DE1447801A1 - Photographic material and process for its manufacture - Google Patents

Photographic material and process for its manufacture

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DE1447801A1
DE1447801A1 DE19641447801 DE1447801A DE1447801A1 DE 1447801 A1 DE1447801 A1 DE 1447801A1 DE 19641447801 DE19641447801 DE 19641447801 DE 1447801 A DE1447801 A DE 1447801A DE 1447801 A1 DE1447801 A1 DE 1447801A1
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Description

Patentanwalt Dipl.-Phys. GERHARD LIEDL- München u, dumiauuMJtr.22Patent attorney Dipl.-Phys. GERHARD LIEDL- Munich u, dumiauMJtr. 22

mU62 Fern-., hrüiber 05/?2 208mU62 Fern-., hrüber 05 /? 2 208

H478Q1 a 1910H478Q1 a 1910

TOX CORPORATION, Webster, NEW YORK / U.S.A·TOX CORPORATION, Webster, NEW YORK / U.S.A.

Fotografisches Material .und Verfahren zu seiner HerstellungPhotographic material and process for its manufacture

Die Erfindung betrifft fotografische Silberhalogenidmaterialien und insbesondere solohe Materialien, wie sie durch Verdampfen des Silberhalogenidee bei reduziertem Druck und erhöhter Temperatur und Kondensierung der Silberhalogeniddämpfe auf ein geeignetes Trägermaterial hergestellt werden. Der Silberhalogeniddampf kondensiert sioh als eine Schicht aus Silbeahalogenid-Mikrokristallen, die dadurch auf dem Träger abgestützt sind, daß sie The invention relates to silver halide photographic materials and, more particularly, to materials such as those produced by evaporating the silver halide under reduced pressure and elevated temperature and condensing the silver halide vapors onto a suitable support material. The silver halide vapor condenses as a layer of silver halide microcrystals which are supported on the substrate by being

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direkt an dem Träger und aneinander haften. Bin solches Material unterscheidet sich von fotografischen Sirberhalogenidmaterialien mit Emulsion oder Gelatine dadurch,, daß bei den letzteren die Silberhalogenidkörner in einer Matrix aus.Bindemittel eingelagert sind, die die Körner voneinander und vom Träger isoliert und gleichzeitig die Punktion erfüllt, die Körner auf dem Träger festzuhalten. Dementsprechend kann eine aufgedampfte Silberhalogenidschicht als bindemittelfrei angesprochen werden. Dieser Ausdruck soll dazu- dienen, die erfindungsgemäßen Materialien von den fotografischen Silberhalogenidmaterialien des Emulsions- oder Gelatinetyps zu unterscheiden.adhere directly to the carrier and to each other. Am such material differs from emulsion or gelatin photographic syrber halide materials in that the the latter consists of the silver halide grains in a matrix. Binder are embedded, which isolates the grains from each other and from the carrier and at the same time fulfills the puncture, which To hold grains on the carrier. Accordingly, a vapor-deposited silver halide layer can be said to be binder-free will. This term is used to distinguish the materials of the present invention from silver halide photographic materials of the emulsion or gelatin type.

Fotografische Silberhalogenidmaterialien schließen Silberbromid, Silberchlorid, Silberjodid und Mischungen dieser Stoffe ein. "Für die meisten fotografischen Zwecke wird Silberbromid als dominierender Silberhalogenidbestandteil verwendet, wobei mit Rücksicht auf besondere Effekte oder Eigenschaften kleinere Mengen an Jodid und/oder Chlorid eingeschlossen werden können. Obwohl die zum Zwecke einer Illustrierung der vorliegenden Erfindung angegebenen, besonderen Beispiele Silberbromid benutzen, da es das wichtigste fotografische Silberhalogenid- ist, soll jedoch die Erfindung auf diese Substanz, nicht beschränkt sein·.Silver halide photographic materials include silver bromide, silver chloride, silver iodide, and mixtures of these materials. "For For most photographic purposes, silver bromide is used as the dominant silver halide component, with consideration smaller amounts of iodide and / or chloride can be included for special effects or properties. Although the For the purpose of illustrating the present invention, However, the invention is intended to include specific examples using silver bromide as it is the most important photographic silver halide this substance, not be restricted ·.

Es sind bereits mehrere Vorschläge bekannt gewais&e», aufgedampfte Silberhalogenidmaterialien für fotografische Zwecke her-. zustellen, beispielsweise aus den USA-Patentschriften 1 970There are already several proposals known Gewais & e », vaporized Silver halide materials for photographic use. deliver, for example from US Patents 1,970

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und 1 999 088 (de Boer et al), der USA-Patentschrift 2 945 771 (Mansfeld) und der französischen Patentschrift 1 357 623 (Lu Valle et al.)· Die beiden an erster Stelle genannten Patentschriften betreffen eine Blitz- oder Schnellverdampfung von Silberbromid. Dabei wird eine Menge an Silberbromid auf einem offenen Heizdraht angebracht, worauf unter niedrigem Druck in wenigen Sekunden auf einen Träger sehr rasch ausgedampft wird. In der USA-Patentschrift 2 945 771 wird dieses'Schnellverdampfungsverfahren in ein kontinuierliches Verfahren abgewandelt, wobei das Silberhalogenid aus einem Schmelztiegel auf einen sich bewegenden Trägerstreifen aufgedampft wird. Die obengenannte französische Patentschrift betrifft Verfeinerungen bei der Herstellung eines derartigen fotografischen Materials. Bei den der Erfindung zu Grunde liegenden Arbeiten betreffend die Herstellung aufgedampfter, fotografischer SilberhalogenxdDiaterialien wurde gefunden, daß die Lehren der bisherigen Technik in mehrfacher Hinsicht mangelhaft waren, und zwar insbesondere mit Rücksicht auf die Herstellung eines aufgedampften Silberlialogenidmaterials, das in wirtschaftlicher Weise mit den Emulsionsmaterialien konkurieren konnte. Gleichzeitig wurden bestimmte Verbesserungen bei der Herstellung dieses Materials gefunden, die die fotografischen Eigenschaften des Erzeugnisses verbessern.and 1,999,088 (de Boer et al), U.S. Patent 2,945,771 (Mansfeld) and French Patent 1,357,623 (Lu Valle et al.) · The two patents mentioned in the first place relate to flash or rapid evaporation of silver bromide. There is a lot of silver bromide on an open heating wire attached, whereupon it is evaporated very quickly on a carrier under low pressure in a few seconds. In the U.S. Patent 2,945,771 becomes this flash vaporization process modified into a continuous process in which the silver halide is transferred from a crucible to a moving one Carrier strip is evaporated. The above French patent relates to refinements in manufacture such photographic material. In the work on which the invention is based, relating to production Evaporated silver halide photographic materials have been found to apply the teachings of the prior art in several ways Were inadequate, especially with regard to the production of a vapor-deposited silver halide material, which could compete economically with the emulsion materials. At the same time, certain improvements were made found in the manufacture of this material to improve the photographic properties of the product.

Bei dem Vorgehen gemäß den beiden oben an erster Stelle genannten USA-Patentschriften wird das Silberbromid auf einen offenen Heizfaden aufgebracht und hierauf während einer Zeit von einigenIn the procedure according to the two USA patents mentioned in the first place above, the silver bromide is in an open Filament applied and then for a time of some

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Sekunden schnell verdampft, wobei der Faden auf etwa 700 - · 800° C aufgeheizt wird. Da Silberbromid bei 434° 0 schmilzt, ist es offensichtlich, daß während der wenigen Sekunden des Verdampfungßvorganges die Verdampfung im wesentlichen beim Schmelzpunkt beginnt und sich in den folgenden Sekunden ι fortsetzt, wenrt die Temperatur des Silberbromidee auf irgendeinen unbekannten Wert steigt. Da der Charakter und die Eigenschaften des abgeschiedenen Silberbromides von der Verdampfungstemperatur abhängen, ist die sioh so ergebende Schicht in ihren fotografischen Eigenschaften nicht gleichförmig« Da weiterhin die Blitz- oder Schnellverdampfung grundsätzlich ein unkontrollierter und unbestimmter Vorgang ist, ist es offensichtlich, daß aufeinanderfolgende Besohichtungen verschiedener fotografischer Platten zu Unterschieden in deren Eigenschaften führen und daß «frh so eine Gleichförmigkeit des.Erzeugnisses nicht erzielen läßt.Vaporizes quickly in seconds, with the thread being heated to around 700 - 800 ° C. Since silver bromide melts at 434 ° 0, it is obvious that during the few seconds of the evaporation process the evaporation begins essentially at the melting point and continues in the following seconds if the temperature of the silver bromide rises to any unknown value. Since the character and properties of the deposited silver bromide depend on the evaporation temperature, the resulting layer is not uniform in its photographic properties leading photographic plates to differences in their properties and that "frh so uniformity des.Erzeugnisses not be achieved.

Durch die beiden oben zuletzt genannten Patentschriften werden diese Probleme zumindest in gewissem Maße überwunden» In beiden Patentschriften ist jedoch ausdrücklich angegeben, daß bei der Aufdämpfung von Silberbromid aus einem Schmelztiegel bei relativ kontinuierlichen und stabilen Verhältnissen das Silberbromid nicht über seine Zersetzungstemperatur hinaus erhitzt werden darf, eine Temperatur, die gemäß den Angaben in de» Idteratua? bei 700° C liegt. Während der kurzen Aufheizperiode» wie sie naoh den beiden oben an erßter Stelle genannten Patentschriften ·" zur Anwendung kommt, 1st es in ähnlicher Weise sehr unwahr-* " *'■The last two patents mentioned above are these problems have been overcome at least to some extent. However, it is expressly stated in both patents that the Evaporation of silver bromide from a crucible at relative continuous and stable conditions, the silver bromide cannot be heated above its decomposition temperature may, a temperature which, according to the information in de »Idteratua? is at 700 ° C. During the short heating-up period "as described in the two patent specifications mentioned above in the first place" is used, if it is similarly very untrue- * "* '■

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Bcheinlich, daß irgendein Teil des Silberbromides über 700° C erhitzt wird.It's embarrassing that any part of the silver bromide is above 700 ° C is heated.

Im Gegensatz zu diesen bisherigen lehren wurde nunmehr gefunden, daß eine Aufdampfung von Silberhalogenid unter hohem Vacuum in wirksamer V/eise, ausgehend ron einer Schmelze des Silberhalogenides, bei Temperaturen durchgeführt werden kann, die beträchtlich oberhalb der Zersetzungstemperatur des Silberhalogenides liegen. So wurde beispielsweise Silberbromid ; erfolgreich bei Temperaturen verdampft, die weit oberhalb seiner Zeraetzungstemperatur lagen, und bei Temperaturen des Schmelzbades, die bis zu etwa 765° C betrugen, wobei die ; Dämpfe auf üblichen fotografischen Trägermaterialien, bei-• spielsweiae Barytpapier, Triazetatfilm und Cronar kondensiert wurden.In contrast to these previous teachings it has now been found that a vapor deposition of silver under high vacuum in an effective V / else, starting ron a melt of the silver halide can be carried out at temperatures which are considerably above the decomposition temperature of the silver halide. For example, silver bromide; successfully evaporated at temperatures that were well above its decomposition temperature, and at temperatures of the melt pool that were up to about 765 ° C, the; Vapors were condensed on conventional photographic carrier materials, for example white baryta paper, triacetate film and Cronar.

Die so gewonnenen Erzeugnisse zeigten fotografische Eigenschäften, die mit denjenigen, wie sie sich bei Verdampfungsj Temperaturen unterhalb der Zersetzungatemperatur ergeben, in vorteilhafter Weise vergleichbar sind. So lieferte beispielsweise die höhere Verdampfungstemperatur gemäß der Erfindung fotografische Schichten mit höheren fotografischen Empfindlichkeiten, als eie denjenigen Schichten zukommen, welche unter den gleichen Verhältnissen jedooh unter Anwendung einer niedrigeren Verdarapfungstemperatur hergestellt wurden. Der einer Aufdampfung bei höheren Temperaturen ietThe products obtained in this way showed photographic properties, those with those that result at evaporation temperatures below the decomposition temperature, in are advantageously comparable. For example, the higher evaporation temperature yielded according to the invention photographic layers with higher photographic sensitivities, than they belong to those strata which, under the same conditions, apply a lower evaporation temperature. Of the vapor deposition at higher temperatures

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jedoch, die Möglichkeit, einen Träger bei sehr viel höherer Geschwindigkeit zu beschichten. Wenn beispielsweise Silberbromid ■ aus einem Schmelzbad mit einer Temperatur von etwa 620° C aufgedampft wird und die dabei erzielten Ergebnisse mit einer Aufdampfung von Silberbromid verglichen werden, die bei einer' Temperatur des Schmelzbades von etwa 765° 0 vorgenommen wird, ergibt sich, daß bei der gleichen Dicke der Beschichtung die letztere Temperatur eine Abscheidegeschwindigkeit gestattet, die etwa zehn Mal größer als die bei der zuerst genannten Temperatur ist. Diese unerwartete Steigerung der Abscheidegeschwindigkeit läßt sich trotz der an sich abträglichen Rolle realisieren, die die Zersetzung des Silberbromides bei die seit erhöhten Temperatur spielt. Wenn beispielsweise ein Trägerstreifen durch Aufdampfen des Silberbromides unter hohem Vakuum aus einem Schmelzbad beschichtet wird, das in einem Tiegel enthalten ist, der mit seiner Länge der Streifenbreite entspricht und selbst etwa 63 pm breit ist, kann bei einer Ver- dampfungstemperatur des Silberbromides von 62(Q0 0 der Streifen über den Tiegel mit einer Geschwindigkeit von lediglich etwa 13 m/min.bewegt werden, um so eine Silberbromidschicht auf dem Streifen von etwa 0,4 Mikron Dicke zu erzeugen. Wenn andererseits eine Temperatur des Silberbromides von etwa 765° Ö zu Anwendung kommt, kann unter den gleichen Bedingungen der „ Streifen über den Tiegel mit einer Geschwindigkeit von etwa 130 m/min.bewegt werden, um so eine Silberbromidschicht auf dem Streifen mit. einer Dicke von ebenfalls etwa 0,4 Mikron zu erzeugen.however, the ability to coat a substrate at a much higher speed. If, for example, silver bromide ■ is evaporated from a molten bath at a temperature of about 620 ° C and the results obtained are compared with a vapor deposition of silver bromide, which is carried out at a 'temperature of the molten bath of about 765 ° 0, it follows that at the same thickness of the coating, the latter temperature allows a deposition rate which is about ten times greater than that at the former temperature. This unexpected increase in the rate of deposition can be achieved despite the inherently detrimental role that the decomposition of silver bromide plays at the elevated temperature. If, for example, a carrier strip is coated by vapor deposition of the silver bromide under high vacuum from a molten bath that is contained in a crucible whose length corresponds to the width of the strip and is itself approximately 63 μm wide, with a vaporization temperature of the silver bromide of 62 ( Q 0 0 the strips are moved across the crucible at a speed of only about 13 m / min. So as to produce a silver bromide layer on the strip about 0.4 microns thick is used, the "strip can be moved over the crucible at a speed of about 130 m / min. under the same conditions in order to produce a silver bromide layer on the strip with a thickness of also about 0.4 microns.

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• Gemäß.der Erfindung soll eine fotografische Schicht aus aufge-] dampftem Silberhalogenid vermittelt werden, bei der die Aufdampfung des Halogenides unter reduziertem Druck und bei einer !Temperatur erfolgtf die oberhalb dar Zersetzungstemperatur des Halogenidee liegt·• Gemäß.der invention is a photographic layer of listed] dampftem silver mediated, at which the evaporation of the halide is carried out under reduced pressure and at a! F temperature above the decomposition temperature of the halogen represents idea lies ·

Weiterhin «oll gemäß der Erfindung ein fotografisches Material . mit einer aufgedampften Schicht aus Silberhalogenid vorgeschlagen werden*! wobei die lufdampfung dee Halogenides aus einem aofcjselabad des ßllberhalogenides bei vermindertem Druok erfolgt wobei Al· Temperatur des gesamten Sohmelzbades oberhalb derFurthermore, according to the invention, a photographic material is intended. with a vapor-deposited layer of silver halide are suggested *! wherein the evaporation luf dee halide of a aofcjselabad of ßllberhalogenides carried out at reduced Druok wherein Al · temperature of the whole above the Sohmelzbades

des Silberhalogenides liegt. of the silver halide.

Dabei soll gemäß der Erfindung eine fotografische SchiοIit gebildet werden, in der der hauptsächliche Silberhalogenidbestandi Silbefefcromid ist» According to the invention, a photographic film is to be formed in which the main silver halide constituent is silver halide »

Die naohfoigende feeeohreibung bevorzugter Ausführungsformen ge mäÖ der Erfindung dient im Zusammenhang''mit beiliegender Zeich nung der weiteren Erläuterung der Erfindung·The related fee friction of preferred embodiments according to the invention is used in connection with the accompanying drawing to further explain the invention.

Itfe· 1 fllti eoheja&tißche Aufriflansieht einer Vakuumbesohioh-' tttögenrorriohtung, vie sie bei der Durchführung der Er-/iftöung benut at werden kann j Itfe · 1 fllti eoheja & table view of a vacuum installation as it can be used when carrying out the opening j

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Pig. 2 eine Querschnittsansioht der Vorrichtung aus Plg.1 entlang der Linie 2-2 aus Fig.1 undPig. 2 shows a cross-sectional view of the device from Plg.1 along the line 2-2 of Figure 1 and

Pig. 3 eine Quersohnittßanßioht der Vorrichtung aus Pig.1 entlang der Linie 3-3 aus Pig.1, wobei Jedoch Teile l in' einer unterschiedlichen Betriebsstellung liegen.Pig. 3 shows a cross section of the device from Pig.1 along line 3-3 from Pig.1, however, parts l are in a different operating position.

In den Zeichnungen ist beispielsweise eine Vorrichtung zur Aufdampfung von Silberhalogenid unter hohem Vakuum und bei hoher Temperatur sohematisch dargestellt. Die Vorrichtung umfaßt einen Unterbau 10 mit einer an seiner Oberseite befestigten Platte 11. Auf der Platte 11 1st abnehmbar eine Glocke 12 angeordnet» Die Oberfläohe der Platte 1t und die Berührungsfläche der Glocke 12 sind geschliffen und so bearbeitet, daß zwischen ihnen eine Hochvakuuaftiohtung gewährleistet ist. Die Evakuierung des Raumes unter der G-looke erfolgt über eine Leitung 40 mittels einer Pumpe 41· Selbstverständlich kommt dabei ein solches PumpensyetenL zur Anwendung, daß ein hohes Vakuum mit einem Minimum an Verunreinigungen in der Atmosphäre; unter der Glocke 12 erreichbar ist'« " · ·. : In the drawings, for example, an apparatus for the vapor deposition of silver halide under high vacuum and at high temperature is shown schematically. The device comprises a substructure 10 with a plate 11 attached to its upper side. A bell 12 is detachably arranged on the plate 11. The surface of the plate 1t and the contact surface of the bell 12 are ground and machined so that a high vacuum is guaranteed between them . The evacuation of the space under the G-looke takes place via a line 40 by means of a pump 41. Of course, such a pump system is used that a high vacuum with a minimum of impurities in the atmosphere; can be reached under bell 12 '«" · · .:

In der Mitte der Platte 11 ist auf einem Stützrahmen H eine Plattform 13 angeordnet, die der Halterung eines Verdampfungstiegele 32 dient. Vorzugsweise wifcd der Tiegel 32, aus dem daaIn the middle of the plate 11 is on a support frame H a Platform 13 arranged, the holder of an evaporation crucible 32 is used. Preferably the crucible 32 from which daa

Silberhalogenid verdampft wird, direkt als elektrisches Heizelement verwendet, was daduroh erfolgt, daß der SohmelBtiegel beispielsweise aus Wolfram hergestellt wird. In diesem Falle . '' \ Silver halide is evaporated, used directly as an electrical heating element, which is done by the fact that the Sohmel crucible is made of tungsten, for example. In this case . '' \

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werden die Inden des Tiegels so ausgebildet, daß an ihnen mit Hilfa von Klemmen 33 und 39 o.dgl»Zuleitungen 34 befestigt werden können. Wenn die Zuleitungen 34 mit einer entsprechenden elektrischen Spannungsquelle 35 verbunden werden, wirkt der Wolframtiegel 32 unmittelbar als Widerstandsheizer, um so in ihn eingebrachte Silberhalogenide zu schmelzen und zu verdampfen.the indene of the crucible are designed so that on them with Aid from terminals 33 and 39 or the like »supply lines 34 attached can be. If the leads 34 with a corresponding electrical voltage source 35 are connected, acts the tungsten crucible 32 directly as a resistance heater to to melt and evaporate silver halides thus introduced into it.

In passender Entfernung über dem Tiegel 32 und der Plattform iet ein von Trägern 17 abgestützter Ständer 16 vorgesehen. Der Ständer 16 weist eine zentrale Öffnung 18 auf, die bei der dargestellten Ausführungsform eine rechteckige Form besitzt. Diese öffnung ist· an ihrer Oberseite durch eine stationäre Gegenplatte 19 abgedeckt, während an ihrer Unterseite ein bewegbarer Schirm· oder eine bewegbare Blende 20 vorgesehen ist. Die Blende 20kann durch Verdrehen einer Welle 30 am Handgriff 31 versohwenkt werden, und zwar aus einer Stellung, in der sie unterhalb der Öffnung 18 liegt und diese abdeckt, in eine solche Stellung, in derV"vergl.3?ig.3, diese öffnung vollständig frei gibt.At a suitable distance above the crucible 32 and the platform a Supported out of carriers 17 stator 16 iet provided. The stand 16 has a central opening 18 which, in the illustrated embodiment, has a rectangular shape. This opening is covered on its upper side by a stationary counter-plate 19, while a movable screen or a movable screen 20 is provided on its lower side. The screen 20 can be swiveled by rotating a shaft 30 on the handle 31, from a position in which it lies below the opening 18 and covers it, into a position in which it is shown in FIG. 3, this opening completely releases.

Der Ständer 16 trägt weiterhin eine Streifenzuführvorrichtung, .die eine Aufwickelrolle 23 und eine Zuführrolle 24 umfaßt. Die Holle 25 ist drehbar an einem Paar von Stützarmen 21 gelagert, dl· ihrereeite am Ständer 16 befestigt sind. Die Holle 24 ist ähnliohtr Weist an einem entsprechenden Paar von Stützarmen The stand 16 also carries a tape feeder which includes a take-up roll 23 and a feed roll 24. The hell 25 is rotatably supported on a pair of support arms 21, dl · ihrereeite on the stator 16 are attached. The cave 24 is similarly attached to a corresponding pair of support arms

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abgestützt. Diese Rollen sind so auf dem. Ständer 16 angeordnet, daß sie die Zuführung eines Streifens 2.9 aus der Zuführrolle 24 unter die lippe 19a der Gegenplatte 19 ermöglichen, hierauf eine Führung des Streifens quer über die Öffnung 18 und schließlich über die Lippe 19b aus der öffnung heraus zur Aufwickelrolle 23· Auf diese Weise kann ein Streifen 29 aus beliebigem Material von der Rolle 24· quer-über die Öffnung..18 der Rolle 2? zugeführt werden. Wenn der Schirm 20 von der öffnung entfernt wird, ist der Streifen 29 i.en Dämpfen ausgesetzt, die während seines laufes quer über die öffnung-aus dem Tiegel 32 austreten,-Im übrigen ist der Streifen gegenüber diesen Dämpfen durch den Ständer 16 praktisch vollständig abgeschirmt.supported. These roles are so on. Stand 16 arranged, that they are feeding a strip 2.9 from the feed roller 24 allow under the lip 19a of the counter plate 19, then a guide of the strip across the opening 18 and finally via the lip 19b out of the opening to the take-up roll 23 · In this way, a strip 29 of any Material from the roll 24 · across the opening..18 of the roll 2? are fed. When the screen 20 is removed from the opening the strip 29 is exposed to the vapors generated during its course across the opening-exit the crucible 32, -Im the rest is the strip against these vapors through the Stand 16 practically completely shielded.

Der Antrieb des Streifens 29 erfolgt über einen Motor 36, der . über Kegelzahnräder 37 und 38 auf eine Welle 25^ einwirkt* Am oberen Ende der Welle 25 verbindet ein weiteres Paar von Kegelzahnrädern 27 und 28 die W?lle 25 mit einer Stummelachse 26, die ihrerseits mit der Aufwickelrolle 23 verbunden ist.The drive of the strip 29 takes place via a motor 36, the. acts on a shaft 25 ^ via bevel gears 37 and 38 * Am upper end of the shaft 25 connects another pair of bevel gears 27 and 28 the shaft 25 with a stub axle 26, which in turn is connected to the take-up roll 23.

Alle Elemente, die sich von der Innenseite der Vakuumkammer1 zu deren Außenseite erstrecken, beispielsweise die Wellen 25 und 30, die Zuleitungen 34 und die Yakuumleitung 40, verlaufen durch geeignete, in dex· Platte 11 vorgesehene Dichtungen.All elements which extend from the inside of the vacuum chamber 1 to the outside thereof, for example the shafts 25 and 30, the supply lines 34 and the vacuum line 40, run through suitable seals provided in the dex plate 11.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird der Schmelztiegel 32 mit der erforderlichen Menge an Silberhalogenid, beispielsweiseIn the method according to the invention, the crucible 32 with the required amount of silver halide, for example

908808/0971908808/0971

H47801H47801

' SiliserbroBtid, Silber^odid, Silberohlorid oder mit einer Mi- "l eohmig dieser Substanaon, beschickt» Falle erwünscht, kann ' auch eine Mehrzahl von Sohmelztiegeln 32 auf die Plattform'SiliserbroBtid, Silber ^ odid, Silberohlorid or with a micro- resistance of this Substanaon, loaded' trap desired, can 'also a plurality of Sohmelziegel 32 on the platform

gestellt und unabhängig elektrisch beheizt werden, wobei ein Behälter «in bestimmtes Halogenid und ein weiterer Behälter ein anderes Halogenid enthalten kann. Gegebenenfalls können auoh beide Behälter dasselbe Halogenid enthalten. Für die meisten Fotografischen Zwecke ist der letzlioh abgeschiedene Dampf zweokmäßigerweiee vorherrschend Silberbromid. Ein Streifen eines üblichen fotografischen Irägermaterials, beispielsweise «Photobase »^Papier, oder ein Aö'etat- oder Mylar-Film wird auf die Rolle 24 aufgewickelt, quer, über die Öffnung 18 geführt und mit der Rolle 23 verbunden. Die Blende 20 wird so eingestellt» daß sie die öffnung 18 verschließt. Hierauf wird die Ölooke 12 gegenüber der Platte 1t abgedichtet und die Vakuumpumpe in Tätigkeit gesetzt^ um die duroh die Glocke 12 und die Platte 1t definierte Kammer zu evakuieren. Für die Zwecke der vorliegenden Erfindung kann der Arbeitsdruok innerhalb der GIooke oder Takuumkammer bis auf etwa 10 biß 10 mm Hg herabgesetzt werden« Torzugeweise kommt ein Druck zwischen etwa 10""* und 10 mm Hg zur Anwendung» wobei sich ein Druck von etwa 5 Mal 10*"' mm. Hg als besonders zweckmäßig erwiesen hat. · Wenn der Druok innerhalb der Vakuumkammer den angestrebten Wert erreiöht.hat, wird dem Tiegel 52 Strom zugeführt, um das darin befindliche Silberhalogenid zu schmelzen und es auf die erwünschte Verdampfungstemperatur zu bringen.placed and electrically heated independently, with a container «in specific halide and another container may contain another halide. Optionally, both containers can also contain the same halide. For the For most photographic purposes, the last vapor deposited is two-medium predominantly silver bromide. A stripe a conventional photographic carrier material, for example «Photobase» ^ paper, or an acetate or mylar film wound onto the roll 24, transversely, guided over the opening 18 and connected to the roller 23. The aperture 20 is set so » that it closes the opening 18. Then the Ölooke 12 is sealed against the plate 1t and the vacuum pump is put into action ^ around which the bell 12 and the Plate 1t to evacuate defined chamber. For the purposes of the present invention, the working pressure within the Glass or vacuum chamber to about 10 to 10 mm Hg «In some cases a pressure between about 10" "* and 10 mm Hg is applied» whereby a pressure of about 5 times 10 * "'mm. Hg has proven to be particularly useful. When the pressure within the vacuum chamber has reached the desired value, current is supplied to the crucible 52 in order to reduce the pressure inside to melt the silver halide and bring it to the desired evaporation temperature.

909808/0971909808/0971

Gemäß der Erfindung wird dies© Verdampfungstemperatur so ge- ' · wählt, daß sie oberhalb der Zersetzungstemperatur dee Halogenides ' liegt j und zwar vorzugsweise "beträchtlich oberhalb dieser Temperatur. Im Falle von Silberbromid sollte beispielsweise die Temperatur- des Sclunelabades in Siegel 32 beträchtlich oberhalb 700° 0 liegen, was die in der Literatur angegebene Zersetzungstemperatur. Ton Silberbromid ist« Der Bereich von etwa 725 bis 765° G oder noch höher wird bevorzugt, wobei das obere Ende dieses Bereiches wirksamer ist. Wenn eine au hohe !Temperatur zur Anwendung kommt, wird die Zersetsungageschwindigkeit oder das ' Zersetsungsverhältnia des Silberhalogenidea so groß, daß der Nutzeffekt des "Verfahrens "beeinträchtigt wird.According to the invention, this is the evaporation temperature chooses that it is above the decomposition temperature of the halides' j is preferably "considerably above this temperature. In the case of silver bromide, for example, the temperature of the Sclunelabad in seal 32 should be considerably above 700 ° 0, which is the decomposition temperature given in the literature. Clay silver bromide is «the range from about 725 to 765 ° G or even higher is preferred, with the top being this Area is more effective. If too high a temperature is used Is used, the decomposition speed or the ' Decomposition ratio of the silver halide so great that the Effectiveness of the "procedure" is impaired.

Wenn der Druck und die Temperatur, die angestrebten Werte er-» reicht haben und im wesentlichen stabil sind, d»h,auf plus/minue einige C konstant sind, wird der Schirm 20 geöffnet 9 so daS die aus dem Tiegel 32 austretenden Silbeshalogeniddämpfe auf. den in der Öffnung 18 "befindlichen Seil des Streifens 23 auftreffen, sich dort kondensieren und in mikrokristalliner form kristallisieren. *When the pressure and the temperature have reached the desired values and are essentially stable, that is to say they are constant to plus / minute a few C, the screen 20 is opened 9 so that the silver halide vapors emerging from the crucible 32 are absorbed . hit the rope of the strip 23 located in the opening 18 ″, condense there and crystallize in a microcrystalline form. *

Zusätzlich wird nun der Motor 3β betätigt, so daß die Holle 23 · angetrieben wird und der Streifen 29 über die öffnung 18 vorrückt. Die Zuführgeschwindigkeit dea Streifene kann dasu dienen,' die Dicke der ßilberhalogenidabsoheidung auf dem Streifen bei " einem gegebenen Satz von anderen Batriebsparametern zu steuern.In addition, the motor 3β is now activated, so that the hollow 23 · is driven and the strip 29 advances over the opening 18. The feed speed of the strip can be used the thickness of the silver halide absorption on the strip at " a given set of other operating parameters.

9098087097190980870971

-13- 1U78Q1-13- 1U78Q1

Für optimale fotografische Eigenschaften soll vorzugsweise der Silberhalogenidniederechlag auf dem Streifen 29 sehr dünn sein und im Bereich eines Bruchteils eines Mikrons liegen, vorzugsweise zwischen etwa 0,1 und etwa 0f5 Mikron, was von dem gerade verwendeten Träger und den angestrebten fotografischen Eigenschaften des Materials abhängt.For optimum photographic properties preferably the Silberhalogenidniederechlag on the strip 29 should be very thin and are in the range of a fraction of a micron, preferably between about 0.1 and about 0 f 5 microns, which of the currently used carrier and the desired photographic properties of the material depends.

Um einen im wesentlichen gleichförmigen Niederschlag an Silberhalogenid auf dem über die Öffnung 18 vorrückenden Bereich des Streifens 29 zu erhalten, wird bevorzugt, daß der Siegel 32 eine Länge besitzt, die zumindest näherungsweise der Breite dee Streifens 29 oder der entsprechenden Breitendinension der öffnung 18 entspricht. Ferner ist es offensichtlich, daß der Streifen 29 In ausreichender Entfernung vom Tiegel 32 angeordnet wird, so daß er sich nioht auf eine Temperatur erwärmt, die die Abscheidung des verdampften Silberhalogenidea verhindert. Pur die oben angegebenen Verdampfungstemperatures dea Silbarhalogenldes wurde gefunden, daß eine Entfernung des Tiegels 32 vom Streifen 29 In der öffnung 18 von etwa 8,7 cm geeignet ist. Unter diesen.Bedingungen ergab sich, daß der Streifen eine Temperatur von etwa 50° C annimmt. Biese physikalischen Parameter können offensichtlich variiert werden« Der Streifen kann im wesentlichen unabhängig von seinem Abstand vom Tiegel 32 teaperaturgeeteuert werden, und zwar durch künstliche und überwachte Kühlung der die öffnung 18 überdeckenden Q-egenplatte 19, an der der Streifen 29 bei ·einem Vorsohub anliegen kann.In order to obtain a substantially uniform deposit of silver halide on the region of the strip 29 advancing over the opening 18, it is preferred that the seal 32 have a length which at least approximately corresponds to the width of the strip 29 or the corresponding width dimension of the opening 18. It will also be apparent that the strip 29 is positioned at a sufficient distance from the crucible 32 so that it does not heat up to a temperature which prevents the deposition of the vaporized silver halide. For the evaporation temperature of the silver halide given above, it has been found that a distance of the crucible 32 from the strip 29 in the opening 18 of about 8.7 cm is suitable. Under these conditions it was found that the strip assumes a temperature of about 50 ° C. Piping physical parameters of the opening obviously be varied "The strip may be substantially teaperaturgeeteuert regardless of its distance from the crucible 32, through artificial and controlled cooling 18 covering Q-egenplatte 19 at which the strips 29 abut a Vorsohub at · can.

* ■"■".'■ -i* ■ "■". '■ -i

' '·.£1*101/0071 ' ' ·. £ 1 * 101/0071

H47801H47801

Wie oben foer©its gestgestellt,, warnt die bisherige einschlägige •!eclmilc vor einer Herstellung der aufgedampften, fotografischen SilberhalogeiriSschichten, verm, die Verdampfungetemperaturen obsrfearb der Zersetgungeteiaperatur des "betreffenden Silberhälogenidss liegen« fiaiis iß. Gegensatz hierzu zeigen die Ergebnisseder vorliegenden Erfindung an, daß sich vergleichbare fotografisch© Merkmale mit Sllberhalogenidsehichten.erzielen lassen, die dadurch hergestellt sinds daß das Silberhalogenid bei 5emperaturen aufgedampft wirdt die beträchtlich oberhalb der Zersetzungstemperp/feur des Silberhalogenides liegen, und zwar mit Bezug. eA^-ScMchteri, die "bei Temperaturen unterhalb der Zerßatsiiiigsteiapeiatur aufgedampft sind« Tatsächlich ließen sich bei diesen holiersn !Seaperaturen gemäß der Erfindung auch, höhere fotografische, iMpfindliohksiten eraisleii* Daneben kann' bei dieaen esr-höhtosn (Dompe:?Rtia.ren die· &esehwindigkei1t der Beschichtung oder die Abscheidungegesohwindigkelt der Silberhalogenidschicht bis etwa auf das 50-facha oder mehr im Vergleich mit der anhand der bisher bekannt gewordenen lehre eraiolbaren Geschwindigkeiten erhöht werden© ."-.-■Above foer © d put its ,, warns the previous relevant •! Eclmilc before producing the vapor-deposited, photographic SilberhalogeiriSschichten, are presumably that Verdampfungetemperaturen obsrfearb the Zersetgungeteiaperatur of "relevant Silberhälogenidss" fiaiis eat. Contrast, show the results of the present invention to that comparable photographically © characteristics with Sllberhalogenidsehichten.erzielen blank which are prepared by s that the silver halide is deposited at the 5emperaturen t considerably above the Zersetzungstemperp / feur of the silver halide are, with reference. eA ^ -ScMchteri that "at temperatures below "In fact, with these temperatures, according to the invention," higher photographic, sensitivities "can also be achieved of the silver halide layer can be increased to about 50 times or more in comparison with the speeds that can be achieved on the basis of the teaching that has become known up to now. "-.- ■

Dis nachfolgenden speziellen Beispiele dienen der· weiteren Er-The following special examples serve to further elucidate

3ie Proben des. in den mnteß. t&fe*llie?1s®2i. Eeiipielen beimtaten fotografia^ca Mßteriels wurden all· in d«r folgenden Weise hergestellt* Sin Streifen aue fctografisölitm Barytpapitr wird3 the samples of the. In the mnteß. t & fe * llie? 1s®2i. Eeiipielen imtaten fotografia ^ ca materials were all produced in the following way: Strips made of fiberglass made of barite paper

in den in der Zeichnung dargestellten Apparat in der oben beeohriebenen Welse eingebracht. Der Tiegel wird mit reinem Silberbromid "beschickt, beispielsweise Silberbromxd, wie es entsprechend dem Verfahren von Malinowski, beschrieben in Journal of Photographic Science, VoI 8, 1960, 36ite 69 bis 71, hergestellt wird· Hierauf wird die Glocke 12 mit der Vakuumplatte 11 .abgedichtet. Während etwa einer Stunde wird die Vakuumkammerin the apparatus shown in the drawing in the above beeohriebenen Catfish brought in. The crucible is charged with pure silver bromide, for example silver bromide, as appropriate the Malinowski method described in Journal of Photographic Science, VoI 8, 1960, 36ite 69 to 71 The bell 12 is then sealed with the vacuum plate 11. The vacuum chamber is closed for about an hour

—5 auf einen stationär stabilisierten Druck von etwa 5 x 10 · mm Eg evakuiert. Hierauf wird das Silberbromid auf eine stabile Temperatur aufgeheizt, deren Wert für jedes Beispiel in der naohstehenden !Tabelle angegeben ist. Anschließend wird die Blende geöffnet uixd $er Papierstreifen wird quer über die Öffnung 18 mit einer Geschwindigkeit vorgeschoben, die einen gleichförmigen Niedereohlag aus Silberbromid auf dem Papierträger von etwa 0,4 Mikron Dialee bewirkt. Diese Dicke erwies sich für das benutzte Trägermaterial ale fotografisch optimal. Wegen des in dem Papleretretffcn "befindlichen Restgaees, erreicht der Druck bei Beginn der Beschichtung und des Vorrüokens des Streifens einen Wert Tön etwa 5 x 10**^ mm Hg während der P.sschichtungsoperktioifli. Dit tio ge\^)nnenen fotografischen Erzeugnisse wurden in ähnlicher W*ii· duroh'ein optisches Bild beilohtet und entwickelt. Die durchschnittlichen fotografischen Eigenschaften dieser Prob« •ind in naohßtehender Tabelle angeführt ι-5 evacuated to a steady-state stabilized pressure of about 5 x 10 · mm Eg. The silver bromide is then heated to a stable temperature, the value of which is given for each example in the table below. The shutter is then opened and the paper strip is advanced across the opening 18 at a speed which causes a uniform deposition of silver bromide on the paper carrier of about 0.4 micron dial. This thickness turned out to be photographically optimal for the carrier material used. Because of the "present in the Papleretretffcn Restgaees, the pressure at the beginning of the coating and the strip Vorrüokens reached a value Tön about 5 x 10 ** ^ mm Hg during the P.sschichtungsoperktioifli. Dit tio ge \ ^) nnenen photographic products were in Similarly W * ii · beilohtet duroh'ein optical image and developed. The average photographic properties of these Prob "• ind listed in table naohßtehender ι

909808/0971909808/0971

Aaegehärtete. Durch- Durch-Aa-hardened. Through through

Verdampfungstemperaturen. schnittli- schnittlicheEvaporation temperatures. sectional

der Silberbromid.- ehe Empfind- Gamma^Emp-the silver bromide - before sensation- Gamma ^ Emp-

schmelze lichkeit findlichkeit)meltness sensitivity)

Beispielexample II. 630°630 ° 00 Beispielexample IIII 715°715 ° GG Beispielexample IIIIII 750°750 ° öö

O.O. o5o5 00 .8.8th 0.0. 0909 00 .6.6 0.0. 1515th 00 .5.5

Durch Vergleich des Beispieles I mit den Beispielen II und III läßt sich leicht feststellen, daß Verdampfungstemperaturen, des Silberbromides oberhalb der Zersetzungstemperatur von 700° 0 fotografische Proben lieferten, deren Empfindlichkeiten zwei-"bi'ft dreimal besser waren als die bei der niedrigen Verdampfungstemperatur von 63.0° 0 hergestellten Proben. By comparing Example I with Examples II and III it can be easily determined that evaporation temperatures, des Silver bromides above the decomposition temperature of 700 ° 0 produced photographic samples whose sensitivities were twice as high were three times better than the samples produced at the low evaporation temperature of 63.0 ° 0.

Der in den voranstehenden Beispielen benutzte Entwickler war ein modifizierter Mitchell-Entwioklejc· mit folgender Zusammensetzungt The developer used in the preceding examples was a modified Mitchell-Entwioklejc · with the following composition t

lösungsolution

1,25 g für fotografische Zwecke geeigneter Gelatine,1.25 g gelatin suitable for photographic purposes,

mit Wasser auf 250 ml verdünnt.Man läßt die Gelatine in 5® ml kalten Wassers quellen, füllt das angegebene Volumen mit kochendem Wasser auf, läßt erkalten und speiohert die Lösung in einem Kühlschrank.diluted with water to 250 ml. The gelatin is left swell in 5 ml of cold water, fill up the specified volume with boiling water, lets it cool down and stores the solution in one Refrigerator.

90StOI/O97190StOI / O971

U4780.1U4780.1

BtBt

78 g Natriumkarbonat-Anhydrid (oder 91,26 g Mono-78 g sodium carbonate anhydride (or 91.26 g mono-

hyärat)
• 2,0 g Kaliumbromid
hyärat)
• 2.0 g of potassium bromide

mit Wasser auf 1 1 aufgefüllt.made up to 1 1 with water.

Lösung QiSolution qi

0,50 g Elon oder Metol (N-Methy1-p-Aminophenol surface} 19,50 g Natriumsulfit (Anhydrid) 1,87 g HQ0.50 g Elon or Metol (N-Methy1-p-Aminophenol surface} 19.50 g sodium sulfite (anhydride) 1.87 g HQ

Man löst in Wasser in folgender Reihenfolge} Sulfit, Metol,IfQ. Hierauf wird mit Wasser auf 250 ml verdünnt.Dissolve in water in the following order} Sulphite, Metol, IfQ. It is then diluted to 250 ml with water.

Man stellt den Entwickler aus gleichen Volumina der lösungen A, B und 0 her und gibt 75 ml 1#-igee Natriumthiosulfat je 1,9 1 (1/2 g&l) Bntwlckler hinzu. It provides the solutions A, B and 0 and starts passing 75 ml of sodium thiosulfate per 1 # -igee 1.9 1 (1/2 g & l) Bntwlckler added the developer of equal volumes.

0O0ÖOS/O9710O0ÖOS / O971

Claims (1)

PatentansprücheClaims • Verfahren sur Aufbringung von Silberhalogenid im Vakuum auf eine Unterlage unter Auspumpen eines G-ehäuses, in dem ein Behälter für die Aufnahme eines Silberhalogenidvorrates und im Abstand von diesem Behälter ein Vorrat an Unterlagenmaterial angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Silberhalogenid aufgeheizt und. bei einer Temperatur gehalten wird, die oberhalb seiner Zersetaungstemperatur liegt, und daß das Unterlagenma-• Process on the application of silver halide in a vacuum a pad with evacuation of a G-ehäuses in which a container for holding a silver halide supply and a supply of supporting material at a distance from this container is arranged, characterized in that the silver halide is heated and. is held at a temperature above its decomposition temperature, and that the documentation terial dem verdampften .Silberhalogenid ausgesetzt wird, um darau-f eine mikrokristalline Sohioht an verdampftem Silberhalogenidmaterial is exposed to the evaporated silver halide in order to a microcrystalline concentration of evaporated silver halide 2 · Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet·, daß die Aussetzungsdauesr. des Unterlagenmaterials gegenüber dem verdampften Silberhalogenid nicht wesentIioh größer gewählt wird,-als es für die Abscheidung einer Schicht aus Silberhalogenid mit einer Dick© von etwa 0,5 Mikron erforderlich ist.2 · The method according to claim 1, characterized · that the Exposure duration of the document material versus the evaporated Silver halide is not chosen to be significantly larger than it for the deposition of a layer of silver halide with a thickness © of about 0.5 microns is required. 3. Verfahren nach Anspruch t oder 2', dadurch gekennzeichnet, daß als Silberhalogenid zumindest vorherrschend Silberbromid verwendet wird und daß die !!temperatur auf -einen Werf trt 700°.ö eingestellt wird«3. The method according to claim t or 2 ', characterized in that that silver bromide is at least predominantly used as the silver halide and that the temperature affects a throw 700 ° .ö is set « 909Ä0S/G971909Ä0S / G971 t 1t 1 4# Verfahren naoh Anspruch 3, daduroh gekennzeichnet, daß die !!temperatur ewisohen etwa 700 und 765° O gewählt wird.'4 # Method according to claim 3, characterized in that the !! temperature is always about 700 and 765 ° O selected. ' / · ■ ■ ■/ · ■ ■ ■ "5· Verfahren naoh Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, daß , die !Temperatur zwischen etwa 725' und 765° O gewählt wird."5 · method according to claim 3» characterized in that , the! temperature is chosen between about 725 'and 765 ° O. 6« Verfahren naoh einem der voranstehenden Ansprüche» dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse auf einen Druck kielner als etwa 10 mm Hg ausgepumpt wird und daß das Silberhalogenid bei Aufrecht erhaltung dieses Druckes erhitzt und im wesentlichen stabil bei einer Temperatur gehalten wird, die oberhalb eeiner Zersetzungstemperatur liegt»6 «Method according to one of the preceding claims» thereby characterized in that the housing is pumped to a pressure kielner than about 10 mm Hg and that the silver halide is heated while maintaining this pressure and is kept essentially stable at a temperature, which is above a decomposition temperature » 7· Verfahren naoh Anspruch 6, daduroh gekennzeichne-t, daß7 · Method according to claim 6, daduroh marked that ρ C ρ C der Druck zwischen etwa 10 und etwa 10 mm Hg gewählt wird,the pressure is chosen between about 10 and about 10 mm Hg, 8. Verfahren nach einem der voranstehenden Ansprüche, daduroh gekennzeichnet, daß als Behälter für das Silberhalogenid ein Schmelztiegel verwendet wird·8. The method according to any one of the preceding claims, daduroh characterized in that a crucible is used as the container for the silver halide 9· Verfahren naoh einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Vorrat an Unterlagenraaterial ein Streife»., verwendet wird und" daß dieser Streifen an der Öffnung des Behälters vorbeigeführt wird, um so aufeinanderfolgende Abschnitte des Streifens dem verdampften Silberhalogenid auszusetzen und das verdampfte Silberhalogenid auf dem Unterlagen- ■9 · Method according to one of the preceding claims, characterized in that a strip »., is used and "that this strip is fed past the opening of the container so as to create successive sections of the strip to expose the evaporated silver halide and the vaporized silver halide on the backing ■ 809808/0971809808/0971 -ZV--ZV- rnaterial r-ufsusamiaoln, sowie daß die Vorschubgescliwindigkeit des Streifens so gewählt wird, daß sich auf ihm eine mikrokristalline Schicht des Silberhalogenides einer angestrebten Dicke niederschlägt.rnaterial r-ufsusamiaoln, as well as that the feed rate of the strip is chosen so that there is a microcrystalline Layer of silver halide of a desired thickness is deposited. 10. Verfahren nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Unterlagenmaterial, während es dem verdampften Silberhalogenid aufgesetzt wird, ausgast.10. The method according to any one of the preceding claims, characterized characterized in that the base material, while it is being applied to the evaporated silver halide, outgasses. 9 0 9 8 0 8/0971 BAD 0RiQINAL 9 0 9 8 0 8/0971 BAD 0RiQINAL
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