DE1614535B2 - Fotowiderstand fuer strahlungen einer wellenlaenge groesser als 8my - Google Patents
Fotowiderstand fuer strahlungen einer wellenlaenge groesser als 8myInfo
- Publication number
- DE1614535B2 DE1614535B2 DE19671614535 DE1614535A DE1614535B2 DE 1614535 B2 DE1614535 B2 DE 1614535B2 DE 19671614535 DE19671614535 DE 19671614535 DE 1614535 A DE1614535 A DE 1614535A DE 1614535 B2 DE1614535 B2 DE 1614535B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- inclusions
- radiation
- semiconductor
- photoresistor
- antimonide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 44
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 33
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 15
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 4
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 19
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910019963 CrSb Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016964 MnSb Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000033695 Sige Species 0.000 description 1
- BPAABJIBIBFRST-UHFFFAOYSA-N [V].[V].[V].[Ga] Chemical compound [V].[V].[V].[Ga] BPAABJIBIBFRST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- RJAAXVMENUVEAN-UHFFFAOYSA-N antimony vanadium Chemical compound [V].[Sb] RJAAXVMENUVEAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007713 directional crystallization Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910000999 vanadium-gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen Fotowider- Wellenlängen oberhalb 8 μ geeignet sein kann, dessen
stand aus einem Halbleitermaterial, das zueinander Widerstand sich mit der Intensität der einfallenden
parallel ausgerichtete nadelartige Einschlüsse aus Strahlung ändert.
einer zweiten, elektrisch besser leitenden, metallisch Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch geabsorbierenden
kristallinen Phase enthält. 5 löst, daß die besser leitenden Einschlüsse für den
Halbleiterfotowiderstände stellen einfache Bau- Nachweis von Strahlen mit einer Wellenlänge größer
elemente zur Registrierung elektromagnetischer Strah- als 8 μ einen Abstand voneinander haben, der gleich
lung dar. Zur Registrierung der Strahlung wird dabei oder kleiner als die Vakuumwellenlänge der zu empdie
Änderung des elektrischen Widerstandes des fangenden Strahlung ist. Durch die in die halbleitende
Halbleiterkörpers unter dem Einfluß der Strahlung io Phase eingebetteten Einschlüsse wird erreicht, daß
ausgenutzt. Die Empfindlichkeit der Halbleiterfoto- der Halbleiterkristall auch Strahlung absorbiert, für
widerstände ist jedoch durch die Lage der Absorp- die Indiumantimonid ohne Einschlüsse auf Grund
tionskante des für den Fotowiderstand verwendeten der Lage der Absorptionskante bei etwa 7,2 μ bereits
Halbleitermaterials begrenzt, die im wesentlichen durchlässig und daher nicht mehr empfindlich ist. Die
durch die Breite der verbotenen Energiezone vor- 15 Einschlüsse müssen im wesentlichen senkrecht zu
gegeben ist. So ist etwa Indiumantimonid, das eine dem im Halbleiterkristall fließenden Strom stehen, da
der kleinsten verbotenen Zonen aufweist und dessen bei parallel zur Stromrichtung verlaufenden Ein-Absorptionskante
bei; einer Wellenlänge von etwa Schlüssen wegen der kurzschließenden Wirkung die-7,2
μ liegt, für Strahlungen einer Wellenlänge von ser Einschlüsse der Dunkelwiderstand des Halbleitermehr
als 8 μ praktisch vollständig durchlässig und 20 kristalls zu stark herabgesetzt würde.
daher als Empfänger für Strahlungen einer solchen Geeignete Halbleiterkristalle und Verfahren zu Wellenlänge nicht geeignet. Man hat den Empfind- ihrer Herstellung sind in einem Aufsatz in der Zeitlichkeitsbereich von Halbleiterfotowiderständen in schrift »The Journal of Physics and Chemistry of Richtung größerer Wellenlängen durch Einbau von Solids«, Vol. 26 (1965), S. 2021 bis 2028, im einzel-Störstellenniveaus in das Halbleitermaterial erweitert, 25 nen beschrieben.
daher als Empfänger für Strahlungen einer solchen Geeignete Halbleiterkristalle und Verfahren zu Wellenlänge nicht geeignet. Man hat den Empfind- ihrer Herstellung sind in einem Aufsatz in der Zeitlichkeitsbereich von Halbleiterfotowiderständen in schrift »The Journal of Physics and Chemistry of Richtung größerer Wellenlängen durch Einbau von Solids«, Vol. 26 (1965), S. 2021 bis 2028, im einzel-Störstellenniveaus in das Halbleitermaterial erweitert, 25 nen beschrieben.
die in der Nähe der Kanten des Valenz- bzw. Lei- Der Halbleiterfotowiderstand wird vorteilhaft dertungsbandes
liegen. Da diese Störstellenniveaus we- art ausgebildet, daß die Einschlüsse im wesentlichen
gen ihrer kleinen Ionisierungsenergie jedoch bei Zim- in Richtung der zu empfangenden Strahlung ausmertemperatur
bereits ionisiert sind, lassen sich der- gerichtet sind. Dadurch wird erreicht, daß die Widerartige Halbleiterfotowiderstände nur bei sehr tiefen 30 Standsänderung im Halbleiterfotowiderstand prak-Temperaturen,
insbesondere bei der Temperatur des tisch unabhängig von der Polarisation der zu mesflüssigen
Heliums, betreiben. Derartige Strahlungs- senden Strahlung ist.
empfänger sind daher wegen des zur Aufrechterhai- Insbesondere Halbleiterfotowiderstände mit Eintung
dieser tiefen Temperaturen erforderlichen Kry- Schlüssen aus Nickelantimonid können jedoch auch
ostaten verhältnismäßig aufwendig. 35 derart ausgebildet sein, daß die Einschlüsse im we-Es
ist ferner bekannt, daß eine halbleitende AinBv- seitlichen senkrecht zur Richtung der zu empfangen-Verbindung,
die eutektische Ausscheidungen einer den Strahlung ausgerichtet sind. Derartige Halbleiterzweiten
Phase enthält, als Strahlungsempfänger für fotowiderstände bieten die Möglichkeit, Polarisationsoptoelektronische
Einrichtungen geeignet ist. Nach effekte bei der Strahlenmessung auszunutzen, da
der deutschen Patentschrift 1 214 807 kann der mit 40 Strahlungsanteile, deren elektrischer Vektor in Richnadel-
oder scheibenförmigen Einschlüssen versehene tung der Einschlüsse schwingt, bevorzugt absorbiert
Halbleiterkörper als Fotoelement verwendet werden. werden.
Geeignete Halbleiter sind insbesondere Indiumanti- An Hand einiger Figuren und Beispiele soll die
monid InSb und Indiumarsenid InAs. Die im Halb- Erfindung näher erläutert werden,
leiterkörper senkrecht zum erzeugten Strom aus- 45 F i g. 1 zeigt schematisch ein Ausführungsbeispiel
gerichteten Einschlüsse können insbesondere aus für einen Halbleiterfotowiderstand gemäß der Er-
Nickelantimonid NiSb bestehen. Es ist aber auch be- findung;
reits vorgeschlagen worden, die Einschlüsse aus Ver- Fig. 2 zeigt die Absorptionskonstante eines Halbbindungen
vom Typ CBv herzustellen (Patentanmel- leiterfotowiderstandes nach Fig. 1 mit Nickelantidung
P 15 19 862.2- VPA 65/1120), bei denen C.ein 50 monideinschlüssen und die Absorptionskonstante von
Element aus der Gruppe Fe, Co, Ni, Cr, Mn und Bv Indiumantimonid ohne Einschlüsse in Abhängigkeit
ein Element der V. Gruppe des Periodischen Systems von der Wellenlänge;
der Elemente, z. B. FeSb und FeAs, CoAs, CrSb und F i g. 3 zeigt die Empfindlichkeit eines Halbleiter-CrAs
sowie MnSb ist. Ferner können die Einschlüsse fotowiderstandes mit Nickelantimonideinschlüssen
aus Vanadium-Gallium V8Ga5 oder aus Gallium- 55 nach F i g. 1 in Abhängigkeit von der Wellenlänge;
Vanadium-Antimon GaV3Sb5 bestehen (Patentanmel- F i g. 4 zeigt schematisch ein weiteres Ausführungsdung P 15 44 280.5- VPA 66/1084). Dieses zwei- beispiel für einen Halbleiterfotowiderstand gemäß der phasige Material ist als Fotoelement vorzugsweise Erfindung;
Vanadium-Antimon GaV3Sb5 bestehen (Patentanmel- F i g. 4 zeigt schematisch ein weiteres Ausführungsdung P 15 44 280.5- VPA 66/1084). Dieses zwei- beispiel für einen Halbleiterfotowiderstand gemäß der phasige Material ist als Fotoelement vorzugsweise Erfindung;
geeignet für Strahlungen im Ultrarotgebiet vom Sicht- Fig. 5 zeigt ein Beispiel einer geeigneten Schalbaren bis zu einer Wellenlänge von etwa 8 μ. Es ist 60 tung für einen Halbleiterfotowiderstand gemäß der
Bestandteil eines elektrischen Stromkreises und bildet Erfindung.
somit auch einen elektrischen Widerstand. Bei dem in Fig. 1 dargestellten Halbleiterfoto-Aufgabe
der Erfindung ist es, einen Halbleiterfoto- widerstand sind die in das aus Indiumantimonid bewiderstand
anzugeben, der für Strahlungen einer stehende Halbleitergrundmaterial 1 eingebetteten,
Wellenlänge von mehr als 8 μ empfindlich ist und bei 65 schematisch dargestellten nadeiförmigen Einschlüsse 2
Zimmertemperatur betrieben werden kann. Sie be- senkrecht zur Richtung des den Halbleiterkristall im
ruht auf der Erkenntnis, daß das bekannte zweipha- Betriebszustand durchfließenden Stromes / und in
sige Halbleitermaterial als Strahlungsempfänger für Richtung der zu registrierenden Strahlung 3 ausge-
richtet. Als Kontakte sind zwei beispielsweise aus Kupfer bestehende Drähte 4 vorgesehen, die mit
einem niedrigschmelzenden Lot mit dem Halbleiterkristall verlötet sind. Es können beispielsweise auch
aufgedampfte Kontakte vorgesehen werden.
Als Halbleiterkristall für den in Fig. 1 dargestellten Halbleiterfotowiderstand ist beispielsweise Indiumantimonid
mit 1,8 Gewichtsprozent Nickelantimonid vorgesehen. Bei gerichteter Kristallisation oder
beim Zonenschmelzen einer derart Zusammengesetzten Substanz bildet sich ein Eutektikum, in dem sich
das Nickelantimonid in Form von parallel zueinander ausgerichteten Nadeln ausscheidet, die etwa 10 bis
100 μ, vorzugsweise etwa 30 μ, lang sind und einen Durchmesser von etwa 0,5 μ besitzen. Der seitliche
Abstand zwischen den einzelnen Nadeln beträgt etwa 3,5 μ.
Die elektrische Leitfähigkeit der Nadeln ist größer als die des Indiumantimonids. Während eigenleitendes
Indiumantimonid bei Zimmertemperatur eine spezifische elektrische Leitfähigkeit von etwa
220 (Ωαη)-1 besitzt, hat das Nickelantimonid eine
spezifische elektrische Leitfähigkeit von etwa 7· ΙΟ-^Ωαη)-1. Der als Fotowiderstand verwendete
Halbleiterkristall kann beispielsweise aus einem größeren Kristall herausgeschnitten werden. Beispielsweise
kann der in F i g. 1 dargestellte Halbleiterkristall etwa 0,1 mm stark, etwa 0,7 mm breit und etwa
10 mm lang sein. Derartige dünne und langgestreckte Kristalle werden bevorzugt, da der spezifische elektrische
Widerstand des Materials verhältnismäßig klein ist.
Kurve α in Fig. 2 zeigt die Absorptionskonstante
eines eigenleitenden Indiumantimonidkristalls mit Nickelantimonideinschlüssen, der die eben genannten
Abmessungen besitzt. An der Abszisse ist die Wellenlänge / des eingestrahlten Lichtes in linearem Maßstab,
an der Ordinate die Absorptionskonstante K des Halbleitermaterials in logarithmischem Maßstab aufgetragen.
Zum Vergleich ist als Kurve b in Fig. 2 die Absorptionskonstante eines eigenleitenden Indiumantimonidkristalls
etwa gleicher Abmessungen in Abhängigkeit von der Wellenlänge dargestellt. Wie aus den Kurven klar zu erkennen ist, ist die Absorptionskonstante
des Indiumantimonidkristalls mit Nickelantimonideinschlüssen bei Wellenlängen von
mehr als 8 μ gegenüber der Absorptionskonstante des Indiumantimonidkristalls ohne Einschlüsse wesentlich
erhöht.
In F i g. 3 ist die spektrale Empfindlichkeit des gleichen Indiumantimonidkristalls mit Nickelantimonideinschlüssen
in Abhängigkeit von der Wellenlänge dargestellt. An der Abszisse ist die Wellenlänge
λ der eingestrahlten Strahlung in linearem Maßstab, an der Ordinate die Empfindlichkeit E des
Halbleiterfoto Widerstandes in willkürlichen Einheiten
ebenfalls in linearem Maßstab aufgetragen. Zur Messung wurde monochromatisches Licht verwendet, mit
dem der Halbleiterfotowiderstand mit einer Frequenz von 13 Hertz intermittierend beleuchtet wurde. Unter
spektraler Empfindlichkeit ist dabei das Verhältnis zwischen Fotostrom und eingestrahlter Strahlungsleistung
zu verstehen. Wie F i g. 3 zeigt, nimmt zwar die spektrale Empfindlichkeit dieses Halbleiterfotowiderstandes
im Bereich der Absorptionskante des Indiumantimonids leicht ab, bleibt jedoch bei Wellenlängen
zwischen etwa 10 und 15 μ verhältnismäßig konstant. Die Eignung des Halbleiterfotowiderstandes
als Strahlungsempfänger für Strahlungen einer Wellenlänge von mehr als 8 μ ist aus der Figur klar
ersichtlich.
In Fig. 4 ist ein Halbleiterfotowiderstand dargestellt, bei dem die in das aus Indiumantimonid bestehende
Halbleitergrundmaterial 11 eingelagerten Nickelantimonidnadeln 12 senkrecht zu dem den
Halbleiterkristall durchfließenden Strom / und senkrecht zur Richtung der zu registrierenden Strahlung
13 ausgerichtet sind. Als Kontakte sind wiederum angelötete Kupferdrähte 14 vorgesehen. Der als Fotowiderstand
zu verwendende Kristall kann wiederum in geeigneter Weise aus einem größeren Kristall herausgeschnitten
sein. Er kann beispielsweise etwa 50 μ stark, 0,2 mm breit und etwa 12 mm lang sein. Bei
diesem Halbleiterfotowiderstand kann die unterschiedliche absorbierende Wirkung der Nickelantimonidnadeln
auf die verschiedenen Polarisationsrichtungen der Strahlung 13 ausgenutzt werden. Beispielsweise
kann bei polarisationsmodulierter Strahlung, mit der etwa eine Signalübertragung möglich
ist, der erfindungsgemäße Halbleiterfotowiderstand gleichzeitig die Funktion eines Analysators mit übernehmen.
Insbesondere für den in F i g. 1 dargestellten Fotowiderstand
kann auch Indiumantimonid mit etwa 6,5 Gewichtsprozent Manganantimonid vorgesehen
sein. Beim gerichteten Kristallisieren oder beim Zonenschmelzen einer derart zusammengesetzten
Substanz bildet sich wiederum ein Eutektikum, in dem sich das Manganantimonid in Form von im
wesentlichen parallel zueinander ausgerichteten Nadeln ausscheidet. Die Nadeln sind etwa 10 bis 100 μ
lang, haben einen Durchmesser von etwa 1 μ und einen seitlichen Abstand von etwa 3,5 μ.
F i g. 5 zeigt eine einfache Schaltung zum Betrieb des Halbleiterfotowiderstandes gemäß der Erfindung.
Der Fotowiderstand 21 ist bei dieser Schaltung mit einem konstanten Arbeitswiderstand 22 elektrisch in
Reihe geschaltet und mit einer Gleichspannungsquelle 23 verbunden. Die bei Beleuchtung des Fotowiderstandes
21 auftretende Stromänderung wird über dem Widerstand 22 durch ein geeignetes Meßinstrument
24 gemessen. Durch eine Blende 25, die eine Öffnung für die beispielsweise vom Austrittsfenster
26 eines Lasers ausgehende Strahlung 27 frei läßt, wird der Fotowiderstand 21 gegen aus der Umgebung
einfallende Strahlung geschützt.
Zur Unterdrückung von störender Untergrundstrahlung wird der Fotowiderstand 21 vorteilhaft mit
Wechsellicht beleuchtet. Falls die Strahlungsquelle selbst kein Wechsellicht ausstrahlt, kann zur Erzeugung
des Wechsellichtes vorteilhaft eine rotierende Zerhackerblende 28 vorgesehen sein, welche die zu
messende Strahlung vorzugsweise mit einer Frequenz zwischen etwa 10 und etwa 500 Hertz unterbricht.
Der erfindungsgemäße Strahlungsempfänger eignet sich besonders vorteilhaft zur Registrierung der energiereichen
Strahlung des CO2-Lasers, die eine Wellenlänge
von 10,6 μ besitzt.
Claims (5)
1. Fotowiderstand aus einem Halbleitermaterial (Indiumantimonid), das zueinander parallel
ausgerichtete, nadelartige Einschlüsse aus einer zweiten, elektrisch besser leitenden, metallisch
absorbierenden kristallinen Phase (Nickelanti-
monid) enthält, dadurch gekennzeichnet,
daß die besser leitenden Einschlüsse für den Nachweis von Strahlen mit einer Wellenlänge
größer als 8 μ einen Abstand voneinander haben, der gleich oder kleiner als die Vakuumwellenlänge
der zu empfangenden Strahlung ist.
2. Fotowiderstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einschlüsse aus Nickelantimonid
mit dem Indiumantimonid ein Eutektikum bilden.
3. Fotowiderstand nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einschlüsse aus Manganantimonid bestehen und mit dem Indiumantimonid
ein Eutektikum bilden.
4. Fotowiderstand nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Einschlüsse
(2) im wesentlichen in Richtung der zu empfangenden Strahlung (3) ausgerichtet sind.
5. Fotowiderstand nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einschlüsse (12) im wesentlichen
senkrecht zur Richtung der zu empfangenden Strahlung (13) ausgerichtet sind.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES0110116 | 1967-06-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1614535A1 DE1614535A1 (de) | 1970-11-12 |
DE1614535B2 true DE1614535B2 (de) | 1971-06-09 |
Family
ID=7529992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19671614535 Pending DE1614535B2 (de) | 1967-06-01 | 1967-06-01 | Fotowiderstand fuer strahlungen einer wellenlaenge groesser als 8my |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1614535B2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE879975A (fr) * | 1978-12-04 | 1980-03-03 | Colburn William A | Dispositif electronique contenant une matiere composite et son procede de realisation |
-
1967
- 1967-06-01 DE DE19671614535 patent/DE1614535B2/de active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1614535A1 (de) | 1970-11-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1032404B (de) | Verfahren zur Herstellung von Flaechenhalbleiterelementen mit p-n-Schichten | |
DE1464315C3 (de) | Schaltungsanordnung mit einem strahlungsempfindhchen Halbleiter Schaltelement | |
DE1614535C (de) | Fotowiderstand fur Strahlungen einer Wellenlange großer als 8 my | |
DE1614535B2 (de) | Fotowiderstand fuer strahlungen einer wellenlaenge groesser als 8my | |
DE4101389C2 (de) | Verfahren zur Messung elektromagnetischer Strahlung, Halbleiter-Strahlungsdetektor zur Durchführung des Verfahrens und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiter-Strahlungsdetektors | |
DE2930584C2 (de) | Halbleiterbauelement, das den Effekt der gespeicherten Photoleitung ausnutzt | |
DE1956631A1 (de) | Halbleiterbauelement zum Modulieren elektromagnetischer Strahlung | |
DE2703324A1 (de) | Ionisationsstrahlungs-festkoerperdetektor | |
Hernández et al. | Optical transitions and distribution of localized levels in ZnIn2S4 | |
DE1108344B (de) | Sperrschichtphotozelle | |
DE3033203A1 (de) | Photoelement | |
DE2207311A1 (de) | Kalium-Tantalat-Detektor für ultraviolette Strahlung | |
DE1789046C (de) | Strahlungsdetektor mit einem Halb leiterkorper mit photothermomagnetischem Effekt | |
DE955080C (de) | Halbleitersystem mit nichtlinearer Strom-Spannungs-Charakteristik | |
DE1214807B (de) | Halbleiterphotoelement | |
WO1991006016A1 (de) | Supraleitender strahlungsdetektor | |
DE1789047C (de) | Fotowiderstand fur Strahlungen einer Wellenlange großer als 8 my | |
DE1531560C (de) | Einrichtung zum Regeln der Temperatur im Inneren von Raumfahrzeugen | |
DE1949138C3 (de) | Kernstrahlungsdetektor | |
DE1789047B2 (de) | Fotowiderstand fuer strahlungen einer wellenlaenge groesser als 8 my | |
DE1614570B1 (de) | Halbleiterphotoelement | |
DE1489198B2 (de) | Variable Kapazitätsdiode | |
DE1463762C (de) | Überwachungseinrichtung fur elektrische Hochspannungs Über tragungsleitungen | |
DE1964190C3 (de) | Infrarotstrahlungsdetektor | |
DE1464276C (de) | Optoelektronische Baueinheit |