unter Ansprechen auf den Strom innerhalb der Zone (20) zwecks Bewirkung einer Kondensation der verdampften Zugabe in Form eines fein verteilten Pulvers.
  20. 20. Vorrichtung nach Anspruch 19, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (115) zur Regulierung der Kühlmitteleinführung zwecks Haltens der ümgrenzungsflache (20b) der Zone (20) für eine Steuerung der Kondensation der Zugabe an dieser auf hinreichend erhöhter Temperatur.
  21. 21. Vorrichtung nach Anspruch 19» gekennzeichnet durch eine Einrichtung (115) zum Verändern der Kühlmitteleinführung zwecks Steuerung der Partikelgröße des Zugabe-Kondensats.
    109824/1A21
  22. 22. Vorrichtung nach Anspruch 19 oder 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Zugabe aus Kieselerde besteht und daß die Einrichtung (115) zur Steuerung der Kühlmitteleinführung dazu bestimmt ist, an den Omgrenzungsflachen (20b) der Zone (20) einen Film flüssiger Kieselerde aufrechtzuerhalten.
  23. 23. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 19 bis 22, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zum Trennen . des Kondensats fein verteilten Pulvers von dem Kühlmittel.
  24. 24· Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 18 bis 23, gekennzeichnet durch eine aus Wolfram bestehende, die verlängerte Verdampfungszone (20) umgrenzende Wandung (20a).
  25. 25. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 18 bis 24, gekennzeichnet durch einen Kanal (25a), der die Zugabe zwecks Wärmeaufnahme an der Verdampfungszone (20) vor Einführung, über den Einlaß (23) entlangleitet.
  26. 26. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche
    18 bis 25, gekennzeichnet durch einen Kanal (25a,131) zur Durohleitung von Kühlmittel zwecks Wärmeaustausch mit der verlängerten Verdampfungsζone (20).
    109824/1421
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Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1255498A (en) * 1968-08-13 1971-12-01 Monsanto Chemicals Production of finely divided silica
US3663792A (en) * 1970-03-02 1972-05-16 Westinghouse Electric Corp Apparatus and method of increasing arc voltage and gas enthalpy in a self-stabilizing arc heater
BE795891A (fr) * 1972-02-23 1973-06-18 Electricity Council Perfectionnements aux chalumeaux a plasma
US3925177A (en) * 1973-01-30 1975-12-09 Boeing Co Method and apparatus for heating solid and liquid particulate material to vaporize or disassociate the material
US3953705A (en) * 1974-09-03 1976-04-27 Mcdonnell Douglas Corporation Controlled arc gas heater
US4060708A (en) * 1975-09-17 1977-11-29 Wisconsin Alumni Research Foundation Metastable argon stabilized arc devices for spectroscopic analysis
US4002466A (en) * 1975-11-03 1977-01-11 Bethlehem Steel Corporation Method of reducing ores
CH604897A5 (de) * 1976-05-21 1978-09-15 Alusuisse
GB2002208B (en) * 1977-08-01 1982-04-28 Thermo Electron Corp Process of and apparatus for producing a particulate product from a feed material
US4335080A (en) * 1977-08-01 1982-06-15 Thermo Electron Corporation Apparatus for producing selective particle sized oxide
CA1202599A (en) * 1982-06-10 1986-04-01 Michael G. Down Upgrading titanium, zirconium and hafnium powders by plasma processing
NO162440C (no) * 1983-03-15 1989-12-27 Skf Steel Eng Ab Anordning ved elektrisk oppvarming av gasser.
US4587397A (en) * 1983-12-02 1986-05-06 Plasma Energy Corporation Plasma arc torch
CA1225441A (en) * 1984-01-23 1987-08-11 Edward S. Fox Plasma pyrolysis waste destruction
US4625092A (en) * 1984-11-30 1986-11-25 Plasma Energy Corporation Plasma arc bulk air heating apparatus
US4634611A (en) * 1985-05-31 1987-01-06 Cabot Corporation Flame spray method and apparatus
US4626648A (en) * 1985-07-03 1986-12-02 Browning James A Hybrid non-transferred-arc plasma torch system and method of operating same
US4715878A (en) * 1987-03-12 1987-12-29 Gte Products Corporation Process for producing finely divided spherical glass powders
US5004488A (en) * 1989-03-20 1991-04-02 Pitman-Moore, Inc. Process for producing high purity fused quartz powder
US5319176A (en) * 1991-01-24 1994-06-07 Ritchie G. Studer Plasma arc decomposition of hazardous wastes into vitrified solids and non-hazardous gasses
GB9108891D0 (en) * 1991-04-25 1991-06-12 Tetronics Research & Dev Co Li Silica production
US5518178A (en) * 1994-03-02 1996-05-21 Sermatech International Inc. Thermal spray nozzle method for producing rough thermal spray coatings and coatings produced
BE1009236A3 (nl) * 1995-03-17 1997-01-07 B A Emiel Vanderstraeten B V Werkwijze voor het bereiden van glas en voor het conditioneren van de grondstoffen bestemd voor deze glasbereiding.
US5858469A (en) * 1995-11-30 1999-01-12 Sermatech International, Inc. Method and apparatus for applying coatings using a nozzle assembly having passageways of differing diameter
US7134159B2 (en) * 2004-01-13 2006-11-14 Rite-Hite Holding Corporation Stump-out apparatus for a dock leveler
US20070254159A1 (en) * 2005-08-26 2007-11-01 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions exhibiting corrosion resistance properties, related coated substrates, and methods
US7695705B2 (en) * 2005-08-26 2010-04-13 Ppg Industries Ohio, Inc. Method and apparatus for the production of ultrafine silica particles from solid silica powder and related coating compositions
US20070048550A1 (en) * 2005-08-26 2007-03-01 Millero Edward R Coating compositions exhibiting corrosion resistance properties, related coated substrates, and methods
US20100314788A1 (en) * 2006-08-18 2010-12-16 Cheng-Hung Hung Production of Ultrafine Particles in a Plasma System Having Controlled Pressure Zones
US7758838B2 (en) * 2006-08-18 2010-07-20 Ppg Industries Ohio, Inc. Method and apparatus for the production of ultrafine particles and related coating compositions
DE102008029681A1 (de) * 2008-06-23 2009-12-24 Plasma Treat Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen einer Schicht, insbesondere einer selbstreinigend und/oder antimikrobiell wirkenden photokatalytischen Schicht, auf eine Oberfläche
GB0819359D0 (en) * 2008-10-22 2008-11-26 Intrinsiq Materials Ltd Plasma torch
WO2016004047A1 (en) * 2014-07-02 2016-01-07 Corning Incorporated Spray drying mixed batch material for plasma melting

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2265180A (en) * 1937-06-07 1941-12-09 Elektro Metallurg Appbau Ag Process for converting metals and the like
US3010009A (en) * 1958-09-29 1961-11-21 Plasmadyne Corp Method and apparatus for uniting materials in a controlled medium
US3082314A (en) * 1959-04-20 1963-03-19 Shin Meiwa Kogyo Kabushiki Kai Plasma arc torch
US3246114A (en) * 1959-12-14 1966-04-12 Matvay Leo Process for plasma flame formation
US3212914A (en) * 1961-05-23 1965-10-19 Union Carbide Corp Electric pulse coating process and apparatus
CH417118A (de) * 1961-11-23 1966-07-15 Ciba Geigy Verfahren zur Herstellung von Tantal oder Niob durch Reduktion von Tantal- oder Niobpentachlorid im Wasserstoff-Plasmastrahl
US3114826A (en) * 1962-06-06 1963-12-17 Plasmadyne Corp High-temperature spray apparatus
NL128054C (de) * 1963-01-29

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Publication number Publication date
US3533756A (en) 1970-10-13
FR1549593A (de) 1968-12-13
GB1205576A (en) 1970-09-16
BE706366A (de) 1968-03-18
NL6715277A (de) 1968-05-16
CH515671A (de) 1971-11-15

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