DE1547315A1 - Vorrichtung zur Verminderung der Abmessungen eines parallelen Strahles von Strahlungsenergie - Google Patents

Description

PATENTANWALT DIPL.^PHYS. HEINRICH SEIDS 62 Wiesbaden · Rheinstraße i2x · Postfadi 670 · Telefon 28459

Postecheddconto Frankfurt/Main 181008 * Deutsche Bank 723478 2, Febr. 1 966

S/Bm

Sheldon Horatio HINE Fort Wayne, Indiana/USA

Vorrichtung zur Verminderung der Abmessungen eines parallelen Strahles von Strahlungsenergie

Dr. Expl.

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Verminderung der Abmessungen eines parallelen Strahles von , Strahlungsenergie, insbesondere auf eine Vorrichtung, bei der eine einzigartige Anordnung von reflektierenden . Körpern benutzt wird, mit denen die Querschnittsfläche eines parallelen Strahles wesentlich vermindert werden kann, um einen-Strahl hoher Intensität au schaffen, der geeignet ist, nützliche Arbeit zu leisten.

Durch die Benutzung bekannter reflektierender und brechender Optiken ist es möglich, die Querschnittsgröße eines parallelen Strahles zu vermindern. Diese bekannten Optiken sind aber be-

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züglich der Größe der zu steuernden und zu handhabenden Strahlungsenergie beschränkt. Bei der Benutzung brechender Elemente zur Verminderung der Strahlabmessungen muß die Abmessung des Austrittelementes im wesentlichen die gleiche wie diejenige des verkleinerten Strahles selbst sein. Bei höheren Energiemengen wird daher das Auslaß— oder letzte Verkleinerungselement einer ernstlichen und zerstörenden Erhitzung unterworfen. Dadurch wird die zu handhabende Menge oder Intensität von Strahlungsenergie scharf begrenzt. Bei der Benutzung bekannter reflektierender Elemente zur Verminderung der Strahlabmessungen wird die tatsächliche Verminderung aus den gleichen Gründen wie bei den brechenden Elementen begrenzt. Beispielsweise ist in der Cassegrain-Optik das sekundäre reflektierende Element von so relativ kleiner Abmessung, daß die Menge von Strahlungsenergie, die von ihm reflektiert werden&ann, kurz unterhalb desjenigen Wertes endgültig begrenzt ist, bei dem dieses sekundäre Element zerstört werden könnte.

Durch die Erfindung werden diese Begrenzungen vermieden, so daß außerordentlich große Mengen von Strahlungsenergie gehandhabt und gesteuert werden können. Dies wird grundsätzlich durch die Benutzung eines länglichen, zweidimensionalen optischen

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Eleaentes mit verhältnismäßig großen flächen, über die die einfallende Strahlungsenergie verteilt werden kann, erreicht, wodurch diese Flächen einer ständigen Ahkühlung unterworfen sind und die Hitze abgezogen wird, bevor sie schädliche Ausmaße erreicht.

Durch die Erfindung wird daher eine Vorrichtung zur Verminderung der Querschnittsfläche eines parallelen Strahles hoher Energie ' geschaffen.

Ferner wird durch die Erfindung eine Vorrichtung zur Erhöhung der Energiedichte eines Strahles von Strahlungsenergie auf eine Höhe geschaffen, bei der der Stahl zum Leisten einer nützlichen Arbeit benutzbar wird·

Schließlich wird durch die Erfindung eine Vorrichtung geschaffen, die zweidimensional, reflektierende optische Elemente zur Verminderung der Abmessungen oder zur Änderung der Form eines primären Strahles von Strahlungsenergie "benutzt.

Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung lassen sich am besten in Verbindung mit der folgenden Beschreijibung eines Ausführungs-

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beispieles der Erfindung anhand der Zeichnung verstehen. Es zeigen:

Fig. 1 eine. Seitenansicht eines Ausführungsbeispieles der Erfindung;

Fig. 2 eine Schnittdarsteilung längs der Linie 2-2 der Fig. 1 und

Fig.3 u.4 schaubildliche Darstellungen von herkömmlichen reflektierenden Optiken, die hier nur zur Erläuterung der Arbeitsweise der Erfindung benutzt werden.

Nach der Zeichnung, insbesondere nach Fig. 1, trägt ein starker länglicher Rahmen 10 vier mittels geeigneter Laschen 20, 22, 24 bzw. 26 fest an ihm montierte verschiedene Reflektoren 12, 14, 16 und 18. Der Aufbau dieser vier Reflektoren ist grundsätzlich der gleiche, so daß die Erläuterung eines Reflektors für alle genügt. Sgweist der Reflektor-12 ein längliches, starres, aus Metall oder dergl. geformtes Element, das in Längsrichtung gradlinig und im Querschnitt konkav,wie Fig. 2 zeigt, ist. Daases Elem^ent 12 hat eine hoch reflektierende innere Oberfläche Eine Montagerippe oder ein flansch 30 von geeignet starrer Ausbildung ist in Längsrichtung an der Rückseite des Reflektors 12, wie Fig* 1 zeigt, befestigt, beispielsweise durch Anschweißen

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»oder dergl. Die Montagelasche 20 ist, wie in fig. 1 und 2 gezeigt, an den gegenüberliegenden Enden an diesem Plansch 30 und am Rahmen 10 befestigt, um den Reflektor 12 in der dargestellten Lage zu halten.

Wie in Pig, 1 gezeigt, ist der Reflektor 14, der grundsätzlich in gleicher Weise wie der Reflektor 12 aufgebaut und in grundsätzlich gleicher Weise wie dieser am Rahmen 10 montiert ist, in Längsrichtung unterhalb des Reflektors 12 angeordnet. Der Montageflansch 32, der dem Montageflansch 30 ähnlich ist, befindet sich an der inneren Längsseite des Reflektors 14 anstelle der Außenseite, wie beim Reflektor 12. Die Befestigungslasche 22 erstreckt sich von diesem Plansch zum Rahmen 10 und stellt so die Haltung für den Reflektor 14 dar.

Insbesondere ist der Reflektor 14 mit fast der gleichen Wölbung wie der Reflektor 12 versehen, wobei die äußere Fläche 34 in der Zeichnung nach links, in anderen Worten nach dem Reflektor hin konvex und hochreflektierend ist. ITm diese Oberfläche 34 reflektiv zu Bachen, kann sie entweder hochgradig poliert oder mit einem Belag aus hochgradig reflektierendem Material ⁿoversehen

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sfin. Wie aus der Zeichnung hervorgeht, liegen die beiden Reflektoren 12 und 14 in seitlicher Richtung und in Längsrichtung in Abstand voneinander, jejäoch sind sie parallel zueinander und in einem spitzen Winkel zur Längsachse des Trägerrahmens 10 angeordnet.

Unterhalb des Reflektors 14 und in dessen Reflektions-Lichtweg ist der mit einem Längs-Montageflansch 26 an seiner rückwärtigen konvexen Seite versehene und damit an der Montagelasche 24 befestigte Reflektor 16 angeordnet. Sieht man die in Pig. 1 gezeigte Seite des Rahmens 10 als dessen Vorderseite an, dann ist der Reflektor 16 an der Vorderseite des Rahmens 10 in entsprechender Weise wie die Reflektoren 12 und 14 an der linken und rechten Seite des Rahmens angeordnet. Dieser Reflektor 16 ist ebenfalls in einem spitzen Winkel zur Längsachse des Rahmens 10 ausgerichtet, entsprechend den Reflektoren 12 und 14. Dieser Winkel liegt in einer zur Zeielranflache der Pig. 1 senkrechten Ebene.

Die innere Fläche 38 dieses Reflektors 16 ist hoch reflektiv, entweder poliert oder mit einem Belag aus dem gleichen hoch, reflektierenden Material.

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Der Reflektor 18 ist auf dem lahmen 10 in einer Lage unterhalb des Reflektors 16, aber auf der Rückseite des Rahmens angeordnet. Die konvexe Oberfläche 40 dieses Reflektors ist hoch reflektierend. Diese beiden Reflektoren 18 und 16 liegen in Abstand zur Vorderfläche und Rlickflache des Rahmens 10 und ferner im gleichen Längsabstand wie die beiden Reflektoren 12 und 14. Die Reflektoren 16 und 18 sind ferner parallel zueinander, so daß die beiden Reflektoren 16 und 18 in der gleichen Lage zueinander wie die Reflektoren 12 und 14 erscheinen würden, wenn die Zeich-

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nung der Fig. 1 um 90 gedreht würde, während die Reflektoren 12 und 14 dann in der gleichen Stellung wie jetzt die Reflektoren 16 und 18 erscheinen würden. Vor der Erläuterung der Arbeitsweise der Vorrichtung nach Pig. 1 soll zunächst auf Fig. 3 und 4 verwiesen werden, in welchen gewisse Prinzipien der Arbeitsweise erläutert sind. Die in diesen Fig. skizzierten Vorrichtungen können als typische Oassegrain-Optiken angesehen werden, in welchen ein schirmartiger erster Reflektor 42 mit mittlerer öffnung 44 symmetrisch gegenüber einem zVeiten Reflektor 46 angeordnet ist. Der Brennpunkt des Reflektors 42 ist bei 48 angedeutet. Ein verhältnismäßig breiter paralleler axial in den Reflektor 42 gerichteter Lichtstrahl wird nach üben reflektiert und auf den Brennpunkt 48, wie durch die Strahlen 50 und 52 angedeutet, konzentriert. Diese Strahlen

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werden von dem zweiten Reflektor 46, der hinter dem Brennpunkt 48 angeordnet ist, reflektfcrt und - wie durch die Strahlen 54 angedeutet - durch die Öffnung 44 auf parallelen Wegen rückwärts gerichtet. Die beiden Reflektoren 42 und 46 sind konkav und einander entgegengerichtet, so daß das paralle Lichtstrahlenbündel, das zunächst axial auf den Reflektor 42 gerichtet war, in seiner Querschnittsfläche vermindert und in Form eines parallelen Strahlenbündels 54 nach außen gerichtet wird.

Die Optiken nach Fig. 4 sind mit denjenigen nach Fig. 3 gleich, mit der Abwandlung, daß das aweite reflektierende Element vor dem Brennpunkt 48 des Reflektors 42 angeordnet ist, und eine entgegengesetzte Wölbung wie der Reflektor 46 hat. Die einkommenden Strahlen 50 und 52 werden von den beiden Reflektoren 42 und 56 in gleicher Weise wie im Fall der Fig. 3 reflektiert, wobei das durch die Strahlen 58 angedeutete Strahlenbündel vom Reflektor 56 reflektiert worden ist, und als paralleles Strahlenbündel durch die Öffnung 44 tritt. Auch hier sind der Abstand zwischen den Reflektoren 42 und 56 sowie die besonderen Wölbungen der Reflektoren so abgestimmt, daß das auf den Reflektor 42 treffende parallele Strahlenbündel in seiner Querschnittsfläche vermindert und als vom Reflektor 56 ausgehendes paralleles Strahlenbündel 58 wieder abgegeben wird.

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Es ist wichtig zu "beachten, daß die Verminderung der ρ Querschnittsflache des Strahlenbündels durch die Benutzung von sekundären Reflektoren erreicht wird, die entweder vor oder hinter dem Brennpunkt 48 der primären Reflektoren 42 angeordnet sind. Eb sollte bei der Verminderung des Durch» messers eines parallelen Strahlenbündels auch beachtet werden, das das eintreffende Strahlenbündel beim Brennpunkt 48 fokusiert wird. Die relativen Größen, die Wölbungsform und der Abstand der primären und sekundären Reflektoren 42, 46 und 56 bestimmen naturgemäß den Durchmesser des austretenden Strahlenbündels 54 bzw. 58, u.zw. je kleiner der sekundäre Reflektor, umso kleiner wird das austretende Strahlenbündel-

Insoweit die sekundären Reflektoren 46 und 56 die Gesamtenergie des primären, auf den Reflektor 42 treffenden Strahlenbündels aufnehmen, ist es ersichtlich, daß bei ausreichend . hohem Energiegehalt dieses Strahlenbündels die sekundären ■RefMctoren 46 und 56 zu einer so hohen Temperatur erhitzt werden, daß sie zerstört oder beschädigt werden können. Dies ist auch darauf zurückzuführen, daß die flächen dieser Reflektoren 46 und 56 recht klein sind, so daß sie nicht in der Lage sind, solche Wärraa rasch genug abzugeben, um eine Beschädigung zu vermeiden.

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Betrachtet man, ausgehend von diesen Grundlagen, die Arbeitsweise der Vorrichtung nach Fig. 1, so entspricht der Reflektor 12 dem Reflektor 42 der Pig. 4 und der Reflektor H dem Reflektor 56. Ein paralleles Lichtstrahlenbündel 60 mit kreisförmigem Querschnitt wird nach unten in den Reflektor 12 gegen dessen konkave Fläche 28 gerichtet. Die Achse dieses Strahlenbündels 60 soll in einem spitzen Winkel bezüglich der Längsachse oder Längsdimension des Reflektors 12 liegen. Wie die gestrichelten Linien in Fig. 1, die die Grenzlinien des Sijahlenbündels 60 darstellen, zeigen, wird das Strahlenbündelsüber die gesamte gewölbte Oberfläche 28 von einem Ende bis zum anderen und von einer Seitenkante zur anderen des Reflektors verteilt. Das_fwie gezeigt,in einem kleinen Einfallwinkel in^en Reflektor eintretende Strahlenbündel wird längs des durch die gestrichelten Linien 62 angezeigten Weges nach der und auf die äußere konvexe Oberfläche des Reflektors 14 reflektiert. Dieses reflektierte Strahlenbündel 62 wird wieder, wie gezeigt, über die gesamte Fläche der reflektierenden Oberfläche 34 von deren einem Ende bis zum anderen verteilt.

Die Wölbung der reflektierenden Oberfläche 28 ist so bestimmt und ausgebildet, daß das Strahlenbündel 60 nach dem Reflektieren an der Oberfläche 28 auf einer geraden Linie,-wie sie durch die gestrichelte Linie 64 angedeutet ist, fokusiert würde, anstelle

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in einem Brennpunkt, wie dies bei den Optiken nach Fig. 3 und 4 der Fall ist. Wie in Fig. 1 gezeigt, liegt diese Linie 64 hinter der reflektierenden Oberfläche 54 und ist parallel zu deren Längsachse oder Längsdimension. Die Beziehungen zwischen der Brennlinie 64 und der reflektierenden Oberfläche 34 entsprechen denjenigen des Brennpunktes 48 und der reflektierenden Oberfläche 56 in den Optiken nach Fig. 4.

Me Wölbung der reflektierenden Oberfläche 34 sowie ihr Abstand von der reflektierenden Oberfläche 28 und der Brennlinie 64 sind so bestimmt und ausgebildet, dass das fokusierte Strahlenbündel 62 in ein nach unten gerichtetes Strahlenbündel 66 mit ellipsenförmigem Querschnitt reflektiert und parallel gerichtet wird. Die Hauptachse der Querschnittsellipse dieses Strahlenbündels 66 hat die gleiche Länge wie der Durchmesser des Strah-'enbündels 60. Die Nebenachse der Querschnittsellipse dieses Strahlenbündels 66 ist abei?6ehr viel kleiner als dieser Durchmesser. Die Wölbungen der beiden Oberflächen 28 und 34 sowie die gegenseitige Anordnung und der gegenseitige Abstand erzeugen -eo ein Strahlenbündel mit ellipsenförmigem Querschnitt, das im wesentlichen das gleiche wie das ursprüngliche parallele Strahlenbündel 60 ist, mit der Ausnahme, daß seine Querschnittsfläche in einer Dimension reduziert worden ist. Die beiden Reflektoren 12 und 14 befinden sich somit ein einer sogenannten gegenseitigen parallel reflektierenden Abstimmung, d.h. daß die

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Wörbungsform der Oberflächen 28 und 34, deren gegenseitiger Abstand und deren gegenseitige Anordnung so abgestimmt sind, daß nach dem Reflektieren auf beiden Reflektoren 12 und 14 wieder ein paralleles Strahlenbündel, jedoch mit verminderter. Querschnittsfläche, u.zw. das Strahlenbündel 66 erzeugt wird. Vergleicht man dieses Ergebnis mit demjenigen, wie es mit Optiken nach Fig. 4- erzielt wird, so ergibt sich, daß die schijaiirmförmigen Optiken der letzteren Figur die Abmessungen des eintreffenden Strahlenbündels in kreisförmiger Form vermindern, anstelle in einer einzigen Dimension, wie dies bei den zweidimensionalen Reflektoren 12 und 14 der Figur der Fall ist. In dieser Beziehung können die Optiken nach Fig. und 4 als solche mit dreidimensionalen Reflektoren angesehen werden, zum Unterschied zu den Reflektoren 12 und 14, die als zweidimensionale Reflektoren charakterisiert werden könnten.

Das Strahlenbündel 66 wird zunächst längs des optischen Reflektionsweges der Oberfläche 34 in den Reflektor 16 gegen dessen konkave reflektierende Oberfläche 38 gerichtet, und im vorliegenden Beispiel mit dem gleichen Einfallswinkel wie das Stahlenbündel 60 auf die reflektierende Oberfläche 28 trifft. Dieses Strahlenbündel 66 wird von der Oberfläche 38 längs des durch die Linien 68 angedeuteten Weges auf eine Brennlinie gerichtet, die soeben hinter der konvexen reflektierenden Oberfläche 40 des Reflektors 18 liegt. Es sei an dieser Stelle ver-

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•i merkt, daß diese letztere Brennlinie parallel zur Längsachse »oder Längsdiraension der reflektierenden Oberfläche 40 liegt. Das fokusierte Strahlenbündel 68 wird dann von der konvexen Oberfläche 40 reflektiert und dadurch in ein paralleles Strahlenbündel 70 gerichtet, das - wie gezeigt - kreisförmigen Querschnitt aufweist. Die beiden reflektierenden Oberflächen 38 und 40 sind wieder in gegenseitiger parallel reflektierender Abstimmung und ziehen dabei die Hauptachse der Querschnittsellipse des Strahlenbündels 66 auf die Größe des Durehirassers des Strahlenbündel 70 zusammen. Es ist dabei zu beachten, daß die Reflektorpaare 12, 14 und 16,18 in rechtem Winkel zueinander angeordnet sind, so daß das erste Paar 12,14 das Strahlenbündel 16 zunächst in einer Dimension zusammenzieht, und das andere Paar 16, 18 das Strahlenbündel in einer im rechten Winkel dazu liegenden zweiten Dimension zusammenzieht. Diese rechtwinklige gegenseitige Anordnung zwischen den Reflektor- - -naaren 12, 14 und 16, 18 läßt sich besser verstehen unter Berücksichtigung der Tatsache, daß die Reflektoren 12, 14 in seitlichem Abstand von der Zeichenebene der Pig. 1 liegen, während die Reflektoren 16, 18 in seitlichem Abstand in einer zur Zeichnung senkrechten Ebene liegen. Diese beiden. Ebenen schneiden sich in einer Linie, die parallel zu den Achsen der beiden Strahlenbündel 60 und 7Q liegt.

Die reflektierenden Oberflächen 38 und 40 sind wieder in iorm und Anordnung etwa in gleicher Weise aufeinander abgestimmt wie die beiden oben erläuterten reflektierenden Oberflächen

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28 und 34» so daß die Reflektion zwischen den beiden Oberflächen 38 und 40 die Ausbildung des endgültigen parallelen Strahlenbündels 70 zum Ergebnis hat. Die Querschnittsfläche dieses Strahlenbündels 70 ist wesentlich kleiner als diejenige des ursprünglichen Strahlenbündels 60,

Es sei festgestellt, daß die Winkel, mit denen die. verschiedenen Reflektoren angeordnet sind, der Abstand zwischen ihnen, die Anordnung der sekundären Reflektoren von den jeweiligen Brennlinien und die Querschnittsfläche der zu handhabenden lichtstrahlenbündel für die jeweilige formgebung der Reflektoren zur Erzielung des gewünschten parallelen Strahlenbündels mit verminderter Querschnittsfläche bestimmend sind. Diejeweilige Formgebung und die jeweilige Anordnung des primären und sekundären Reflektors, in anderen Worten ihre gegenseitige parallel reflektierende Abstimmung muß so sein, daß die Einfallswinkel und Reflektionswinkel ein austretendes Strahlenbündel mit parallel gerichteten Strahlen ergeben.

Während die beiden REflektoren 14 und 18 mit reflektierenden Oberflächen zwischen der Brennlinie und dem jeweiligen primären Reflektor 12 bzw, 16 gezeigt sind, können die sekundären Reflektoren 14 und 18 auch mit umgekehrter Wölbung so angeordnet sein, daß die reflektierenden Oberflächen auf der gegenüberliegenden Seite der jeweiligen Brennlinie liegen. Eine solche Anordnung würde dann den Cassegrain-Optiken nach Fig. 3 entsprechen,

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Die Bezeichnung "optischer Reflektionsweg" bezeichnet und
bezieht sich auf den durch das von der Oberfläche 34 reflektierte Strahlenbündel (also das funktionelle Äquivalent der Oberfläche 34). Im dargestellten Ausführungsbeispiel wäre
dies also das Strahlenbündel 66. Die gegenseitige Anordnungsbeziehung zwischen den Oberflächen 34 und 38, durch die das Strahlenbündel 66 von der Oberfläche 38 auf die Oberfläche reflektiert und in kreisförmige Querschnittsfläche (wie bei 70 gezeigt) umgeformt wird, könnte als erweiterte Reflektionsabstimmung bezeichnet werden. Das Strahlenbündel 66 wird so dadurch in das Strahlenbündel 70 zusammengezogen, daß die Oberfläche 38 im optischen Reflektionsweg der Oberfläche 34 liegt, und die beiden Oberflächen 34 und 38 in erweiterter
Reflektionsabstimmung sind.

Bs ist ersichtlich, daß die Vorrichtung nach Fig. 1 zum Handhaben und zur Querschnittsverminderung von Strahlenbündeln mit außerordentlich hoher Strahlungsenergie, also I_ntensität benutzt werden kann, weil das Einfallen des Strahlenbündels, also das Strahlenbündel 60 über eine beträchtliche reflektierende Fläche 28 verteilt wird, die sehr viel wirksamer gekühlt und dadurch gegen Beschädigung geschützt werden kann, als die kleinere reflektierende Fläche, beispielsweise der Reflektor 52, wie sie in Cassegrain-O^ptiken benutzt wird, bei denen die Querschnitts-

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abmessungen des Reflektors 42 die gleichensein müssen, wie diejenigen des eintreffenden Strahlenbündels.Weiterhin wird noch das fokusierende Strahlenbündel, das bei Cassegrain-Optiken außerordentlich intensiv auf die kleine Flähe des sekundären Reflektors 46 nach Fig. 5 bzw. 56 nach Fig. 4 wirkt, nach der Erfindung über eine wesentlich größere Flääae auf dem sekundären Reflektor H nach Fig. 1 verteilt, wobei auch diese Fläche wirksamer gekühlt werden kann, /als dies bisher möglich war. Ferner wird durch den kleinen Einfallswinkel des zwischen den verschiedenen Reflektren 12, 14,16 und 18 reflektierten Strahlenbündels ein höherer Reflektionswirkungsgrad erzielt, und dadurch das Erhitzen der reflektierenden Elemente vermindert, im Vergleich zu größeren Einfallswinkeln oder nahezu rechtwinkligem Einfallen der Strahlen auf die reflektierende Oberfläche. Aus alledemjergibt sich, daß durch die Erfindung Strahlenbündel größerer Energie gehandhabt und gesteuert werden können, als dies bisher möglich war, und daß gleichzeitig ein austretendes Strahlenbündel wesentlich größerer Intensitätskonzentration als das Eintreffen des Strahlenbündels erzeugt werden kann.

Alle in der Beschreibung, der Zeichnung und in den Patentansprüchen wiedergesehenen Merkmale des Anmeldungsgegenstandes

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können für sich allein oder in jeder denkbaren Kombination von wesentlicher Bedeutung für die Erfindung sein.

Patentansprüche /18

Claims (9)

Patentansprüche

1. Vorrichtung zur Verkleinerung der Querschnittsfläche eines parallelen Strahlenbündels von Strahlungsenergie, dadurch gekennzeichnet, daß zwei getrennte, das Strahlenbündel nacheinander reflektierende Einrichtungen vorgesehen sind, von welchen die erste zunächst die Querschnittsfläche des in seiner Parallelität aufrecht erhaltenen "bzw. wieder hergestellten Strahlenbündels in einer Dimension verkleinert, und die daran anschließende Einrichtung die Querschnittsfläche des in seiner Parallelität aufrecht erhaltenen bzw. wieder hergestellten Strahlenbündels in der zweiten Dimension verkleinert, wob/ei beide Einrichtungen längliche großflächige, zweidimensionale reflektierende Elemente enthalten, die derart angeordnet sind, daß das einfallende Strahlenbündel über ihre große ) reflektierende Oberfläche verteilt wird.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Einrichtungen in sich entsprechender Weise je zwei in Abstand voneinander angeordnete längliche gewölbte, großflächige reflektierende Oberflächen aufweisen, deren Wolbungsachsen parallel' zueinander liegen,

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und daß diese gewölbten Oberflächen seitlich und in Längsrichtung in Abstand voneinander angeordnet sind, derart, daß die eine dieser gewölbten Oberflächen das Strahlenbündel in einem vorher bestimmten Einfallswinkel aufnimmt, und auf die zweite gewölbte Oberfläche reflektiert, während die zweite gewölbte ' Oberfläche derart auf die erste gewölbte Oberfläche parallel reflektierend, also zum Reflektieren eines parallelen Strahlenbündels auf die erste gewölbte Oberfläche abgestimmt ist.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Einrichtungen mit ihrer ersten gewölbten Oberfläche zur Atfeiahme des Strahlenbündels mit kleinem Einfallswinkel ausgebildet und aufeinander abgestimmt sind.

4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß der seitliche Abstand zwischen den beiden gewölbten reflektierenden Oberflächen der ersten Vorrichtung in einer Richtung quer, vorzugsweise rechtwinklig zur Richtung des seitlichen Abstandes zwischen den beiden gewölbten reflektierenden Oberflächen der zweiten Einrichtung liegt.

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5. Vorrichtung nach, einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jede der beiden Einrichtungen zur Verminderung des Strahlen» bündelquerschnittes in einer Dimension eine erste konkave längliche reflektierende Oberfläche, die in Längsrichtung gradlinig, also mit einer Längsachse und in Querrichtung mit einer eine Brennlinie parallel zu dieser Längsachse ergebenden Wölbung ausgebildet ist, und eine zweite reflektierende länglicheOberflache aufweist, die ebenfalls in Längsrichtung gradlinig, also mit Längsachse ausgebildet ist, wobei diese zweite reflektierende Oberfläche konvex ausgebildet und mit ihrer Längsachse parallel zur Brennlinie der ersten reflektierenden Oberfläche in solchem Abstand angeordnet ist, daß ihre Wölbung in Querrichtung die von der ersten reflektierenden Oberfläche kommenden konvergierenden Strahlen in ein paralleles Strahlenbündel mit einer um ein vorher bestimmtes Maß verringerten Querschnittsfläche reflektiert.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4» dadurch gekennzeichnet, daß jede der beiden Einrichtungen

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zur Verminderung des Strahlenbündelquerschnittes in einer Dimension eine erste längliche reflektierende Oberfläche, die in Längsrichtung gradlinig, also mit einer Längsachse und in Querrichtung mit einer eine Brennlinie parallel zu dieser Längsachse ergebenden Wölbung ausgebildet ist·, und eine zweite längliche reflektierende Oberfläche aufweist, die ebenfalls in Längsrichtung gradlinig, also mit Längsachse, und in Querrichtung mit einer konvergierende Strahlen in ein paralleles Strahlenbündel reflektierenden Wölbung ausgebildet ist, wobei diese zweite reflektierende*Fläche konkav und in solchem Abstand hinter der Brennlinie der ersten reflektierenden Fläche mit ihrer Längsachse parallel zu dieser Brennlinie angeordnet ist, daß die von der ersten reflektierenden Oberfläche kommenden fokusierten Strahlen durch die zweite reflektierende Oberfläche in ein paralleles Strahlenbündel reflektiert werden, dessen Querschnittsfläche gegenüber derjenigen des einfallenden Strahlenbündels um ein vorbestimmtes Maß verrinpf/ert ist.

7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierenden Oberflächen zylindrisch ausgebildet sind und mit ihrem KEmmungaradiusverhältnis auf das vorher bestimmte Maß der Verkleinerung

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• . des Strahlenbündelquerschnittes abgestimmt sind.

8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierenden Oberflächen an starren Reflektorelementen angebracht sind, und diese starren Reflektorelemente (12, H, 16, 18) in den durch die Optik der reflektierenden Oberflächen bestimmten Abständen und gegenseitiger Anordnung fest an·einem gemeinsamen R_ahmen (10) angebracht sind.

9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest das erste, d.h. das ursprüngliche Strahlenbündel (60) aufnehmende Reflektorelement (10) in einem dem gewünschten Einfallswinkel des Strahlenbündels (60) entsprechenden spiteen Winkel bezüglich des Rahmens (1-0) angeordnet ist.

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