DE1468141C - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE1468141C DE1468141C DE1468141C DE 1468141 C DE1468141 C DE 1468141C DE 1468141 C DE1468141 C DE 1468141C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- chloride
- copper
- reactor
- pressure
- zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 37
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N HCl Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 29
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L Copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K Iron(III) chloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 13
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 12
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 claims description 8
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N Hafnium Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L Iron(II) chloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052803 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N tin hydride Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium(0) Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 claims 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 32
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M Copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- -1 halides Metals Chemical class 0.000 description 8
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N Chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 5
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 4
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- GRMBCJKIXAQZSE-UHFFFAOYSA-M [Cu+].[Cu+]Cl Chemical compound [Cu+].[Cu+]Cl GRMBCJKIXAQZSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N Chromium(IV) oxide Chemical compound O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L Copper(II) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N Iron(III) oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000282941 Rangifer tarandus Species 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCPYTNCQOSFKGG-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobuta-1,3-diene Chemical compound ClC=CC=C PCPYTNCQOSFKGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K Bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LBFUKZWYPLNNJC-UHFFFAOYSA-N Cobalt(II,III) oxide Chemical compound [Co]=O.O=[Co]O[Co]=O LBFUKZWYPLNNJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L Copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 210000003608 Feces Anatomy 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H Iron(III) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L MANGANESE CHLORIDE Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N Mercury(II) oxide Chemical compound [Hg]=O UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017153 MnC Inorganic materials 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N N-Propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J Tin(IV) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DYHJKSCHMPDUJW-UHFFFAOYSA-M [Cl-].ClC(CCl)Cl Chemical compound [Cl-].ClC(CCl)Cl DYHJKSCHMPDUJW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- BDKUZSIDPZSPNX-UHFFFAOYSA-N aluminum;bismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Bi+3] BDKUZSIDPZSPNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N bromine atom Chemical class [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide Chemical class [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N chlorine monoxide Chemical compound Cl[O] NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 description 1
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229940099607 manganese chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910000474 mercury oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YGAMIEYKXHAVBP-UHFFFAOYSA-N molecular hydrogen;hydrochloride Chemical compound Cl.[H][H] YGAMIEYKXHAVBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
Description
1 2
Die Halogenierung von Kohlenwasserstoffen mit zugt Vinylchlorid, Monochlorbutadien, Monochlor-Sauerstoff
oder Luft und Halogenwasserstoff in Gegen- .. isopren, Mono- und Dichloräthan und die.entsprechenwart
eines Metallhalogenide ist beispielsweise aus der den Bromverbindungen. Am meisten bevorzugt ist
belgischen Patentschrift 604 328 bekannt. In einem Vinylchlorid. .....
solchen Verfahren werden gewöhnlich Halogenide 5 Von den obengenannten Promotoren werden vorvon
Metallen mit mehreren Wertigkeitsstufen oder zugsweise Chloride von Metallen verwendet, die in
Oxyhalogenide solcher Metalle auf festen Trägern, mehreren Wertigkeitsstufen aufzutreten vermögen, wie
beispielsweise Bimstein, Kieselgur, Aluminiumoxyd Wismut, Kupfer, Chrom, Kobalt, Eisen(III), Queckoder
Siliciumdioxyd, als festes oder bewegtes Bett silber, Molybdän, Nickel, Zinn, Titan oder Vanadin,
oder als Wirbelbett eingesetzt. i° Die bevorzugten Chloridgemische sind Kupfer(II)-Die
aktiveren Metallhalogenide, wie beispielsweise Kupfer(I)-chlorid, Kupfer(II)-Eisen(III)-chlorid und
Kupferchlorid, sind jedoch bei den für die Halogenie- . Eisen(III)-Chrom(III)-chlorid.
rung in solchen Betten erforderlichen Temperaturen Kupfer(II)-chlorid bzw. Eisen(III)-chlorid gehen bei
ziemlich flüchtig, und das verdampfte Halogenid muß der Chlorierung unter Abgabe eines Chloratoms in
durch Kondensation oder andere Methoden zurück- 15 Kupfer(I)-chlorid bzw. Eisen(II)-chlorid über. Das
gewonnen, erneut auf einen Träger aufgebracht „und Gemisch wird, wenn die Konzentration an dem akzu
der Reaktionszone zurückgeführt werden. Auch tiven Chlorid auf unter 90 Gewichtsprozent der Ausbewirkt
die an der Oberfläche der Feststoffteilchen gangskonzentration sinkt, entweder aus der Reaktionserzeugte
Reaktionswärme, daß ein Teil der Kohlen- zone entfernt und mit Chlorwasserstoff und Sauerstoff
Wasserstoffe direkt zu unerwünschten Kohlenoxyden 20 oder einem sauerstoffhaltigen Gas unter Rückbildung
oxydiert wird. von Kupfer(II)- oder Eisen(III)-chlorid reaktiviert, Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur oder es wird innerhalb der Reaktionszone selbst reak-Chlorierung,
das dadurch gekennzeichnet ist, daß tiviert. Im letzteren Fall erfolgt die Chlorierung des
man Olefine, die 2 bis 5 Kohlenstoffatome aufweisen Kohlenwasserstoffs oder halogenierten Kohlenwasser-
und gegebenenfalls durch Halogen substituiert sind, 25 Stoffs mit der Kupfer(II)-Kupfer(I)-chlorid-Lösung
jedoch noch wenigstens ein Wasserstoffatom enthalten oder teilweisen -suspension bei gleichzeitiger Reakti-
oder Benzol mit einer wäßrigen Lösung, die Kupfer(II)- vierung des gebildeten niedrigeren Metallchlorids mit
chlorid oder Eisen(III)-chlorid als Chlorierungsmittel Sauerstoff und Chlorwasserstoff,
und wenigstens ein Chlorid von Wie oben erwähnt, wird das Metallchloridgemisch _ ,, 3° in Wasser gelöst oder teilweise suspendiert, so daß Kupfer(I) Silber, Gold, ein innigerer Kontakt der Reaktionsteilnehmer in Zink, Cadmium, Quecksilber ^er Halogenierungszpne als bei den herkömmlichen Bor, Aluminium, Gallium, Indium, Thallium, Verfahren bewirkt wird und damit die Halogenierung
und wenigstens ein Chlorid von Wie oben erwähnt, wird das Metallchloridgemisch _ ,, 3° in Wasser gelöst oder teilweise suspendiert, so daß Kupfer(I) Silber, Gold, ein innigerer Kontakt der Reaktionsteilnehmer in Zink, Cadmium, Quecksilber ^er Halogenierungszpne als bei den herkömmlichen Bor, Aluminium, Gallium, Indium, Thallium, Verfahren bewirkt wird und damit die Halogenierung
Titan Zirkon, Hafnium, bei - niedrigerer Temperatur und unter Vermeidung
Vanadin Niob Tantal 35 einer Verdampfung des Katalysators und einer direkten
Chrom Molybdän, Wolfram, Oxydierung des Kohlenwasserstoffs durchgeführt werbisenClll),
Kobalt, Nickel, den kann>
Die Verwendung der wäßrigen Metall-Zinn, Wismut oder Mangan chloridlösung ermöglicht auch eine bessere Temperaturais
Promotor enthält, wobei die Konzentration der steuerung in dem gesamten Reaktor und eine raschere
gesamten Metallchloride in der wäßrigen Lösung 4° Chlorierung des Ausgangsolefins, beispielsweise von
zwischen etwa 0,001 und etwa 50 Molprozent, bezogen Äthylen zu 1,2-Dichloräthan, als sie bisher erzielt
auf das anwesende Wasser, liegt, im Falle der Ver- werden konnte. . . _
wendung von Olefinen mit 2 bis 5 Kohlenstoffatomen Bei der Chlorierung von Äthylen oder Vinylchlorid
bei 120 bis 1800C und einem Druck von 0 bis 70 atü in Gegenwart beispielsweise einer wäßrigen Kupfer(II)-
und im Falle der Verwendung von Benzol als Ausgangs- 45 Kupfer(I)-chlorid-Lösung wird bei einer Temperatur
stoff bei 180 bis 3000C in einer Reaktionszone umsetzt, von nicht über 165°C in guter Selektivität von wenigwobei
man außerdem, wenn die Konzentration an stens 98 Molprozent, bezogen auf das ^chlorierte Pro-Chlorierungsmittel
auf unter 90 Gewichtsprozent des dukt, im Falle der Verwendung von Äthylen 1,2-Dij
ursprünglichen Kupfer(II)- oder Eisen(III)-chlorid- chloräthan und im Falle der Verwendung von Vinyl-Gehalts
der verwendeten wäßrigen Lösung sinkt, inner-50 chlorid 1,1,2-Trichloräthanerhalten. Das 1,2-Dichlorhalb
oder, außerhalb. der Umsetzungsmischung, das äthan ist eine wertvolle Zwischenverbindung für die
verwendete Chlorierungsmittel mit Chlorwasserstoff Herstellung von Vinylchlorid durch Pyrolyse des gesät-
und Sauerstoff reaktiviert. tigten Dichloride, und das 1,1,2-Trichloräthan ist eine
Bei Anwendung einer höheren als der angegebenen Zwischenverbindung für die Herstellung von Vinyliden-Temperatur
wird.die. Umwandlung zu halogenierten_55 chlorid durch Pyrolyse. Der bei der Pyrolyse der
Kohlenwasserstoffen nicht meßbar verbessert, und es gesättigten Verbindungen frei werdende Chlorwasserwird
in zunehmendem Maße Kohlendioxyd gebildet. stoff kann zur wenigstens teilweisen Reaktivierung
Insbesondere wirken sich derart hohe Temperaturen des Chlorierungsmittels verwendet werden. Natürlich
nachteilig auf die Selektivität der Bildung von 1,2-Di- kann für die Reaktivierung noch weiteres Chlor in
chloräthan. bei Verwendung von Äthylen als Aus- 60 der Form von Chlorwasserstoff oder Chlor zugeleitet
gangsolefin aus. Die Bildung von CO2 wird zweck- werden. Die Chlorwasserstoffkonzentration ist jedoch
mäßig bei unter 5°/0 der Kohlenwasserstoffbescbik- auf diejenige beschränkt, die für die Reaktivierung
kung gehalten. _ erforderlich ist. Überschüssiger Chlorwasserstoff würde
Das bevorzugte Ausgangsolefin ist Äthylen. Auch im Falle der Chlorierung von Äthylen zur Bildung
Olefine mit 2 bis 5 Kohlenstoffatomen, die mit Ha- 65 von Äthylchlorid führen und ist daher zu vermeiden,
logen substituiert sind und wenigstens ein Wasser- Ein weiterer Vorteil des Verfahrens der Erfindung
stoffatom enthalten, können nach dem Verfahren der besteht darin, daß eine wäßrige oder verdünnte Lösung
Erfindung halogeniert werden. Von diesen sind bevor- von Chlorwasserstoff an Stelle des bisher verwendeten
getrockneten hochkonzentrierten Chlorwasserstoffs in die Reaktionszone eingeleitet werden kann. Bei dem
Verfahren der Erfindung wird überschüssiges Wasser durch die frei werdende Reaktionswärme von der
Reaktionszone abgedampft, während " ein Teil des erzeugten Wassers dazu dient, den Wassergehalt der
Lösung des Metallchloridgemisches aufrechtzuerhalten. Es wurde auch gefunden, daß bei Verwendung solcher
Chloridlösungen in dem gasförmigen Reaktorabfluß wenig oder kein Halogenwasserstoff anwesend ist.
"Ein weiterer Vorteil des Verfahrens der Erfindung liegt darin, "daß der Dampfdruck in dem Reaktor durch
Zusatz von Kupfer(II)-sulfat oder Eisen(III)-sulfat
gesteuert werden kann. Wenn der Dampfdruck der Chloridlösung herabgesetzt wird, können für eine
bestimmte prozentuale Umwandlung je Durchsatz bei niedrigerem Druck adiabatische Bedingungen erreicht
werden, oder bei einem bestimmten Gesamtdruck ist eine niedrigere Umwandlung je Durchsatz erforderlich.
chloräthan, 0,01 Mol je Liter je ^Stunde Monochloräthan,
9,0 Mol je Liter je Stunde Äthylen und 4,7 Mol je Liter je Stunde Dampf enthält, wird durch Leitung 8
aus dem Reaktor 3 abgezogen und zu dem Kondensator 10 und von dort in die Dekantationszbne 12
geleitet, worin bei einer Temperatur zwischen etwa 25 und etwa 80° C und unter einem Druck von etwa 6,3
bis etwa 8,4 atü oder annähernd dem Reaktordruck gasförmige und flüssige Phasen voneinander getrennt
ίο werden. Im vorliegenden Fall werden in der Dekanta-.tionszone
drei Phasen gebildet; nämlich eine aus Äthylen und Monochloräthan bestehende gasförmige
Phase, eine flüssige wäßrige Phase und eine aus 1,2-Dichloräthan bestehende flüssige Phase. Die Gasphase
wird mit einer Geschwindigkeit von etwa 9,1 Mol je Liter Chloridlösung je Stunde im Reaktor 3 von der
Dekantationszone abgezogen, durch Leitung 14 und Leitung 6 mit der Pumpe 18 geführt und als Teil der
Beschickung wieder: in den Reaktor 3 zurückgeführt.
Die Erfindung soll im folgenden an Hand der Zeich- 20 Die wäßrige flüssige Phase wird über Leitung 15
nungen näher erläutert werden, abgezogen und verworfen. Die flüssige Chlorkohlen-
zeigt die Bedingungen für eine einzige wasserstoff phase wird über Leitung 20 abgezogen und
der Crackzone 22 zugeführt, worin das 1,2-Dichloräthan
bei einer Temperatur zwischen etwa 480 und etwa 58O0C unter einem Druck von etwa 0 bis etwa
7 atü (im vorliegenden Fall bei einer Temperatur von 5500C und unter einem Druck von 3,5 atü) bei einer
Umwandlung zwischen etwa 25 bis etwa 85 Molprozent je Durchsatz, beispielsweise 60 Molprozent je Durch-
Fig.l
. Reaktions-Regenerationszone,
. F i g. 2 für den Fall, daß Reaktor und Regenerator getrennt sind, und die
. F i g. 2 für den Fall, daß Reaktor und Regenerator getrennt sind, und die
F i g. 3 und 4 veranschaulichen spezielle Durchführungsformen des Verfahrens der Erfindung.
Wie durch F i g. 1 veranschaulicht, wurde gefunden, daß bei einem bestimmten Dampfdruck einer
Lösung eines Chloridgemisches, beispielsweise 30 satz, zu Vinylchlorid umgewandelt wird.
1,4 kg/cm2 und einer 10°/0igen Umwandlung je Durch- Das in der Crackzone 22 gebildete Gemisch wird
1,4 kg/cm2 und einer 10°/0igen Umwandlung je Durch- Das in der Crackzone 22 gebildete Gemisch wird
über Leitung 17 der Destillationszone 19 zugeleitet.
Diese Destillationszone 19 kann eine oder mehrere getrennte Fraktionierungsstuf en in einer Kolonne oder
mehreren Kolonnen umfassen. Dampfförmiger Chlorwasserstoff
wird durch Leitung 26 von der Destillationszone abgezogen und zusammen mit verdünnter
Chlorwasserstoff beschickung, die durch Leitung 26 aus der mit einem Ventil versehenen Beschickungsdruck der Chloridlösung von 1,4 kg/cm2 ein Reaktor- 40 leitung 28 in den Regenerator 4 eintritt, zu diesem
druck von 4,9 kg/cm2 erforderlich. Bei der gleichen zurückgeführt. Nicht umgesetztes Dichloräthan wird
durch Leitung 23 aus der Zone 19 abgezogen und zu der Crackzone 22 zurückgeführt, während das gebildete
Vinylchlorid durch Leitung 29 als Veirfahrensprodukt
von der Zone abgezogen wird. Der in der Destillationszone abgetrennte Chlorwasserstoff wird
mit einer. Geschwindigkeit von 1 Mol je Mol umgesetztes 1,2-Dichloräthan abgezogen. Frischer Halogenwasserstoff
und Halogenwasserstoff aus der Zone 19
Bei diesem Verfahren kann als Reaktivierungsgas 5° werden bei einer Säurekonzentration zwischen etwa
an Stelle von Sauerstoff Luft verwendet werden, da . 22 und etwa 35 Gewichtsprozent, beispielsweise 33 Gewichtsprozent,
der Zone 4 zugeleitet. Luft wird mit einer Geschwindigkeit von etwa 2,5 Mol je Liter Katalysator
je Stunde durch die mit einem Ventil versehene 55 Leitung 30 in den Regenerator 4 eingeleitet, und diese
Luft reagiert mit dem verdünnten Chlorwasserstoff und Kupfer(I)-chlorid unter Bildung von Kupfer(II)-chlorid.
Dadurch wird die ursprüngliche Aktivität des
Lösung von Kupf"er(II)- Kupfer(I)-chlorid mit einer Kupferchloridgemisches wiederhergestellt. Bei der
Geschwindigkeit von 2 Mol bis 200 Mol Äthylen.je 60 Durchführung dieses Verfahrens darf das Molverhält-
- Liter Chloridlösung je Stunde eingeleitet. Beispiels- . nis von Kupfer(II)-chlorid zu Kupfer(I)-chlorid nicht
. weise werden je Stunde 10,0 Mol Äthylen je Liter so weit absinken, daß durch die Ausfällung von Kupwäßriger
6m-CuCl2-2m-CuCl-Lösung, die aus Lei- fer(I)-chlorid ein Verschmutzen oder Verstopfen der
tung7 in den Reaktor eintritt, bei einer Temperatur Apparatur eifolgen kann. Die verbrauchte Kupfervon
etwa 1700C und unter einem Druck von 15,75 atü 65 chloridlösung wird mit einer Geschwindigkeit von
satz (aufgetragen auf der Y-Achse) der erforderliche
Gesamtdruck in dem Reaktor 3,29 kg/cm2 (aufge-' tragen auf der X-Achse) beträgt. Wenn der Druck
2,1 kg/cm2 beträgt, würde für einen adiabatischen Betrieb bei dem gleichen Reaktordruck eine 21°/0ige
Umwandlung je Durchsatz erforderlich sein.
Wie in F i g. 2 veranschaulicht, ist für eine 10°/0ige Umwandlung je Durchsatz und einen Dampf-
Umwandlung und einem Dampfdruck der Lösung von 3,5 kg/cm2 ist für einen adiabatischen Betrieb
jedoch ein Reaktordruck von 12,25 kg/cm2 erforderlich. Ζ','"
Fig. 3 veranschaulicht ein Verfahren, bei dem
Chlorierung und Reaktivierung in getrennten Zonen, ^nämlich in dem Reaktor 3 und dem Regenerator 4,
durchgeführt werden.
verhindert werden kann, daß die in der Luft zusammen mit dem Sauerstoff anwesenden inerten Gase, wie
Stickstoff und Argon, in den Reaktor eintreten und den dort herrschenden Druck erhöhen.
Gemäß F i g. 3 wird über die mit einem Ventil
versehene Beschickungsleitung 5 und die Rückfüh-
. rungsleitung 6 Äthylen in Kontakt mit einer wäßrigen
eingeleitet. Der dampfförmige Reaktorabfluß, der .chloriertes Produkt und nicht umgesetzte Komponenten,
beispielsweise 1 Mol je Liter je Stunde 1,2-Di-2,3 Volumen je Volumen Kupferchloridlösung im
Reaktor 3 durch Leitung 32 in den Regenerator 4 eingeleitet. Der Regenerator wird bei einer Temperatur
5 6
von etwa 130 bis etwa 1500C und einem Druck von eintritt, zu dem Reaktor 37 zurückgeführt. Nicht umge-8,75
bis etwa 8,4 atü oder etwa Reaktorbedingungen, wandeltes flüssiges 1,2-Dichloräthan wird von. der
im vorliegenden Fall bei einer Temperatur von 1500C Zone 41 abgezogen und über die Leitung 58 zu der
und einem Druck von 8,75 atü betrieben. Die reakti- Zone 54 zurückgeführt, und das Vinylchlorid wird als
vierte wäßrige Kupfer(II)-Kupfer(I)-chloridlösung, de- 5 Verfahrensprodukt durch Leitung 45 von der Zone 41
ren Konzentration durch den Wassergehalt der aus abgezogen. Der in Leitung 36 eingeleitete verdünnte
Leitung 28 zuströmenden verdünnten Säure eingestellt Chlorwasserstoff dient dazu, die Chlorwasserstoffwird,
wird dann über Leitung 7 durch Sprühdüsen im beschickung für den Reaktor bei dem erforderlichen
oberen Teil des Turmes in den Reaktor 3 zurückgeleitet, Wert zu halten. Die Konzentration des Chlorwasser-
und inerte Gase, wie Stickstoff und Argon, die mit der io Stoffs wird so eingestellt, daß die erforderliche Menge
Luft in das System eingeführt wurden, werden vom obe- an Wasser in dem Reaktor erhalten bleibt,
ren Ende des Regenerators durch die mit einem Ventil Wenn in dem Verfahren der Erfindung ein gasförversehene Leitung 34 an die Atmosphäre abgelassen. miges Olefin verwendet wird, so kann dieses durch
ren Ende des Regenerators durch die mit einem Ventil Wenn in dem Verfahren der Erfindung ein gasförversehene Leitung 34 an die Atmosphäre abgelassen. miges Olefin verwendet wird, so kann dieses durch
F i g. 4 veranschaulicht ein Verfahren, bei dem die die wäßrige Lösung des Chloridgemisches geleitet oder
Chlorierung eines Kohlenwasserstoffs und die Reakti- 15 die wäßrige Chloridlösung kann durch das gasförmige
vierung der Lösung des Chloridgemisches in derselben Olefin gesprüht werden.
Zone erfolgen. . Aus J. org. Chemistry, 26 (1961), S. 2263 bis 2267
Das in Leitung 35 mit einer Geschwindigkeit von und 2267 bis 2270, sowie J. Am. Chem. Soc, 76 (1954),
1,0 Mol je Liter Chloridlösung je Stunde eintretende S. 5491 ff., ist die Chlorierung aromatischer Verbin-Äthylen
wird der Leitung 36 zugeleitet, in der es mit 20 düngen mit Kupfer(II)-chIorid,Kupfer(II)-bromid oder
2,0 Mol je Stunde wäßrigem Chlorwasserstoff mit einer Eisen(III)-chlorid ohne und mit Lösungsmitteln, je-Säurekonzentration
von 32 Gewichtsprozent und doch ohne Wasser bekannt. Demgegenüber werden
9,0 Mol je Liter Katalysator je Stunde rückgeführtem gemäß der Erfindung die obengenannten Olefine oder
Äthylen aus Leitung 40 vermischt wird. Benzol in einer wäßrigen Lösung von Kupfer(II)-chlo-
Dieses Gemisch wird dann in den Reaktor 37 ein- 25 rid oder Eisen(III)-chlorid und einem anderen Metallgeleitet,
worin das Äthylen in Gegenwart von 0,5 Mol chlorid als Promotor chloriert. Die Vorteile der Vermolekularem
Sauerstoff je Liter Katalysator, der aus Wendung eines wäßrigen Mediums einschließlich insder
mit einem Ventil versehenen Leitung 38 in die besondere einer guten Temperaturkontrolle sind oben
Zone 37 eintritt, mit dem Kupfer(II)-chlorid einer wäß- ausführlich erläutert. .
rigen 7m-CuCl2-2m-CuCl-Lösung umgesetzt wird. Die 30 Die deutsche Patentschrift 969191 betrifft ein VerTemperatur
in der Reaktionszone wird bei etwa 160° C fahren zum Halogenieren von Acetylen zu einem Di-
und der Druck auf das Gemisch in der Zone 37 bei halogenäthylen, nicht aber, wie die vorliegende Erfinetwa
21 atü gehalten. Dadurch, daß die obengenannte dung, die Chlorierung von bestimmten Alkenen zu ein
Menge an molekularem Sauerstoff und Chlorwasser- Chloralkanen. Vinylchlorid, das bekanntlich von größstoff
in dieser Zone gehalten wird, wird die Konzen- 35 ter Bedeutung für die Technik ist, wird aus 1,2-Dichlortration
an Kupfer(II)-chlorid konstant und die Um- äthan, einem Produkt des Verfahrens der Erfindung,
'. Wandlung von Äthylen zu chloriertem Produkt bei nicht aber aus Dichlorethylen erhalten. Außerdem wird
10 % gehalten. Das chlorierte Produkt, das zu mehr gemäß dieser .Vorveröffentlichung das Ausgangsmateals
90 Gewichtsprozent aus 1,2-Dichloräthan besteht, rial mit Halogenwasserstoff umgesetzt, während gemäß
wird in Form eines gasförmigen Abflusses im Gemisch 40 der Erfindung Chlorwasserstoff nur zur Reaktivierung
mit nicht umgewandeltem Äthylen erhalten. der Metallchloridlösung, nicht aber zur Umsetzung mit
Der gasförmige Abfluß wird durch Leitung 42 abge- dem Olefin oder Benzol verwendet wird,
zogen und dem Kondensator 44 zugeleitet, und das Die belgische Patentschrift 604 328 betrifft die ChIo-
gebildete Kondensat wird in die·Dekantationszone 46 rierung von Kohlenwasserstoffen mit Kupfer(II)-chlo-
eingeleitet, worin bei einer Temperatur von 400C und 45 rid, verwendet als Promotoren Alkalimetallchloride und
einem Druck von 6,65 atü nicht umgewandeltes gas- zusätzlich Chloride seltener Erden. Die Chloride werden
förmiges Äthylen von flüssigem 1,2-Dichloräthan ab- nicht in der Form einer wäßrigen Lösung eingesetzt,
getrennt und von wo es durch Leitung 48 abgezogen da das genannte Verfahren in der Dampfphase ausge*
wird. Wasser wird als eine eigene flüssige Phase durch führt wird. Das Verfahren weist daher keinen der oben
Leitung 43 abgezogen und aus dem Verfahren entfernt. 50 angeführten Vorteile der Verwendung einer wäßrigen
Das durch Leitung 48 aus der Zone 46 abgezogene Metallchloridlösung auf.
gasförmige Äthylen wird in der Pumpe 50 unter Druck In den folgenden Beispielen wird das Verfahren der
gesetzt und, wie oben beschrieben, über die Leitun- Erfindung veranschaulicht,
gen 40 und 36 zu der Reaktionszone 37 zurückgeleitet.
gen 40 und 36 zu der Reaktionszone 37 zurückgeleitet.
Das flüssige 1,2-Dichloräthan wird über Leitung 52 55 . . .
von der Dekantationszone 46 abgezogen und der Crack- Beispiel 1
zone 54 zugeleitet, worin es bei einer Temperatur von
zone 54 zugeleitet, worin es bei einer Temperatur von
etwa 55O°C und unter einem Druck von 3,5 atü zu Zwei Glasreaktoren, von denen der erste eine wäßetwa
60 Molprozent je Durchsatz in Vinylchlorid und rige Lösung von 5m CuCl2 und 0,5m CuCl und der
Chlorwasserstoff umgewandelt wird. Das gecrackte Ge- 60 zweite eine wäßrige Lösung von 7m CuCl2 und 1,0m
misch wird dann durch Leitung 59 der Destillations- CuCI enthält, werden bei einer Temperatur von 16O0C
zone 41 zugeführt, worin es in seine Komponenten gehalten. Durch jede der obigen Lösungen wird Proaufgetrennt
wird. Dampfförmiger Chlorwasserstoff pylen mit einem Partialdruck von 7 kg/cm2 geleitet,
wird durch Leitung 36 abgezogen und zusammen mit so daß der Gesamtdruck 20 kg/cm2 beträgt. Im ersten
Äthylen, das aus der mit einem Ventil versehenen 65 Fall wird bei einer Umwandlung von 1 Molprozent
Leitung 35 in die Leitung 36 eintritt, und verdünntem 1,2-Dichlorpropan gebildet. Im zweiten Fall wird bei
Chlorwasserstoff (20 bis 35 Gewichtsprozent), der aus einer Umwandlung von etwa 2 Molprozent 1,2-Dider
mit einem Ventil versehenen Leitung60 in Leitung36 ' chlorpropan gebildet.
7 8
R ■. . ι - wäßriger Chlorwasserstoff als 32°/oigc Lösung zusam-
e ι s ρ ι e men m^ konzentriertem Chlorwasserstoff aus dem in
^ konzentriertem Chlorwasserstoff aus dem in
In einen Glasreaktor, der 1 1 eines wäßrigen Gemi- einer nachfolgenden Verfahrensstufe erfolgenden Craksches
von 7m CuCI1 und 0,5m CuCI enthält, werden ken von 1,2-Dichloräthan, das wie im Beispiel 5 bebei
einer Temperatur von 1500C je Minute 350 Stan- 5 schrieben durchgeführt wird, in den Regenerator eindard-cm3
Äthylen eingeleitet. Der Äthylenpartialdruck geleitet. ,
in dem Reaktor beträgt 8.4 atü, Gesamtdruck 21 atü. Unter diesen Bedingungen wird in den Regenerator
Es wird eine Umwandlung von 3 Molprozent je Durch- eingebrachtes Wasser verdampft und zusammen mit
satz zu 1,2-Dichloräthan erzielt. Die Selektivität hin- inerten Gasen, wie Stickstoff und Argon, die als Besichtlich
1,2-Dichloräthan beträgt etwa 98 %. m standteile der dem Regenerator zugeführten Luft in
diesen eintreten, aus dem System getragen. Diese
Beispiel 3 Dämpfe werden an die Atmosphäre abgelassen, wäh-
In einen mit Glas ausgekleideten Autoklav, der 40 ml rend der reaktivierte Chloridlösung zu der Reaktionseiner wäßrigen Lösung von 7m CuCl1 und 0,5m CuCl zone zurückgeführt wird.
enthält, werden 0,056 Mol Benzol eingebracht. Die 15 Das aus dem Reaktor abgezogene gasförmige Ge-Temperätur
in der Reaktionszone wird auf 19O0C ein- misch, das 1,2-Dichloräthan, Wasser und nicht umgegesteilt.
und man läßt die Umsetzung 18 Stunden lang setztes Äthylen enthält, wird so gekühlt, das nur daß
ablaufen, wonach der Autoklav auf die Temperatur 1,2-Dichloräthan und Wasser kondensiert werden. Der
der Umgebung abgekühlt wird. Beim öffnen des ge- restliche Dampf wird dann in den Reaktor zurückkühlten
Autoklavs zeigt sich, daß die Benzolschicht 90 geführt. Das 1,2-Dichloräthan wird bei einer Temperas
verschwunden ist und in einer Ausbeute von etwa 10°/0 tür von 55()'JC und einem Druck von 1,75 atü zu Vinyl-)
chlorierte Benzole gebildet sind. chlorid und Chlorwasserstoff gecrackt.
BeisP'el4 Beispiele
Zu 3 I eines wäßrigen 7m-CuCl,-lm-CuCl-Gemischcs as
in einem mit Glas ausgekleideten Druckgefäß werden Durch 1 1 einer wäßrigen 1,Im-CuO2^1Sm-FeCI3-Lo-
je Stunde 4.6 Mol Äthylen bei einer Temperatur von sung in einem Glasreaktor wird Äthylen mit einer Ge-
etwa 150'C und einem Gesamtdruck von 21 atü ein- schwindigkcit von 1,9 Mol je Stunde geleitet. Bei einer
geleitet. Unter diesen Bedingungen werden 15MoI- Temperatur von 1500C und_einem Druck von 21 atü
prozent des Äthylens je Durchsatz mit einer Selektivi- 30 werden 4 Molprozent des Äthylens je Durchsatz in
tat von mchrals98°/0 in 1.2-Dichloräthan umgewandelt. 1,2-Dichloräthan umgewandelt. Die Selektivität hin-
Das Chloridgemisch wird durch Zugabe von 1,38 MoI sichtlich 1,2-Dichloräthan beträgt 95%.
Chlorwasserstoff und 0,345 MoI Sauerstoff je Stunde Die in der wäßrigen Lösung enthaltenen Salze ver-
bei gleicher Zusammensetzung gehalten. Wasser wird mindern den Dampfdruck des Systems auf etwa 45%
in ausreichender Menge zugesetzt, um den Verlust 35 desjenigen von reinem Wasser' Diese Veiminderung
durch Mitreißen durch das aus der Reaktionszone des Wasserdampfdruckes ist insofern von Bedeutung,
austretende, das Produkt enthaltende Dampfgemisch als das System bei dem verminderten Druck und einer
auszugleichen. Der Abfluß wird gekühlt, um das 1.2-Di- geringeren Umwandlung je Durchsatz adiabatisch ist
chloräthan zu kondensieren, während das restliche, als es bei einem höheren Dampfdruck möglich ist, wie
nicht umgesetzte Äthylen zu der Reaktionszone zurück- 40 aus den F i g. 1 und 2 ersichtlich ist.
geleitet wird. Die in dieser Verfahrensstufe erfolgende
Umsetzung entspricht der folgenden Gleichung: B e i s ρ i e 1 7
) 2 C1H4 + 4 MC. -!- O2 -+ 2 C1H1CU + 2 H1O In 3 , cjner ^.^ 6m_FcCli_]m.MnC>Lösung
Das kondensierte Dichloräthan wird bei einer Tem- 45 in einem mit Glas ausgekleideten Druckgefäß werden
pcratur von 5505C und einem Druck von 1,4 atü zu 4,6 MoI je Stunde Äthylen bei einer Temperatur von
Vinylchlorid und Chlorwasserstoff gecrackt, und der etwa 160' C und einem Gesamtdruck von 21 atü ge-Chlorwassertsoff
wird für die Reaktivierung von ver- leitet. Unter diesen Bedingungen werden bei einer#
brauchten! Chloridgemisch verwendet. Die Umsetzung Selektivität von mehr als 90°/0 15 Molprozent des
des gesamten Verfahrens entspricht also der Gleichung: 50 "Äthylens je Durchsatz in 1,2-Dichloräthan umge-
2 C1H4 tO, + 2 HCl ->
2 CtH,CI + 2 HtO wandelt.
„.-..-■■ Beispiel 8
In einen mit Keramik ausgekleideten Reaktor, der 55 Durch 1 I einer wäßrigen Om-FeCI3-Im-CrCI3-Lo-51
eines wäßrigen Gemisches aus 1,ImCuCI1 und « suhg in einem Glasreaktor wird mit einer Geschwindig-4,5m
FeCl1 enthält, werden bei einer Temperatur von keit von 1,9 Mol je Stunde bei einer Temperatur von
15O0C und einem Gesamtdruck von 21 atü 7,6 Mol 16O0C und einem Druck von 21 atü Äthylen geleitet,
je Stunde Äthylen eingeleitet. Es wird eine Umwandlung 4 Molprozent des Äthylens werden je Durchsatz in
von 25 Molprozent Äthylen zu 1,2-Dichloräthan je 60 1,2-Dichloräthan umgewandelt bei einer Selektivität
Durchsatz erzielt. Im Verlaufe einer Stunde werden von etwa 90%.
etwa 30% der Chloridlösung aus der Reaktionszone Die Salze in der obigen Lösung vermindern den
entfernt und in einen eigenen Regenerator übergeführt; Wasserdämpfdruck auf dem System auf etwa 45%
in dem sie mit 3,8 MoI Chlorwasserstoff und 9,5 Mol desjenigen von reinem Wasser. Diese Vejminderung
Luft vermischt und dadurch reaktiviert wird. 65 des Wasserdampfdrucks ist insofern von Bedeutung,
Da die indem Reaktor und dem Regenerator erzeugte als das System bei dem verminderten Druck und bei
Reaktionswärme mehr aus ausreichend ist, um einen einer niedrigeren Umwandlung je Durchsatz adiabaadiabatischen
Betrieb zu ermöglichen, wird verdünnter tisch ist.
In einen mit Keramik ausgekleideten Reaktor, der 5 I einer wäßrigen 7m-CuCI2- und O.Sm-CuCl-Lösung
enthält, werden bei einer Temperatur von 1700C und einem Gesamtdruck von 24,5 atü 7,6 Mol Vinylchlorid
je Stunde eingeleitet, wobei je Durchsatz 30 Molprozent Vinylchlorid zu 1,1,2-Trichloräthan umgewandelt
werden. Während des Betriebs wird je Stunde ein Teil der Lösung aus der Reaktionszone entnommen und
in einen eigenen Regenerator übergeführt, in dem je Stunde 4,5 Mol Chlorwasserstoff und 1,12 Mol Sauerstoff
unter Reaktivierung von 4,5 Mol Cuprochloiid zu Cuprichlorid umgesetzt werden. Die in dieser Weise
reaktivierte Lösung wird in den Reaktor zurückgeführt, so daß die Zusammensetzung der Chloridlösung konstant
bleibt.
Das von dem Reaktor abströmende Gasgemisch, das 1,1,2-Trichloräthan, Wasser und nicht umgesetztes Vinylchlorid
enthält, wird gekühlt, um 1,1,2-Trichloräthan
und Wasser zu kondensieren. Der restliche Dampf wird in den Reaktor zurückgeleitet.
Claims (4)
1. Verfahren zur Chlorierung, dadurch gekennzeichnet,
daß man Olefine, die 2 bis 5 Kohlenstoffatome aufweisen und gegebenenfalls durch Halogen substituiert sind, jedoch noch wenigstens
ein Wasserstoffatom enthalten, oder Benzol mit einer wäßrigen Lösung, die Kupfer(II)-chlorid
oder Eisen(IIl)-chlorid als Chlorierungsmittel und wenigstens ein Chlorid von
Kupfer(I), Silber, Gold,
Zink, Cadmium, Quecksilber,
Bor, Aluminium, Gallium, Indium, Thallium, Titan, Zirkon, Hafnium,
Vanadin, Niob, Tantal,
35
Chrom, Molybdän, Wolfram,
Eisen(III), Kobalt, Nickel,
Zinn, Wismut oder Mangan
Eisen(III), Kobalt, Nickel,
Zinn, Wismut oder Mangan
als Promotor enthält, wobei die Konzentration der gesamten Metallchloride in der wäßrigen Lösung
zwischen etwa 0,001 und etwa 50 Molprozent, bezogen, auf das anwesende Wasser, liegt, im Falle
der Verwendung von Olefinen mit 2 bis 5 Kohlenstoffatomen bei 120 bis 180° C und einem Druck von
0 bis 70 atü und im Falle der Verwendung von Benzol als Ausgangsstoff bei 180 bis 300° C in einer Reaktionszone
umsetzt, wobei man außerdem, wenn die Konzentration an Chlorierungsmittel auf unter
90 Gewichtsprozent des ursprünglichen Kupfer(ll)- oder Eisen(III)-chlorid-Gehalts der verwendeten
wäßrigen Lösung sinkt, innerhalb oder außerhalb der Umsetzungsmischung das verwendete Chlorierungsmittel
mit Chlorwasserstoff und Sauerstoff reaktiviert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das Molverhältnis von Kupfer(II)-chlorid
oder Eisen(HI)-chlorid zu Promoter zwischen etwa 0,01 und etwa 100:1 hält.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Gesamtkonzentration der
Metallhalogenide zwischen etwa 10 und etwa 30 Molprozent, bezogen auf das anwesende Wasser,
und das Molverhältnis von Kupfer(II)-chlorid oder Eisen(III)-ch]orid zu Promotor zwischen etwa
0,1: 1 und etwa 10:1 hält.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß man zur
wenigstens teilweisen Reaktivierung des Chlorierungsmittels einen Chlorwasserstoff verwendet, der
bei der Pyrolyse eines nach dem Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche erhaltenen
gesättigten Chlorkohlenwasserstoffs als Nebenprodukt erhalten worden ist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1468141B1 (de) | Verfahren zur Chlorierung von Olefinen,die 2 bis 5 Kohlenstoffatome aufweisen,oder von Benzol | |
DE69105924T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,1,1,2-Tetrafluorethan. | |
DE68921222T2 (de) | Verfahren zur chlorierung von ethan. | |
DE69116094T2 (de) | Herstellung von Kohlenstoffverbindungen | |
EP0010295B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Ethanol aus Synthesegas | |
DE1568747A1 (de) | Verfahren zur Oxychlorierung organischer Verbindungen | |
DE69023759T3 (de) | Verfahren zur herstellung von 1,1,1,2-tetrafluoroäthan. | |
DD295828A5 (de) | Tieftemperaturkatalysatoren fuer oxydative kopplungsverfahren | |
EP0003343B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Glyoxal | |
DE1542132B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Kupfersilikat enthaltenden Katalysators fuer Oxychlorierungs-,Deacon- und Dehydro- chlorierungsreaktionen | |
DE2905781A1 (de) | Verfahren zur chlorierung | |
DE69103473T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1-Chlor-1,2,2-trifluorethylen oder von 1,2,2-trifluorethylen. | |
DE1468141C (de) | ||
DE69300920T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,1,1,2-Tetrafluorethan. | |
DE1443707A1 (de) | Verfahren zur Hersteliung von 1,2-Dichl?an | |
DE2540067A1 (de) | Verfahren zur herstellung von vinylchlorid | |
DE60208295T2 (de) | Katalysatoren enthaltend Kupfer und Magnesium zur Oxychlorierung von Ethylen in 1,2-Dichloroethan | |
DE1793805C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorid | |
DD151621A5 (de) | Verfahren zur herstellung von sauerstoffhaltigen kohlenstoffverbindungen und olefinen aus synthesegas | |
DE1075592B (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorid oder Vinylidenchlorid | |
DE69206076T2 (de) | Katalysatoren zur Herstellung von Kohlensäure-Ester und Verfahren zur Herstellung von Kohlensäureester. | |
DE2413148C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Chlorkohlenwasserstoffen durch Oxychlorierung | |
US4094920A (en) | Hydroalkylation using multi metallic zeolite catalyst | |
WO2008077494A1 (de) | Herstellung von vinylchlorid | |
DE3334225C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan |