DE1439062A1 - Halbleiterzelle mit einer gekapselten Halbleiteranordnung mit vier Schichten von abwechselnd gegensaetzlichem Leitfaehigkeitstyp und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Halbleiterzelle mit einer gekapselten Halbleiteranordnung mit vier Schichten von abwechselnd gegensaetzlichem Leitfaehigkeitstyp und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 23
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 240000007313 Tilia cordata Species 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 2
- 210000002105 tongue Anatomy 0.000 claims description 2
- 244000033714 Clidemia hirta Species 0.000 claims 1
- 235000014277 Clidemia hirta Nutrition 0.000 claims 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000251730 Chondrichthyes Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- KAPYVWKEUSXLKC-UHFFFAOYSA-N [Sb].[Au] Chemical compound [Sb].[Au] KAPYVWKEUSXLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021185 dessert Nutrition 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 230000035943 smell Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/33—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/01015—Phosphorus [P]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/01019—Potassium [K]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/01027—Cobalt [Co]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
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- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/01039—Yttrium [Y]
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- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01042—Molybdenum [Mo]
-
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/01051—Antimony [Sb]
-
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01074—Tungsten [W]
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- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
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- H01L2924/01079—Gold [Au]
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- H01L2924/01082—Lead [Pb]
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- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
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- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1301—Thyristor
- H01L2924/13034—Silicon Controlled Rectifier [SCR]
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- Y10T29/49171—Assembling electrical component directly to terminal or elongated conductor with encapsulating
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Description
Haibleiterzeile alt einer gekapselten Halbleiteranordnung
mit vier Schichten von abwechselnd gegensätzlichem Leitfähigkeit s typ und Verfahren zu ihrer Herstellung
Die Erfindung betrifft eine Halbleiterzelle mit einer in einem Gehäuse gasdicht gekapselten Halbleiteranordnung mit vier
Schichten von abwechselnd gegensätzlichem Leitfähigkeitstyp (npnp), deren Fläche groß ist im Verhältnis zu ih»r Dicke,
und von denen eine äußere Schicht mit einer ringförmig ausgebildeten Legierungselektrode versehen ist, in deren Bohrung
der AnBchlußkontakt für die benachbarte mittlere Schicht angebracht ist. Erfindungsgemäß 1st der Anschlußleiter der äußeren
Schicht als Hohlzylinder ausgebildet, in welchem ein vorzugsweise flexibler Hohlleiter befestigt ist. Ferner ist dieser
Hohlleiter mit einem öehäuseoberteil verbunden, welches
von einem Gehäuseunterteil elektrisch isoliert 1st. Der An-
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Unterlagen (Art 7 § l Abs. 2 Nr. l SaU: 3 des Änderungeaes. v. 4.9.1967}
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schlußkontakt für die benachbarte mittlere Schicht ist durch
den Hohlleiter und das Gehuuneoberteil isoliert hindurchgeführt.
Ein solcher Aufbau dor Ilalbleiterzeile bringt den Vorteil,
daß der Leitungsanschluß für die stromführende Hauptelektrode
nahezu beliebig groi'3 ausgeführt werden kann, und daß die vakuumdichte Durchführung der Leitungsanschlüsse für die stromführende
Hauotelektrode und für den Anschlußkontakt der benachbarten mittleren Schicht, welche in der folgenden Beschreibung
als Zündelektrode der Anordnung bezeichnet ist, in gleichen Arbeitsgängen durch ein verhältnismäßig einfaches Quetuohverfahren
hergestellt werden kann.
Ein Ausführungsbeispiel einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung
ist in der Zeichnung dargestellt. Fig. 1 zeigt ein Vierachicht-Halbleiterelement, das bei der Herstellung einer
Halbleiterzelle nach der Erfindung vorteilhaft verwendet werden kann. Der Aufbau einer solchen Halbleiterzelle ist aus
Figur 2 zu ersehen, Fig. 3 zeigt Einzelteile der<Figur 2 im
fertigen Zustand.
Bei dem Halbleiterelement nach Fig. 1 ist eine Halbleiterscheibe 2, die beispielsweise aus einkriatullinem n-leitenden
Silizium bestehen und eine Dicke vnn etwa 250 /U hüben kann,
durch Eindiffundieren eines p-^dotierenden Stoffes, beispiels-.veise
Aluminium, mit einer p-leitenden Oberflächenschicht· 3 von
beispielsweise etwa 60 /U Tiefe versehen. Die Schicht 3 kann
z.B. durch Erhitzen auf etwa 1*200° 0 über 40 Stunden in einem
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evakuierten .juarzgefäQ unter Anwesenheit von Aluminium hergeotellt
werden. In die so vorbereitete Halbleiterocheibe ist auf der oberen Flachseite ein ringförmiger Graben eingeätzt
oder eingefrast, dessen Tiefe an jeder Stelle größer ißt als
die Dicke der eindiffundierten p-leitenden Schicht 3» ao daß
von diener Schicht 3 eine kreicucheibenförmige Schicht 4 abgetrennt
iot. In die p-leitende Schicht 4 ist als stromführende
Hauptelektrode eine ringocheibenformige, ca. 0,5 # Antimon enthaltende
Goldfolie 5 einlegiert, welche bei der Abkühlung eine ihr vorgelagerte η-leitende Zone 6 und oomit einen pn-üborganff
geschaffen hat, der in der Figur gestrichelt dargeetollt ist, In
tinfr Bohrung in Zentrum der stromführenden Hauptelektrode 5
ist eine scheibenförmige Zündelektrode 71 .beispielsweise aus
einer ca. 0,05 ¥> Bor enthaltenden Goldfolie einlogiert, welche
die^ p-leitende Schicht 4 sperrfrei kontaktiert« Die* auf der gegenüberliegenden
Flachseite deo Halbleiterkörper befindliche p-leitende Schicht 3 ist durch Einlegieren einer Elektrode 10
mit gleicher oder ähnlicher Zusammensetzung wie die Zündelelektrode
7 ebenfalls 3perrfrei kontaktiert. Die aua ca. 30 bis 50
/U dicken Goldfolien hergestellten Elektroden 5, 7 Und 10 können
zweckmäUi/i; im gleichen Arbeitr.gnng bei ca. 70ü°Ceihlegiert
werden. Die zur Führung des Hauptstromes vorgesehenen Elektroden 5 und 10 kontaktieren die üuüeren Schichten 6 bzw» 3 der
Vierschicht-HalbieiteranorJnung mit der Schichtenfol^e npnp.
Nach Fig» 2 ist ein fertiges Halbleiterelement.11, das beiopielswoiee
den gleichen Aufbau wie das in Figur 1 dargestellt
β0~9»4Ί/035Ι :*in/i
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te Element haben kann und von dem der Einfachheit halber nur
die äußeren Konturen dargestellt Bind, bei ca. 400 bis 500° C
auf eine Molybdänplatte 12 aufgelötet, die zur besseren Haftung zweckmäßig galvanisch mit einer Gold- oder Silberauf la- ·
ge 13 versehen sein kann und auf einem Gehäuseboden 14 befestigt,
beispielsweise bei ca. 800° C aufgelötet ist. Der Gehäuseboden
14 bestellt aus einem gut wärmeleitenden Material, beispielsweise
Kupfer. Im gleichen Arbeitsgang iait der Befestigung dee Halbleiterkörpers auf der Molybdänplatte 12 oder in einem ßetrennten
Arbeitsgang ist auf der oberen Flachseite mit der Hauptelektrode 5 und der Zündelelektrode 7 je ein Anschlußleiter vereinigt.
Der Anschlußleiter der Hauptelektrode 5 wuiat die Form
einer Krone auf und besteht hur einem Hohlzylinder 15» dessert
Mantel am unteren Bride auf einer Länge von ca. 2 bis 4 mm bis'
aufweine Dicke von ca. 0,2 bis iO,4 mm abgedreht ist» Der verblidbene
Teil der dünnen Zylinderwand i3t mit mehreren, bei- spielsweioe
6, Schlitzen von beispielsweise 0,5 mm Breite versehen,
die In Achsrichtung des Zylinders verlaufen und vorteilhaft
gleichmäßig auf dem Umfang verteilt sein können. Die stehengebliebenen
Teile der Zylinderwand bilden infolgedessen nachgiebige
Zungen. Die Krone kann vorteilhaft aus einem elektrisch gut
leitenden Materini bestehen, efe-scen Schmelzpunkt wesentlich höher
ist air; die eutektische Temperatur des Elektrotlönraaterialö
und von dem beim Auf schmolzen <4«s Elektrodenmateriale nur ein
geringer Teil gelöst wird« In Verbindung mit einem Siliaium-Halb- ■
leiterkörper und einer goldhaltigen Legierungselektrode hat sich
beispielsweioe oilber, daü zur besseren'Benetzung rioch vergoldet
- 4 - Kin/J
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Bein kann, für die Herstellung der Krone als geeignet erwieaen.
In die obere Öffnung dos Hohlzylinders 15 ist ein Ende eines Hohlleiters 16 aus Kupfer eingesetzt, der aus einem
mittleren flexiblen Loiterteil und zwei massiven Enden besteht .* Der Hohlleiter 16 kann zweckmäßig aus einem hohl<,ylinctrischon
Leitergeflecht , vorzugsweise aus Kupfer, dadurch
hergeuteilt sein, daß in beide Leiterenden je ein Rohrstuck
16 α und 16 b mit einer lichten Weite von ca. 2 bis 4 mm aus
einem druckfenten Werkstoff, beispielsweise Stahl, eingeschoben
wird und die Enden anschließend durch äußeren mechanischen Druck zusammengepreßt werden. Die Rohre können" anschließend
aus den Leiterenden herausgezogen werden oder au uen Ünden bleiben.
Der an-die Zündelektrode angeschlossene Leiter 17, welcher vorteilhaft die Form eines Bandes in it einem geringen Querschnitt
haben und beispielsweise aus Silber bestehen kann, iat' durch den Hohlleiter 16 geführt und gegen diesen durch ein aufgeschobenes
Röhrchen 18 aus einem hochtemperuturbeötändigen, elastiochen
Kunststoff, beispielsweise Polytetrafluorethylen r'
(Teflon), isoliert. Durch gleichmäßigen äußeren Druck auf den Umfang der Krone 15 wird dan uwtere ISnde des Leiters 16 zusamraengenuetscht
und eine elektrisch gut leitende Verbindung ge- ·
schaffen. Üas obere linde des Leiters -16 ragt in ein rohrforrniges
Anschluss tuck 19, welches; zum äuüeren Anochlu.Q eines
Leiters für die Hauptelektrode 5 dient und aus einem elektrisch
gut !eirunden Material, beispie'J swuise Kupfer, besteht* Dag Anschlußstück
13 ist mit einer Gehausekappe 20 verbunden, beispielsweise
hart verlötet., welche mit einem zylindriiichen Isolierkörper
21, beispielsweise aus Keramik, sowie einem hohl-
909 8 43/0 353 BAD ORiGSNAL
-5 - ' K
.■■; 6 ::
zylindrischen und im oberen Teil verjüngten Verbindungsstück
22 und dem Boden 14 das -.Gehäuse der Hai blei tor zolle bildet*·
Das obere linde des Leiters 17 ii;t durch eine Durchführung 23
gezog-en und an deren oberen Ende mit diener gandicht verlötet,
.beispielsweise verachweiüt. Die Durchführung 23 ict in einem
hohlsylLndrischun Isolierkörper 24, der beispielsweise aus
Keramik bestehen kann, angeordnet und üuer -diesen und ein ringföru-igo»
Verbindungsstück 25 mit U-Profil mit dom Anschluß teil
* T-j verbunden. Die Gehäuseteile 19 bis 22, sowie die aus den
Rohren d'5 und 24 bestehende Durc;,führung und das Verbindungsstück
2lj können vorteilhaft vorgefertigt, beispielsweise in
einem Arbeitsgang miteinander haiH verlötet werden« Zu diesem
Zweck kann für die Gehäuseteile 20, 22,23 und 25'zweckmäßig
ein Material verwendet werden, das mit den Keramikkörper« 21
und 24 verhältnismäßig einfach verbunden werden kann* Diese
Eigenschaft weist beispielsweise 'eine im wesentlichen aus
54 1· Eiüon, .28" ffe Nickel und 18 H» Kobalt bestehende Legierung .
(Vacon). auf. Das fertige Gehäuueofcerteil ist in eine Kerbe des
Gehauoebo-de.no eingesetzt und das Zwischenstück 22* wit dem Gehäuoeboden
14 vorlötet, verochv/eiUt oder durch Kalt verformung
des Gohäucebodens, '/.»2» durch Umbördeiung der Gehäuseksmte,
gasdicht verbunden. Zu diosem Zw*tk k&nn das Zwischenstück22
an seinem unteren Lände vorteilhaft mit cine» iUind vergehen werden.
Durch/mechanischen Druck auf·den Umfang deä Anachluüteiles
iy wird ähnlich wie bei der Verbindung der Krone 15 mit dem Leiter
1.6 vorhaltninjiiaöig einfach eine mechanisch feste und "el. eic-■
'"Iriuch-gut Itütende Verbimiunt; jiitt dem Leiter 16 hergestellte
Da/.u kann zwecktnäöig eine Anordnung von -belspiülGWclce" 6" bis
10 St*M0elti verw««<iet werden, die
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9:Οδ84Ϊ/035§ _. ; BAD ORIGINAL
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auf den Umfang des zylindrischen Anschlui3stUcke3 in der Hohe
den massiven Leiterendes des Leitern 16 verteilt Bind.
Für die Evakuierung dea Gehäuses ist im Gehäuseboden 14 eine
Bohrung 26 vorgesehen. Ein Gewindebolzen 27 dient zur Befestigung
der Halblei terzeile auf einem Kühlblock.
Hei der Herstellung der Quetschverbindung zwischen dem Leiter
16 einerseits und den Anschlußteilen 15 und 19 andererseits kann der Anpreßdruck ohne weiteres so groß gewühlt werden,
daß der Anschlußleiter 17 der Zündelektrode 7 mit dem· ^
Isolierrohr 10 von den beiden Enden des Leiters 16 eingeschlossen
wird, wie in Fig. 3 veranschaulicht ist. Ein hoher Anpreßdruck von beispielsweise ca. einigen to/cm ist vorteilhaft,
damit ein elektrisch S1Ut luitender Kontakt erzielt
wird. Die Kraftrichtung des AnprelJdruckes ist durch Pfeile
gekennzeichnet. Der Anschluß!eiter 17 wird vorteilhaft etwas
gen taucht, so da'* er annähernd Mäanderform annimt.1t· Diese
Anordnung hat <icn Vorteil, das ooi Wärmedehnungen in Achsrichtung
dca Leiters 16 und bei Verformungen des Gehäuses keine Zugspannungen im Leiter 17 entstehen können und keine Kräf- %
te. an den 7frbin1ung.uit*.'l -en dos Loiters 17 mit der Zündelektrode
7 einerseits und der JXirchfCkhrun^ 23 μ#Α*γ*γμ·\\γβ,
treten können. "" ■ "
U ratentanapruchc
J Figuren
J Figuren
• · 1
- 7 - . Kin/J
809843/035t
BAD ORIGINAL
Claims (1)
- PLA 9/350/1007Pat en tan s prüche. Ilalbleiterzelle mit einer in einem Gehäuse gasdicht gekapselten Halbleiteranordnung mit vier Schichten von abwechselnd gegensätzlichem Leitfähigkeitstyp /npnp), deren Flüche groß ist im Verhältnis zu ihrer Dicke, und von denen eine äußere Schicht mit einer ringförmig ausgebiideten Legierungselektrode versehen ist, in deren Bohrung ein Anschlußkontakt für die benachbarte mittlere Schicht angebracht ist, dadur&h gekennzeichnet, daß als Anschluß-» leiter für die Legierungselektrode (5) ein Hohlzylinder (15) vorgesehen ist, in welchem ein Hohlleiter (16) befestigt ist, daü ferner dieeer Hohlleiter (16) mit einem Gehäuoeoberteil (20) verbunden ist, welches von eineta Gehäuseunturteil (22) elektrisch isoliert iüt, und daö ein am Anschluükontakt (7) der mittleren Schicht befeatigter Leiter (17) durch den Hohlleiter (16/ urin das GehäuBeoberteil (20) isoliert hindurchgeführt ist» -■ - . ■ ■ ." ■■■'.«■ ■■· ' ' "2. Halbleiterzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlzylinder-(-i!?)- an. seinem an der Legierungseiek-Irod* (5) bef.ee Ligter. Ende ^inc verringerte Wandstürke hat und durch achaparjallele iSchltitze in nachgiebige, Zungen üh-■'.■■■ ■ ..' ■*■■■■■ < terteilt ist. - v■ ιy* ttalbleiterzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlleiter (16) aus -einom flexiblen Mitteletück mit massiven Enden besteht« . · ·, Γ 909843/03St BADORiGiNAL- 8; - ' Kin/JJ1LA 9/350/1007!; U390624. Halbleiterzelle nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Bohrung des Hohlleiters (16) eine lichte Weite •zwischen 2 und 4 mm hat*5. Halbleiterzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Anschlußleiter (17) für die mittlere Schicht mittels eines Schlauches aus hochtenpernturbeständigem · elastischen Kunststoff gegen den Hohlleiter (16) isoliert ist.6. Halbleiterzelle nach Anbpruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Anschlußleiter (17) für die mittlere Schicht zentrisch zum Gehäuseoberteil und gegen diesen elektrisch isoliert ungeordnet ist«*7« Verfahren zur Herstellung einer llalbleiterzelle nach Anspruch I* dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlleiter aus einem hohizylindriochen Leitergeflecht,vorzugsweise aus Kupfer, dadurch hergcntellt wird, daii in beide Und on je -_.. ein Rohrstück auo einem ,idruckfesten Werkstoff eingeschoben wird und die Knden anschließend durch äußeren mechanischen Druck zusammenßepreüt!werden. .ö. Verfahren aur Herstßllung einer Halbleiterzelle nach Anspruch 1< dadurch gekehnaeichnet, daß die linden de3 Hohlleiters mit dem Hohlzylinder und dem Oehäuseoberteil in getrennten Arbeitsgängen dur 2h Kfiltverformung elektrisch gut leitend verbunden werden«^ Kin/JBAD ORIGINALLee rs ei te
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES0072265 | 1961-01-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1439062A1 true DE1439062A1 (de) | 1969-10-23 |
Family
ID=7503076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19611439062 Pending DE1439062A1 (de) | 1961-01-28 | 1961-01-28 | Halbleiterzelle mit einer gekapselten Halbleiteranordnung mit vier Schichten von abwechselnd gegensaetzlichem Leitfaehigkeitstyp und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3105926A (de) |
BE (1) | BE613151A (de) |
CH (1) | CH397876A (de) |
DE (1) | DE1439062A1 (de) |
GB (1) | GB939286A (de) |
SE (1) | SE312177B (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL135544C (de) * | 1960-09-20 | |||
CH397058A (de) * | 1962-01-10 | 1965-08-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Anordnung für das Anschliessen der Steuerelektrode bei einem steuerbaren Halbleiter-Gleichrichter |
CH393547A (de) * | 1962-05-03 | 1965-06-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Gehäuse für einen Halbleitergleichrichter |
DE1489791A1 (de) * | 1964-12-22 | 1969-06-12 | Ckd Praha Narodni Podnik | Halbleiterbauelement mit einer Flaechenhalbleiteranordnung zwischen durch Federdruck angepressten Elektrodenkontaktplatten |
US3387192A (en) * | 1965-05-19 | 1968-06-04 | Irc Inc | Four layer planar semiconductor switch and method of making the same |
US3382419A (en) * | 1966-05-12 | 1968-05-07 | Int Rectifier Corp | Large area wafer semiconductor device |
-
1961
- 1961-01-28 DE DE19611439062 patent/DE1439062A1/de active Pending
- 1961-12-19 CH CH1469461A patent/CH397876A/de unknown
-
1962
- 1962-01-22 SE SE66962A patent/SE312177B/xx unknown
- 1962-01-25 US US16875762 patent/US3105926A/en not_active Expired - Lifetime
- 1962-01-26 BE BE613151A patent/BE613151A/fr unknown
- 1962-01-29 GB GB334462A patent/GB939286A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3105926A (en) | 1963-10-01 |
CH397876A (de) | 1965-08-31 |
GB939286A (en) | 1963-10-09 |
SE312177B (de) | 1969-07-07 |
BE613151A (fr) | 1962-07-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 |