DE1598130B2 - Verfahren und vorrichtung zur materialanalyse in einem sekundaerelektronen-emissions-mikroskop - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur materialanalyse in einem sekundaerelektronen-emissions-mikroskopInfo
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- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
Description
Sekundär - Elektronen - Emissionsmikroskope mit elektrostatischen und/oder elektromagnetischen Linsen
sind bekannt und verschiedentlich in der Literatur beschrieben. Die Auslösung der Elektronen aus
dem als Emissionskathode dienenden, meist heizbaren
3 4
Objekt geschieht dabei durch primär auf die Objekt- fachheitshalber wird der Elektronenstrom ik durch
Oberfläche auffallende Korpuskularstrahlen, beispiels- den gemessenen Gesamtemissionsstrom z0 dividiert, so
weise Ionen- oder Elektronen-Strahlen oder elektro- daß sich eine nominierte Energieverteilungskurve
magnetische Wellen, beispielsweise ultraviolettes ik ,„ , .,
Licht oder Röntgenstrahlen. Bei allen diesen Aus- 5 /„ *· k' ^1
lösungsarten ergibt sich im Elektronenbild des Ob- Zwei solche Kurven sind in F i g. 1 dargestellt. Die
jektes eine gewisse Material- oder Phasendifferenzie- Abszisse zeigt die Energie Ek in eV. Die differentielle
rung, da verschiedene Materialien verschiedene Se- Energieverteilung bei Sekundäremission erreicht ein
kundär-Emissionskoeffizienten aufweisen, wobei diese Maximum bei der Energie Null und fällt etwa exKoeffizienten zusätzlich von der Art der Auslösung io ponentiell ab gegen wachsende Energien, wobei nun
und von der kristallinen Orientierung des Materials die Steilheit des Abfalls materialtypisch ist und desin
bezug auf die Einfallrichtung des Primärstrahls halb zur Identifizierung benutzt werden kann,
abhängen. Infolge dieser vielfältigen Abhängigkeit Aus Fig. 1 ist sofort ersichtlich, daß eine Aufder Sekundäremissionskoeffizienten, welche zusatz- nähme der gesamten Energieverteilung nicht notwenlich noch durch dünne Oberflächenschichten, bei- 15 dig ist, sondern daß in einzelnen Fällen die Messung spielsweise Oxyd- oder Kontaminationsschichten, eines einzigen Punktes dieser Kurve, in anderen die stark beeinflußt werden, bietet das Sekundärelektrö- Messung von zwei oder mehreren Punkten für die nen-Emissionsbild wohl die Möglichkeit, verschie- Identifizierung des Materials genügt,
dene im Objekt nebeneinanderliegende Materialien Die erfindungsgemäße Möglichkeit der Materialoder Phasen durch Helligkeitsunterschiede sehr kon- 20 analyse im Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikrotrastreich zu unterscheiden, jedoch ist eine eindeutige skop ist von fundamentaler Bedeutung für die Elek-Identifizierung der Materialien auf Grund des Emissi- tronen-Emissions-Mikroskopie.
onskoeffizienten in den meisten Fällen ausgeschlossen. Das Verfahren ist auch bei geheiztem Objekt an-Die Aufgabe der Erfindung besteht in der Schaf- wendbar, und zwar auch bei Temperaturen, bei weifung eines Verfahrens und eines Sekundär-Elektro- 25 chen die thermische Emission einsetzt, mindestens nen-Emissions-Mikroskops, die eine solche Identifi- für Materialien, welche auch bei thermischer Emission zierung der Materialien auf Grund einer zusätzlichen noch unterschiedliche Energieverteilungskurven aufEigenschaft der am Objekt ausgelösten Elektronen, weisen.
abhängen. Infolge dieser vielfältigen Abhängigkeit Aus Fig. 1 ist sofort ersichtlich, daß eine Aufder Sekundäremissionskoeffizienten, welche zusatz- nähme der gesamten Energieverteilung nicht notwenlich noch durch dünne Oberflächenschichten, bei- 15 dig ist, sondern daß in einzelnen Fällen die Messung spielsweise Oxyd- oder Kontaminationsschichten, eines einzigen Punktes dieser Kurve, in anderen die stark beeinflußt werden, bietet das Sekundärelektrö- Messung von zwei oder mehreren Punkten für die nen-Emissionsbild wohl die Möglichkeit, verschie- Identifizierung des Materials genügt,
dene im Objekt nebeneinanderliegende Materialien Die erfindungsgemäße Möglichkeit der Materialoder Phasen durch Helligkeitsunterschiede sehr kon- 20 analyse im Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikrotrastreich zu unterscheiden, jedoch ist eine eindeutige skop ist von fundamentaler Bedeutung für die Elek-Identifizierung der Materialien auf Grund des Emissi- tronen-Emissions-Mikroskopie.
onskoeffizienten in den meisten Fällen ausgeschlossen. Das Verfahren ist auch bei geheiztem Objekt an-Die Aufgabe der Erfindung besteht in der Schaf- wendbar, und zwar auch bei Temperaturen, bei weifung eines Verfahrens und eines Sekundär-Elektro- 25 chen die thermische Emission einsetzt, mindestens nen-Emissions-Mikroskops, die eine solche Identifi- für Materialien, welche auch bei thermischer Emission zierung der Materialien auf Grund einer zusätzlichen noch unterschiedliche Energieverteilungskurven aufEigenschaft der am Objekt ausgelösten Elektronen, weisen.
nämlich deren Energieverteilung, erlauben. Für eine erste Ausführungsform des Sekundär-Das
Verfahren zu einer solchen Materialanalyse in 30 Emissions-Elektronen-Mikroskops ist der StrahleneinemSekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskopbegang
in Fig. 2 dargestellt. Das Objekt 1, das sich steht darin, daß zur Identifizierung der Objektmate- normalerweise auf hohem negativem Potential berialien
mindestens ein Punkt der Energieverteilungs- findet, wird aus einer Quelle 2 mit Korpuskularstrahkurve
der aus dem jeweiligen Material ausgelösten len oder elektromagnetischen Wellen beschossen. Die
Sekundär-Elektronen gemessen wird. 35 ausgelösten Sekundärelektronen werden durch die
DasSekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskopzur Zwischenelektrode 3 und die Anode 4 des Immer-Durchführung
des genannten Verfahrens enthält zu- sionsobjektivs beschleunigt und fokussiert. Das in
sätzlich zu den bekannten Teilen eine Vorrichtung, der Zwischenbildebene 5 entstehende Bild wird vorweiche
die Messung diskreter Punkte der Energie- teilhaft noch durch eine Projektivlinse 6 in die Bildverteilungskurve
erlaubt. 40 ebene 7 vergrößert. Objektiv und Projektiv können
Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand ebensogut magnetische wie elektrostatische Linsen
der Unteransprüche. sein. Das Sekundärelektronenbild wird in der Bild-Messungen der Energieverteilung bzw. der Ge- ebene 7 auf einem Leuchtschirm betrachtet. Zur Erschwindigkeitsverteilung
von Sekundärelektronen, die höhung der Auflösung wird meist eine Kontrastan verschiedenen Materialien ausgelöst wurden, ha- 45 blende 8 in oder in der Nähe des Objektivbrennpunkben
ergeben, daß die Energieverteilungskurve vom tes eingesetzt. Um das erfindungsgemäße Verfahren
Material abhängt und für verschiedene Materialien durchzuführen, wird nun an Stelle des Leuchtverschieden
ist. Für eine bestimmte Sorte von Pri- schirms 7 eine Blende eingesetzt, welche nur einen
märteilchen besitzt also jedes Material eine typische kleinen Ausschnitt des Bildes unbedeckt läßt. Die
Energieverteilungskurve. Die Messung dieser Kurve so Elektronen, welche diesen Ausschnitt passieren, gegestattet
eine Identifizierung des Materials. langen in einen Geschwindigkeitsanalysator 9, wel-Die
Messung der Energieverteilung kann beispiels- eher hier durch eine elektrostatische Zylinderlinse
weise mit Hilfe des bekannten Möllenstedtschen Ge- dargestellt ist, und werden je nach ihrer Geschwinschwindigkeitsanalysators
geschehen. Dabei wird digkeit mehr oder weniger abgelenkt. Das Bild der durch geschwindigkeitsabhängige Auslenkung der 55 Blende wird in der Bildebene 11 des Analysators
Elektronen eine Aufspaltung des Elektronenbündels fokussiert, wo photographisch oder mit Hilfe direkter
nach verschiedenen Energien bewirkt. Wird im auf- Strommeßmethoden, beispielsweise eines verschiebgespaltenen
Bündel ein feiner Bereich durch einen baren Faradaykäfigs 12, der Elektronenstrom /,. an
Spalt ausgeblendet, so fallen in diesen Bereich nur verschiedenen Punkten Pk gemessen wird. Diese
Elektronen mit einer Energie E/. + /1E, wobei durch 60 Messungen ergeben einzelne diskrete Punkte der
Verschieben des Spaltes im Bündel beliebig verschie- differentiellen Energieverteilungskurve, welche für
dene diskrete Werte von E1, eingestellt werden kön- jenes Material typisch ist, dessen vergrößertes Bild
nen. Der hinter dem Spalt gemessene Elektronen- in der Bildebene ausgeblendet wurde. Um gleich die
strom ik ist ein Maß für die Anzahl Elektronen, Werte der normierten differentiellen Energieverteiwelche
die Energie E1. +ΛΕ besitzen. Wird nun die- 65 lungskurve zu erhalten, wird die Zylinderlinse des
scr Strom ik für viele Werte von k gemessen, so ergibt Analysators ausgeschaltet, wonach der Elektronensich
eine Meßkurve, welche die diftercnticlle Ge- strom unabgelenkt auf die Umgebung des Punktes Pn
schwindigkeits- oder Energieverteilung darstellt. Ein- fällt und dort als Gesamtstrom /„ gemessen werden
2,3 | • | ΙΟ"» | 4,75 | ■ΙΟ-9 |
2, | 3 | • lO-io | 1 8,9· | lO-io |
10 | 5 | ,5 |
5 6
kann. Um die Messung der Energieverteilung nicht des Leuchtschirms, gebracht. Darauf wird der Elekzu
verfälschen, wird während der Strommessungen tronenempfänger 14 so eingeklappt, daß er über den
die Kontrastblende 8 in an sich bekannter Weise aus- markierten Punkt zu liegen kommt, was vorzugsweise
geschaltet oder durch eine sehr große Blende ersetzt. durch eine Rasterung bewirkt wird. Nun wird bei
Dadurch wird die Auflösung im Bild 7 allerdings 5 kleiner Kontrastblende 8, beispielsweise bei der eben
herabgesetzt; für die Analyse ist deshalb eine schlech- für die Bildbetrachtung benutzten, der Elektronentere
Auflösung gegeben als für die Abbildung. Im- strom mit Hilfe des Meßgerätes 15 gemessen. Darauf
merhin gelingt es, bei Ausblendung von Bild-Berei- wird die Kontrastblende gegen eine größere ausgechen
mit Durchmessern, welche im Objekt wenigen wechselt und abermals der Elektronenstrom gemes-Zehntelmikron
entsprechen, noch eine einwand- io sen. Dies kann mit mehreren Größen von Kontrastfreie Material-Identifizierung zu erreichen. blenden geschehen, im allgemeinen genügen aber
Die Blende 7 wird vorteilhaft in Größen und Form zwei, wie folgende Meßreihe zeigt,
verstellbar vorgesehen, damit sie der Größe und/oder Gemessen wurden Nickel und Alurninium-Bild-
Form der auszublendenden Bildteile angepaßt wer- ausschnitte bei Elektronenauslösung mit Argon-
den kann. Dies kann beispielsweise in bekannter 15 Ionen. Die kleine Kontrastblende hatte einen Durch-
Weise durch Übereinanderschieben von verschieden messer von 50 μ, die große einen solchen von 1000 μ.
geformten Halbblenden 'geschehen. Diese Halbblen- Gemessene Elektronenströme:
den werden vorteilhaft mit Leuchtsubstanz belegt,
den werden vorteilhaft mit Leuchtsubstanz belegt,
damit das Elektronenbild während der Verschiebung /o (große Kontrastblende)
der Blende jederzeit beobachtet werden kann. Ein 20 2
ausklappbarer Zusatzleuchtschirm 13 dient dazu, daß ,/,,· ν ± L1 , N
zum Einstellen der Blende auch der zu analysierende h (kleine Kontrastblende)
Bildteil beobachtet werden kann. Verhältnis/,//
Ein weiteres Ausführungsbeispiel benutzt die integrale Energieverteilungskurve zur Materialanalyse. 25 Das Verhältnis der zwei gemessenen Werte der in-Die
prinzipielle Wirkungsweise ist in F i g. 3 darge- tegralen Energieverteilungskurve ist also materialstellt.
Aus dem Objekt 1 treten die Sekundärelektro- typisch und dient zur Materialanalyse,
nen aus, welche durch das Objektiv 1, 2, 3 in die Auch bei diesem Verfahren ist die erzielbare Auf-Zwischenbildebene 5 fokussiert werden. lösung dadurch eingeschränkt, daß für die eine
nen aus, welche durch das Objektiv 1, 2, 3 in die Auch bei diesem Verfahren ist die erzielbare Auf-Zwischenbildebene 5 fokussiert werden. lösung dadurch eingeschränkt, daß für die eine
Der Strahlengang der Elektronen, welche mit der 30 Messung die Kontrastblende vergrößert werden muß
Energie 0 aus dem Objekt austreten, ist ausgezogen und bei kleinsten Kontrastblenden die Messung des
dargestellt. Elektronen mit höherer Energie werden Elektronenstroms schwierig wird, doch sind auch
weniger stark fokussiert und werden deshalb zum hier Analysenbereiche von einigen Zehnteln μπι ergrößten
Teil durch die in oder in der Nähe der reichbar.
Brennebene liegende Kontrastblende 8 abgefangen. 35 Damit auch bei diesem Verfahren die Größe und/
Auf diesem Effekt beruht bekanntlich die auflösungs- oder Form der Meßfläche des Elektronenempfängers
verbessernde Wirkung der Kontrastblende 8. Je nach 14 dem zu analysierenden Bildausschnitt angepaßt
dem Durchmesser der Kontrastblende 8 werden also werden kann, werden vorteilhaft mehrere gegenein-
Elektronen mit Energien im Bereich 0 bis oeV ander in Betrieb austauschbare Elektronenempfänger
durchgelassen, wobei ρ mit der Größe der Kontrast- 40 mit verschiedenen Meßflächen vorgesehen. Dasselbe
blende wächst. Mißt man den Elektronenstrom Iq Ziel wird mit Hilfe eines einzigen Elektronenempfän-
naeh der Kontrastblende mit schrittweise vergrößer- gers mit relativ großer Meßfläche erreicht, indem die
■ter Kontrastblende, so erhält man eine Reihe von Meßfläche durch in Betrieb gegeneinander austausch-
Meßpunkten, welche die integrale Energieverteilungs- bare Vorblenden verschiedener Größe und/oder Form
funktion darstellt. Diese kann ebensogut aus den 45 abgedeckt wird. Als Vorblende kann auch der
differenziellen Kurven (vgl. Fig. 1) berechnet wer- Leuchtschirm in der Bildebene 11 dienen, indem er
den, indem für jeden Punkt ρ der Abszisse das Inte- in der früher genannten Weise als Doppelblende aus-
gral des differentialen Stromes ik von 0 bis £>eV ge- geführt wird und so als veränderliche Vorblende
bildet wird. Infolge der unvolkommenen Ausblen- dient, wobei der Elektronenempfänger 16 unterhalb
dung der höher energetischen Elektronen durch die 50 des Leuchtschirms 11 fest montiert ist. Zur Sichtbar-
Kontrastblende 8 wird die so gemessene integrale machung des zu identifizierenden Bildausschnittes
Energieverteilung etwas von der berechneten abwei- wird in diesem Fall vorteilhaft ein zweiter, ausklapp-
chen. Nichtsdestoweniger stellt auch die gemessene barer Leuchtschirm 17 zwischen Bildebene 11 und
integrale Energieverteilungskurve eine material- Elektronenempfänger 16 angebracht, wie dies in
typische Funktion dar, und durch Messung von 55 Fig. 5 dargestellt ist.
einem oder mehreren Punkten dieser Kurve kann das Das Austauschen der verschiedenen Kontrastblen-
Material identifiziert werden. Da bei diesen Messun- den gegeneinander, das in an sich bekannter Weise
gen eine Normierung nicht möglich ist, werden im durch Translation oder Rotation einer Blendenhalte-
allgemeinen mindestens zwei Punkte der Kurve be- rung erfolgt, geschieht vorteilhaft in der Weise, daß
nötigt, um die Identifizierung zu gewährleisten. 6° die einzelnen Blenden im Blendenhalter bzw. in der
Die Messung geschieht beispielsweise an einem in Austauschvorrichtung vorzentriert sind und daß eine
F i g. 4 dargestellten Sekundär-Elektronen-Emissions- Rasterung beim Blendenwechsel dafür sorgt, daß
Mikroskop. Ein ausklappbarer Elektronenauffänger keine Nachzentrierung notwendig ist. Da die Messung
14, beispielsweise ein Faradaykäfig oder eine Foto- der Energieverteilungskurve benutzten weiteren Blen-
zelle mit Durchsichtsleuchtschirm, wird vorerst aus- 65 den allgemein größere Durchmesser besitzen als die
geklappt und im Elektronenbild 7 das zu identifizie- für die normale Abbildung benötigte Blende, ist diese
rende Bildelement in einen auf dem Leuchtschirm Bedingung mechanisch relativ leicht zu erfüllen. Der
markierten Bereich, vorzugsweise in den Mittelpunkt Blendendurchmesser und die Zentrierung könnten
noch durch eine Kontamination der Blenden beeinflußt
werden. Die Kontrastblenden werden deshalb vorteilhaft auf mindestens 150° C geheizt, um eine
Kontamination zu vermeiden.
Ein drittes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Sekundär - Elektronen - Emissions - Mikroskops
ist in F i g. 6 dargestellt. Bei diesem Mikroskop wird in bekannter Weise durch eine Kathode 18 ein
Elektronenstrahl 19 erzeugt, welcher durch zwei Elektrolinsen 20/21 auf das Objekt 23 fokussiert
wird. Der sehr fein fokussierte Elektronenstrahl löst im Objekt Sekundärelektronen aus, welche in einem
Elektronenempfänger 24 gesammelt werden und über einen Verstärker 25 die Helligkeit des Strahles eines
Kathodenstrahloszillographen 26 steuern. Ein Ablenksystem 27 dient dazu, den Elektronenstrahl im
Zeilenrastverfahren über einen gewissen Bereich des Objektes 23 pendeln zu lassen, wobei die Ablenkung
über Verstärker 28 auf die Ablenkplatten des genannten Kathodenstrahloszillographen 26, so daß bei
entsprechend vergrößertem Zeilenraster ein vergrößertes Sekundär-Emissions-Elektronenbild auf dem
Oszillographen 26 sichtbar wird, welches durch eine Schräglage des Objektes 23 zum Elektronenstrahl 19
eine Schattenwirkung und durch die verschiedenen Sekundäremissionskoeffizienten des Materials zum
Teil eine Kontrastwirkung aufweist. Die Zeilenrastereinrichtung gestattet, den Fußpunkt des Elektronenstrahls
an einem gewünschten Ort des überstrichenen Bereiches auf dem Objekt anzuhalten.
Auch in einem solchen an sich bekannten Sekundäremissions-Raster-Elektronenmikroskop
ist es möglich, das erfindungsgemäße Verfahren durchzuführen, indem beispielsweise ein Umschalter 28 und ein Meßgerät
29 die Messung des Sekundäremissionsstroms gestatten. Das Meßgerät mißt ohne weitere Vorrichtungen
den totalen Elektronenstrom I0. Zwischen Objekt 23 und Elektronenempfänger 24 sind nun
weiter ein oder mehrere Gitter 30/31 angebracht, welche auf verschiedene Potentiale aufgeladen werden.
Wird beispielsweise das erste Gitter 31 auf + m eV aufgeladen und das zweite Gitter aufgeladen,
so werden die Sekundärelektronen um + m eV beschleunigt. Wenn sie mit η eV aus dem Objekt ausgetreten
sind, so besitzen sie nach dem ersten Gitter die Geschwindigkeit (n + m) eV. Wird das zweite
Gitter 30 nun auf — η eV aufgeladen, so werden alle
ίο Elektronen, welche mit einer Energie OeV aus
dem Objekt ausgetreten sind, abgebremst, und nur die Elektronen mit Energie
>neV fallen auf den Empfänger 24. Der jetzt gemessene Elektronenstrom
In ist also gleich dem Integral über die Energieverteilungskurve von η eV bis oo. Bei Veränderung der
Gitterspannung kann jedes beliebige Integral von oo bis zu O eV gemessen werden, allerdings immer mit
der oberen Integralgrenze oo. Aus diesen Werten, welche durch Division durch I0 nominiert werden
können, kann die materialspezifische Energieverteilungskurve als I0 bis /„ berechnet werden.. Für die
Identifikation genügen aber in gewissen Fällen ein, in anderen Fällen zwei oder mehrere Punkte der
Energieverteilungskurve. Dabei erübrigt sich eine Umrechnung, da auch die Ergänzungswerte I0 bis In
materialspezifisch sind. Der Elektronenempfänger 24 kann aber auch selbst auf ein Potential gebracht
werden; in diesem Fall wird nur ein einziges Gitter benötigt.
Wegen des Durchgriffes der elektrischen Felder durch die Gitter kann es von Vorteil sein, mehrere
Gitter anzubringen.
Für Kontroll- und Vergleichszwecke ist es vorteilhaft, gleichzeitig mit der Elektronenanalyse mit Hilfe
der Energieverteilungskurve eine Röntgenanalyse durchzuführen, welche in an sich bekannter Weise
mit Hilfe eines Röntgenspektrographen 32 und eines Zählers 33 realisiert wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
309 530/363
Claims (21)
1. Verfahren zur Material-Analyse in einem Sekundär
- Elektronen-Emissions-Mikroskop, dadurch gekennzeichnet, daß zur Identifizierung
der emittierenden Objektmaterialien mindestens ein Punkt der Energieverteilungskurve
der aus dem jeweiligen Material ausgelösten Sekundärelektronen gemessen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß mindestens ein Punkt der differentiellen Energieverteilungskurve gemessen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Punkt der integralen
Energieverteilungskurve gemessen wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis der Werte von
2 oder mehreren Punkten der integralen Energieverteilungskurve gemessen wird.
5. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop mit ein- oder zweistufiger Abbildung zur Durchführung
des Verfahrens nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Vorrichtung
vorgesehen ist, welche die Messung diskreter Punkte der Energieverteilungskurve der Sekundär-Elektronen
erlaubt.
6. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kontrastblende im Objektiv des Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskops ausschwenkbar
und/oder auswechselbar ist.
7. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß es
einen Geschwindigkeitsanalysator und eine Blende an der Stelle des Elektronenbildes umfaßt
und daß die Elektronen, welche die Blende passieren, in einen Geschwindigkeitsanalysator gelangen,
welcher diskrete Punkte ihrer differentiellen Energieverteilungskurve mißt.
8. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende an der Stelle des Elektronenbildes in ihrer Größe und/oder. Form verstellbar ist.
9. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Blende an der Stelle des Elektronenbildes mit Leuchtsubstanz belegt ist.
10. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen der genannten Blende an der Stelle des Elektronenbildes und dem Analysator
ein ausklappbarer Zusatzleuchtschirm angebracht ist.
11. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5 zur Durchführung des Verfahrens
nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß zwei oder mehrere Kontrastblenden in Betrieb
gegeneinander ausgetauscht werden können und daß in der Nähe des Elektronenbild-Leuchtschirms
ein ausklappbarer Elektronenempfänger angebracht ist, welcher mit einem Meßinstrument
zur Messung des Elektronenstromes verbunden ist.
12. Sekundär-EIektronen-Emissions-Mikroskop
nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere gegeneinander in Betrieb austauschbare
Elektronenempfänger vorhanden sind, welche verschiedene Größen und/oder Formen der Meßfläche
aufweisen.
13. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop
nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß über dem Elektronenempfänger Blenden von verschiedener
Größe und/oder Form angebracht sind, welche in Betrieb ausgetauscht werden können.
14. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der Elektronenempfänger unterhalb des Leuchtschirms angebracht ist und dieser Leuchtschirm
selbst eine nach Größe und/oder Form verstellbare Blende bildet.
15. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die austauschbaren Kontrastblenden in der Austauschvorrichtung vorzentriert sind und beim
Austauschvorgang so eingerastet werden, daß keine Nachzentrierung mehr notwendig ist.
16. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Kontrastblenden in Betrieb auf mindestens 150° C aufgeheizt werden.
17. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Sekundäremissions-Raster-Elektronen-Mikroskop verwendet wird.
18. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
es einen Elektronenempfänger, ein Elektronenstrommeßgerät und ein oder mehrere Gitter enthält,
wobei die Gitter zwischen Elektronenempfänger und Objekt angebracht sind und Mittel
vorhanden sind, um die Gitter auf verschiedene Potentiale gegenüber dem Objekt aufzuladen, und
wobei der Elektronenempfänger vom Kathodenstrahloszillographen auf das genannte Meßgerät
umschaltbar ist.
19. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der Elektronenempfänger auf ein gegenüber dem Objektpotential verschiedenes Potential gebracht
wird.
20. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der Zeilenraster an jeden beliebigen Punkt des überstrichenen Objektbereiches angehalten werden
kann.
21. Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
zusätzlich ein Röntgenspektrograph mit Zähler zur Messung der Röntgenemission des bestrahlten
Objektpunktes angebracht ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1305365A CH440760A (de) | 1965-09-21 | 1965-09-21 | Verfahren zur Materialanalyse in einem Sekundär-Elektronen-Emissionsmikroskop und Sekundär-Elektronen-Emissionsmikroskop zur Durchführung des Verfahrens |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1598130A1 DE1598130A1 (de) | 1971-02-18 |
DE1598130B2 true DE1598130B2 (de) | 1973-07-26 |
DE1598130C3 DE1598130C3 (de) | 1974-02-21 |
Family
ID=4388878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19661598130 Expired DE1598130C3 (de) | 1965-09-21 | 1966-08-19 | Verfahren und Vorrichtung zur Materialanalyse in einem Sekundär-Elektronen-Emissions-Mikroskop |
Country Status (3)
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CH (1) | CH440760A (de) |
DE (1) | DE1598130C3 (de) |
NL (2) | NL6515902A (de) |
Families Citing this family (2)
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WO1983000921A1 (en) * | 1981-09-01 | 1983-03-17 | Antonovsky, Ariel, David | Method and apparatus for image formation |
US4843330A (en) * | 1986-10-30 | 1989-06-27 | International Business Machines Corporation | Electron beam contactless testing system with grid bias switching |
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0
- NL NL134392D patent/NL134392C/xx active
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1965
- 1965-09-21 CH CH1305365A patent/CH440760A/de unknown
- 1965-12-07 NL NL6515902A patent/NL6515902A/xx unknown
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1966
- 1966-08-19 DE DE19661598130 patent/DE1598130C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6515902A (de) | 1967-03-22 |
DE1598130C3 (de) | 1974-02-21 |
NL134392C (de) | |
CH440760A (de) | 1967-07-31 |
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