DE1207509B - Gesteuertes Halbleiterstromtor mit mehreren Zonen - Google Patents

Gesteuertes Halbleiterstromtor mit mehreren Zonen

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DE1207509B
DE1207509B DES79265A DES0079265A DE1207509B DE 1207509 B DE1207509 B DE 1207509B DE S79265 A DES79265 A DE S79265A DE S0079265 A DES0079265 A DE S0079265A DE 1207509 B DE1207509 B DE 1207509B
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Dipl-Phys Goetz Von Bernuth
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Description

  • Gesteuertes Halbleiterstromtor mit mehreren Zonen Die Erfindung bezieht sich auf Verbesserungen an und in Verbindung mit einem gesteuerten Halbleiterstromtor mit mehreren aufeinanderfolgenden Zonen abwechselnd entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps im Halbleiterkörper.
  • Es sind Halbleiterbauelemente mit einem vierschichtigen Systemaufbau vom pnpn- oder npnp-Schichtenaufbau an einem Halbleiterkörper bekannt, so daß also zwei Außenbereiche und zwei Zwischenbereiche vorhanden sind. Beim betriebsmäßigen Einsatz wird eine solche Anordnung im Fall ihrer Verwendung nach Art eines Halbleiterstromtores mit den Außenbereichen an zwei Hauptleitungen für einen Stromdurchgang angeschlossen, und an einen der beiden Zwischenbereiche wird eine Steuerelektrode angeschlossen. Wird an die Steuerelektrode eine entsprechende Spannung angelegt, so fließt auf diese Weise über diese Steuerelektrode und den Zwischenbereich, an den sie angeschlossen ist, sowie den ihr als Außenelektrode benachbarten Außenbereich ein entsprechender Strom, wodurch der zwischen den beiden Zwischenbereichen vorhandene, bis daher in Sperrichtung beanspruchte pn-Übergang durchlässig gemacht wird und somit ein Stromdurchgang über die beiden Außenbereiche durch den Halbleiterkörper hindurch freigegeben wird.
  • Eine solche Anordnung kann also nach Art eines Stromtores gesteuert werden, wie es an sich mit einer Gas- bzw. Dampfentladungsstrecke bekanntgeworden ist, bei welchem z. B. eine glühende Kathode und ein entsprechendes Steuergitter sowie eine Anode vorhanden sind, so daß beim Anlegen der Steuerelektrode an eine entsprechende Zündspannung die Gasentladungsstrecke derart durchlässig wird, daß über die Anoden-Kathoden-Strecke ein Strom zur Entstehung gelangen kann. Hat nun ein solches Halbleiterstromtor, wie angeführt, einen Systemaufbau nach Art eines npnp- oder pnpn-Schichtensystems, so besitzt es nur einen für den Stromdurchgang in einer Richtung steuerbaren pn-Übergang, nämlich denjenigen zwischen den beiden Zwischenbereichen entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps, obwohl es an sich auch zur reinen Sperrung des Stromdurchgangs in der anderen Richtung benutzt werden kann wegen des pn-übergangs zwischen dem einen Außenbereich und demjenigen Zwischenbereich, an welchem keine Steuerelektrode liegt. Es braucht daher dann für die Sperrung in der nicht steuerbaren Stromrichtung kein besonderes Hilfsventil in Reihe mit dem Halbleiterstromtor benutzt zu werden.
  • In vielen Fällen besteht aber auch ein Bedarf, einen Strom bzw. eine Spannung nach Wahl in jeder der beiden entgegengesetzten Richtungen steuern zu können, der auch ein Wechselstrom sein kann. In einem solchen Fall würde dann die Notwendigkeit bestehen, zwei solche Halbleiterbauelemente vom pnpn- oder npnp-Schichtenaufbau in Antiparallelschaltung zu benutzen, damit eine wahlweise Steuerung für den Durchlaß der einen Stromrichtung und der anderen Stromrichtung bzw. der jeweiligen entsprechenden Halbwelle des Wechselstromes möglich ist.
  • Diese Aufgabe läßt sich erfindungsgemäß lösen, indem an einem gesteuerten Halbleiterstromtor mit mehreren aufeinanderfolgenden Zonen abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps im Halbleiterkörper erfindungsgemäß für eine Steuerbarkeit in beiden Stromrichtungen der Halbleiterkörper fünf Zonen enthält, daß die mittlere Zone schwach dotiert ist und die angrenzenden inneren Zonen durch Diffusion ebenso schwach dotiert sind, daß die Außenzonen stärker dotiert sind, so daß die beiden inneren pn-übergänge wesentlich höher sperrend als die beiden äußeren pn-übergänge sind, und daß an jeden äußeren pn-übergang je eine Steuerspannungsquelle angeschlossen ist, so daß der durch die an den Außenzonen liegende Betriebsspannung in Sperrrichtung beanspruchte hochsperrende innere pnübergang auf Durchlaß gesteuert wird und dabei auch der benachbarte äußere, niedrig sperrende pn-übergang in Sperrichtung im Zenerbereich durchlässig wird.
  • Ein solches Halbleiterbauelement hat also dann beispielsweise den Aufbau mit einer Zonenfolge npnpn oder pnpnp. Es ist zu erkennen, daß ein solcher Halbleiterkörper mit fünf solchen aufeinanderfolgenden Zonen nunmehr ein solches symmetrisches System ist, welches dadurch, daß ent- -@ eder der entgegengesetzt dotierte Zwischenbereich, der dem einen Außenbereich benachbart liegt, an eine Steuerspannung gelegt wird, oder derjenige Zwischenbereich, der dem Außenbereich an dem -.=ii:'eren Ende des Schichtensystems benachbart liegt, an ic eine entsprechende Steuerspannung gelegt wird, für jede beliebige entsprechende einzelne der beiden entgegengesetzten Stromrichtungen oder für beide Stromrichtungen zwischen seinen Außenelektroden auf Stromdurchlaß gesteuert werden kann.
  • Was die beiden entgegengesetzt dotierten Zonen an dem einen Ende des Halbleiterkörpers anbetrifft, die jeweils nicht benutzt werden, um den Halbleiterkörper auf Durchlaß zu steuern, so wird in Verbindung mit der vorliegenden Erfindung von der Erkenntnis Gebrauch gemacht, daß sich diese, abgesehen von ihrer Funktion, in einem Steuerkreis zu wirken, auch derart bemessen lassen, daß sie beide gewissermaßen in Sperrichtung nach Art einer Zenerdiode benutzt werden können, d. h. also eines Diodensystems, welches mit Überschreiten der Durchbruchsspannung in der Sperrichtung bzw. der Zenerspannung dann bis zu relativ hohen Stromwerten tragfähig ist, wobei der an dieser Diodenstrecke entstehende Spannungsabfall praktisch konstant bleibt. Dieses Diodensystem läßt sich in den meisten Fällen ohne weiteres so bemessen, daß der in der Sperrichtung an ihm zu überwindende Schwellwert, um das System auf den flachen Teil der Zenerkennlinie zu führen, nur einen solchen Wert hat, daß dadurch das für die Schaltung des Stromkreises benutzte Halbleiterstromtor den Betriebsbedingungen -genügt, welche in dem betreffenden Verbraucherstromkreis zu beherrschen sind.
  • Es war ein Flächentransistor mit fünf Elektroden für Verstärkerzwecke bekannt, dessen zweite und vierte Schicht als Basisschichten dienen und wobei die eine als Hauptbasisschicht dienende Schicht so dünn bemessen ist, daß sie für das elektrische Feld zwischen den angrenzenden Schichten eine hohe Durchlässigkeit besitzt, alle np-Verbindungen in Sperrichtung betrieben sind und der Arbeitspunkt in der Emitterschaltung so gewählt ist, daß die Steuerung nur im Sperrbereich der Hauptbasis-Emitter-Strecke erfolgt sowie sich ein hoher Eingangswiderstand ergibt.
  • Hierbei hat es sich nicht um eine Halbleiterstromtoranordnung gehandelt.
  • Bekannt war in einer Verstärkerschaltung für elektrische Signalschwingungen, die dem Eingangskreis eines Grenzschichttransistors zugeführt werden, der mit einem zweiten Transistor gleichen Leitfähigkeitstyps derart gekoppelt ist, daß in dessen Ausgangskreis verstärkte Signalschwingungen auftreten, die unmittelbare schaltungsmäßige Verbindung der Kollektorelektrode des vorzugsweise in Emitterschaltung arbeitenden ersten Transistors mit der Emitterelektrode des zweiten Transistors und daß die Basiselektrode des zweiten Transistors wenigstens in bezug auf die in seinem Ausgangskreis fließenden Wechselstromfrequenzen auf konstantem Potential liegt, so daß die Anordnung auch die Grenzfrequenz des ersten Transistors übersteigende Frequenzen verstärkt und gegebenenfalls diese beiden Transistoren zu einem einzigen Transistor mit wenigstens fünf Zonen von wechselweise entgegengesetztem elektrischem Leitungstyp unter Wegfall der Kollektorelektrode des ersten und der Emitterelektrode des zweiten Transistors zu vereinigen sowie für den Endteil eines solchen Transistors einen stromverstärkenden Vierzonenteil wie bei einem Hakenkollektor zu verwenden.
  • Hierbei handelte es sich eindeutig ebenfalls nur um Verstärkerschaltungen.
  • Bei Schaltungen zur gegenseitigen Modulation zweier von zwei Spannungsquellen erzeugter Signale mit Hilfe eines Transistors und Einschleusung der zwei Signale in einen zwischen der Emitterelektrode und der Basiselektrode eingeschalteten Stromkreis war zur Vermeidung der Entstehung einer Rückkopplung zwischen den beiden Signalspannungsquellen die Verwendung eines mindestens drei Eingangselektroden und eine Ausgangselektrode aufweisenden Transistors bekannt, wobei die eine Signalspannungsquelle wenigstens in den Stromkreis einer der Eingangselektroden eingeschaltet war, wohingegen die andere Signalspannungsquelle mit entgegengesetzter Phasenlage an zwei Eingangselektroden angeschlossen war mit einer derartigen Bezugsamplitude, daß das von der zuletzt erwähnten Signalspannungsquelle herrührende und in der zuerst erwähnten Signalspannungsquelle zirkulierende Signal praktisch Null wurde.
  • Bei einer dieser Lösungen war die Benutzung eines Halbleiterkörpers mit fünf aufeinanderfolgenden Zonen abwechselnd entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps bekannt, in welchem dessen p-leitende Masse durch zwei dünne Schichten vom n-Leitungstyp unterbrochen war und das Ganze derart aufgebaut war, daß die Dicke der n-Schichten wieder kleiner als die kennzeichnende Diffusionslänge der in diesen n-Schichten befindlichen Minoritätsladungsträger war. Eines der Signale, welches z. B. von einer Empfangsantenne übernommen worden war, wurde an die Emitterelektrode angelegt, die mit einer p-Zone des Halbleiterkörpers verbunden war, wohingegen das andere Signal, z. B. eine lokal erzeugte Schwingung, mit entgegengesetzter Phasenlage an diese Emitterelektrode und entsprechend an die zweite n-Zone bzw. die auf die Emitterelektrode folgende dritte Zone, und zwar mit einer derart abweichenden Amplitude angelegt wurde, daß kein Strom der zweiten Signalspannungsquelle den Stromkreis der ersten Spannungsquelle durchlief und somit jede Rückkopplung der zweiten Signalspannungsquelle auf die erste Spannungsquelle vermieden wurde.
  • Hierbei handelt es sich also um eine Anordnung mit einer Überlagerungsschaltung zur Lieferung einer Frequenz an den Ausgangsklemmen gleich der Differenz der Signalfrequenzen der beiden Spannungsquellen.
  • Bei Einrichtungen zur Übertragung und Steuerung elektrischer Signale, wie zur Verstärkung, Schwingungserzeugung, Modulation und Mischung oder Frequenztransposition, waren bereits halbleitende Körper mit fünf aufeinanderfolgenden Zonen abwechselnd entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps benutzt worden, wobei die beiden je eine der zu mischenden Schwingungen erzeugenden Schaltungen, welche in Reihe einen Wechselstromgenerator, ein C-Glied, ein L-Glied und eine Gleichspannungsquelle enthalten, als Stromschleife mit zwei Zweigen z. B. einerseits zwischen ihrer Wechselspannungsquelle und der Gleichspannungsquelle an den die eine n-leitende Außenzone bildenden Emitterbereich und an die von diesem Bereich ausgehende eine der beiden Ausgangsleitungen sowie andererseits zwischen dem C-Glied und dem L-Glied an eine dieser Emitterzone nachfolgende p-leitende Zone angeschlossen sind. Die die zweite Schwingung erzeugende Schaltung war dabei gleichartig der ersten einerseits an die erwähnte Ausgangsleitung und andererseits an eine dem Emitterbereich nachfolgende dritte, und zwar p-leitende Zone angeschlossen. Zwischen den beiden Ausgangsleitungen, die also, wie erwähnt, einerseits mit dem Emitter und andererseits mit dem Kollektor des Halbleitersystems verbunden waren, enthielt die Schaltung noch eine Reihenschaltung aus einem L-Glied und einer Gleichspannungsquelle. Die Gleichspannungsquelle war dabei derart gepolt, daß sie mit ihrem negativen Pol der Emitterelektrode und mit ihrem positiven Pol der Kollektorelektrode des Halbleitersystems zugewandt eingeschaltet war.
  • Es handelt sich also eindeutig bei dieser Lösung um eine Mischungs- bzw. Überlagerungsschaltung. Es waren asymmetrische und auch symmetrische negative Widerstandsschalter mit Halbleiterkörpern aus Silizium und vier oder fünf zwischen den beiden Anschlußklemmen vorhandenen Bereichen abwechselnd entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps bekannt. An diesen Schaltern war jeweils die Emitterelektrode durch die Anschlußelektrode kurzgeschlossen, indem an der entsprechenden Endfläche des Halbleiteraufbaues einerseits die Endfläche des einen Schenkels des L-förmig gestalteten einen Bereichs sowie gleichzeitig die Endfläche des zwischen die Innenseiten der L-Form eingelagerten Bereichs entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps heraustraten und auf die Flächen dieser beiden Bereiche die gemeinsame Anschlußelektrode aufgebracht war. Bei einer Ausführung eines solchen Schalters mit fünf Zonen abwechselnd entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps wies der Halbleiterkörper also vier pn-Übergänge auf, und an jeder der Endflächen des Halbleiterkörpers wurde durch die aufgebrachte Anschlußelektrode der Emitter-pn-Übergang kurzgeschlossen, der in der angegebenen Weise mit einer Randzone zusammen mit den ihn bildenden Bereichen an die jeweilige Endfläche des Halbleiterkörpers heraustrat.
  • Bei diesen Systemen kann der eine pn-Übergang, der in Sperrichtung vorgespannt ist, jedoch durch den metallischen Kontakt kurzgeschlossen ist, die Arbeitsweise der Halbleiteranordnung nicht beeinflussen, so daß bei einer Steigerung der an der Halbleiteranordnung anliegenden Spannung nur ein kleiner Sättigungsstrom fließt. Wenn jedoch an dem pn-Übergang zwischen der Außenseite des zweiten Schenkels des L-förmigen Bereichs und dem diesem nachfolgenden Bereich entgegengesetzten elektrischen Leitungtyps die Spannung sich der Lawinendurchbruchsspannung dieses pn-Übergangs nähert, so wird der an dem L-Bereich ankommende Löcherstrom an diesem Übergang vervielfacht, und der Basisstrom, welcher parallel zum Emitterübergang fließt, steigt rasch an. Der resultierende Spannungsabfall entlang diesem Bereich spannt den pn-Übergang zwischen den unter der Anschlußelektrode heraustretenden Bereichen in der Weise vor, daß die größte Vorspannung zwischen dem Ende des innerhalb des Halbleiterkörpers liegenden L-Schenkels und dem darüberliegenden bzw. gegenüber der Anschlußelektrode vorgelagerten Bereich entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps auftritt, das also am weitesten von dem kurzgeschlossenen pn-Übergang entfernt ist. Bei einem Gesamtstrom entsprechend dem Sättigungsstrom beginnt dann der genannte pn-Übergang stark zu emittieren, und die tatsächliche Emitterwirksamkeit steigt rasch an, und wenn das bei einem solchen Stromniveau stattfindet, daß die o.,-Summe niedriger Spannung größer als 1 ist, so schaltet die Vorrichtung direkt auf den Zustand niedriger Spannung. Dieser Übergang geht sehr abrupt vor sich, weil, wenn die Spannung an dem Übergang zwischen der eingelagerten L-Schenkelform und dem nachfolgenden Bereich entgegengesetzten elektrischen Leitungstyps absinkt, der Strom, welcher ursprünglich über die gesamte Fläche verteilt war, sich nach dem Emitterrand zu verschiebt und die Stromdichte sehr hoch wird.
  • Hierbei handelt es sich also nicht um eine Anordnung im Sinne eines Halbleiterstromtores, dessen Steuerung dadurch erfolgt, daß an einen Außenbereich eine Signal- bzw. Steuerspannungsquelle angeschlossen wird, um mittels dieser den Halbleiterkörper zwischen seinen Hauptelektroden auf Durchlässigkeit zu steuern, sondern nur um ein Schaltersystem mit zwei Anschlußklemmen.
  • Zur näheren Erläuterung der Erfindung an Hand eines Ausführungsbeispiels wird zunächst auf die F i g. 1 der Zeichnung Bezug genommen. In dieser ist in schematischer Darstellung ein Halbleiterkörper A, z. B. aus Silizium, gezeigt, in welchem fünf Zonen 1 bis 5 aufeinanderfolgen und jeweils zwei Zonen von zueinander entgegengesetztem elektrischem Leitungstyp einander benachbart liegen: Bei der Herstellung dieses Halbleiterkörpers kann z. B. vom Silizium-Halbleiterkörper schwacher n-Dotierung ausgegangen werden, an welchem eine Mantelzone schwacher p-Dotierung durch Eindiffusion eines Störstellenmaterials erzeugt wird. In dieser Zone werden dann die Zonen starker Dotierung für die Hauptelektroden mit entgegengesetztem elektrischem Leitungstyp zur Bildung von pn-Übergängen und die Zone für die Steuerelektroden mit gleichem elektrischem Leitungstyp zur Bildung eines ohmschen Übergangs einlegiert. Der Übersichtlichkeit halber ist unmittelbar in jeder dieser Zonen 1 bis 5 auch der elektrische Leitungstyp eingetragen, der durch den Buchstaben n (Überschußleitung) bzw. den Buchstaben p (Mangelleitung) gekennzeichnet ist. An den linken Außenbereich 1 ist eine Elektrode 6 mit einem Anschlußleiter 7 vorgesehen. An dem anderen Außenbereich 5 ist eine Elektrode mit einem Anschlußleiter 9 vorgesehen. Der Zwischenbereich 2 ist mit einer Steuerelektrode 10, der Zwischenbereich 4 mit einer Steuerelektrode 11 versehen. An die Außenelektrode 6 und die Steuerelektrode 10 ist eine Gleichspannungsquelle 18 angeschlossen. An den Außenbereich 8 und die Steuerelektrode 11 ist eine Gleichspannungsquelle 19 angeschlossen. Die Anordnung soll benutzt werden, um mittels des Halbleiterstromtores A die Speisung eines Verbrauchers 15 von einer Spannungsquelle 14 zu steuern. In dem Stromlauf von der linken Elektrode 6 über die Leitung 7, die Spannungsquelle 14 und die Last 15 zur Elektrode 8 des Halbleiterelementes A sind außerdem noch, zueinander parallel geschaltet, ein Schalter 16 und ein Regelwiderstand 17 vorgesehen.
  • Wird unterstellt, daß der Stromlauf von der Spannungsquelle 14 durch das im Sperrzustand befindliehe Halbleiterstromtor A unterbrochen ist, und an der linken Klemme der Spannungsquelle 14 herrscht positive Polarität, wie es durch das eingetragene (+)-Zeichen gekennzeichnet ist, so ist der in Sperrrichtung beanspruchte pn-Übergang, welcher die Unterbrechung des Stromkreises aufrechterhält, derjenige, der zwischen den beiden Zwischenbereichen 3 und 4 gebildet ist. Wird nun die Spannungsquelle 19 so erregt, daß sie einen entsprechenden Steuerstrom liefert, der über den pn-übergang zwischen dem Zwischenbereich 4 und dem Außenbereich 5 fließt, so hat dieser Steuerstrom zur Folge, daß der genannte pn-übergang zwischen den beiden Zwischenbereichen 3 und 4 auf Durchlaß gesteuert wird. Damit der Stromfluß von 6 nach 8 über den Halbleiterkörper zur Entstehung gelangt, ist es jedoch noch erforderlich, daß der ebenfalls in Sperrichtung beanspruchte pn-Übergang zwischen dem Außenbereich 1 und dem Zwischenbereich 2 durchlässig wird, was selbsttätig dadurch erfolgt, daß die Durchbruchsspannung des pn-übergangs 1, 2 in Sperrichtung so bemessen ist, daß sie von der zwischen 7 und 8 liegenden Spannung leicht in gleicher Weise überwunden werden kann, als wenn die beiden Bereiche 1 und 2 zusammen eine Halbleiteranordnung nach Art einer Zenerdiode bilden würden.
  • Bei einer Untersuchung wurde z. B. ein Silizium-Halbleiterkörper benutzt, an welchem die Durchbruchsspannung der pn-Übergänge zwischen dem jeweiligen n-leitenden Außenbereich und dem nachfolgenden p-Bereich einen Wert von etwa 10 Volt aufwies, wobei die p-Dotierung durch Eindiffusium von Aluminium und die beiden anschließenden n-Dotierungen mittels einer Legierung aus Gold-Antimon vorgenommen wurden, wie an Hand der F i g. 2 und 3 noch näher erläutert werden wird.
  • Ist gemäß dieser Schilderung das Halbleiterstromtor zwischen seinen Außenelektroden 6 und 8 nunmehr stromdurchlässig geworden, so daß die Last 15 in entsprechender Weise entweder über den geschlossenen Schalter 16 oder über den Reihenwiderstand 17 gespeist wird, so entsteht als nächste Aufgabe, zu einem geeigneten Zeitpunkt den Stromlauf über 15 wieder mittels des Stromtores unterbrechen zu können. Wird zunächst unterstellt, daß die Spannungsquelle 14 eine Gleichspannungsquelle wäre, so ist die Überführung des Halbleiterstrommotores A in seinen Sperrzustand dadurch möglich, daß der Arbeitsstrom zwischen den Elektroden 6 und 8 bis unter den Wert des sogenannten Abreißstromes des Halbleiterkörpers herabgesetzt wird, wonach dann selbsttätig das Halbleiterstromtor A in den Sperrzustand übergeht. Es ist zu übersehen, daß dieser Betriebszustand dadurch herbeigeführt werden kann, daß entweder der Schalter 16 geöffnet wird oder daß -der Widerstand 17 durch Verstellen seines Abgriffs bis auf einen derart hohen Wert gebracht wird, daß dadurch der Strom von 6 nach 8 auf den entsprechenden Wert, also bis unter den Wert des sogenannten Abreißstromes, herabgesetzt wird.
  • Würde die Spannungsquelle 14 einen pulsierenden Gleichstrom liefern, so ist zu übersehen, daß das Halbleiterstromtor A jeweils selbsttätig in den Sperrzustand übergehen würde, sobald der von 14 gelieferte Strom zufolge des Absinkens der von 14 gelieferten Spannung auf einen derart geringen Wert absinkt, daß der genannte Abreißstromwert unterschritten wird. Es bedarf also dann jeweils einer neuen Steuerung mittels der Spannungsquelle 19, damit das Stromtor wieder zwischen seinen Elektroden 6 und 8 durchlässig wird.
  • Ist 14 eine Wechselspannungsquelle, so wird bei einer Steuerung des Halbleiterstromtores A mittels der Spannungsquelle 19 dieses jeweils nur in der Weise zwischen 6 und 8 stromdurchlässig, daß diejenige Halbwelle des Wechselstromes passieren kann, bei welcher an der Spannungsquelle 14 am linken Pol gemäß der eingetragenen Polarität positives Potential besteht. Die negative Halbwelle des Wechselstromes ist jeweils dadurch gesperrt, daß der zwischen den beiden Zwischenbereichen 2 und 3 bestehende pn-übergang als Sperre im Stromweg für die andere, nämlich negative Halbwelle des Wechselstromes wirksam ist.
  • In gleicher Weise wie das Stromtor mittels der Gleichspannungsquelle 19 auf Durchlaß gesteuert werden kann für eine Stromrichtung von 6 nach 8, so kann es auch in der Stromrichtung von 8 nach 6 auf Durchlaß mittels der Steuerspannungsquelle 18 gesteuert werden, was nach der vorausgegangenen Erläuterung ohne weiteres verständlich sein wird. Je nachdem, welche der Steuerspannungsquellen 18 bzw. 19 benutzt wird, um das Halbleiterstromtor A auf Durchlaß zu steuern, wird also der Weg über das Stromtor entweder von 6 nach 8 oder von 8 nach 6 freigegeben, so daß also in beliebiger Weise entweder die eine oder die andere Halbwelle des von 14 gelieferten Wechselstromes oder auch beide Halbwellen das Stromtor A passieren können und demgemäß eine entsprechende Speisung der Last 15 stattfindet.
  • Die F i g. 2 zeigt im Schnitt in einem zur Veranschaulichung gewählten Maßstab den beispielsweisen Aufbau des Halbleiterkörpers eines erfindungsgemäßen Halbleiterstromtores und die F i g. 3 eine entsprechende perspektivische Darstellung als Draufsieht auf einen solchen Halbleiterkörper.
  • Hierbei wurde ausgegangen von einem n-leitenden Grundkörper 20, z. B. aus einkristallinem Silizium. In diesem wurde durch Eindiffusion eines Störstellenmaterials eine Mantelzone 21 vom elektrischen p-Leitungstyp bis zu einer solchen Tiefe erzeugt, daß ein Kernkörper 22 vom elektrischen n-Leitungstyp verblieben ist. Nunmehr wurde durch Einlegieren eines Elektroden- bzw. Störstellenmaterials 23 von der unteren Oberfläche des Halbleiterkörpers 20 aus im Halbleiterkörper ein stark n-dotierter Bereich 24 erzeugt, der mit der Mantelzone 21 also einen pn-Übergang bildet, dessen Anschlußelektrode der Elektrodenkörper 23 ist. Von -der oberen Oberfläche des Hälbleiterkörpers=-20-- aus wurden durch Einlegieren des kreisflächenförmigen Elektrodenmaterialkörpers 25 und des kreisringförmigen Elektrodenmaterialkörpers 26, die exzentrisch zum Umfang der Kreisflächenform von 20 aufgelegt wurden, bei entsprechender Wahl ihrer Werkstoffe in dem Halbleiterkörper je ein weiterer dotierter Bereich 27 bzw. 28 erzeugt, von denen 27 einen ohmschen Übergang und 28 einen pn-Übergang mit der p-leitenden Mantelzone 21 bildet. Weiterhin ist noch ein Elektrodenmaterialkörper 29 von sichelförmiger Gestalt aus einem Werkstoff einlegiert worden, der mit der p-leitenden Mantelzone 21 einen ohmschen Übergang bildet. Durch die für 29 gewählte Sichelform ergibt sich bei der in bezug auf die Achse von 20 exzentrischen Anordnung der Elektrodenkörper 25 bzw. 26 und den mit diesen verbundenen dotierten Bereichen im Halbleiterkörper eine gute Raumausnutzung bei der Unterbringung der Elektrode 29 und des mit ihr verbundenen, im Halbleiterkörper gebildeten Bereichs 30.
  • Nach dieser Fertigstellung des Halbleiterkörpers durch Eindiffusion und Legierung wurde schließlich ein Graben 31 von der oberen Oberfläche des Halbleiterkörpers 20 aus durch die Mantelzone 21 hindurch bis in die n-leitende Kernzone 22 des ursprünglichen Ausgangskörpers 20 hinein auf mechanischem oder/und chemischem Wege, wie z. B. durch Einarbeiten mittels eines Stahles, durch Sandstrahlen bzw. Ätzen, eingearbeitet, wodurch die bisher an der Oberfläche in sich geschlossene, den Kernkörper 22 allseitig umschließende Mantelzone 21 in die beiden p-leitenden Teilbereiche 21a und 21b aufgetrennt worden ist.
  • Um die aufbaumäßige Übereinstimmung eines solchen Halbleiterkörpers mit dem Grundschema von A nach der F i g. 1 leichter erkennen zu lassen, sind in den F i g. 2 und 3 außer den bereits angeführten Bezugszeichen noch die zahlenmäßigen Bezugszeichen 1 bis 5, 6, 8, 10 und 11, die bereits in F i g.1 benutzt worden sind, nochmals, jeweils in eine Klammer eingeschlossen, eingetragen worden.
  • Das Elektrodenmaterial26 erzeugte hiernach den n-leitenden Außenbereich mit der Hauptelektrode 6 und das Elektrodenmateria123 den n-leitenden Außenbereich 5 mit der Hauptelektrode B. Die Mantelzone 21 liefert mit ihren beiden getrennten Teilbereichen 21a bzw. 21b und den in diese einlegierten Elektrodenmaterialkörpern 25 bzw. 29 die beiden p-leitenden Zwischenbereiche 2 bzw. 4 mit den Steuerelektroden 10 bzw. 11 sowie der verbliebene n-leitende Kernkörper 22 des Ausgangskörpers 20 den n-leitenden, in der Mitte zwischen den Bereichen 2 und 4 liegenden Bereich 3.

Claims (1)

  1. Patentansprüche: 1. Gesteuertes Halbleiterstromtor mit mehreren aufeinanderfolgenden Zonen abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps im Halbleiterkörper, dadurch gekennzeichnet, daß für eine Steuerbarkeit in beiden Stromrichtungen der Halbleiterkörper fünf Zonen enthält, daß die mittlere Zone schwach dotiert ist und die angrenzenden inneren Zonen durch Diffusion ebenso schwach dotiert sind, daß die Außenzonen stärker dotiert sind, so daß die beiden inneren pn-Übergänge wesentlich höher sperrend als die beiden äußeren pn-Übergänge sind, und daß an jeden äußeren pn-Übergang je eine Steuerspannungsquelle angeschlossen ist, so daß der durch die an den Außenzonen liegende Betriebsspannung in Sperrichtung beanspruchte hochsperrende innere pn-Übergang auf Durchlaß gesteuert wird und dabei auch der benachbarte äußere, niedrig sperrende pn-Übergang in Sperrrichtung im Zenerbereich durchlässig wird. _ 2. Verfahren zum Herstellen eines gesteuerten Halbleiterstromtores nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Außenzonen durch Einlegieren des Störstellenmaterials dotiert werden. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 969 211; deutsche Auslegeschrift 1021082; österreichische Patentschrift Nr. 172 889; belgische Patentschrift Nr. 524 722; Journ. of appl. Physics, Bd. 30, 1959, Nr. 11, S.1819 bis 824.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE524722A (de) * 1952-12-01
AT172889B (de) * 1948-06-26 1952-10-25 Western Electric Co Elektrische Übertragungseinrichtung aus halbleitendem Material
DE1021082B (de) * 1954-06-02 1957-12-19 Siemens Ag Flaechentransistor mit fuenf Elektroden, die an fuenf abwechselnd aufeinanderfolgenden Halbleiterschichten vom n-Typ und p-Typ anliegen, deren zweite und vierte Schicht als Basisschichten dienen
DE969211C (de) * 1952-11-05 1958-05-14 Philips Nv Transistor-Verstaerkerschaltung

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT172889B (de) * 1948-06-26 1952-10-25 Western Electric Co Elektrische Übertragungseinrichtung aus halbleitendem Material
DE969211C (de) * 1952-11-05 1958-05-14 Philips Nv Transistor-Verstaerkerschaltung
BE524722A (de) * 1952-12-01
DE1021082B (de) * 1954-06-02 1957-12-19 Siemens Ag Flaechentransistor mit fuenf Elektroden, die an fuenf abwechselnd aufeinanderfolgenden Halbleiterschichten vom n-Typ und p-Typ anliegen, deren zweite und vierte Schicht als Basisschichten dienen

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