DE1522677B2 - Electrophotographic process for making images - Google Patents

Electrophotographic process for making images

Info

Publication number
DE1522677B2
DE1522677B2 DE1522677A DE1522677A DE1522677B2 DE 1522677 B2 DE1522677 B2 DE 1522677B2 DE 1522677 A DE1522677 A DE 1522677A DE 1522677 A DE1522677 A DE 1522677A DE 1522677 B2 DE1522677 B2 DE 1522677B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
acid
image
phenol
plate
charge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE1522677A
Other languages
German (de)
Other versions
DE1522677C3 (en
DE1522677A1 (en
Inventor
Joseph Penfield N.Y. Mammino (V.St.A.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xerox Ltd
Original Assignee
Rank Xerox Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rank Xerox Ltd filed Critical Rank Xerox Ltd
Publication of DE1522677A1 publication Critical patent/DE1522677A1/en
Publication of DE1522677B2 publication Critical patent/DE1522677B2/en
Application granted granted Critical
Publication of DE1522677C3 publication Critical patent/DE1522677C3/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/022Layers for surface-deformation imaging, e.g. frost imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/001Electric or magnetic imagery, e.g., xerography, electrography, magnetography, etc. Process, composition, or product
    • Y10S430/10Donor-acceptor complex photoconductor

Description

OHOH

OHOH

R —R -

_lz_lz

enthält, worin R gleich einer zweiwertigen Gruppe, die aus Formaldehyd. Paraformaldehyd, Furfural, Aminoformaldehyd, Acrolein, Benzaldehyd, Chloral, einem Ketoaldehyd, Acetaldehyd, Glyoxal, Propionaldehyd, n-Butyraldehyd, Isobutyraldehyd, n-Valeraldehyd, Isovaleraldehyd, n-Caproaldehyd, n-Heptaldehyd, Steraaldehyd und/oder Crotonaldehyd entstanden ist, X gleich einem Sauerstoffatom oder der zweiwertigen Gruppe R, Y gleich einem Wasserstoff- oder Halogenatom, einer OH-Gruppe und/oder einer Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, η gleich 1, 2, 3 oder 4, m gleich 1, 2 oder 3 und Z gleich einer ganzen Zahl von mindestens 2 ist, oder worin (Y),„ eine Phenylgruppe bedeutet, die sich in p-Stellung zu der in der Formel abgebildeten OH-Gruppe befindet, und worin (Y)n für den Fall X gleich O eine Phenylgruppe bedeutet, die sich in p-Stellung zu dem in der Formel abgebildeten Rest X befindet.contains where R is a divalent group derived from formaldehyde. Paraformaldehyde, furfural, aminoformaldehyde, acrolein, benzaldehyde, chloral, a ketoaldehyde, acetaldehyde, glyoxal, propionaldehyde, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, n-valeraldehyde, isovaleraldehyde, n-caproaldehyde, n-heptaldehyde, steraaldehyde and / or was formed equals an oxygen atom or the divalent group R, Y equals a hydrogen or halogen atom, an OH group and / or an alkyl group with 1 to 5 carbon atoms, η equals 1, 2, 3 or 4, m equals 1, 2 or 3 and Z is an integer of at least 2, or in which (Y), "denotes a phenyl group which is in the p-position to the OH group depicted in the formula, and in which (Y) n for the case X is O denotes a phenyl group which is in the p-position to the radical X depicted in the formula.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Ladungsübertragungskomplex verwendet wird, der auf 1 Gewichtsteil Elektronenakzeptor 1 bis 100Gewichtsteile Elektronendonator enthält.3. The method according to claim 1, characterized in that a recording material with a Charge transfer complex is used, the 1 part by weight electron acceptor 1 to 100 parts by weight Contains electron donor.

5555

Die Erfindung betrifft ein elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Bildern, bei dem auf ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer thermoplastischen photoleitfähigen Schicht ein Ladungsbild aufgebracht, das Aufzeichnungsmaterial bis zur Bildung eines Deformationsbildes erwärmt und das Deformationsbild durch Abkühlen fixiert wird. "The invention relates to an electrophotographic process for producing images in which on an electrophotographic recording material having a thermoplastic photoconductive layer a charge image is applied, which heats the recording material until a deformation image is formed and the deformation image is fixed by cooling. "

Es ist bekannt, deformicrbarc dielektrische Materialien als Aufzeichnungsträger zu benutzen. Man bedient sich dabei im allgemeinen zweier verschiedener Verfahren. Das erstere ist als sogenannte »Frost«- (Runzel)-Verfahren bekannt und ausführlich in R. W. G u η d 1 a c h und C. J. C 1 ä u s, Journal of Photographic Science and Engineering, Jan./Feb. 1963, »A Cyclic Xerographie Method based on Frost Deformation« beschrieben. Das andere, als »Relief«-Verfahren bezeichnete Verfahren ist in den US-PSen 30 55 006, 30 63 872 und 31 13 179. ausführlich erläutert. It is known to deformicrbarc dielectric materials to be used as a recording medium. In general, two different ones are used Procedure. The former is known as the so-called "frost" (wrinkle) method and is detailed in R. W. G u η d 1 a c h and C. J. C 1 ä u s, Journal of Photographic Science and Engineering, Jan./Feb. 1963, "A Cyclic Xerography Method based on Frost Deformation" is described. The other, as a "relief" method designated process is explained in detail in US Pat. Nos. 3,055,006, 3,063,872 and 3,113,179.

Ein grundlegender Unterschied zwischen der »Frost«- und der »Relief«-Methode besteht darin, daß sogenannte »Frost«-Bilder in Bereichen gleichmäßiger Aufladung entstehen, während »Relief«-Bilder einem elektrostatischen Ladungsgradienten entsprechen.A fundamental difference between the "Frost" and the "Relief" methods is that So-called "frost" images are created in areas of even charge, while "relief" images create one correspond to electrostatic charge gradients.

Dieser Unterschied ist nicht nur im Hinblick auf die verschiedenen Anwendungsmöglichkeiten bedeutsam, sondern weist auch auf einen bei den beiden Verfahren verschiedenen Mechanismus hin.This difference is not only significant with regard to the various possible applications, but also indicates a different mechanism for the two methods.

Es ist außerdem von Interesse, daß »Frost«-Strukturen auch ohne Informationsaufnahme erzeugt werden können, während »Relief«-Strukturen ohne Information nicht existent sind. Der Unterschied zwischen den beiden Systemen wird außerdem durch die Tatsache hervorgerufen, daß bestimmte Materialien zwar zur Reliefbildung, nicht aber zur Bildung von Froststrukturen geeignet sind.It is also of interest that "frost" structures can also be generated without taking in information can, while "relief" structures without information do not exist. The difference between the two systems is also caused by the fact that certain materials do are suitable for the formation of relief, but not for the formation of frost structures.

Aufgabe der Erfindung war, ein neues Verfahren zur Herstellung von Deformationsbildern (Frostbzw. Runzelbildern und Reliefbildern) zur Verfugung zu stellen. Diese Aufgabe wird durch die Erfindung gelöst.The object of the invention was to provide a new method for producing deformation images (Frostbzw. Wrinkled images and relief images). This object is achieved by the invention solved.

Gegenstand der Erfindung ist somit ein elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Bildern, bei dem auf ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer thermoplastischen photoleitfähigen Schicht ein Ladungsbild aufgebracht, das Aufzeichnungsmaterial bis zur Bildung eines Deformationsbildes erwärmt und das Deformationsbild durch Abkühlen fixiert wird, das dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Aufzeichnungsmaterial mit einer photoleitfähigen Schicht verwendet wird, die als Photoleiter einen Ladungsübertragungskomplex aus einem Elektronenakzcptor und einem gegebenenfalls modifizierten Phenol-Aldehyd-Harz enthält.The invention thus relates to an electrophotographic process for the production of images, in which on an electrophotographic recording material having a thermoplastic photoconductive Layer applied a charge image, the recording material until a deformation image is formed heated and the deformation pattern is fixed by cooling, which is characterized by this is that a recording material having a photoconductive layer is used as Photoconductor a charge transfer complex from an electron acceptor and an optionally contains modified phenol-aldehyde resin.

Die Erfindung betrifft insbesondere ein elektrophotographisches Verfahren der eingangs genannten Art, das dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Ladungsübertragungskomplex verwendet wird, der ein Phenol-Aldehyd-Harz der FormelThe invention relates in particular to an electrophotographic method of the type mentioned at the beginning Type, which is characterized in that a recording material with a charge transfer complex which is a phenol-aldehyde resin of the formula

enthält, worin R gleich einer zweiwertigen Gruppe, die aus Formaldehyd, Paraformaldehyd, Furfural, Aminoformaldehyd, Acrolein, Benzaldehyd, Chloral, einem Ketoaldehyd, Acetaldehyd, Glyoxal, Propionaldehyd, n-Butyraldehyd, Isobutyraldehyd, n-Valcraldehyd, Isovaleraldehyd, n-Caproaldchyd, n-Heplaldehyd, Steraldchyd und/oder Crotonaldehyd entstanden ist, X gleich einem Sauerstoffatom oder der zweiwertigen Gruppe R, Y gleich einem Wasscrstoff- oder Halogenatom, c'ner OH-Gruppe und/oder einercontains, where R is a divalent group consisting of formaldehyde, paraformaldehyde, furfural, Aminoformaldehyde, acrolein, benzaldehyde, chloral, a ketoaldehyde, acetaldehyde, glyoxal, propionaldehyde, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, n-valcraldehyde, isovaleraldehyde, n-caproaldehyde, n-heplaldehyde, Steraldchyd and / or crotonaldehyde is formed, X equals an oxygen atom or the divalent group R, Y is a hydrogen or halogen atom, an OH group and / or a

niederen Alkylgruppe, Z gleich einer ganzen Zahl von mindestens 2, η gleich 1, 2, 3 oder 4 und m gleich 1, 2 oder 3 ist. Vorzugsweise hat das erfindungsgemäß verwendete Phenol-Aldehyd-Harz ein Molekulargewicht von mindestens etwa 300.lower alkyl group, Z is an integer of at least 2, η is 1, 2, 3 or 4 and m is 1, 2 or 3. The phenol-aldehyde resin used in the present invention preferably has a molecular weight of at least about 300.

Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht die einfache und rasche Herstellung von vorzüglichen Deformationsbildern. Wenn transparente Photoleiter verwendet werden, können die erhaltenen Bilder in Projektionsvorrichtungen betrachtet werden.The inventive method enables the simple and rapid production of excellent Deformation images. If transparent photoconductors are used, the images obtained can be used in Projection devices are considered.

Im erfindungsgemäßen Verfahren kann die Deformation gleichzeitig oder nach der Belichtung erfolgen. Bei der Deformation entsteht auf der Oberfläche ein aus Bereichen erhöhter und verminderter Schichtdicke zusammengesetztes Muster, das dem Hell- und Dunkelbereiche aufweisenden Muster des Originals entspricht. Die Erweichung bzw. Wärmedeformation des erfindungsgemäß verwendeten Photoleiters kann durch Wärme, aber auch durch Lösungsmitteldampf oder andere geeignete Mittel erfolgen. Der in der vorliegenden Beschreibung verwendete Begriff »deformierbar« bzw. »wärmedeformierbar« bezieht sich auf diese Maßnahmen.In the method according to the invention, the deformation can take place simultaneously or after the exposure. During the deformation, a layer of increased and decreased layer thickness is created on the surface composite pattern that is the pattern of the original with light and dark areas is equivalent to. The softening or thermal deformation of the photoconductor used according to the invention can by heat, but also by solvent vapor or other suitable means. The one in the present Description used term »deformable« or »heat deformable« refers to these measures.

Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung von Deformationsbildern erfolgt im allgemeinen in mehreren Verfahrensschritten; hierzu zählen: Aufbringen eines latenten elektrostatischen Bildes oder eines Ladungsmusters auf eine Isolierschicht aus einem vorstehend näher beschriebenen Material, das durch Wärme oder Lösungsmitteldämpfe zum Erweichen gebracht werden kann. Die Schicht kann dann erweicht werden, bis die elektrostatischen Anziehungskräfte des Ladungsmusters größer sind als die Oberflächenspannung der Schicht.The method according to the invention for producing deformation images is carried out generally in several process steps; these include: applying a latent electrostatic Image or a charge pattern on an insulating layer made of one described in detail above Material that can be softened by heat or solvent vapors. The layer can then be softened until the electrostatic attractive forces of the charge pattern are greater are than the surface tension of the layer.

Sobald dieser Grenzwert erreicht ist, bilden sich auf der Oberfläche der Schicht zahlreiche sehr kleine Falten und Runzeln, wobei die Tiefe der Runzeln in den einzelnen Bereichen der Schicht von der Ladungsmenge in diesen Bereichen abhängig ist. Das Bild erhält dadurch das Aussehen eines »eingefrorenen Bildes«. Die Isolierschicht kann bereits vor dem Aufbringen des Ladungsmusters zum Erweichen gebracht werden; Voraussetzung dafür ist allerdings, daß die Isolationseigenschaften des Materials zur Aufrechterhaltung der Ladung ausreichen. Das »Einfrieren« des Bildes kann dann durch Aushärtenlassen der Schicht erfolgen, wozu man die Schicht wieder in den Zustand zurückkehren läßt, dem sie vor dem Erweichen ausgesetzt war.As soon as this limit is reached, numerous very small wrinkles form on the surface of the layer and wrinkles, the depth of the wrinkles in the individual areas of the layer being dependent on the amount of charge is dependent in these areas. This gives the image the appearance of a “frozen image”. The insulating layer can already be softened before the charge pattern is applied will; A prerequisite for this, however, is that the insulation properties of the material are to be maintained sufficient for the load. The "freezing" of the image can then be done by letting the layer harden done by allowing the layer to return to the state it was exposed to before softening was.

Ist eine wiederholte Anwendung eines derartigen »Einfrier«-Systems vorgesehen, so ist es wünschenswert, daß die durch Einfrieren erzeugten Bilder nach dem Aushärten durch erneutes Erweichen der Schicht wieder entfernt werden können. Zu diesem Zweck ist es notwendig, daß die Viskosität des thermoplastischen Materials für eine genügend lange Zeit so weit erniedrigt werden kann, daß eine Glättung der Schicht durch die Oberflächenspannung erfolgen kann.If such a "freezing" system is to be used repeatedly, it is desirable that the images produced by freezing after hardening by re-softening the layer can be removed again. For this purpose it is necessary that the viscosity of the thermoplastic Material can be lowered so far for a long enough time that smoothing of the layer through the surface tension can take place.

Als besonders geeignet für die Verwendung in den vorgenannten Systemen sind solche Materialien zu nennen, die sich nicht nur durch eine ausreichende Deformierbarkeit auszeichnen, sondern die außerdem gute Photoleiter sind. Auf diese Weise ist es möglich, diese Materialien direkt auf einer leitenden Unterlage aufzubringen, ohne daß eine nach dem Stand der Technik erforderliche photoleitende Zwischenschicht notwendig ist.Such materials are to be particularly suitable for use in the aforementioned systems name that are not only characterized by sufficient deformability, but also that are good photoconductors. In this way it is possible to place these materials directly on a conductive surface to be applied without a photoconductive intermediate layer required according to the prior art necessary is.

Keine der beiden vorgenannten, zur Herstellung des photoleitenden Materials verwendeten Komponenten ist für sich photoleitend; vielmehr sind beide Komponenten nichtleitend. Durch überführen einer nichtphotoleitenden Lewis-Säure und eines ebenfalls nichtphotoleitenden thermoplastischen Phenol-Aldehyd-Harzes in eine Komplexverbindung erhält man ein Isoliermaterial mit ausgezeichneten photoleitenden Eigenschaften, welches nach einem an sich bekannten geeigneten Verfahren auf einen leitenden Träger aufgebracht wird und so ein durch Wärme deformierbares Aufzeichnungsmaterial bildet. Daneben besteht die Möglichkeit, das photoleitende Material zu einer selbsttragenden Schicht zu verformen; das zuvor beschriebene Aufbringen auf eine Unterlage erübrigt sich dann. Außerdem kann auf den Photoleiter ein zweiter, durch Wärme deformierbarer überzug aufgebracht werden.Neither of the above two components used to make the photoconductive material is photoconductive in itself; rather, both components are non-conductive. By transferring a non-photoconductive Lewis acid and a non-photoconductive thermoplastic phenol-aldehyde resin in a complex compound, an insulating material having excellent photoconductive properties is obtained Properties which are applied to a conductive support by a suitable method known per se and thus forms a recording material deformable by heat. In addition there is the ability to deform the photoconductive material into a self-supporting layer; the previously described There is then no need to apply it to a base. It can also be used on the photoconductor second, heat-deformable coating can be applied.

Wichtig ist dabei, daß die durch Wärme deformierbare Schicht einen spezifischen elektrischen Widerstand von ΙΟ10 Ohm · cm oder mehr und eine Viskosität bis zu etwa 106 Poise an ihrem Erweichungspunkt aufweist.. Die durch Wärme deformierbare Schicht kann eine Schichtdicke bis zu etwa 300 Mikron aufweisen, wobei die günstigsten Werte jedoch im Bereich von 5 bis 15 Mikron liegen. Das Mischungsverhältnis von Phenol-Aldehyd-Harz zu Lewis-Säure kann so gewählt werden, daß auf 1 Teil - Lewis-Säure etwa 1 bis lOOJTeile Phenol-Aldehyd- ~~Harz entfallen. Zur Erzielung optimaler Empfindlichkeit werden vorzugsweise auf I Teil Lewis-Säure etwa 1 bis 5 Teile Phenol-Aldehyd-Harz verwendet. Die Erzeugung des Bildes kann nach jedem geeigneten Verfahren erfolgen. Typische Verfahren sind nachstehend zusammengestellt:It is important that the heat-deformable layer has a specific electrical resistance of ΙΟ 10 ohm · cm or more and a viscosity of up to about 10 6 poise at its softening point. The heat-deformable layer can have a layer thickness of up to about 300 microns however, the most favorable values are in the range of 5 to 15 microns. The mixing ratio of phenol-aldehyde resin to Lewis acid can be chosen so that about 1 to 100 parts of phenol-aldehyde resin are used for 1 part Lewis acid. For optimum sensitivity, it is preferred to use about 1 to 5 parts of phenol-aldehyde resin per 1 part of Lewis acid. The image can be generated by any suitable method. Typical procedures are summarized below:

1. Die thermoplastische photoleitende Schicht wird zunächst gleichmäßig aufgeladen und dann selektiv entsprechend dem zu reproduzierenden Bild belichtet. Anschließend wird das Material einer Wärmebehandlung unterworfen und zur Ausbildung eines Deformationsbildes, dessen Konfigutation dem Muster der vorhergehenden selektiven Belichtung entspricht, deformiert. Anschließend wird das Bild fixiert, indem die Schicht abkühlen gelassen wird.1. The thermoplastic photoconductive layer is first charged uniformly and then selectively exposed according to the image to be reproduced. Subsequently, the material undergoes a heat treatment subject and to the formation of a deformation pattern, the configuration of which corresponds to the pattern of previous selective exposure, deformed. The image is then fixed by pressing the Layer is allowed to cool.

2. Bei einem anderen Verfahren wird die thermoplastische Schicht selektiv entsprechend einem vorgegebenen Muster aufgeladen, beispielsweise mittels einer Korona-Entladung unter Verwendung einer Schablone oder durch Ladungsübertragung von einem zweiten Photoleiter. Das Material wird anschließend erwärmt, wobei eine selektive Deformation der Schicht nur in den Bereichen erfolgt, die ursprünglich mit einer Aufladung versehen worden waren.2. In another method, the thermoplastic layer is selectively made according to a predetermined one Pattern charged, for example by means of a corona discharge using a Stencil or by charge transfer from a second photoconductor. The material is then heated, whereby a selective deformation of the layer takes place only in the areas that were originally with had been charged.

3. Bei einem weiteren Verfahren wird die photoleitende Schicht mit thermoplastischem Material überzogen. Das so hergestellte Material wird mit einer gleichmäßigen Aufladung versehen und entsprechend dem zu reproduzierenden Bild belichtet. Anschließend wird erneut eine gleichmäßige Aufladung aufgebracht. Anschließend wird das Material in der oben bcschriebenen Weise erwärmt und deformiert. Man erhält so ein negatives Deformationsbild, d. h. Schwarz für Weiß.3. Another method is to coat the photoconductive layer with a thermoplastic material. The material produced in this way is provided with a uniform charge and accordingly exposed to the image to be reproduced. A uniform charge is then applied again. The material is then heated and deformed in the manner described above. You get so a negative deformation image, d. H. Black for white.

4. Bei einem weiteren Verfahren kommt das photoleitende thermoplastische Material in Form eines selbsttragenden Films zur Anwendung. Der Film wird mit einer Aufladung verschen, indem er zwischen einem Paar von Korona-Entladungscinrichlungcn hindurchgeführt wird. Anschließend erfolgt eine selektive Belichtung des Films entsprechend einem zu re-4. In another method, the photoconductive thermoplastic material comes in the form of a self-supporting film for application. The film is given away with a charge by placing between a pair of corona discharge devices. This is followed by a selective one Exposure of the film according to a

produzierenden Bild, der dann durch Erwärmen deformiert wird. Das so erhaltene Deformationsbild entspricht dem zur Belichtung verwendeten Original. Auf einem transparenten Film kann so ein lichtbrechendes Bild erzeugt werden, das in Projektions- vorrichtungen verwendet werden kann.producing image, which is then deformed by heating. The deformation image obtained in this way corresponds to the original used for exposure. In this way, a light-refracting image can be created on a transparent film, which is devices can be used.

5. Wird das nach einer der obengenannten Methoden mit einem Bild versehene ladungsfreie Aufzeichnungsmaterial erneut einer Wärmebehandlung bis zum Erreichen des Erweichungspunktes unterworfen, so wird durch die Oberflächenspannung die Oberfläche geglättet und das Bild entfernt. Das photoleitende Material ist dann für erneuten Gebrauch nach einer der genannten Methoden bereit.5. Will the non-charge recording material imaged by any of the above methods again subjected to heat treatment until the softening point is reached, the surface tension smooths the surface and removes the image. The photoconductive one Material is then ready to be used again by one of the methods mentioned.

6. Im erfindungsgemäßen Verfahren können samtliehe der in den GB-PSen 11 22 001 und 11 22 002 beschriebenen Verfahren angewendet werden.6. In the method according to the invention, all those described in GB-PSs 11 22 001 and 11 22 002 can be used Procedures are applied.

Die jeweils zur Anwendung kommenden Verfahren zur Erzeugung von Deformationsbildern können in Abhängigkeit von den besonderen Erfordernissen variiert werden. In bestimmten Fällen kann z. B. die · durch Wärme verformbare Schicht vor dem Aufbringen einer gleichmäßigen Ladung auf die Oberfläche einer Vorbehandlung unterworfen werden. Außerdem können zahlreiche verschiedene Verfahren zum Fixieren und/oder Entfernen des Materials entsprechend einem vorgegebenen Bild angewendet werden. ^_ -The methods used in each case for generating deformation images can be found in Can be varied depending on the particular requirements. In certain cases z. B. the thermally deformable layer prior to applying a uniform charge to the surface be subjected to a pretreatment. You can also use many different methods of fixing and / or removing the material can be applied according to a predetermined image. ^ _ -

In der vorliegenden Beschreibung wirt^jedes in bezug auf das damit zu komplexierende Phenol-Aldehyd-Harz als Elektronenakzeptor wirksame Material als »Lewis-Säure« bezeichnet. Ein Ladungsübertragungskomplex kann als ein unpolarer, aus im wesentlichen neutralen Elektronendonator- bzw. Elektronenakzeptormolekülen gebildeter Komplex definiert werden, der sich dadurch auszeichnet, daß durch Photoanregung ein innerer Elektronenübergang hervorgerufen wird, der vorübergehend einen angeregten Zustand erzeugt, in dem der Donator stärker positiv und der Akzeptor stärker negativ als im Grundzustand ist.In the present description, each is in with respect to the phenol-aldehyde resin to be complexed therewith as an electron acceptor material referred to as "Lewis acid". A charge transfer complex can as a non-polar, essentially neutral electron donor or electron acceptor molecules complex formed are defined, which is characterized by the fact that an internal electron transfer is caused by photoexcitation which temporarily creates an excited state in which the donor is more positive and the acceptor is more negative than in the ground state.

Es wird angenommen, daß die erfindungsgemäß verwendeten isolierenden Phenol-Aldehyd-Harze vom Donator-Typ ihre Photoleitfähigkeit durch die BiI-dung von Ladungsübertragungskomplexen mit Elektronenakzeptoren (Lewis-Säuren) erhalten und daß diese Komplexe, wenn sie einmal gebildet sind, das photoleitende Element der Aufzeichnungsmaterialien bilden.It is believed that the insulating phenol-aldehyde resins used in the invention from Donor type their photoconductivity through the formation of charge transfer complexes with electron acceptors (Lewis acids) and that these complexes, once formed, the form the photoconductive element of the recording materials.

Ladungsübertragungskomplexe sind im allgemeinen lose Assoziationen von Elektronendonatoren und Elektronenakzeptoren, die häufig in stöchiometrischen Verhältnissen in den Komplexen enthalten sind. Sie können wie folgt charakterisiert werden:Charge transfer complexes are generally loose associations of electron donors and Electron acceptors, which are often contained in the complexes in stoichiometric proportions. They can be characterized as follows:

A. Die Reaktion Donator-Akzeptor ist im neutralen Grundzustand nur schwach; d. h., weder der Donator noch der Akzeptor wird durch den Partner merklich gestört, solange keine Anregung durch die Einwirkung von Photoenergie stattfindet. A. The donor-acceptor reaction is only weak in the neutral ground state; d. i.e., neither the Donor and acceptor are noticeably disturbed by the partner as long as there is no stimulation takes place through the action of photo energy.

B. Die Reaktion Donator — Akzeptor ist im angeregten Zustand relativ stark, d. h., die Komponenten sind durch die Einwirkung von Strahlungsenergie wenigstens teilweise ionisiert.B. The donor-acceptor reaction is relatively strong in the excited state; i.e., the components are at least partially ionized by the action of radiant energy.

C. Sobald der Komplex gebildet ist, erscheinen eine oder mehrere neue Absorptionsbanden im nahen Ultraviolett oder im sichtbaren Spektralbereich (Wellenlängen zwischen 3200 und 7500 Angström), die weder beim Donator noch beim Akzeptor vorhanden waren, sondern eine spezifische Eigenschaft des gebildeten Donator-Akzeptor-Komplexes darstellen.C. Once the complex is formed, one or more new absorption bands appear nearby Ultraviolet or in the visible spectral range (wavelengths between 3200 and 7500 Angstroms), which were not present in either the donor or the acceptor, but a specific one Represent property of the donor-acceptor complex formed.

Es wurde festgestellt, daß die Photoleitfähigkeit sowohl auf den spezifischen Banden des Donators als auch den auf einem Ladungsübergang beruhenden Banden des Komplexes beruht.It was found that the photoconductivity is based on both the specific bands of the donor and also the bands of the complex based on a charge transfer.

Die Bezeichnung »photoleitender Isolator« ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung in bezug auf die praktische Anwendung in der Elektrophotographie definiert. Allgemein kann praktisch jeder Isolator in einen photoleitenden Zustand übergeführt werden; hierzu bedarf es lediglich der Anregung durch Strahlung ausreichender Intensität und genügend kurzer Wellenlänge. Diese Tatsache gilt sowohl für anorganische als auch für organische Materialien einschließlich inerter Harz-Bindemittel, wie sie für Bindemittelplatten benutzt werden, und erfindungsgemäß verwendeter Aktivatoren vom Elektronenakzeptor-Typ und die ebenfalls erfindungsgemäß verwendeten thermoplastischen Phenol-Aldehyd-Harze. Die Empfindlichkeit für sehr kurzwellige Strahlung ist jedoch für die praktische Anwendung in der Elektrophotographie nicht brauchbar, da Strahlungsquellen ausreichender Intensität Tür Wellenlängen unterhalb 3200 Angström nicht zugänglich sind, zumal solche Strahlung für das menschliche Auge schädlich ist und außerdem von aus Glas bestehenden optischen System absorbiert wird. Demzufolge werden nach der Lehre der Erfindung unter »photoleitenden Isolatoren« nur solche Materialien verstanden, die wie folgt charakterisiert werden können:The term "photoconductive insulator" is used in the context of the present invention in relation to the practical application in electrophotography. In general, virtually any isolator can be used in are brought into a photoconductive state; all that is required for this is excitation by radiation sufficient intensity and sufficiently short wavelength. This fact applies to both inorganic as well as organic materials including inert resin binders such as those used for binder boards are used, and activators of the electron acceptor type used according to the invention and the thermoplastic phenol-aldehyde resins also used in accordance with the invention. The sensitivity for very short-wave radiation, however, is for practical use in electrophotography not usable because radiation sources of sufficient intensity door wavelengths below 3200 angstroms are not accessible, especially since such radiation is harmful to the human eye and is also absorbed by optical systems made of glass. Accordingly, according to the teaching According to the invention, “photoconductive insulators” are understood to mean only those materials which are characterized as follows can be:

1. Aus diesen Materialien lassen sich zusammenhängende Schichten oder Filme bilden, die in der Lage sind, bei Abwesenheit von aktinischer Strahlung eine elektrostatische Ladung zurückzuhalten. 1. These materials can be used to form coherent layers or films that are in the Are able to retain an electrostatic charge in the absence of actinic radiation.

2. Diese Schichten oder Filme zeigen bei Belichtung mit Strahlung, deren Wellenlänge größer als 3200 Angström ist, eine Empfindlichkeit, die ausreicht, wenigstens die Hälfte der vorhandenen Aufladung bei einem Gesamtfluß von höchstens 1014 Quanten je cm2 abzubauen.2. When exposed to radiation whose wavelength is greater than 3200 angstroms, these layers or films show a sensitivity which is sufficient to reduce at least half of the charge present with a total flux of at most 10 14 quanta per cm 2 .

Entsprechend dieser Definition sind die erfindungsgemäß eingesetzten Harze und Lewis-Säuren, soweit sie einzeln verwendet werden, aus der Klasse der photoleitenden Isolatoren ausgeschlossen.According to this definition, the resins and Lewis acids used according to the invention are so far used individually, excluded from the class of photoconductive insulators.

Im erfindungsgemäßen Verfahren können praktisch alle Phenol-Aldehyd-Harze eingesetzt werden, die Auswahl dieser thermoplastischen Materialien richtet sich lediglich nach dem Verwendungszweck und den geforderten Eigenschaften.Practically all phenol-aldehyde resins can be used in the process according to the invention, the selection of these thermoplastic materials depends only on the intended use and the required properties.

Spezielle Beispiele von Phenolen, die sich zur Herstellung von Phenol-Aldehyd-Harzen eignen, sind Phenol, Kresol, Xylol, Alkylphenole, wie p-tert.-Amylphenol, p-Cyclohexylphenol, Arylphenole, wie p-Phenylphenol und Triphenyl-p-hydroxyphenol, Alkenylphenole, wie o- und p-l,5-Di- sowie 1,3-Dibutenylphenol und 1,3,5-Tributenylphenol, halogenierte Phenole, wie Mono-, Di-, Tri- und Tetrachlorphenol, Resorcin, Hydrochinon und deren Mischungen; sulfonierte Phenole, wie p-Hydroxy-tert.-butylbcnzolsulfonsäure, zwei-, drei- und mehrwertige Phenole, wie Resorcin, Hydrochinon, Brenzcatechin, Pyrogallol,Specific examples of phenols useful in making phenol-aldehyde resins are Phenol, cresol, xylene, alkylphenols, such as p-tert-amylphenol, p-cyclohexylphenol, arylphenols, such as p-phenylphenol and triphenyl-p-hydroxyphenol, alkenylphenols, such as o- and p-1,5-di- and 1,3-dibutenylphenol and 1,3,5-tributenylphenol, halogenated Phenols such as mono-, di-, tri- and tetrachlorophenol, resorcinol, hydroquinone and mixtures thereof; sulfonated Phenols, such as p-hydroxy-tert-butylbenzenesulfonic acid, di-, tri- and polyhydric phenols such as resorcinol, hydroquinone, catechol, pyrogallol,

Phloroglucin, Benzoltriol und Xylenol, polynucleare Phenole, wie «- und /i-Naphthol, Anthracenphenol, Dihydroxydiphenylalkane, wie Bisphenol A, und deren Mischungen.Phloroglucinol, benzenetriol and xylenol, polynuclear phenols such as «- and / i-naphthol, anthracene phenol, Dihydroxydiphenylalkanes, such as bisphenol A, and mixtures thereof.

Zur Herstellung der erfindungsgemäß einselzbaren Phenol-Aldehyd-Harze kann auch jedes den vorgenannten Phenolen entsprechende substituierte Phenol verwendet werden. Außerdem können, soweit erwünscht, die verwendeten Phenol-Aldehyd-Harzc modifiziert werden, so lassen sich beispielsweise Phenol-Formaldehyd-Harze mit Diphenyloxid modifizieren. Man erhält auf diese Weise ein Phenol-Formaldehyd-Harz, das zwischen mindestens einer aromatischen Gruppe eine Sauerstoffbrücke aufweist.Any of the aforementioned can also be used to produce the phenol-aldehyde resins which can be used according to the invention Substituted phenol corresponding to phenols can be used. In addition, if desired, the phenol-aldehyde resin used is modified phenol-formaldehyde resins, for example, can be modified with diphenyl oxide. In this way, a phenol-formaldehyde resin is obtained, which is between at least one aromatic Group has an oxygen bridge.

Zur Umsetzung mit dem Phenol kann praktisch jeder geeignete Aldehyd verwendet werden. Spezielle Beispiele solcher Aldehyde sind Formaldehyd, Paraformaldehyd, Furfural, Aminoformaldehyd, Acrolein, Benzaldehyd, Chloral, Ketoaldehyde, Acetaldehyd, Glyoxal, Propionaldehyd, n-Butyraldehyd, Isobutyraldehyd, n-Valeraldehyd, Isovaleraldehyd, n-Caproaldehyd, n-Heptaldehyd, Stearaldehyd, Crotonaldehyd und deren Mischungen.Virtually any suitable aldehyde can be used to react with the phenol. Specific Examples of such aldehydes are formaldehyde, paraformaldehyde, furfural, aminoformaldehyde, acrolein, Benzaldehyde, chloral, ketoaldehyde, acetaldehyde, glyoxal, propionaldehyde, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, n-valeraldehyde, isovaleraldehyde, n-caproaldehyde, n-heptaldehyde, stearaldehyde, crotonaldehyde and mixtures thereof.

Zur Herstellung der erfindungsgemäß verwendeten Photoleiter kann praktisch jede Lewis-Säure mit einem der obenerwähnten Phenol-Aldehyd-Harze komplexiert werden.Virtually any Lewis acid can be used to produce the photoconductors used according to the invention complexed with one of the phenol-aldehyde resins mentioned above.

Obgleich der Mechanismus der Komplexbildung noch nicht vollständig geklärt ist, kann doch arfgenommen werden, daß ein Ladungsübertragungskomplex gebildet wird, der Absorptionsbanden aufweist, die für keine der komplexbildenden Komponenten, wenn diese einzeln vorliegen, charakteristisch sind. Die durch das Vermischen der zwei nichtphotoleitenden Komponenten hervorgerufene synergistische Wirkung scheint dabei wesentlich größer zu sein, als die durch eine reine Addition der Eigenschaften der einzelnen Komponenten zu erreichende Wirkung.Although the mechanism of complex formation is not yet fully understood, it can be assumed be that a charge transfer complex is formed which has absorption bands, which are not characteristic of any of the complex-forming components, if these are present individually. The synergistic effect created by mixing the two non-photoconductive components seems to be much greater than that through a pure addition of the properties of the individual Components to achieve effect.

Die besten Ergebnisse werden mit den folgenden bevorzugt anzuwendenden Lewis-Säuren erreicht. Hierzu zählen 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon, 4,4-Bis-(dimethylamino)-benzophenon, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Chloranil, Pikrinsäure, Benz(a)anthracen-7,12-dion, und 1,3,5-Trinitrobenzol.The best results are achieved with the following preferred Lewis acids. These include 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, Tetrachlorophthalic anhydride, chloranil, picric acid, benz (a) anthracene-7,12-dione, and 1,3,5-trinitrobenzene.

Spezielle Beispiele weiterer erfindungsgemäß verwendeter Lewis-Säuren sind Chinone, wie p-Benzochinon, 2,5-Dichlorbenzochinon, 2,6-Dichlorbenzochinon, Naphthochinone 1,4), 2,3-Dichlornaphthochinon-(l,4), Anthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 1,4-Dimethylanthrachinon, l-Chloranthrachino^Anthrachinon-2-carbonsäure, 1 ,S-Dichloranthrachinon, 1 -Chlor-4-nitroanthrachinon, Phenanthrenchinon, Acenaphthenchinon, Pyranthrenchinon, Chrysenchinon, Thionaphthenchinon, Anthrachinon-1,8-disulfonsäure und Anthrachinon-2-aldehyd, Triphthaloylbenzol, Aldehyde, wie Bromal, 4-NitrobenzaIdehyd, 2,6-Dichlorbenzaldehyd, 2-Äthoxy-1 -naphthaldehyd, Anthracen-9-aldehyd, Pyren-3-aldehyd, Oxindol-3-aldehyd, Pyridin-2,6-dialdehyd und Biphenyl-4-aldehyd, organische Phosphonsäuren, wie 4-Chlor-3-nitrobenzolphosphonsäure, Nitrophenole, wie 4-Nitrophenol und Pikrinsäure, Säureanhydride, wie Essigsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Phthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Perylen-O^.lO-tetracarbonsäure, Chrysen-2,3,8,9 -Tetracarbonsäureanhydrid und Dibrommaleinsäureanhydrid; Halogenide der Metalle und Metalloide der Gruppen IB, II bis VIII des periodischen Systems der Elemente, wie Aluminiumchlorid, Zinkchlorid, Eisen(III)-chlorid, Zinn(IV)-chlorid, Arsentrichlorid, Zinn(II)-chlorid, Antimonpentachlorid, Magnesiumchlorid, Magnesiumbromide Calciumbromid, Calciumjodid, Strontiumbromid, Chrom(III)-bromid, Mangan(II)-chlorid, Kobalt(II)-chlorid, Kobalt(III)-chlorid, Kupfer(II)-bromid, Cer(IV)-chlorid, Thoriumchlorid, Arsentrijodid und Borhalogenide, wie Bortrifluorid und Bortrichlorid, und Ketone, wie Acetophenon, Benzophenon, 2-Acetylnaphthalin, Benzil, Benzoin, 5-Benzoylacenaphthen, Biacendion, 9-Acetylanthracen, 9-Benzoylanthracen, 4-(4-Dimethylaminocinnamoyl)-l-acetylbenzol, Acetessigsäureanilid, Indandion-(l,3), Acenaphthenchinondichlorid, Anisil, 2,2-Pyridil und Furil.Specific examples of other Lewis acids used according to the invention are quinones, such as p-benzoquinone, 2,5-dichlorobenzoquinone, 2,6-dichlorobenzoquinone, naphthoquinones 1,4), 2,3-dichloronaphthoquinone- (1,4), Anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, l-chloranthraquinone ^ anthraquinone-2-carboxylic acid, 1, S-dichloroanthraquinone, 1 -Chlor-4-nitroanthraquinone, phenanthrenequinone, acenaphthenquinone, pyranthrenequinone, chrysenequinone, Thionaphthenquinone, anthraquinone-1,8-disulfonic acid and anthraquinone-2-aldehyde, triphthaloylbenzene, Aldehydes, such as bromal, 4-nitrobenzaldehyde, 2,6-dichlorobenzaldehyde, 2-ethoxy-1-naphthaldehyde, Anthracene-9-aldehyde, pyrene-3-aldehyde, oxindole-3-aldehyde, Pyridine-2,6-dialdehyde and biphenyl-4-aldehyde, organic phosphonic acids such as 4-chloro-3-nitrobenzenesophosphonic acid, Nitrophenols, such as 4-nitrophenol and picric acid, acid anhydrides, such as acetic anhydride, Succinic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, Perylene-O ^ .lO-tetracarboxylic acid, chrysene-2,3,8,9 -Tetracarboxylic anhydride and dibromomaleic anhydride; Halides of metals and metalloids of groups IB, II to VIII of the periodic table of elements, such as aluminum chloride, zinc chloride, Iron (III) chloride, tin (IV) chloride, arsenic trichloride, Tin (II) chloride, antimony pentachloride, magnesium chloride, magnesium bromide calcium bromide, Calcium iodide, strontium bromide, chromium (III) bromide, manganese (II) chloride, cobalt (II) chloride, cobalt (III) chloride, Copper (II) bromide, cerium (IV) chloride, thorium chloride, arsenic triiodide and boron halides, such as boron trifluoride and boron trichloride, and ketones such as acetophenone, benzophenone, 2-acetylnaphthalene, benzil, Benzoin, 5-benzoylacenaphthene, biacendione, 9-acetylanthracene, 9-benzoylanthracene, 4- (4-dimethylaminocinnamoyl) -l-acetylbenzene, Acetoacetic anilide, indanedione (1,3), acenaphthenequinone dichloride, anisil, 2,2-pyridil and furil.

Weitere Lewis-Säuren sind Mineralsäuren, wie die Halogenwasserstoffsäuren Schwefelsäure und Phosphorsäure, Carbonsäuren, wie Essigsäure und deren Substitutionsprodukte, Monochloressigsäure, Dichloressigsäure, Trichloressigsäure, Phenylessigsäure und 6-Methylcumarinylessigsäure-(4), Maleinsäure, Zimtsäure, Benzoesäure, l-(4-Diäthylaminobenzoyl)-benzol-2-carbonsäure, Phthalsäure und Tetrachlorphthalsäure, a^-Dibrom-ß-formyl-acrylsäure (Mucobromsäure), Dibrommaleinsäure, 2-Brombenzoesäure, Gallussäure, 3-Nitro-2-hydroxy-l-benzoesäure, 2-Nitrophenoxyessigsäure, 2-Nitrobenzoesäure, 3-Nitroben-J._jzoesäure, 4-Nitrobenzoesäure;' 3-Nitro-4-äthoxybenzoesäure, 2-Chlor-4-nitro-l-benzoesäure, 3-Nitro-4 - methoxybenzoesäure, 4 - Nitro -1 - methylbenzoesäure, 2-Chlor-5-nitro-l-benzoesäure, 3-Chlor-6-nitro-1 -benzoesäure, 4-Chlor-3-nitro-1 -benzoesäure, 5-Chlor-3-nitro-2-hydroxybenzoesäure, 4-ChIor-2-hydroxybenzoesäure, 2,4 - Dinitro - 1 - benzoesäure, 2-Brom-5-nitrobenzoesäure, 4-ChIorphenylessigsäure, 2-Chlorzimtsäure, 2-Cyanzimtsäure, 2,4-Dichlorbenzoesäure, 3,5-Dinitrobenzoesäure, 3,5-DinitrosalicyI-säure, Malonsäure, Schleimsäure, Acetosalicylsäure, Benzilsäure, Butantetracarbonsäure, Citronensäure, Cyanessigsäure, Cyclohexandicarbonsäure, Cyclohexancarbonsäure, 9,10-Dichlorstearinsäure, Fumarsäure, Itaconsäure, Lävulinsäure, Äpfelsäure, Bernsteinsäure, a-Bromstearinsäure, Citraconsäure, Dibrombernsteinsäure, Pyren-2,3,7,8-Tetracarbonsäure und Weinsäure, organische Sulfonsäuren, wie 4-Toluolsulfonsäure und Benzolsulfonsäuren, wie 2,4-Dinitro-1 -methylbenzol-6-sulfonsäure, 2,6-Dinitro-1 -hydroxybenzol-4-sulfonsäure, 2-Nitro-1 -hydroxybenzol-4-sulfonsäure, 4-Nitro-l-hydroxy-2-benzolsulfonsäure, 3-Nitro-2-methyl-l-hydroxybenzol-5-sulfonsäure, 6-Nitro-4-methyl-1 -hydroxybenzol-2-sulfonsäure, 4 - Chlor - 1 - hydroxybenzol - 3 - sulfonsäure, 2 - Chlor - 3 - nitro - 1 - methylbenzol - 5 - sulfonsäure und Chlor-1 -methyl-benzol-4-sulfonsäure.Other Lewis acids are mineral acids, such as the hydrohalic acids sulfuric acid and phosphoric acid, Carboxylic acids, such as acetic acid and its substitution products, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, Trichloroacetic acid, phenylacetic acid and 6-methylcoumarinyl acetic acid- (4), maleic acid, cinnamic acid, Benzoic acid, l- (4-diethylaminobenzoyl) -benzene-2-carboxylic acid, phthalic acid and tetrachlorophthalic acid, a ^ -dibromo-ß-formyl-acrylic acid (mucobromic acid), Dibromomaleic acid, 2-bromobenzoic acid, gallic acid, 3-nitro-2-hydroxy-l-benzoic acid, 2-nitrophenoxyacetic acid, 2-nitrobenzoic acid, 3-nitroben-J._jzoic acid, 4-nitrobenzoic acid; ' 3-nitro-4-ethoxybenzoic acid, 2-chloro-4-nitro-1-benzoic acid, 3-nitro-4 - methoxybenzoic acid, 4 - nitro -1 - methylbenzoic acid, 2-chloro-5-nitro-1-benzoic acid, 3-chloro-6-nitro-1 benzoic acid, 4-chloro-3-nitro-1-benzoic acid, 5-chloro-3-nitro-2-hydroxybenzoic acid, 4-chloro-2-hydroxybenzoic acid, 2,4 - Dinitro - 1 - benzoic acid, 2-bromo-5-nitrobenzoic acid, 4-chlorophenylacetic acid, 2-chlorocinnamic acid, 2-cyanocinnamic acid, 2,4-dichlorobenzoic acid, 3,5-dinitrobenzoic acid, 3,5-dinitrosalicic acid, malonic acid, mucic acid, acetosalicylic acid, Benzilic acid, butanetetracarboxylic acid, citric acid, cyanoacetic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, 9,10-dichlorostearic acid, fumaric acid, itaconic acid, levulinic acid, malic acid, succinic acid, α-bromostearic acid, citraconic acid, dibromosuccinic acid, Pyrene-2,3,7,8-tetracarboxylic acid and tartaric acid, organic sulfonic acids such as 4-toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acids, such as 2,4-dinitro-1-methylbenzene-6-sulfonic acid, 2,6-dinitro-1-hydroxybenzene-4-sulfonic acid, 2-nitro-1-hydroxybenzene-4-sulfonic acid, 4-nitro-1-hydroxy-2-benzenesulfonic acid, 3-nitro-2-methyl-1-hydroxybenzene-5-sulfonic acid, 6-nitro-4-methyl-1-hydroxybenzene-2-sulfonic acid, 4 - chloro - 1 - hydroxybenzene - 3 - sulfonic acid, 2 - chloro - 3 - nitro - 1 - methylbenzene - 5 - sulfonic acid and chloro-1-methyl-benzene-4-sulfonic acid.

Die Beispiele erläutern die Erfindung. Teile und Prozente beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben ist.The examples illustrate the invention. Parts and percentages are based on weight, unless nothing other is indicated.

Beispiel IExample I.

In ein 100-ml-Becherglas, das etwa 45 g eines Gemisches aus etwa 25 g Aceton und etwa 20 g Toluol enthält, wird eine Probe von etwa 5 g eines mit Diphenyloxid modifizierten Novolakes (schwachbernsteinfarbener Feststoff, durchschnittliches Molekulargewicht 1300, Erweichungspunkt 96 bis 115° C, spezifisches Gewicht 1,23 g/cm3) eingebracht. Dieses Gemisch wird mit Hilfe eines Magnetrührers bis zur vollständigen Auflösung des Harzes gerührt.A sample of about 5 g of a diphenyl oxide modified novolak (pale amber solid, average molecular weight 1300, softening point 96 to 115) is placed in a 100 ml beaker containing about 45 g of a mixture of about 25 g of acetone and about 20 g of toluene ° C, specific weight 1.23 g / cm 3 ). This mixture is stirred with the aid of a magnetic stirrer until the resin has completely dissolved.

509513/286509513/286

Dann werden etwa 250 mg 2,4,7-Trinitrofluorenon zu etwa 10 g der vorgenannten Harzlösung hinzugefügt, und das Gemisch wird bis zur vollständigen Auflösung des 2,4,7-TrinitrofIuorenons gerührt.Then about 250 mg of 2,4,7-trinitrofluorenone added to about 10 g of the aforesaid resin solution and the mixture is allowed to dissolve completely of the 2,4,7-trinitrofluorenone stirred.

Die so erhaltene Lösung wird dann als überzug auf eine rechtwinkelige, hochglanzpolierte Aluminiumfolie mit den Abmessungen 0,13 mm χ 27,9 cm χ 40,7 cm mittels eines an sich bekannten Verfahrens, wie Aufstreichen, Eintauchen, Gießen oder Aufsprühen, aufgebracht. Anschließend wird der überzug getrocknet. Die Menge der aufgetragenen Lösung wird dabei so gewählt, daß die Schichtdicke der getrockneten Schicht etwa 5 μηι beträgt. Die derart mit einem überzug versehene Platte wird mit Hilfe einer Korona-Entladung mit einer negativen Aufladung von etwa 300 Volt versehen. Dann wird die Platte für die Dauer von 15 Sekunden belichtet. Die Belichtung erfolgt dabei durch Projektion mittels eines Vergrößerungsapparates, der mit einer Linse (Brennweite / = 4,5) und einer Wolframlampe mit einer Farbtemperatur von 29500K ausgestattet ist. Die mittlere Beleuchtungsstärke auf der Platte beträgt etwa 43 Lux, gemessen mit einem Weston-Beleuchtungsmcsser.The solution obtained in this way is then applied as a coating to a rectangular, highly polished aluminum foil with the dimensions 0.13 mm × 27.9 cm × 40.7 cm by means of a process known per se, such as brushing, dipping, pouring or spraying. The coating is then dried. The amount of the applied solution is chosen so that the layer thickness of the dried layer is about 5 μm. The plate provided with a coating in this way is provided with a negative charge of about 300 volts with the aid of a corona discharge. The plate is then exposed for 15 seconds. The exposure is effected by means of a projection enlarger equipped with a lens (focal length / = 4.5) and a tungsten lamp is provided with a color temperature of 2950 0 K. The mean illuminance on the plate is about 43 lux as measured with a Weston illuminance meter.

Die Platte wird anschließend durch Aufbringen auf eine erhitzte Unterlage entwickelt, wobei die Unterlage auf einer Temperatur von 1000C gehalten wird.The plate is then developed by applying on a heated substrate, wherein the substrate is maintained at a temperature of 100 0 C.

Beim Erwärmen der Platte entsteht auf der Plattcaoberfläche ein dem projizieren Bild entsprechendes Bild, das sich sowohl durch gute Bildauflösung als auch durch Schärfe und durch seine Lichtbrechungs-Fähigkeit und feste Oberflächenbesehichtung auszeichnet. Sobald die Platte entwickelt ist, wird sie von der erhitzten Platte genommen und zum Fixieren des Bildes abgekühlt.When the plate is heated, it forms on the surface of the plate an image corresponding to the projected image, which is characterized by both good image resolution and also characterized by sharpness and by its ability to refract light and solid surface treatment. Once the plate is developed, it is removed from the heated plate and used to fix the Image cooled.

Beispiel IIExample II

3535

1 g Phenolharz, das durch Umsetzung von etwa 1 MoI p-Phenylphenol mit weniger als 0,9 Mol Formaldehyd erhalten wurde, wird in ein etwa 9 g eines Aceton/Toluol-Gemisches im Verhältnis 1 : 1 enthaltendes 50 mi-Becherglas eingetragen. Diese Mischung wird bis zur vollständigen Auflösung des Harzes gerührt.1 g of phenolic resin, which is produced by reacting about 1 mol of p-phenylphenol with less than 0.9 mol of formaldehyde is obtained in a 1: 1 ratio containing about 9 g of an acetone / toluene mixture Entered 50 mi beaker. This mixture is kept until the complete dissolution of the Resin stirred.

Dann werden der so erhaltenen Harzlösung etwa 250 mg 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon zugesetzt, und die Mischung wird so lange gerührt, bis sämtliche Materialien gleichmäßig verteilt sind.Then about 250 mg of 2,4,7-trinitro-9-fluorenone are added to the resin solution thus obtained, and the Mixture is stirred until all materials are evenly distributed.

Die so erhaltene Lösung wird dann auf einen Aluminiumträger aufgebracht, getrocknet und in der im Beispiel I beschriebenen Weise weiterbehandelt. Beim Erwärmen der Platte erhält man auch in diesem Fall ein Bild, das dem projizierten Bild entspricht. Bildschärfe, Auflösungsvermögen, Lichtbrechungseigenschaftcn und feste Oberflächenbesehichtung zeichnen auch dieses Bild aus. Unmittelbar nach dem Entwickeln wird die Platte von der erhitzten Unterlage abgenommen und zum Fixieren des Bildes abgekühlt.The solution obtained in this way is then applied to an aluminum support, dried and stored in the im Example I described manner further treated. When the plate is heated, one also obtains in this case an image that corresponds to the projected image. Image sharpness, resolving power, light refraction properties and solid surface treatment also characterize this picture. Immediately after developing the plate is removed from the heated base and cooled to fix the image.

Beispiel IIIExample III

Zur Herstellung eines Überzugs wird in der an Hand von Beispiel II beschriebenen Weise eine Lösung angesetzt, wobei jedoch an Stelle des im Beispiel 11 verwendeten Phenolharzes ein durch Umsetzung von etwa 1 Mol p-tert.-Butylphenol und weniger als 1 Mol Formaldehyd erhaltenes Phenolharz verwendet wird. Dann wird die so erhaltene Lösung mit Trinitrofluorenon versetzt, und die Lösung wird gerührt. Die so erhaltene Lösung als überzug auf einen Aluminiumträger aufgebracht, und der überzug wird getrocknet. Die so hergestellte Platte wird wie im Beispiel I und II behandelt und zeigt praktisch die gleichen Eigenschaften, wie die Platten gemäß vorgenannter Beispiele.To produce a coating, a solution is prepared in the manner described in Example II, however, instead of the phenolic resin used in Example 11, a reaction of about 1 mole of p-tert-butylphenol and less than 1 mole Phenolic resin obtained from formaldehyde is used. Then the solution thus obtained is mixed with trinitrofluorenone added, and the solution is stirred. The solution thus obtained as a coating on an aluminum support is applied and the coating is dried. The plate produced in this way is as in the example I and II treated and shows practically the same properties as the plates according to the above Examples.

Beispiel IVExample IV

Auf eine Aluminiumplatte wird ein 4 μΐη starker überzug aus dem im Beispiel II beschriebenen Gemisch aufgebracht. Der überzug wird getrocknet und anschließend mit einem weiteren überzug aus einem durch Wärme deformierbaren, jedoch nicht photoleitenden Harz beschichtet. Dieser weitere überzug besteht aus einer etwa lOgewichtsprozentigen Lösung eines Glycerinesters von hydriertem Kolophonium (harter, spröder Feststoff, Schmelzpunkt 84° C, Flammpunkt 318°C, Säurezahl 10 oder weniger, spezifisches Gewicht 1,08 g/cm3) in einer aliphatischen C6- bis Cjj-Kohlenwasserstoff-Fraktion. Die Dicke des zweiten Überzugs beträgt etwa 3 μΐη. Anschließend wird die so hergestellte Platte getrocknet.A 4 μm thick coating of the mixture described in Example II is applied to an aluminum plate. The coating is dried and then coated with a further coating of a resin which is deformable by heat but is not photoconductive. This further coating consists of an approximately 10 percent strength by weight solution of a glycerol ester of hydrogenated rosin (hard, brittle solid, melting point 84 ° C., flash point 318 ° C., acid number 10 or less, specific weight 1.08 g / cm 3 ) in an aliphatic C 6 - to Cjj hydrocarbon fraction. The thickness of the second coating is about 3 μm. The plate produced in this way is then dried.

Die Platte wird dann im Dunkeln mittels einer Korona-Entladung mit einer negativen Aufladung von etwa 450 Volt versehen. Dann wird die Platte 15 Sekunden belichtet. Die Belichtung erfolgt durch Projektion mittels eines Vergrößerungsapparates, der mit einer Linse (Brennweite / = 4,5) und einer Wolframlampe mit einer Farbtemperatur von 2950° K ausgestattet ist. Die mittlere Beleuchtungsstärke auf der Platte beträgt etwa 43 Lux, gemessen mit einem Weston-Beleuchtungsmesser. Die Platte wird anschließend erneut negativ aufgeladen und der Raumbeleuchtung ausgesetzt. Dann wird die Platte durch Auflegen auf eine bei etwa 70° C gehaltene Unterlage entwickelt. Beim Erwärmen der Platte entsteht auf der Plattenoberfläche ein negatives Bild, d. h. Schwarz für Weiß, des projizierten Bildes. Auch dieses Bild zeichnet sich durch gutes Auflösungsvermögen, Bildschärfe, Lichtbrechungsfähigkeit und feste Oberflächenbesehichtung aus. Unmittelbar nach dem Entwickeln wird die Platte von der erhitzten Unterlage abgenommen und zum Fixieren des Bildes abgekühlt.The plate is then in the dark by means of a corona discharge with a negative charge of about 450 volts. The plate is then exposed for 15 seconds. The exposure takes place through Projection using a magnifier with a lens (focal length / = 4.5) and a tungsten lamp is equipped with a color temperature of 2950 ° K. The mean illuminance on the Plate is approximately 43 lux as measured with a Weston light meter. The plate is then again negatively charged and exposed to room lighting. Then the plate is through Laying on a surface kept at about 70 ° C developed. When the plate is heated, the Plate surface a negative image, d. H. Black for white of the projected image. This picture too is characterized by good resolution, image sharpness, refractive power and solid surface coating the end. Immediately after developing, the plate is removed from the heated surface removed and cooled to fix the image.

Beispiel VExample V

Eine Aluminiumplatte wird mit einem etwa 5 μΐη starken überzug aus einem entsprechend Beispiel II zusammengesetzten Gemisch versehen.An aluminum plate is with a about 5 μΐη strong coating of a mixture composed according to Example II.

Anschließend wird in der zuvor beschriebenen Weise ein durch Bildschärfe, gute Lichtbrechungsfähigkeit und feste Oberflächenbesehichtung ausgezeichnetes Bild hergestellt, das durch Abkühlen der Platte nach dem Entwickeln fixiert wird.Subsequently, in the manner described above, a good refractive power due to image sharpness is achieved and solid surface coating produced an excellent image, which by cooling the plate after the developing is fixed.

Anschließend wird die mit dem fixierten Bild versehene Platte erneut auf die erhitzte Unterlage aufgelegt und so lange erwärmt, bis das Bild vollständig entfernt ist. Dann wird die Platte auf Raumtemperatur abgekühlt und entsprechend Beispiel II behandelt, wobei ein neues Bild erhalten wird. Daraus geht hervor, daß eine mehrmalige Benützung der Platte ohne weiteres möglich ist.Then the plate provided with the fixed image is placed again on the heated surface and heated until the image is completely removed. Then the plate is brought to room temperature cooled and treated according to Example II, a new image being obtained. From this it follows that a multiple use of the plate is easily possible.

Beispiel VIExample VI

Es wird eine Uberzugslösung hergestellt, die etwa 1 g eines mit Diphenyloxid modifizierten Novolakes (schwachbcrnsteinfarbcner Feststoff, durchschnittli-A coating solution is prepared containing about 1 g of a diphenyl oxide modified novolak (pale amber solid, average

ches Molekulargewicht 480, Erweichungspunkt 55 bis 600C, spezifisches Gewicht 1,11 g/cm3) in einem Aceton/Toluol-Gemisch im Verhältnis 1: 1 gelöst enthält. Diese Lösung wird dann mit etwa 0,25 g 2,4,7-Trinitrofluorenon versetzt. Dieses Gemisch wird bis zur vollständigen Auflösung aller Bestandteile gerührt und anschließend durch Eintauchen als überzug auf eine Aluminiumplatte aufgebracht. Die Schichtdicke des so hergestellten Überzugs beträgt nach dem Trocknen etwa 10 μΐη. ίοChes molecular weight 480, softening point 55 to 60 0 C, specific weight 1.11 g / cm 3 ) dissolved in an acetone / toluene mixture in a ratio of 1: 1. About 0.25 g of 2,4,7-trinitrofluorenone are then added to this solution. This mixture is stirred until all components are completely dissolved and then applied as a coating to an aluminum plate by immersion. The layer thickness of the coating produced in this way is about 10 μm after drying. ίο

Die mit einem Überzug versehene Platte wird dann im Dunkeln mittels einer Korona-Entladung mit einer negativen Aufladung von etwa 150 Volt versehen und gemäß Beispiel I 15 Sekunden belichtet. Die Platte wird dann durch Auflegen auf eine auf etwa 45° C gehaltene Platte entwickelt. Dabei entsteht auf der Platte ein dem projizierten Bild entsprechendes Bild, das sich durch seine reliefartigen Umrisse und durch das Fehlen einer festen Oberflächenbeschichtung auszeichnet. The coated plate is then corona discharged in the dark with a provided negative charge of about 150 volts and exposed according to Example I for 15 seconds. The plate is then developed by placing it on a plate held at about 45 ° C. This creates on the plate an image corresponding to the projected image, which is distinguished by its relief-like outlines and the It is characterized by the absence of a solid surface coating.

Die Platte wird unmittelbar nach dem Entwickeln von der erhitzten Unterlage abgenommen, und das Bild wird durch Abkühlen fixiert.The plate is removed from the heated base immediately after development, and that Image is frozen by cooling.

B e i s ρ i e 1 VII 2$ B is ρ ie 1 VII 2 $

Ein durchsichtiger Polyäthylenglykolterephthalat-FiIm mit den Abmessungen 0,08 mm χ 15,2 cm χ 50,8 cm wird auf einer Oberfläche durch Aufdampfen ^ im Vakuum mit einem Aluminiumüberzug verseifen. Das erhaltene Produkt zeigt eine Leitfähigkeit an der Oberfläche von etwa 500 Ohm/Π und eine Lichtdurchlässigkeit von mindestens 65%. Auf die mit Aluminium beschichtete Oberfläche wird dann ein überzug aus den entsprechend Beispiel I hergestellten Ladungsübertragungskomplex mittels einer Gravierrolle aufgebracht. Die Schichtdicke des so hergestellten Überzugs beträgt nach dem Trocknen etwa 15 μπι. Dieser Film wird anschließend gemäß Beispiel 1 behandelt, wobei ein Bild erhalten wird, das sich durch Auflösungsvermögen, gute Lichtbrechungseigenschaften und feste Oberflächenbeschichtung auszeichnet und beim Projizieren scharfe Bilder ergibt.A clear film of polyethylene glycol terephthalate with the dimensions 0.08 mm χ 15.2 cm 50.8 cm is deposited on a surface by vapor deposition ^ saponify in vacuo with an aluminum coating. The product obtained shows a conductivity at Surface of about 500 ohms / Π and a light transmission of at least 65%. A coating from the materials in Example I is then applied to the aluminum-coated surface Charge transfer complex applied by means of an engraving roller. The layer thickness of the so produced Coating is about 15 μm after drying. This film is then treated in accordance with Example 1, an image being obtained which shows through Resolving power, good refractive properties and solid surface coating and produces sharp images when projected.

Beispiel VIIIExample VIII

Auf einen durchsichtigen Polyäthylenglykolterephthalat-Film gemäß Beispiel VII mit einer Dicke von 0,08 mm wird ein überzug aus einem entsprechend Beispiel II hergestellten Ladungsübertragungskomplex mittels einer Gravierrolle aufgebracht. Die Schichtdicke des trockenen Überzugs beträgt etwa 10 μΐη. Die mit dem überzug versehene Oberfläche des so hergestellten Films wird dann im Dunkeln mit einer negativen Ladung mittels einer Korona-Entladung aufgeladen, welche gleichzeitig die nicht überzogene Filmoberfläche mit einer positiven Aufladung versieht. Dieser Film wird dann wie im Beispiel I und 11 belichtet und weiterbehandelt. Das auf diese Weise erhaltene Bild zeichnet sich durch die gleichen Eigenschaften aus wie die gemäß Beispiel I und II erhaltenen Bilder. Es ergibt beim Projizieren scharfe Bilder.On clear polyethylene glycol terephthalate film according to Example VII with a thickness of 0.08 mm, a coating of a corresponding Charge transfer complex prepared in Example II applied by means of an engraving roller. the The thickness of the dry coating is about 10 μm. The coated surface the film so produced is then in the dark with a negative charge by means of a corona discharge charged, which at the same time the uncoated film surface with a positive charge provides. This film is then as in example I and 11 exposed and further treated. The image obtained in this way is distinguished by the same properties like the images obtained according to Examples I and II. It gives sharp images when projected.

Zwischen dem Träger und dem überzug aus einem Phenol-Aldehyd-Harz und einer Lewis-Säure gebildeten Komplex kann eine weitere separate, photoleitende oder inerte Schicht angeordnet werden. Dem Ladungsübertragungskomplex können noch weitere Materialien zur synergistischen Verstärkung oder sonstigen Modifikation seiner Eigenschaften zugesetzt werden. Die erfindungsgemäß verwendeten photoleitenden Materialien können beispielsweise mittels geeigneter Farbstoffe sensibilisiert werden. Außerdem können sie mit anderen photoleitenden Materialien und/oder anderen organischen oder anorganischen Materialien vermischt werden. Ist die mit einem Deformationsbild versehene Platte wie im Beispiel VII und VIII transparent, so ist sie in hervorragender Weise zum Betrachten in Projektionsvorrichtungen geeignet.Formed between the support and the coating of a phenol-aldehyde resin and a Lewis acid A further separate, photoconductive or inert layer can be arranged in the complex. The charge transfer complex other materials can be added to synergistically reinforce or otherwise modify its properties. The photoconductive materials used in the invention can, for example, by means of suitable Dyes are sensitized. They can also be used with other photoconductive materials and / or mixed with other organic or inorganic materials. Is the one with a deformation picture provided plate as in Examples VII and VIII is transparent, it is excellent for viewing suitable in projection devices.

Darüber hinaus können die nach der Lehre der Erfindung hergestellten thermoplastischen Photoleiter in der Tiefdruck- oder Mikrodrucktechnik und auf ähnlichen Anwendungsgebieten verwendet werden.In addition, the thermoplastic photoconductors produced according to the teaching of the invention can be used in the gravure or micro printing technology and in similar fields of application.

Claims (2)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Bildern, bei dem auf ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer thermoplastischen photoleitfähigen Schicht ein Ladungsbild aufgebracht, das Aufzeichnungsmaterial bis zur Bildung eines Deformationsbildes erwärmt und das Deformationsbild durch Abkühlen fixiert wird, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aufzeichnungsmaterial mit einer photoleitfähigen Schicht verwendet wird, die als Photoleiter einen Ladungsübertragungskomplex aus einem Elektronenakzeptor und einem gegebenenfalls modifizierten Phenol-Aldehyd-Harz enthält.1. Electrophotographic process for the production of images, in which on an electrophotographic Recording material with a thermoplastic photoconductive layer has a charge image applied, the recording material is heated until a deformation image is formed and the deformation pattern is fixed by cooling, characterized in that that a recording material with a photoconductive layer is used as a photoconductor a charge transfer complex composed of an electron acceptor and an optionally contains modified phenol-aldehyde resin. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Ladungsübertragungskomplex verwendet wird, der ein Phenol-Aldehyd-Harz der Formel2. The method according to claim 1, characterized in that a recording material with a Charge transfer complex is used, which is a phenol-aldehyde resin of the formula
DE1522677A 1965-01-18 1966-01-18 Electrophotographic process for making images Expired DE1522677C3 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US426401A US3408181A (en) 1965-01-18 1965-01-18 Heat deformable recording materials containing photoconductive resinous charge transfer complexes

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1522677A1 DE1522677A1 (en) 1969-10-30
DE1522677B2 true DE1522677B2 (en) 1975-03-27
DE1522677C3 DE1522677C3 (en) 1975-11-06

Family

ID=23690661

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1522677A Expired DE1522677C3 (en) 1965-01-18 1966-01-18 Electrophotographic process for making images

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3408181A (en)
JP (1) JPS523300B1 (en)
DE (1) DE1522677C3 (en)
FR (1) FR1463744A (en)
GB (1) GB1138552A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2904183A1 (en) * 1978-02-07 1979-08-09 Konishiroku Photo Ind ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING A PRINTING FORM USING THE SAME

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3561358A (en) * 1966-10-10 1971-02-09 Xerox Corp Gravure imaging system
US3933491A (en) * 1969-06-30 1976-01-20 Xerox Corporation Imaging system
CA981452A (en) * 1971-04-13 1976-01-13 Xerox Corporation Electrostatically deformable materials
DE2212968C3 (en) * 1972-03-17 1979-10-11 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Method for recording a deformation image
GB1512796A (en) * 1974-12-13 1978-06-01 Ibm Image forming process
US4102682A (en) * 1975-04-29 1978-07-25 Xerox Corporation Imaging member
GB1570519A (en) * 1975-11-11 1980-07-02 Ricoh Kk Electrophotographic light-sensitive members
US4089684A (en) * 1977-01-31 1978-05-16 Xerox Corporation Imaging method utilizing the chemical reactivity of donor-acceptor mixtures
GB1599430A (en) * 1977-06-27 1981-09-30 Konishiroku Photo Ind Photoconductive composition for use in the preparation of an electrophotographic material

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2319142A (en) * 1941-01-17 1943-05-11 Haveg Corp Method of preparing phenolic resin compositions
US2655490A (en) * 1950-06-03 1953-10-13 Dow Chemical Co Catalytic hardening of phenol-formaldehyde resins and compositions comprising same
US3056754A (en) * 1958-09-03 1962-10-02 Albert Ag Chem Werke Vulcanizable composition comprising rubber and a resinous complex reaction product of a phenol-formaldehyde condensate and a metal chloride, and process for vulcanizing same
US3118786A (en) * 1961-10-30 1964-01-21 Gen Electric Recording medium having an image receiving coating of a copolymer of a styrene and n-butyl methacrylate
US3300919A (en) * 1964-02-10 1967-01-31 Us Plywood Corp Movable fireproof wall and joint

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2904183A1 (en) * 1978-02-07 1979-08-09 Konishiroku Photo Ind ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING A PRINTING FORM USING THE SAME

Also Published As

Publication number Publication date
JPS523300B1 (en) 1977-01-27
FR1463744A (en) 1966-12-23
DE1522677C3 (en) 1975-11-06
US3408181A (en) 1968-10-29
GB1138552A (en) 1969-01-01
DE1522677A1 (en) 1969-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE941767C (en) Photoelectrically sensitizable material
DE1522677C3 (en) Electrophotographic process for making images
DE1810757C3 (en) Process for producing a charge image on a dielectric layer
DE1497183A1 (en) Electrophotographic material
EP0137217A1 (en) Electrophotographic recording material and process for its preparation
DE2322046B2 (en) Process for the production of printing forms
DE1597811C3 (en) Process for the production of an electrophotographic recording material
DE1522721C3 (en)
DE1302772B (en)
DE2242749A1 (en) XEROGRAPHIC ELEMENT AND METHOD FOR GENERATING AN IMAGE ON THE SAME
DE2021086B2 (en) Electrophotographic recording material
DE1522692A1 (en) A method for producing a photoconductive insulating layer and an electrophotographic plate using such an insulating layer and methods of using it
DE1522676C3 (en) Electrophotographic recording material
DE1645191C3 (en) Electrophotographic recording material
DE1497214C3 (en) Electrographic recording material and method for forming an image on an electrographic recording material
DE2726116C3 (en) Electrophotographic printing form
DE1797137B2 (en) Electrophotographic recording material
DE1645192C3 (en) Electrofolographic plate
DE2019227C3 (en) Electrophotographic recording material
DE1522679A1 (en) Photoconductive material
DE1497229A1 (en) Additives to frost-forming resins
DE2313632A1 (en) ORGANIC PHOTOSENSITIVE MATERIAL
DE2053520C3 (en) Electrophotographic process for making records and images
DE1943386C (en) Electrophotographic recording material
DE2042592C3 (en) Electrophotographic recording material

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)