DE1197552B - Halbleiteranordnung mit einem das Halbleiter-element gasdicht einschliessenden becherfoermigen Gehaeuse und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Halbleiteranordnung mit einem das Halbleiter-element gasdicht einschliessenden becherfoermigen Gehaeuse und Verfahren zu ihrer Herstellung

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DE1197552B
DE1197552B DES72664A DES0072664A DE1197552B DE 1197552 B DE1197552 B DE 1197552B DE S72664 A DES72664 A DE S72664A DE S0072664 A DES0072664 A DE S0072664A DE 1197552 B DE1197552 B DE 1197552B
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Heinz Martin
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Siemens AG
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    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/16Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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Description

  • Halbleiteranordnung mit einem das Halbleiterelement gasdicht einschließenden becherförmigen Gehäuse und Verfahren zu ihrer Herstellung Die Erfindung bezieht sich auf einen verbesserten Aufbau einer Halbleiteranordnung mit einem das Halbleiterelement gasdicht einschließenden becherförmigen Gehäuse, auf dessen Boden das Halbleiterelement befestigt ist, und dessen unterer, an den Boden angrenzender Wandteil derart gestaltet ist, daß das Gehäuse im Preßsitz auf einem weiteren Träger befestigt werden kann, und mit dessen oberen Wandteil der äußere Metallring einer elektrisch isolierenden Durchführung verbunden ist, sowie auf ein Verfahren zu ihrer Herstellung.
  • Bei einer solchen Halbleiteranordnung wird vielfach der deckelförmige Abschluß durch eine isolierende Durchführung, z. B. eine Druckglasdurchführung, gebildet, deren äußerer Metallring bzw. Metalldruckring mit dem Rand der Becherform verlötet ist. Durch den zentralen Hülsenteil der elektrisch isolierenden Durchführung ist dabei vielfach ein mit dem zweiten Pol des eingeschlossenen Halbleiterelementes elektrisch verbundener Anschlußleiter hindurchgeführt und mit diesem Hülsenteil gasdicht verbunden.
  • Bei einer solchen Anordnung ist es wichtig, daß an ihr ein einwandfreier gasdichter Einschluß des Halbleiterelementes erzeugt, jedoch auch während des betriebsmäßigen Einsatzes aufrechterhalten werden kann und nicht durch thermische Dehnungen oder mechanische Beanspruchungen der an der gegenseitigen Verlötungsstelle beteiligten Anteile des Gehäuses gefährdet werden kann.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe bei einer Halbleiteranordnung der eingangs angeführten Art schließt erfindungsgemäß der untere Wandteil nach oben mit einer mit seiner Projektion in der Richtung der Gehäuselängsachse im wesentlichen zusammenfallenden Stirnfläche ab, auf welcher der äußere massive Ring der isolierenden Durchführung aufliegt, der mit dem oberen Teil der Becherwand, der eine wesentlich geringere Dicke als der untere Teil aufweist, nur über eine axiale Teilzone der Gesamthöhe der einander gegenüberliegenden Flächen gasdicht verlötet ist.
  • Es ist also benachbart der axial verlöteten Teilzone von dem oberen Wand- bzw. Mantelteil geringeren Querschnitts bzw. geringerer Wanddicke ein Anteil vorhanden, der sich bei thermischen Dehnungen, die an der Anordnung auftreten, für eine gegenüber der äußeren Mantelfläche des äußeren Metallringes der elektrisch isolierenden Durchführung sowohl in radialer, axialer als auch in der Umfangsrichtung verschieben kann, und ein über diesen äußeren Ring der elektrisch isolierenden Durchführung für das Einpressen der Halbleiteranordnung in ihren Sitz an einem weiteren Träger ausgeübter Druck kann sich ebenfalls nicht nachteilig auf jene Lötverbindungsstelle auswirken, da dieser Druck unmittelbar über die eine axiale Stirnfläche dieses Druckringes an dem Absatz des becherförmigen Gehäuseteiles bzw. der den unteren Wandteil nach oben abschließenden Fläche von diesem Gehäuseteil übernommen wird.
  • Für eine einfache Herstellung einer solchen Lötverbindungsstelle, die sich nur über einen Teil der axial einander benachbart liegender Teile der inneren Mantelfläche des becherförmigen Fassungskörpers und der äußeren Mantelfläche des äußeren Metallteiles der isolierten Durchführung erstreckt, wird zweckmäßig mindestens einer der beiden einander gegenüberliegenden Körper mit einer entsprechenden Aussparung versehen, in welche ein entsprechender flacher Lotring eingesetzt werden kann, der dann bei entsprechender Erwärmung der Anordnung in den schmelzflüssigen Zustand übergeht und nach seinem Erkalten eine einwandfreie, gasdichte, mechanische Lötverbindung zwischen den beiden Körpern - äußerer Metallkörper der isolierten Durchführung und innere Mantelfläche des Randes des Fassungskörpers - herstellt.
  • Damit das Lot während des Lötprozesses nicht zwischen diejenigen Teile der beiden an anderer Stelle miteinander zu verbindenden Körper hineingelangt und dort eine entsprechende mechanische Verbindung erzeugt, können die entsprechenden Oberflächenteile, zwischen denen keine Lötverbindung zur Entstehung gelangen soll, mit einem entsprechenden Schutzüberzug bzw. Oberflächenschutz, z. B. einem Lacküberzug, versehen werden, so daß also keine Benetzung dieser Flächen durch das Lot stattfinden kann.
  • Bekannt ist ein Halbleiterbauelement mit einem Gehäuseteil in Form einer becherförmigen Fassung, an deren innerem Boden das Halbleiterelement befestigt ist, und die diesem gegenüber außen mit einem ausladenden Bolzen zum Einschrauben des Halbleiterbauelementes in einem weiteren Träger sowie an ihrem freien Rand mit einem abgesetzten Teil versehen ist, welcher mit dem äußeren Schenkel des einseitig auf die Längsachse bezogenen U-förmigen Querschnitts des äußeren Metallringes der elektrisch isolierenden Durchführung verlötet ist, während der innere Schenkel des U-förmigen Querschnitts mit dem Isolierkörper der Durchführung verbunden ist. Mit dem inneren metallischen Körper der elektrisch isolierenden Durchführung ist eine metallische Fassung verbunden, die sowohl in Richtung auf den Gehäuseinnenraum als auch nach außen je eine Aussparung aufweist, um einerseits einen vom zweiten Pol des eingeschlossenen Halbleiterelementes ausgehenden biegsamen Anschlußleiter als auch andererseits in die nach außen offene Aussparung einen Anschlußleiter für die Einschaltung des Halbleiterbauelementes in einen äußeren Stromkreis einführen zu können.
  • Bei einer anderen bekannten Halbleiteranordnung mit einem becherförmigen Gehäuse ist der Rand der Becherfonm abgesetzt für das Aufsetzen eines flanschartigen, radial ausladenden Teiles des äußeren Metallringes der elektrisch isolierenden Durchführung, welcher, einseitig auf die Längsachse der Durchführung bezogen, einen L-förmigen Querschnitt aufweist, so daß der flanschartige Teil durch einen radial liegenden Schenkel dieser L-Form gebildet wird, während der andere Schenkel dieser Querschnittsform parallel zur Achsrichtung der Durchführung verläuft und sich von der Öffnung der Becherform aus in axialer Richtung nach außen er-streckt. Das Halbleiterbauelement wird in eine in einem Kühlfahnenblech vorgesehene becher- bzw. napfartige Vertiefung eingesetzt, die wiederum mit ihrem äußeren Teil in die Becherform bzw. Napfform von geringerer Tiefe einer benachbarten Kühlfahne eingesetzt werden kann, wobei die Fassung des Halbleiterbauelementes und die ineinandergesetzten becher- bzw. napfartigen Anteile der Kühlfahnen miteinander verlötet sind.
  • Bei einem anderen bekannten Halbleiterbauelement mit Nickelüberzügen an den Stirnflächen des Halbleiterkörpers ist die eine Stirnfläche in einer Vertiefung im Kopf eines aus Stahl bestehenden Schraubenbolzens mit einer Kupferschicht und die andere Stirnfläche mit einem Kupferleiter verlötet; dieser ist jenseits eines wendelförmig gestalteten Anteils durch eine elektrisch isolierende Durchführung im Bodenteil eines glocken- bzw. becherartigen Gehäuseteiles hindurchgeführt und in dem inneren Metallkörper der elektrisch isolierenden Durchführung durch einen Klemm- und Lötprozeß befestigt, wobei ein vom freien Rand des becherförmigen bzw. glockenartigen Gehäuseteiles ausladender Flanschteil mit einer äußeren Ringzone der dem Schaftteil des Schraubenbolzens abgewandten Stirnfläche verlötet oder ver-schweißt ist.
  • Zur näheren Erläuterung der Erfindung an Hand eines Ausführungsbeispiels wird nunmehr auf die Figur der Zeichnung Bezug genommen. In dieser bezeichnet 1 einen metallischen Becher aus Kupfer; an dessen Bodenfläche ist das Halbleiterelement 2 durch eine Lötverbindung befestigt. Von der oberen Fläche des Halbleiterkörpers 2 bzw. dem zweiten Pol des Halbleiterelementes aus erstreckt sich ein elektrischer Anschlußleiter 3. Dieser ist an seinem dem Halbleiterelement benachbarten Teil, der innerhalb des Kammerraumes der Halbleiteranordnung liegt, flachgepreßt und weist eine S-Form auf, so daß er bei thermischer Beanspruchung der Anordnung nachgiebig ist. Im oberen Teil des Kupferbechers 1 ist auf einem Absatz 4 desselben der z. B. aus Eisen bzw. Stahl bestehende äußere massive Metallring 5 der isolierenden Durchführung 6 aufgesetzt, deren Isolierkörper 7 z. B. bei einer sogenannten Druckglasdurchführung aus Glas bestehen kann. Diese isolierende Durchführung weist einen inneren hülsenartigen Metallteil 8 auf. Durch diesen Metallteil 8 ist der elektrische Anschlußleiter 3 mit seinem zylindrischen Teil hindurchgeführt und dann über die Lotschicht 9 mit diesem verlötet.
  • Bilden die Teile 5 bis 8 zusammen eine sogenannte Druckglasdurchführung, so hat diese die bekannte Eigenart, daß durch die entsprechende Wahl der thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Werkstoffe der Körper 5, 7 und 8 und die Bemessung dieser Körper beim Erkalten des Glasschmelzflusses von 7 der entstehende Glaskörper derart unter Druck gesetzt wird, daß während der normalen betriebsmäßigen thermischen Beanspruchung der Anordnung niemals irgendwelche Zugspannnungen in dem Glaskörper auftreten können, die sonst bekanntermaßen in unzulässiger Weise zu einer Rissebildung in dem Glaskörper führen würden und damit der dauernde gesicherte gasdichte Abschluß des Raumes, in welchem das Halbleiterelement untergebracht ist, nicht mehr gewährleistet wäre.
  • Erfindungsgemäß ist der äußere massive Ring 5 der isolierenden Durchführung nicht über seine gesamte äußere Mantelfläche mit der gegenüberliegenden inneren Mantelfläche des Teiles 10 des becherförmigen Gehäuses verlötet, sondern nur über einen Teil der axialen Länge beider Körper. Um das auf einfache Weise zu erreichen, ist der Metallring 5 der Druckglasdurchführung an seiner äußeren Mantelfläche mit einem oberen Teil 11 von geringerem Durchmesser versehen, als ihn der anschließende untere Teil 12 dieses Metallringes 5 aufweist. Auf diese Weise entsteht zwischen dem Teil 11 von 5 und der inneren Mantelfläche des Teiles 10 des Bechers 1 ein Spalt, in welchen vor der gegenseitigen Verlötung der beiden Körper 5 und 10 bzw. 1 ein Ring 13 aus einem geeigneten Lot, z. B. aus einer Zinn-Blei-Legierung, eingesetzt werden kann. Zweckmäßig können die einander gegenüberliegenden Mantelflächen von 5 an der Stelle 12 und der entsprechende Flächenteil von 10 vorher mit einem Lack bestrichen worden sein, der auf jeden Fall eine Benetzung dieser Flächen durch eventuell zwischen sie hineingelangendes Lot von 13 verhindert.
  • In der Zeichnung ist innerhalb des becherförmigen Gehäuses noch ein zylinderförmiger Körper 14, z. B. aus keramischem Material, vorgesehen, durch den es erleichtert wird, das Halbleiterelement in seiner Lage an der Bodenfläche des becherförmigen Gehäuses 1 eindeutig zu orientieren, so daß seine Verlötung in vorbestimmter Lage an der Grundfläche der Becherform stattfindet. Das ist wichtig, damit der Anschluß- Leiter 3 in das hülsenartige innere Metallteil 8 der isolierenden Durchführung 6 eingeführt werden kann. Der Isolierkörper 14 ist zweckmäßig so bemessen, daß er ein gewisses Spiel gegenüber der inneren Mantelfläche der Becherform 1 besitzt, damit auf diese Weise den verschiedenen thermischen Dehnungen Rechnung getragen ist und keine Brucherscheinungen zur Entstehung gelangen können.
  • An seiner äußeren Mantelfläche ist das becherförmige Gehäuse an einem zylinderförmigen Teil mit einer Riffelung 15 versehen. Durch diese ist es möglich, die fertige Halbleiteranordnung in eine vorgearbeitete Bohrung irgendeines Gerüstes oder eines anderen Montageteiles mit einem Preßsitz einzuführen, so daß also die ganze Befestigung für die Montage der Halbleiteranordnung lediglich in dem Einpressen der Halbleiteranordnung mit ihrem Teil 15 in die genannte Aussparung besteht. Der Absatz 16 an der äußeren Mantelfläche des Bechers 1 wirkt bei dem Einpressen der Halbleiteranordnung in eine solche Aussparung als ein entsprechender Anschlag.
  • Nach einer Weiterbildung der Erfindung kann ein solcher Ring 14 gemäß dem Ausführungsbeispiel auch mit relativ geringer Höhe bemessen werden, so daß das Halbleiterelement auch nach seiner Anordnung innerhalb desselben noch leicht in Augenschein genommen werden kann, wenn er am Boden des Bechers 1 festgelegt wird. Das kann z. B. mittels einer Lötverbindung erfolgen bei entsprechender Vormetallisierung der zu verlötenden Fläche von 14. Hierzu kann auf dem Boden 1 gegebenenfalls eine durchgehende Lotscheibe angeordnet sein, um gleichzeitig das Halbleiterelement und den Zentrierring mit dem Boden des Gehäuses 1 zu verlöten. Das Verlöten zwischen 3 und 8 kann erfolgen, indem gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der Erfindung in den oben etwas erweiterten, pfannenartig wirkenden Teil von 8 ein Ring aus Lotwerkstoff eingelegt wird, der bei Erwärmung mit seinem Schmelzflüssigwerden in den Spalt zwischen 3 und 8 hineingezogen wird.
  • Die Darstellung in der Zeichnung ist in einem zur Veranschaulichung gewählten Maßstab wiedergegeben.

Claims (7)

  1. Patentansprüche: 1. Halbleiteranordnung mit einem das Halbleiterelement gasdicht einschließenden becherförmigen Gehäuse, auf dessen Boden das Halbleiterelement befestigt ist, und dessen unterer, an den Boden angrenzender Wandteil derart gestaltet ist, daß das Gehäuse im Preßsitz auf einem weiteren Träger befestigt werden kann, und mit dessen oberen Wandteil der äußere Metallring einer elektrisch isolierenden Durchführung verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, daß der untere Wandteil nach oben mit einer mit seiner Projektion in der Richtung der Gehäuselängsachse im wesentlichen zusammenfallenden Stirnfläche abschließt, auf welcher der äußere massive Ring der isolierenden Durchführung aufliegt, der mit dem oberen Teil der Becherwand, der eine wesentlich geringere Dicke als der untere Teil aufweist, nur über eine axiale Teilzone der Gesamthöhe der einander gegenüberliegenden Flächen gasdicht verlötet ist.
  2. 2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der äußere Ring der Durchführung und/oder der obere Teil der Becherwand an den zu verlötenden Stellen je eine Aussparung aufweist, in welche ein Lotkörper angebracht werden kann.
  3. 3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 oder 2 mit einem das Halbleiterelement an der Bodenfläche des Gehäuses zentrierenden isolierenden Hohlkörper, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper niedriger ist als das Innere des Gehäuses und daß er mit dem Boden des Gehäuses fest verbunden ist.
  4. 4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlkörper über vormetallisierte Flächen mit dem Boden des Gehäuses verlötet ist.
  5. 5. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Teile der einander gegenüberliegenden Flächen des äußeren Ringes der Durchführung und der Becherwand, zwischen denen keine Lötverbindung entstehen soll, mit einem Schutzüberzug gegen Benetzung durch das Lot, z. B. mit einer Lackschicht, versehen werden.
  6. 6. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß für die Verlötung eine Lötscheibe auf dem Boden des Gehäuses benutzt wird.
  7. 7. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß in den durch das äußere aufgeweitete Ende des hülsenartigen inneren Metallteils der Durchführung und den durch ihn hindurchgeführten Anschlußleiter gebildeten ringförmigen Raum ein Körper aus Lotwerkstoff eingelegt wird und anschließend auf eine solche Temperatur erhitzt wird, daß das Lot flüssig wird und aus dem ringförmigen Raum in den Ringspaltraum zwischen Anschlußleiter und inneren Metallteil der Durchführung hineingezogen wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschriften Nr. 1047 948, 1047 950, 1061446.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1047948B (de) * 1956-08-10 1958-12-31 Siemens Ag Anordnung mit einem Flaechengleichrichterelement mit p-n-UEbergang
DE1047950B (de) * 1955-11-08 1958-12-31 Westinghouse Electric Corp Luftgekuehlte Leistungs-Gleichrichteranordnung mit gekapselten Halbleiter-Gleichrichterelementen
DE1061446B (de) * 1955-04-22 1959-07-16 Western Electric Co Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Gleichrichters mit einem drei Zonen aufweisenden Halbleiterkoerper

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