DE1608200A1 - Photosensitive plate - Google Patents
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8 MÜNCHEN 27, DEN8 MUNICH 27, DEN
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Die Erfindung bezieht" sich auf die xerographische Technik, insbesondere auf eine lichtempfindliche Platte. ■ The invention relates "to the xerographic technique, and more particularly to a photosensitive plate. ■
In der xerographischen Technik wird bekanntlich zur Erzeugung eines elektrostatischen latenten Bildes eine Platte verwendet, die aus einer leitfähigen Unterlage beispielsweise aus Metall und einer darauf aufgebrachten photoleitfähigen Isolierstoffschicht, besteht. Eine für diesen Zweck geeignete Platte besteht aus einer Metallunterlage und einer Schicht aus glasförmigem Selen. Eine derartige Platte zeichnet sich durch ihre Aufnahmefähigkeit für elektrostatische Ladung- sowie durch deren selektive Ableitung bei Belichtung aus, wobei sie hauptsächlich für Licht im blauj grünen Spektralbereich empfindlich ist.In the xerographic technique, as is known, a plate is used to generate an electrostatic latent image, which plate consists of a conductive substrate, for example made of metal, and a photoconductive insulating material layer applied to it. A plate suitable for this purpose consists of a metal base and a layer of vitreous selenium. Such a plate is characterized by its ability to absorb electrostatic charges as well as its selective dissipation during exposure, whereby it is mainly sensitive to light in the blue-green spectral range.
109809/0^18109809/0 ^ 18
Glasförmiges Selen ist in. den meisten fällen zum Standardmaterial für die kommerzielle pcerographische Technik geworden, jedoch kön-\ nen viele seiner Eigenschaften durch die Beigabe von Legierungselementen, verbessert werden, beispielsweise das Empfindlichkeitsspektrum, die Lichtempfindlichkeit, die thermische Stabilität usw. Die Vorteile der Modifizierung glasförmigen Selens durch die Beigabe geeigneter Mengen Arsen sowie der damit erhaltene größere Bereich des Empfindlichkeitsspektrums gehen aus den US-Patentschrif-' ten 2 803 5^2 und 2 822 JOO hervor. Dabei ergibt sich eine Erhöhung der gesamten photographischen Geschwindigkeit sowie eine Verbesserung der Stabilität der photoleitfähigen Schicht. Vitreous selenium is the standard material in most cases for commercial pcerographic technology, but can- \ Many of its properties can be improved by adding alloying elements, for example the sensitivity spectrum, photosensitivity, thermal stability, etc. The advantages of modifying vitreous selenium by adding appropriate amounts of arsenic and the larger area obtained with it of the sensitivity spectrum go from the US patent specification 2,803 5 ^ 2 and 2,822 JOO. This results in an increase the overall photographic speed as well as an improvement in the stability of the photoconductive layer.
Obwohl glasförmiges Selen eine zufriedenstellende Empfindlichkeit aufweist, sind für schnell ablaufende Verfahren Photoleiter erforderlich, die eine erhöhte Empfindlichkeit und ein größeres Empfindlichkeitsspektrum gegenüber glasförmigem Selen haben. Hierzu sind Platten erforderlich, die im Hinblick auf die schnelle Bilderzeugung bzw. den kleinen Zeitfaktor eine sehr hohe Empfindlichk . -Although vitreous selenium has a satisfactory sensitivity photoconductors are required for fast-running processes, which have an increased sensitivity and a wider range of sensitivity compared to vitreous selenium. This requires plates that are designed for rapid imaging or the small time factor a very high sensitivity . -
" keit oder panchromatische Eigenschaften haben."ability or panchromatic properties.
Einen Schritt in dieser Richtung stellt die Beigabe von Antimon in geeigneten Mengen zum Selen dar, wie sie in der deutschen Patentanmeldung R 4-6 503 IXa/57e beschrieben ist. Glasförmige Legierungen von Antimon und Selen ergeben eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Empfindlichkeitsfaktor, der bis zu 12 Mal größer als derjenige von glasfö&gem Selen ist, wobei die relative Empfindlichkeit gegenüber derjenigen von glasförmigem Selen im blau-grünen Spektralbereich bis zu 3 Mal größer ist. t Obwohl mit dieser Legierung die xerographische GeschwindigkeitThe addition of antimony represents a step in this direction in suitable amounts for selenium, as described in German patent application R 4-6 503 IXa / 57e. Glass-shaped alloys of antimony and selenium result in a photosensitive composition having a sensitivity factor of up to 12 times larger than that of glasfö & gem selenium, the relative sensitivity to that of vitreous Selenium is up to 3 times larger in the blue-green spectral range. t Although with this alloy the xerographic speed
1QS3Ö9/(H18 .^ ^oCAB1QS3Ö9 / (H18. ^ ^ OCAB
18082001808200
erhöht wurde, ist jedoch noch ein Nachteil vorhanden^ der in einem relativen Mangel an thermischer Stabilität im Hinblick aif Kristallisation besteht. .has been increased, however, there is still a disadvantage ^ that in a relative lack of thermal stability in terms of aif Crystallization exists. .
Zur Vermeidung dieses Nachteiles sieht die Erfindung eine lichtempfindliche Platte vor, die eine photoleitfähige Isolierstoff- r~ schicht aus einer glasförmigen legierung von Arsen, Antimon und Selen aufweist. . ; ^ : To avoid this drawback, the invention provides a photosensitive plate having a photoconductive Isolierstoff- r ~ layer of a glassy alloy of arsenic, antimony and selenium has. . ; ^ :
Diese Legierungen werden ähnlich-den glasförmigen pho-teieitfähigen Legierungen des Arsen-Seleii^Systems gebildet, die in den US-Patentschriften 2 803 54-2 und 2 822 300 sowie in der genannten Patentanmeldung beschrieben sind.' Es wurde gefunden, daß eine glas- £örmige Legierung von Arsen, Antimon und Selen' in einem -Bereich von bis, zu ca. 50 At^ (4-8,7 Gew.#) Arsen, ca. 0,1 bis 22 ktfo (0,15 bis 31IjO Gew.;ö) Antimon und nicht weniger als ca. 4-0 At^ (33,9 Gew.$) Selen eine lichtempfindliche Z-usanmensetzung darstellt, deren Empfii-idlichkeitsfaktor bis zu 12 Mal größer ist als g derjenige von glasfcriniiqem Selen, wobei die thermische Stabilität verbessert ist und größer als diejenise.des glasförmigen Selens eingestellt werden Icann. Ein vorzugsx·/eiser Bereich von bis zu ca, 4-5 At1P (4-5,7 Gew.;5) Arsen, bis zu ca. 13 It^ (18,8 Gew.^) Anfcinon und nicht weniger als ca. 55 At;i- (56,3 Gew.>6) Selen- ergibt die Lombination optimaler thermischei-1 Stabilität und licht-' empfindlicälceit. Das iür maximale thermische Stabilität erforderliehe .Verhältnis"-von Arsen zu Antimon soll;in der Größenordnung von ca* 2 bis 4 At$ Arsen oder hÖh0r pro -1At^ Antimon liegen. In $eäem -%|#;e "soll das: ^A.rsen in einer ■ Menge von\aiindestens ca. ■'..-. ■These alloys are formed in a manner similar to the vitreous, photo-conductive alloys of the arsenic-selenium system, which are described in US Pat. It has been found that a glass £ örmige alloy of arsenic, antimony and selenium 'in a range of up to about 50 ^ At (4 to 8.7 wt. #) Arsenic, about 0.1 to 22 ktfo (0.15 to 3 1 IjO wt g is greater than that of glasfcriniiqem selenium, wherein the thermal stability is improved and become larger set as diejenise.des vitreous selenium ICANN. A preferred range of up to about 4-5 At 1 P (4-5.7 wt.; 5) arsenic, up to about 13 It ^ (18.8 wt At about 55; i- (56.3 wt>. 6) results in the selenium Lombination optimum stability and light thermischei- 1 'empfindlicälceit. The lor maximum thermal stability erforderliehe .Verhältnis "-from arsenic to antimony is intended; on the order of about 2 to 4 * At $ arsenic or antimony hÖh0r per -1At ^ lie in $ eäem -% | #; e." Is this: ^ A.rsen in an amount of at least approx. ■
1SÖS20Ö1SÖS20Ö
0,5 At#'"(O»"6 GeWi^) vorliegen, um eine annehmbare thermische Stabilität zu erhalten, während das Antimon iß einer Menge von mindestens ca; 0,1 At# (0,15 Gew.^) vorhanden sein soll, um die erwünschte Empfindlichkeit oder Empfindlichkeitsverteilung zu erhalten. *0.5 At # '"(O» "6 GeWi ^) exist to be an acceptable thermal Maintain stability while eating an amount of antimony at least approx; 0.1 At # (0.15 wt. ^) Should be present to the desired sensitivity or sensitivity distribution obtain. *
Der Vorteil dieser verbesserten lichtempfindlichen Stoffzusammen-■ ' setzung geht aus der folgenden Beschreibung der Erfindung an.'Hand fc der figuren Ifervor·The benefit of these improved photosensitive fabrics together- ■ 'Setting is based on the following description of the invention.'Hand fc of the characters Ifervor
. Fig.1 zeigt einen $eil des ternären Diagramms für Antimon, Ä3?S und Selen, . ; ■ ' :, ·■. Fig. 1 shows part of the ternary diagram for antimony, 3 S and selenium,. ; ■ ':, · ■
■ Fig.2 zeigt eine 'Anzahl spektraler Empfindlichkeifskurvfcn füä? Λ eine Gruppe von Photoleitern in Form einer erfindungsgemäßen ' • ternären Legierung. -■ ". .;:;·.. -■ ;Figure 2 shows a number of spectral sensitivity curves for? Λ a group of photoconductors in the form of a '• ternary alloy according to the invention. - ■ "..;:; · .. - ■;
•Das in Fig.1 gezeigte ternäre Diagramm zeigt die-Flächenteile, für die die Legierung Antimon-Arsen-Selen die erwünschten Photoleitfähigkeitseigensehaften und thermische Stabilität aufweist. Die Fläche unteüaälb der Kurve A-B-G-D stellt Stoffzusammensetzungen; dar, die vorzugsweise thermische Stabilität besitzen. Die Fläche unter der Kurve E-F-G-H, die auch die Fläche unter der Kurve A-B-G-D einsch3ie£t, enthält zusätzliche .3usammensetzüngen mit etwas geringerer thermischer Stabilität, jedoch mit etwas besseren xerographischen Eigenschaften als diejenigen unter der Kurve A-B-G-D. . . '• The ternary diagram shown in Fig.1 shows the surface parts, for which the alloy antimony-arsenic-selenium has the desired photoconductivity properties and has thermal stability. The area below the curve A-B-G-D represents compositions of matter; represent, which preferably have thermal stability. The area under the curve E-F-G-H, which is also the area under the Including curve A-B-G-D, contains additional compounds with somewhat lower thermal stability, but with somewhat better xerographic properties than those under the Curve A-B-G-D. . . '
Die gestrichelten" Linien-J-"uiid- K-sind die Grenzen für die minimalen Mengen Arsen und Antimon für die vorzugsweise ternare Legierung.The dashed "lines-J-" uiid-K- are the limits for the minimum Amounts of arsenic and antimony for the preferably ternary alloy.
10 8809/0418 βαο^ιΛ|ΜΜ - ": :r: ""■'"10 8809/0418 βαο ^ ιΛ | ΜΜ - "r" "■ '"
Wie aus dem ternären Diagramm hervorgeht, soll das Arsen in einer Menge von mindestens ca. 0,5 At# (0,6 Gew,$) und das Antimon in einer Menge von mindestens ca. 0,1 At$ (0,15 Gew,$) vorliegen.As can be seen from the ternary diagram, the arsenic is said to be in a Amount of at least about 0.5 at # (0.6 wt., $) And the antimony in in an amount of at least about 0.1 At $ (0.15 wt, $).
Die erfindungsgemäßen glasförmigen Legierungen aus Arsen, Antimon und Selen können nach, gedem geeigneten Verfahren hergestellt werden, Typische derartige Verfahren sind die herkömmliche Einzelquellenverdampfung und die Entspannungsverdampfung., Bei beiden Verfahren findet vorzugsweise eine Vorreaktion der Bestandteile vor der Verdampfung statt, die in der Bildung von Selenidverbin- ~ düngen resultiert, deren Dampfdrucke besser sind als diejenigen der elementaren Stoffe. Die Anfangslegierungen werden durch Wiegen des elementaren Arsens, Antimons und Selens und Eingabe in ; ein Vakuum innerhalb einer Silikaglasampulle hergestellt. Die Stoffe werden einige Stunden lang auf 600 G erhitzt und dann an der Luft auf Zimmertemperatur abgekühlt. Abhängig von der Zusammensetzung ist die abgekühlte^ Legierung vollständig polykristallin, eine Mischung kristalliner und amorpher Phasen oder vollständig amorph. Die vorreagierte Legierung wird dann in einer >| Kugelmühle auf eine kleine Teilchengröße von weniger als ca. 1 mm Durchmesser gemahlen.The inventive vitreous alloys of arsenic, antimony and selenium can be produced by any suitable process. Typical processes of this type are conventional single-source evaporation and flash evaporation Selenide compounds result, the vapor pressures of which are better than those of the elementary substances. The initial alloys are made by weighing the elemental arsenic, antimony and selenium and entering in ; a vacuum is created inside a silica glass ampoule. The fabrics are heated to 600 G for a few hours and then cooled to room temperature in the air. Depending on the composition, the cooled alloy is completely polycrystalline, a mixture of crystalline and amorphous phases or completely amorphous. The pre-reacted alloy is then converted into a> | Ball mill ground to a small particle size of less than about 1 mm in diameter.
Bei der Einz'elquellenverdampfung wird eine geeignete Menge der vorreagierten Legierung in einen erhitzten flachen Schmelztiegel oder ein Schiffchen eingegeben, welcher in einem Vakuum von beispielsweise 10 bis 10 mm Quecksilbersä.ule gehalten wird.In the case of single source evaporation, an appropriate amount of the pre-reacted alloy in a heated flat crucible or a boat entered, which is in a vacuum of for example 10 to 10 mm of mercury column.
Die Schmelztiegel können aus jedemneutralen Stoff-wie Quarz, Molybdän, oder keramisch ausgekleidetem Metall bestehen» Die Le-The crucibles can be made of any neutral material such as quartz, Molybdenum, or ceramic-lined metal, »The Le-
_6_ 18082M_ 6 _ 18082M
gierung aus Arsen, Antimon und Selen wird auf einer Temperatur ; gehalten, die innerhalb einer angemessenen Zeit die Erzeuroing für eine Ablagerung ausreichender Dämpfe gewährleistet. Diese Temperatur liegt normalerweise höher als der Schmelzpunkt- der Legierung, Eine gesamte Verdampfungszeit von ca. 20 Minuten bei ca. 400° G und dem vorstehend beschriebenen Vakuum ergibt die Bildung einer Legierungsschicht mit einer Stärke von ca. 20 bis 40.Mikron.alloy of arsenic, antimony and selenium is at a temperature ; held, which ensures the ore ring for a deposition of sufficient vapors within a reasonable time. This temperature is normally higher than the melting point of the alloy. A total evaporation time of approx. 20 minutes at approx. 400 ° G and the vacuum described above results in the formation of an alloy layer with a thickness of approx. 20 to 40 microns.
fe Eine Unterlage wird über den erhitzten Schmelztiegeln angeordnet, auf die die Leg; erung aufgedampft wird. Diese Unterlage wird auf einer relativ geringen Temperatur gehalten. Geeignete. Temperaturen liegen zwischen ca. 60-und 150° C. .-■.·.:-:* -..-fe A pad is placed over the heated crucible, on the leg; eration is evaporated. This document is based on kept at a relatively low temperature. Suitable. Temperatures lie between approx. 60- and 150 ° C. .- ■. ·.: -: * -..-
Ein weiteres Verfahren zur Verdampfung ist die Entspannungsvex-dampfung. Bei einem Vakuum ähnlich dem für die Einzelquellenverdampfung genannten, wobei die vorreagierte Legierung aus Arsen, Antimon und Selen mit einer Teilchengröße von weniger als Λ mm Durchmesser selektiv in einen erhitzten, neutralen Schmelztiegel getropft wird, der auf einer Temperatur von ca. 450 bis 660 C gehaltervwird. Die durch Erhitzung· der Mischung erzeugten Dämpfe werden auf eine über den Schmelztiegel angeordnete Unterlage aufgedampft. Die Legierung wird mit einer Geschwindigkeit eingetropft, die zur Verhinderung der Bildung einer Legierungsschmelze im Tiegel ausreicht, wodurch das Problem der fraktionellen Verdampfung minimal ist.· Die Unterlage befindet sich auf einer,Temperatur von ca. 60 bis 150° G. Dieses Verfahren wird fortgesetzt, bis die erforderliche Starke der glasformigen Legierungsschicht auf der Unterlage vorhanden ist. BADORiMAt . ■Another method of vaporization is relaxation vex vaporization. At a vacuum similar to that mentioned for the single-source evaporation, the pre-reacted alloy of arsenic, antimony and selenium with a particle size of less than Λ mm in diameter is selectively dripped into a heated, neutral crucible, which is at a temperature of approx. 450 to 660 C. is held. The vapors generated by heating the mixture are evaporated onto a base placed above the crucible. The alloy is dripped in at a rate sufficient to prevent the formation of an alloy melt in the crucible, which minimizes the problem of fractional evaporation. The substrate is at a temperature of approx. 60 to 150 ° G. This process is continued until the required thickness of the vitreous alloy layer is present on the substrate. BADORiMAt. ■
• - 7 -• - 7 -
- 109809/0410- 109809/0410
pi' Die erfindungsgemäßen Legierungen können auf jeder Unterlage ·pi 'The alloys according to the invention can be used on any substrate
?; leitfähiger oder isolierender Art aufgebracht sein* Hierzu dienen Metallplatten beispielsweise aus Messing, Aluminium, Gold, Platin,?; be applied in a conductive or insulating manner * Serve for this Metal plates made of brass, aluminum, gold, platinum, for example,
; Stahl o.a. Die Unterlage kann jede geeignete Stärke haben, starr oder flexibel sein, die Form eines Blattes, eines Bandes, eines Zylinders o.a. haben und mit einer dünnen Plastikschicht über-; Steel, etc. The base can be of any suitable thickness, rigid or be flexible, have the shape of a sheet, a band, a cylinder or similar and are covered with a thin layer of plastic.
. zogen sein. Ferner kann sie aus metallisiertem Papier, Plastik, · mit einem dünnen Überzug aus Aluminium oder Kupferiodid-versehene Plastik, mit einer dünnen Schicht teilweise durchsichtigen Kupfer- λ iodids, Zinnoxids oder Goldes versehenem Glas bestehen. Tn bestimmt en -Fällen kann nach der -Bildung der Legierung sogar auf die Unterlage verzichtet werden.. be pulled. Further, they may be made of metallized paper, plastic, · with a thin coating of aluminum or copper iodide-provided plastic, with a thin layer of partially transparent λ copper iodide, tin oxide or gold consist LABEL FOR glass. In certain cases it is even possible to dispense with the support after the alloy has been formed.
Die" Stärke der Legierungsschicht aus Arsen, Antimon und Selen ist nicht kritisch. Sie kann ca. 0,1 Mikron oder auch JOO Mikron oder mehr-betragen, für die meisten Anwendungsfälle liegt sie · ijedoch zwischen ca. 20 und 80 Mikron* · ·The "thickness of the alloy layer made of arsenic, antimony and selenium is not critical. It can be approx. 0.1 micron or JOO micron or more, for most applications it is but between approx. 20 and 80 microns * · ·
In einer anderen Ausführungsform·kann die erfindungsgemäße photo-, leitfähige Legierung mit einem Halogen wie Jod, Chlor oder Brom dotiert .sein, um die Ήestspannung zu verringern und die.elektrischen Eigenschaften allgemein zu verbessern. Das Ealogendotierungsmi-ttel ist in Mengen von ca. 10""* Gew.# bis zu 2 Gew.{£ vorhanden.In another embodiment, the inventive photo, conductive alloy doped with a halogen such as iodine, chlorine or bromine in order to reduce the residual voltage and reduce the electrical To improve properties in general. The halogen doping agent is present in amounts of approximately 10 "" * wt. # up to 2 wt. {£.
In· einer weiteren Ausführungsform der. Erfindung kann die Legierung aus Arsen, Antimon und Selen in einer geschichteten' Konfiguration '-verwendet .werden." Typische Anordnungen, bestehen aus. einer. relativ % dünnen SÄ-eirtAvanvca-* -ßi^pis^Mikron Arsen-Antimon-Selenlegie- \ ,. , rung über einer reiktiv./dickeren Schicht -aus'^iMf orm-ig'eia Selen.In a further embodiment of the. Invention, the alloy of arsenic, antimony and selenium in a layered 'Configuration' -... .Werden used "Typical arrangements consist of a relatively thin SAE% eirtAvanvca- -SSI * ^ ^ pis microns arsenic-antimony Selenlegie- \,. , tion over a reiktiv./thicker layer -from '^ iMf orm-ig'eia selenium.
_8_ 1606200_ 8 _ 1606200
Eine andere typische Struktur enthält eine Legierung aus Arsen und Selen beispielsweise gemäß US-Patentschrift 2 822 300, die anstelle des Selens in der vorstehend genannten zweischichtigen Konfiguration verwendet wird. Es sei bemerkt, daß beide Schichten einer zweischichtigen Struktur mit einem geeigneten Halogen dotiert sein können, um die elektrischen Eigenschaften zu verbessern» Strukturen mit mehr als zwei phötoleitfähigen Schichten werden durch die vorliegende Erfindung gleichfalls umfaßt. Die Legierungsschicht aus Arsen, Antimon und Selen kann ferner an der Unterlagengrenzschicht einer durchsichtigen Unterlage gebildet sein und durch diese Unterlage hindurch belichtet werden. In dieser Ausführungsf oral kann die Legierung aus' Arsen, Antimon und Selen allein oder in Verbindung mit anderen phötoleitfähigen Schichten der vorstehend genannten Art verwendet werden.Another typical structure includes an alloy of arsenic and selenium, for example, disclosed in US Pat. No. 2,822,300 which is used in place of the selenium in the above-mentioned two-layer configuration. It should be noted that both layers a two-layer structure can be doped with a suitable halogen in order to improve the electrical properties » Structures with more than two photoconductive layers are also encompassed by the present invention. The alloy layer of arsenic, antimony and selenium can also be used on the The substrate boundary layer of a transparent substrate can be formed and exposed through this substrate. In this embodiment, the alloy of arsenic, antimony and Selenium alone or in combination with other photoconductive layers of the type mentioned above can be used.
Beschreibung vorzugsweiser Ausführungsbeispiele Description of preferred exemplary embodiments
Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren speziellen Erläuterung der vorliegenden Erfindung im Hinblick auf ein Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Platte mit einer. Arsen-Antimon-Selenlegierung. Die Prozentwerte beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben. Die Beispiele stellen Verschiedene vorzugsweise Ausführungsformen zur Herstellung eines aue Arsen, Antimon und Selen bestehenden.Photoleiters dar.The following examples serve for further specific explanation of the present invention in terms of a method of making a photosensitive plate having a. Arsenic-antimony-selenium alloy. The percentage values relate to the weight, unless otherwise stated. Provide the examples Various preferred embodiments for the production of an external arsenic, antimony and selenium consisting of photoconductor.
109809/0418109809/0418
. 9-. 9-
Eine Anfangslegierung wird aus 18 Gew. ^ Ar sen,-.1 Gew. % Antimon .· und 81 Gew.^ Selen in Elementarform hergestellt und innerhalb einer Silikaglasampulle unter Vakuumverschluß gehalten. Die Mischung wird dann ca. 2 Stunden lang auf ca. 600° G in einem Schaukelofen erhitzt und dann auf Zimmertemperatur abgekühlt. Die erhaltene Legierung ist eine verfestigte polykristalline Matrix . ,miteinander vermischter Phasen, die dann in einer Kugelmühle auf eine Teilchengröße von weniger als ca. 1 mm Durehmesser gemahlen wird. . (J. An initial alloy is from 18 wt ^ Ar sen, -. 1% by weight antimony and 81 wt · ^ selenium in elemental form prepared and maintained within a Silikaglasampulle under vacuum closure.... The mixture is then heated for about 2 hours to about 600 ° G in a rocking oven and then cooled to room temperature. The alloy obtained is a solidified polycrystalline matrix. , mixed phases, which are then ground in a ball mill to a particle size of less than about 1 mm diameter. . (J
Eine. 40"Mikron starke Legierungsschicht aus glasförmigem Arsen, Antimon und Selen wird auf einer Aluminiumunterlage aus ca. 1 Geitf.# Antimon, 18 Gew.# Arsen und 81 Gew.% Selen folgendermaßen hergestellt: Die vorreagierte Legierung aus Beispiel I wird in ein mit Keramik ausgekleidetes flaches Metallschiffchen von ■ 5 x 10 cm Große hineingegeben. Die teilchenförmige Legierung wird über die Oberfläche des Schiffchens gleichmäßig verteilt. Das | Schiffchen wird dann in eine Vakuumkammer eingesetzt. Eine 10 χ 12,5 cm große Aluminiumplatte wird sorgfältig gereinigt und in der Vakuumkammer ca, 50 cm über dem. Schiffchen angeordnet und auf einer Temperatur von ca. 65° C gehalten, wozu eine wassergekühlte Platte dient. Die Kammer wird auf ein Vakuum von ca. 10~ mm Quecksilbersäule gebracht. Die Arsen-Antimon-Selenlegierung wird dann auf die Aluminiumplatte durch ca. 20 Minuten lange Erhitzung des Schiffchens auf ca. 400° 0 aufgedampft. Dann wird das Schiffchen auf Zimmertemperatur abgekühlt, das Vakuum beseitigt und die mit der Arsen-Antimon-Selenlegierung überzogene Aluminiumplatte aus derlVakuumkammer herausgenommen.One. 40 "micron alloy layer of vitreous arsenic, antimony and selenium is formed on an aluminum substrate of about 1 Geitf # antimony, 18 wt # arsenic and 81 wt% selenium as follows:... The prereacted alloy of Example I is converted to a ceramic Lined flat metal boat measuring 5 x 10 cm. The particulate alloy is evenly distributed over the surface of the boat. The boat is then placed in a vacuum chamber. A 10 χ 12.5 cm aluminum plate is carefully cleaned and placed in the vacuum chamber 50 cm above the boat and kept at a temperature of about 65 ° C., for which purpose a water-cooled plate is used, the chamber is brought to a vacuum of about 10 mm of mercury long evaporated onto the aluminum plate by about 20 minutes heating the boat to 400 ° 0th Then, the boat is cooled to room temperature, the V removed and the aluminum plate coated with the arsenic-antimony-selenium alloy was removed from the vacuum chamber.
. -10 -. -10 -
Durch die fraktionierung während der Verdampfung enthält die äußere Fläche der Legierungssehicht der in Beispiel II gebil-Due to the fractionation during evaporation, the outer surface of the alloy layer formed in Example II
Antimon deten Platte einen größeren prozentualen Anteil/als das Innere der Legierungsschicht, wobei die Uht§rflache der Legierungsschicht den geringsten Anteil Antimon enthält. Dies wurde durch Analyse mittels Elektronensonde festgestellt.Antimony deten plate a greater percentage / than the interior the alloy layer, with the outer surface of the alloy layer containing the lowest amount of antimony. This was done through Analysis determined by electron probe.
Die durch das "in Beispiel II angegebene Verfahren hergestellte Platte wird in einem xerographischen Verfahren folgendermaßen belichtet: Die Platte vrird mit einer Koronaeinrichtung auf eine positive Spannung von ca. 500 Volt aufgeladen und dann mit einer Wolframfadenlampe von 100 Watt aus einem Abstand von ca. 4-0 cm ca, 1/2 Sekunde lang zur Bildung eines latenten elektrostatischen Bildes auf ihrer Oberfläche belichtet. Das latente Bild wird dann durch Kaskadierung elektroskopischer Zeichenteilchen über die mit dem Bild versehene Oberfläche entwickelt. Das; Bild wird auf ein Blatt Papier übertragen und durch Hitzefixierung dauerhaft " gemacht. Auf diese Weise ergibt sich eine ausgezeichnete Reproduktion eines Originalbildes. - ·The plate made by the procedure given in Example II is made in a xerographic process as follows exposed: The plate is placed on a corona device positive voltage of approx. 500 volts and then charged with a tungsten filament lamp of 100 watts from a distance of approx. 4-0 cm exposed for about 1/2 second to form an electrostatic latent image on its surface. The latent image then becomes developed by cascading electroscopic drawing particles across the imaged surface. That; Image is on Transferred to a sheet of paper and made "permanent" by heat-setting. In this way, excellent reproduction results of an original image. - ·
Beispiel IV ' ' j Example IV " j
Eine 25 Mikron starke Schicht einer glasförmigen Arsen—Antimon— Selenlegierung wird auf einer Aluminiumunterlage folgendermaßen gebildet: Eine vorreagierte Legierung von ca. 12 Gew.# Antimon, 28 Gew.% Arsen und 60 Gew.^ Selen wird gemäß dem in Beispiel I angegebenen Verfahren hergestellt. Die vorreagierte Legierung wird in einen Messingtrichter eingegeben, der eine Kupferschütteλ enthält, über die die Teilchen in einen Quarzschmelztiegel unter—A 25 micron thick layer of a vitreous arsenic-antimony-selenium alloy is formed on an aluminum backing as follows: A pre-reacted alloy of approximately 12 wt.% Antimony, 28 wt. % Arsenic and 60 wt manufactured. The pre-reacted alloy is placed in a brass funnel which contains a copper chute λ through which the particles are placed in a quartz crucible.
1ßÖÖÖ9/£U1fi -11- 1ßÖÖÖ9 / £ U1fi -11-
halb des Trichters eingegeben werden. Der Quarzschmelztiegel ist mit einem Widerstandsheizer umgeben, der eine Temperatur voti ca, 600° C beibehält. Eine Aluminiumunterlage wird auf eine wassergekühlte Platte gelegt, die auf einer Temperatur von ca. 70° G gehalten wird* Die Älumlniumunterläge und die Platte sind in einem Abstand von ca* 50 cm oberhalb des Quarzschmelztiegels angeordnet. Über die gesamte Anordnung wird eine Glocke gesetzt, die auf einen Unterdruck von ca. 1O~ mm Quecksilbersäule evakuiert wird j und der Quarz schmelztiegel wird&uf eine Temperatur von ca. 600° O erhitzt. Bei Erreichen dieser Temperatur wird die unter ■des? Schürte vorgesehene Klapvpe des Trichters geöffnet und eine kleine Probe der Arsen-Äh-timon-Selenlegierung in den Quarzschmelztiegel eingegeben. Die Iiegierungsmischung verdampft schnell, und die Dämpfe des Arsens, des Antimons und des Selens kommen in Berührung mit der AluminitMunterlage. Dieses Verfahren wird ca. 2 Stunden lang fortgesetzt, wonach eine 25 Mikron starke Schicht einer glasförmigen Antlmon-Arsen-Selenlegierung von ca. 12 Gew.# Antimon, 28 Gew.> Arsen und 60 Gew.^ Selen auf der Aluminiumunterlage vorhanden ist. Der"Schmelztiegel wird dann auf Zimmer- | temperatur abgelcühlt, das Vakuum beseitigt unglfdie überzogene Unter-' lage aus der Kammer entnommen.halfway through the funnel. The quartz crucible is surrounded by a resistance heater that has a temperature voti approx. 600 ° C. An aluminum pad is placed on top of a water-cooled plate placed at a temperature of approx. 70 ° G is held * The aluminum washers and the plate are at a distance of approx * 50 cm above the quartz crucible arranged. A bell is placed over the entire arrangement, which evacuated to a negative pressure of approx. 10 ~ mm of mercury becomes j and the quartz crucible is raised to a temperature of approx. 600 ° O heated. When this temperature is reached, the under ■ des? Stoked open the intended flap of the funnel and one small sample of the arsenic-ah-timon-selenium alloy in the quartz crucible entered. The oil mixture evaporates quickly, and the vapors of arsenic, antimony and selenium come into contact with the aluminite underlay. This procedure is approx Continued for hours, after which a 25 micron thick layer a glass-shaped antimony-arsenic-selenium alloy of approx. 12 Wt. # Antimony, 28 wt.> Arsenic and 60 wt. ^ Selenium on the aluminum base is available. The "crucible is then on room | cooled down, the vacuum unleashed the coated under- ' removed from the chamber.
- Beispiel V - Example V
Die in Beispiel IV gebildete Legierung wird dann in der in Bei— spiel III beschriebenen Weise belichtet. Es ergibt sich eine ausgezeichnete Kopie eines Originalbildes*The alloy formed in Example IV is then used in the game III described way exposed. It turns out to be an excellent one Copy of an original picture *
100009/041 δ100009/041 δ
-Beispiele VI - IX - Examples VI - IX
Eine Gruppe von vier Platten wird zum Vergleich des Empfindlichkeitsspektrums hergestellt. Alle vier Platten enthalten eine 40 Mikron starke Schicht eines Photoleiters auf einer Aluminiumunterlage. Die Platte Kr.1 enthält eine 40 Mikron starke Schicht aus glasförmigem Selen, welches entsprechend US-Patentschrift 2 970 906 hergestellt ist. Die Platte ITr.2 enthält eine 40 Mikron starke • Schicht einer glasförmigen Legierung von 18 Gew.# Arsen und 82 Gew.# Selen dotiert mit ca..0,1 % Jod, welches durch das in der " Patentanmeldung R 44 804 IXa/57e beschriebene Verfahren hergestellt ist* Die Platte Nr.3 enthält eine glasförmige Legierung von 14 Gew.% Antimon und 86 Gew.^ Selen hergestellt nach dem in der Patentanmeldung E 46 503 Ixa/5?e beschriebenen Verfahren. Die Platte Hr*4 enthält die in Beispiel I beschriebene ternäre Legierung aus ca. 1 Gew.% Antimon, 18 Gew.$ Arsen und 81 Gew.# Selen dotiert mit ca. 0,1 % Jod. Die Kurven.des Empfindlichkeitsspektrums für jede der vier Platten xverden aufgenommen und haben den in Fig.2 dargestellten Verlauf.A group of four plates is prepared for comparison of the sensitivity spectrum. All four plates contain a 40 micron thick layer of photoconductor on an aluminum backing. The plate Kr.1 contains a 40 micron thick layer of vitreous selenium which is manufactured in accordance with US Pat. No. 2,970,906. The plate ITr.2 contains a 40 micron thick layer of a vitreous alloy of 18 wt. # Arsenic and 82 wt. # Selenium doped with approx. 0.1 % iodine, which is obtained by the "patent application R 44 804 IXa / 57e described method is manufactured * the plate # 3 contains a glassy alloy of 14 wt.% antimony, and 86 wt. ^ selenium prepared by the in patent application e contains 46,503 Ixa / 5? e methods described. the plate Hr * 4 as described in example I ternary alloy of about 1 wt.% antimony, 18 wt. $ arsenic and 81 wt. # selenium doped with about 0.1% iodine. the Kurven.des sensitivity spectrum for each of the four plates was added and xverden have the course shown in Figure 2.
In Fig. 2 ist die Empfindlichice it der vier Platten bei verschie-In Fig. 2, the sensitivity of the four plates is shown at different
ρ denen Wellenlängen dargestellt. E stellt die Energie in Erg/cm dar, die zur Entladung der Platte um ca. 25 % erforderlich ist. Die Platten wurden jeweils bei verschiedenen Wellenlängen geprüft, indem jede Platte auf eine Anfangsspannung von ca. 15 Volt pro Mikron gebracht wurde und dann bei der jeweiligen Wellenlänge mitρ are represented by wavelengths. E represents the energy in ergs / cm that is required to discharge the plate by approx. 25%. The plates were each tested at different wavelengths by bringing each plate to an initial voltage of about 15 volts per micron and then at the respective wavelength
12 2 '12 2 '
ca. 2 x" 10 Photonen pro cm see belihtet wurde. Wie aus den Kurven hervorgeht, zeigt die erfindungsgemäße Arsen-Antimon-Selenlef-;ierung bei 4000 Angstrom ungefähr die doppelte Empfindlichkeit als die Platte mit der ,'"el as form ine η Selenschicht und die Platteapprox. 2 x "10 photons per cm lake was illuminated. As shown in the curves is shown shows the arsenic-antimony-selenium elimination according to the invention at 4000 Angstroms about twice the sensitivity than the plate with the '"el as form ine η selenium layer and the plate
1 G 9 8 0 9 / 0 U 1 δ BATORiSiNAi; -13 -1 G 9 8 0 9/0 U 1 δ BATORiSiNAi; -13 -
mit der Arsen-Selenlegierung.Auch ist ihre Empfindlichkeit wesentlich größer als diejenige der "binären Antimon-Selenlegierung.with the arsenic-selenium alloy. Also is its sensitivity much larger than that of the "binary antimony-selenium alloy.
Wie aus den vorstehenden Ausführungen hervorgeht, haben die erfindungsgemäß hergestelfcen Arsen-Antimon-Selenlegierungen ein bis zu ca. 7000 Angström: vergrößertes Empfindlichkeitsspektrum und verbesserte Empfindlichkeit im kürzeren Wellenlängenbereich. Zusätzlich haben diese Legierungen eine bessere thermische Stabilität, die mit Antimon-Selen-Photoleitern;. nicht erreichbar ist, λ wobei die thermische Stabilität bei bestimmten Verhältnissen von Arsen zu Antimon diejenige des glasfÖrmigen Selens übertrifft.As can be seen from the foregoing, the arsenic-antimony-selenium alloys produced according to the invention have an up to approx. 7000 Angstrom: increased sensitivity spectrum and improved sensitivity in the shorter wavelength range. Additionally, these alloys have better thermal stability than those with antimony-selenium photoconductors. is not achievable, λ where the thermal stability at certain ratios of arsenic to antimony exceeds that of vitreous selenium.
Obwohl spezielle Bestandteile und Stoffmengen in der vorstehenden Beschreibung vorzugsweiser Ausführungsbeispiele der Erfindung angegeben sind, können auch andere Stoffe und Verfahrönsschritte, wie sie beispielsweisö weiter; obenaufgelfart sind,-mit ähnlichen Ergebnissen verwendet werden." Zusätzlich können weitere stoffe vorgesehen sein, die eine synergetisehe, verbessernde oder anderweitig abändernde Wirkung auf die Eigenschaften der erfindungsgeraäßen Bildplatten zeigen.Although specific ingredients and amounts of substance in the above Description of preferred exemplary embodiments of the invention given other substances and process steps can also be used, how they continue for example; are on top, -with similar ones Results are used. "In addition, other substances be provided that a synergetic, improving or otherwise modifying effect on the properties of the erfindungsgeraässer Show optical disks.
Nach Kenntnis der Beschreibung sind dem lachmann andere Ausführungsformen und Weiterbildungen der Erfindung möglich. Diese werden insgesamt durch den Grundgedanken der Erfindung umfaßt.After knowing the description, other embodiments are available to the laughing man and further developments of the invention are possible. These will encompassed as a whole by the basic concept of the invention.
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