DE1268765B - Fotopolymerisierbarer Lack - Google Patents

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND

DEUTSCHES

PATENTAMT

AUSLEGESCHRIFT

Int. Cl.:

Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:

C09d

Deutsche Kl.: 22h-3

21. Dezember 1965

22. Mai 1968

Die Erfindung betrifft einen fotopolymerisierbaren Lack mit großer Beständigkeit gegen Ätz- und Lösungsmittel, wie Säuren, Laugen und organische Flüssigkeiten.

Fotopolymerisierbare Lacke, wie sie insbesondere bei der Herstellung von Druckplatten, Halbleiterbauelementen, gedruckten Schaltungen, Ätzmasken und Schutzschichten Anwendung finden, bestehen üblicherweise aus einer lichtempfindlichen Verbindung, die äthylenische Doppelbindungen enthält, einem Sensibilisator sowie gegebenenfalls einem Stabilisator gegen thermische Einflüsse und einem Bindemittel oder Weichmacher. Als lichtempfindliche Verbindungen werden vorwiegend Ester der Acrylsäure mit PoIyäthylenglykolen, Ester oder Acetale des Polyvinylalkohols, die in den Säure- bzw. Acetalgruppen äthylenische Doppelbindungen enthalten, sowie monomere ungesättigte Kohlenwasserstoffe verwendet. Bei der Verwendung derartiger Lacke stellt sich jedoch heraus, daß die Verbindungen mit Ester- oder Acetalgruppen hohen Ansprüchen in bezug auf die Ätzbeständigkeit nicht genügen und daß Schichten auf der Basis von monomeren ungesättigten Kohlenwasserstoffen meistens nicht genügend widerstandsfähig gegen mechanische Beanspruchungen sind.

Zweck der Erfindung ist, einen fotopolymerisierbaren Lack zu finden, der bei gleicher Lichtempfindlichkeit wie die bekannten fotopolymerisierbaren Verbindungen ein hohes Auflösevermögen und eine große Beständigkeit gegen Ätz- und Lösungsmittel aufweist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Verbindungen mit sowohl fotopolymerisierbaren als auch gegen mechanische und chemische Einflüsse beständigen Gruppierungen aufzufinden.

Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß der fotopolymerisierbare Lack im wesentlichen Polyvinylalkohol enthält, der an mindestens 20 % seiner Hydroxylgruppen äthylenisch ungesättigte Äthergruppen besitzt und dessen restliche Hydroxylgruppen frei und/oder mit gesättigten oder ungesättigten Alkylgruppen verestert und/oder acetalisiert sind.

Die gemäß der Erfindung verwendeten Verbindungen werden in organischen Lösungsmitteln gelöst und als Lack aufgetragen. Für diese Lösungen werden keine Stabilisatoren benötigt. Die so erhaltenen Lackschichten besitzen eine hohe Lichtempfindlichkeit und großes Auflösungsvermögen. Sie sind in der üblichen Weise durch Farbstoffe sensibilisierbar. Den bisher bekannten fotopolymerisierbaren Verbindungen gegenüber sind sie in ihrer Ätzbeständigkeit, insbesondere gegen Fluorverbindungen, überlegen. Die Lackschichten können in bekannter Weise thermisch gehärtet werden.

Fotopolymerisierbarer Lack

Anmelder:

VEB Filmfabrik Wolfen,
Wolfen (Kr. Bitterfeld)

Als Erfinder benannt:

Dipl.-Chem. Dr. Herward Pietsch, Berlin;

Dipl.-Chem. Thomas Stolle, Berlin-Köpenick --

Die ungesättigten Äther des Polyvinylalkohol mit mindestens 20% ungesättigten Äthergruppen können nach bekannten Verfahren z. B. durch Copolymerisation entsprechender Monomerer oder durch Verätherung von Polyvinylalkohol in flüssigem Ammoniak mit metallischem Natrium und Alkenyl- oder Aralkenylhalogeniden sowie gegebenenfalls nachfolgender Veresterung und/oder Acetalisierung hergestellt werden.

Beispiel 1

Polyvinylallyläther mit etwa 30 % Allylgruppen wird durch Verätherung von Polyvinylalkohol mit einem Molekulargewicht von 35000 bis 40000 in flüssigem Ammoniak hergestellt. Eine etwa 3%ige Lösung dieses Polyvinylallyläthers in Eisessig wird auf eine Glasplatte aufgetragen. Nach dem Trocknen wird die Platte hinter einer Metallmaske belichtet (Quecksilber-Hochdrucklampe, Modell HBO 200, Abstand 20 cm, 10 Minuten) und 3 bis 5 Minuten mit Eisessig entwickelt. Diese Platte ist bereits ohne Härtung etwa 5 Minuten stabil gegen 33°/oige wäßrige Ammonfluoridlösung. Nach einer thermischen Härtung von 45 Minuten bei 18O⁰C erhält man eine Stabilität gegen 33%ige wäßrige Ammonfluoridlösung von mehr als 15 Minuten. Gegen konzentrierte Salz- oder Salpetersäure ist die Platte mehrere Stunden beständig.

Beispiel 2

100 Gewichtsteile Polyvinylallyläther aus Polyvinylalkohol mit einem Molekulargewicht von 20000 bis 25000, hergestellt wie im Beispiel 1, wird als 2°/_oige

809 550/459

äthanolische Lösung unter Zusatz von 5 Gewichtsteilen Michlers Keton auf eine Glasplatte aufgebracht. Die Schicht ist bereits nach einer Belichtungszeit von 1 Minute unter sonst gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 gut entwickelbar.

Beispiel 3

Von Polyvinylcinnamyläther mittleren Polymerisationsgrades wird eine 3%ige Lösung in Eisessig hergestellt, die auf eine oberflächlich oxydierte Siliziumplatte aufgetragen wird. Die Platte wird getrocknet und hinter einer Metallmaske 7 Minuten lang belichtet. Danach wird die Platte 5 Minuten in Eisessig entwickelt und thermisch gehärtet. Die so erhaltene Schicht ist mindestens 35 Minuten beständig gegen 33%ige wäßrige Ammonfluoridlösung.

Claims (1)

1. Patentanspruch:

   Fotopolymerisierbarer Lack auf der Grundlage einer Lösung von äthylenisch ungesättigte Gruppen enthaltenden Polyvinylalkoholverbindungen, dadurch gekennzeichnet, daß er im wesentlichen Polyvinylalkohol enthält, der an mindestens 20%.. seiner Hydroxylgruppen äthylenisch ungesättigte Äthergruppen besitzt und dessen restliche Hydroxylgruppen frei und/oder mit gesättigten oder ungesättigten Alkylgruppen verestert und/ oder acetalisiert sind.

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