DE1521247C3 - Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindigkeit - Google Patents
Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der VerdampfungsgeschwindigkeitInfo
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-
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Description
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1 2
dampfungsquelle liegt, ist eine Ablenkeinrichtung anPatentanspruch:
geordnet, die aus zwei Dauermagneten besteht, die
mit entgegengesetzten Polen einander gegenüberste-
Vakuumbedampfungseinrichtung mit einer hen. Das dadurch erzeugte magnetische Feld lenkt
durch einen Elektronenstrahl beheizten Ver- 5 die störenden Sekundärelektronen ab, so daß diese
dampfungsquelle und einem Ionenstrommeßfüh- nicht zur Eingangsöffnung des Ionenstrommeßfühler
zur Regelung der Verdampfungsgeschwindig- Iers gelangen können.
keit, dadurch gekennzeichnet, daß vor Im folgenden wird die Erfindung an Hand einer
einer Eintrittsöffnung des Ionenstrommeßfühlers Zeichnung mit zwei Figuren näher erläutert.
(4) eine Ablenkmagnetanordnung (3) für Sekun- io F i g. 1 zeigt in schematischer Darstellung die Eindärelektronen (11) und Restgasionen (12) ange- zelheiten einer Vakuumbedampfungseinrichtung bracht ist. nach der Erfindung, in
(4) eine Ablenkmagnetanordnung (3) für Sekun- io F i g. 1 zeigt in schematischer Darstellung die Eindärelektronen (11) und Restgasionen (12) ange- zelheiten einer Vakuumbedampfungseinrichtung bracht ist. nach der Erfindung, in
F i g. 2 ist der Ablenkmagnet dargestellt.
In F i g. 1 ist eine Verdampfungsquelle 1, ein Zeri5 hacker 2, eine Ablenkmagnetanordnung 3 und ein
In F i g. 1 ist eine Verdampfungsquelle 1, ein Zeri5 hacker 2, eine Ablenkmagnetanordnung 3 und ein
Ionenstrommeßfühler 4 längs eines Weges angeordnet. Die Verdampfungsquelle 1 wird von einem Elektronenstrahl
5 erhitzt. Ein Teil des dabei entstehenden Dampfes 6 wird über eine Durchgangsöffnung 7
Die Erfindung bezieht sich auf- eine Vakuumbe- 20 der Ablenkmagnetanordnung 3 zum Ionenstrommeßdampfungseinrichtung
mit einem Meßfühler zur fühler 4 geführt. Der gemessene Ionenstrom entÜberwachung
des Ionenstroms. Der Meßfühler ist spricht einem bestimmten Dampfdruck und bildet ein
Teil eines Regelkreises zur Regelung der Verdamp- Maß für die Verdampfungsgeschwindigkeit. Durch
fungsgeschwindigkeit. die Ablenkmagnetanordnung 3 werden die durch die
Bei einer Vakuumbedampfungseinrichtung mit Re- 25 Elektroneneinstrahlung in die Verdampfungsqüelle 1
gelung der Verdampfungsgeschwindigkeit ist ein ausgelösten Sekundärelektrdnen 11 und die aus dem
Ionenstrommeßfühler bekannt, bei dem der gerich- Restgas innerhalb des Vakuumbehälters entstandetete
Dampfstrahl des Bedampfungsmaterials als nen Ionen 12 abgelenkt, so daß zum Ionenstrom-Ionenstrom
gemessen wird und die Stärke des Ionen- meßfühler 4 nur der Dampf 13 gelangt. Der Abstand
Stroms als Maß für den Dampfdruck dient. 30 zwischen dem Ionenstrommeßfühler 4 und der Ab-
Bei einem derartigen Ionenstrommeßfühler wer- Ienkmagnetanordnung 3 muß so gewählt werden, daß
den, um die Ionen des Dampf Strahls von den im Va-' durch das magnetische Feld die Sekundärelektronen
kuum vorhandenen Restgasionen zu trennen, die ge- und Restgasionen vollständig abgelenkt werden und
richteten Ionen des Dampfstrahls mit Hilfe eines nicht in die Dampfeintrittsöffnung des Ionenstrom-Zerhackers
in einen Ionenwechselstrom umgewan- 35 meßfühlers gelangen können. Berechnungen und
delt. Nur der Wechsel anteil des Ionenstroms wird ge- Versuche haben ergeben, daß der Abstand zwischen
messen. Ladungsträger, die die gleiche Richtung wie Ionenstrommeßfühler und Ablenkmagnetpol mindedie
Ionen des Dampfstrahls haben, ergeben als Stör- stens 10 mm betragen soll, wenn die Beschleunigungspegel einen beachtlichen Fehler für das Meßergebnis, spannung des Elektronenstrahls zwischen 5 und
Das störende Rauschen, das den größten Einfluß hat, 40 10 kV liegt und der Abstand zwischen den Magnetwird
vor allem durch Sekundärelektronen hervorge- polen 10 mm sowie die magnetische Induktion im
rufen, die bei der Erhitzung der Verdampfungsquelle Luftspalt oberhalb von 2000 Gauss liegt. Der Störpedurch
Elektronenstrahlen aus der Quelle ausgelöst gel kann dadurch gegenüber dem Nutzsignal um
werden. mehr als 40 db abgesenkt werden.
Um ein Eindringen des auf der ausgelösten Stör- 45 In F i g. 2 ist die Ablenkmagnetanordnung 3 dargestrahlung
beruhenden Rauschens in das Nutzsignal stellt, wobei die F i g. 2 a ein Schnittbild und die
zu vermeiden, wird bei einer Vakuumbedampfungs- Fig. 2b die Draufsicht darstellt. Zwei Dauermaeinrichtung
mit einer durch einen Elektronenstrahl gnete 8 und 9 sind mit ihren entgegengesetzten Polen
beheizten Verdampfungsquelle und einem Ionen- einander gegenüberliegend angeordnet. Ihre Umgestrommeßfühler
zur Regelung der Verdampfungsge- 5° bung ist zur Vermeidung jeglichen Einflusses des
schwindigkeit gemäß der Erfindung vor einer Ein- magnetischen Streufeldes auf den Ionenstrommeßtrittsöffnung
des Ionenstrommeßfühlers eine Ablenk- fühler durch eine Ummantelung 10 aus einem mamagnetanordnung
für Sekundärelektronen und Rest- gnetischen Material abgedeckt. Eine Durchbrechung
gasionen angebracht. dieser Ummantelung ist nur auf einem Teil der ein-
An einer Stelle, die zwischen der Dampfeintritts- 55 ander gegenüberstehenden Pole und an der Durchöffnung
des Ionenstrommeßfühlers und der Ver- gangsöffnung 7 für den Dampf vorgesehen.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1413565 | 1965-03-10 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1521247A1 DE1521247A1 (de) | 1969-07-24 |
| DE1521247B2 DE1521247B2 (de) | 1973-11-15 |
| DE1521247C3 true DE1521247C3 (de) | 1975-04-30 |
Family
ID=11852679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19661521247 Expired DE1521247C3 (de) | 1965-03-10 | 1966-01-24 | Vakuumbedampfungseinrichking mit einem lonenstrommeßfiihler zur Regelung der Verdampfungsgeschwindigkeit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1521247C3 (de) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60225422A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-09 | Hitachi Ltd | 薄膜形成方法およびその装置 |
| DE102010003661A1 (de) * | 2010-04-06 | 2011-11-17 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Elektronenstrahlverdampfung dielektrischer Materialien |
-
1966
- 1966-01-24 DE DE19661521247 patent/DE1521247C3/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE1521247A1 (de) | 1969-07-24 |
| DE1521247B2 (de) | 1973-11-15 |
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