DE1521247C3 - Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindigkeit - Google Patents

Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindigkeit

Info

Publication number
DE1521247C3
DE1521247C3 DE19661521247 DE1521247A DE1521247C3 DE 1521247 C3 DE1521247 C3 DE 1521247C3 DE 19661521247 DE19661521247 DE 19661521247 DE 1521247 A DE1521247 A DE 1521247A DE 1521247 C3 DE1521247 C3 DE 1521247C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ion current
evaporation
sensor
current sensor
ion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19661521247
Other languages
English (en)
Other versions
DE1521247A1 (de
DE1521247B2 (de
Inventor
Atsushi Dipl.-Ing. Kawasaki Aritomo (Japan)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FUJITSU Ltd COMMUNICATIONS AND ELECTRONICS TOKIO
Original Assignee
FUJITSU Ltd COMMUNICATIONS AND ELECTRONICS TOKIO
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FUJITSU Ltd COMMUNICATIONS AND ELECTRONICS TOKIO filed Critical FUJITSU Ltd COMMUNICATIONS AND ELECTRONICS TOKIO
Publication of DE1521247A1 publication Critical patent/DE1521247A1/de
Publication of DE1521247B2 publication Critical patent/DE1521247B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1521247C3 publication Critical patent/DE1521247C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/544Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement in the gas phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

1 2
dampfungsquelle liegt, ist eine Ablenkeinrichtung anPatentanspruch: geordnet, die aus zwei Dauermagneten besteht, die
mit entgegengesetzten Polen einander gegenüberste-
Vakuumbedampfungseinrichtung mit einer hen. Das dadurch erzeugte magnetische Feld lenkt durch einen Elektronenstrahl beheizten Ver- 5 die störenden Sekundärelektronen ab, so daß diese dampfungsquelle und einem Ionenstrommeßfüh- nicht zur Eingangsöffnung des Ionenstrommeßfühler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindig- Iers gelangen können.
keit, dadurch gekennzeichnet, daß vor Im folgenden wird die Erfindung an Hand einer
einer Eintrittsöffnung des Ionenstrommeßfühlers Zeichnung mit zwei Figuren näher erläutert.
(4) eine Ablenkmagnetanordnung (3) für Sekun- io F i g. 1 zeigt in schematischer Darstellung die Eindärelektronen (11) und Restgasionen (12) ange- zelheiten einer Vakuumbedampfungseinrichtung bracht ist. nach der Erfindung, in
F i g. 2 ist der Ablenkmagnet dargestellt.
In F i g. 1 ist eine Verdampfungsquelle 1, ein Zeri5 hacker 2, eine Ablenkmagnetanordnung 3 und ein
Ionenstrommeßfühler 4 längs eines Weges angeordnet. Die Verdampfungsquelle 1 wird von einem Elektronenstrahl 5 erhitzt. Ein Teil des dabei entstehenden Dampfes 6 wird über eine Durchgangsöffnung 7
Die Erfindung bezieht sich auf- eine Vakuumbe- 20 der Ablenkmagnetanordnung 3 zum Ionenstrommeßdampfungseinrichtung mit einem Meßfühler zur fühler 4 geführt. Der gemessene Ionenstrom entÜberwachung des Ionenstroms. Der Meßfühler ist spricht einem bestimmten Dampfdruck und bildet ein Teil eines Regelkreises zur Regelung der Verdamp- Maß für die Verdampfungsgeschwindigkeit. Durch fungsgeschwindigkeit. die Ablenkmagnetanordnung 3 werden die durch die
Bei einer Vakuumbedampfungseinrichtung mit Re- 25 Elektroneneinstrahlung in die Verdampfungsqüelle 1 gelung der Verdampfungsgeschwindigkeit ist ein ausgelösten Sekundärelektrdnen 11 und die aus dem Ionenstrommeßfühler bekannt, bei dem der gerich- Restgas innerhalb des Vakuumbehälters entstandetete Dampfstrahl des Bedampfungsmaterials als nen Ionen 12 abgelenkt, so daß zum Ionenstrom-Ionenstrom gemessen wird und die Stärke des Ionen- meßfühler 4 nur der Dampf 13 gelangt. Der Abstand Stroms als Maß für den Dampfdruck dient. 30 zwischen dem Ionenstrommeßfühler 4 und der Ab-
Bei einem derartigen Ionenstrommeßfühler wer- Ienkmagnetanordnung 3 muß so gewählt werden, daß den, um die Ionen des Dampf Strahls von den im Va-' durch das magnetische Feld die Sekundärelektronen kuum vorhandenen Restgasionen zu trennen, die ge- und Restgasionen vollständig abgelenkt werden und richteten Ionen des Dampfstrahls mit Hilfe eines nicht in die Dampfeintrittsöffnung des Ionenstrom-Zerhackers in einen Ionenwechselstrom umgewan- 35 meßfühlers gelangen können. Berechnungen und delt. Nur der Wechsel anteil des Ionenstroms wird ge- Versuche haben ergeben, daß der Abstand zwischen messen. Ladungsträger, die die gleiche Richtung wie Ionenstrommeßfühler und Ablenkmagnetpol mindedie Ionen des Dampfstrahls haben, ergeben als Stör- stens 10 mm betragen soll, wenn die Beschleunigungspegel einen beachtlichen Fehler für das Meßergebnis, spannung des Elektronenstrahls zwischen 5 und Das störende Rauschen, das den größten Einfluß hat, 40 10 kV liegt und der Abstand zwischen den Magnetwird vor allem durch Sekundärelektronen hervorge- polen 10 mm sowie die magnetische Induktion im rufen, die bei der Erhitzung der Verdampfungsquelle Luftspalt oberhalb von 2000 Gauss liegt. Der Störpedurch Elektronenstrahlen aus der Quelle ausgelöst gel kann dadurch gegenüber dem Nutzsignal um werden. mehr als 40 db abgesenkt werden.
Um ein Eindringen des auf der ausgelösten Stör- 45 In F i g. 2 ist die Ablenkmagnetanordnung 3 dargestrahlung beruhenden Rauschens in das Nutzsignal stellt, wobei die F i g. 2 a ein Schnittbild und die zu vermeiden, wird bei einer Vakuumbedampfungs- Fig. 2b die Draufsicht darstellt. Zwei Dauermaeinrichtung mit einer durch einen Elektronenstrahl gnete 8 und 9 sind mit ihren entgegengesetzten Polen beheizten Verdampfungsquelle und einem Ionen- einander gegenüberliegend angeordnet. Ihre Umgestrommeßfühler zur Regelung der Verdampfungsge- 5° bung ist zur Vermeidung jeglichen Einflusses des schwindigkeit gemäß der Erfindung vor einer Ein- magnetischen Streufeldes auf den Ionenstrommeßtrittsöffnung des Ionenstrommeßfühlers eine Ablenk- fühler durch eine Ummantelung 10 aus einem mamagnetanordnung für Sekundärelektronen und Rest- gnetischen Material abgedeckt. Eine Durchbrechung gasionen angebracht. dieser Ummantelung ist nur auf einem Teil der ein-
An einer Stelle, die zwischen der Dampfeintritts- 55 ander gegenüberstehenden Pole und an der Durchöffnung des Ionenstrommeßfühlers und der Ver- gangsöffnung 7 für den Dampf vorgesehen.
DE19661521247 1965-03-10 1966-01-24 Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindigkeit Expired DE1521247C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1413565 1965-03-10

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1521247A1 DE1521247A1 (de) 1969-07-24
DE1521247B2 DE1521247B2 (de) 1973-11-15
DE1521247C3 true DE1521247C3 (de) 1975-04-30

Family

ID=11852679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19661521247 Expired DE1521247C3 (de) 1965-03-10 1966-01-24 Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindigkeit

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1521247C3 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60225422A (ja) * 1984-04-24 1985-11-09 Hitachi Ltd 薄膜形成方法およびその装置
DE102010003661A1 (de) * 2010-04-06 2011-11-17 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Elektronenstrahlverdampfung dielektrischer Materialien

Also Published As

Publication number Publication date
DE1521247A1 (de) 1969-07-24
DE1521247B2 (de) 1973-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2463535A (en) Electron discharge device
DE69108245T2 (de) Metallsuchgerät.
DE1598072A1 (de) Multipol-Massenfilter
DE2402898A1 (de) Vorrichtung zur kontrolle der zentrierung, der intensitaet, der homogenitaet und der richtungsbuendelung eines ionisierenden strahlungsbuendels
DE4106470A1 (de) Den hall-effekt ausnutzender sensor
DE1521247C3 (de) Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindigkeit
EP0035466A1 (de) Volumenzähler
DE913367C (de) Anordnung zum Nachweis beschleunigter Bewegungen, zur Herstellung einer festen Ebene m Raum oder zur Richtungsanzeige
EP0178431B1 (de) Gegenfeld-Spektrometer für die Elektronenstrahl-Messtechnik
DE3337151A1 (de) Induktiver durchflussmesser
DE2122304C3 (de) Ionisationsmeßgerät zum Messen der Strömungsgeschwindigkeit eines Gases
DE102015106418B3 (de) Messung des elektrischen Stromverlaufs von Partikelschwärmen in Gasen und im Vakuum
DE2752690B2 (de) Ionisations-Brandmelder
EP0111012A1 (de) Rauchsensor des ionisationstyps
DE2931666C2 (de) Durchfluß-Zählrohr
DE2752547C3 (de) Teilchenoptisches Spektrometer mit zwei zu einer Teilchenquelle konkaven Netzelektroden und einer durchbrochenen dritten Elektrode
DE1614742C3 (de) Beschleunigungsrohr für einen mehrstufigen elektrostatischen Geradeausbeschleuniger zum Beschleunigen von Ladungsträgerstrahlen
DE960023C (de) Vorrichtung zum Stabilisieren hoher Spannungen mit einer Elektronenstrahlroehre
DE920860C (de) Strahlentransformator
DE1850846U (de) Wandler der fernmeldetechnik mit einer durch eine abdeckung geschutzten membran.
DE1764027A1 (de) Flache Katodenstrahlroehre
DE102016213502A1 (de) Füllstandsgeber
DE102016213510A1 (de) Passiver magnetischer Positionssensor
DE7922302U1 (de) Durchflusszaehlrohr zur messung von strahlern geringer reichweite auf oberflaechen
DE7315459U (de) Ionisations-feuermelder

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)