DE1134258B - Acid galvanic nickel bath - Google Patents

Acid galvanic nickel bath

Info

Publication number
DE1134258B
DE1134258B DED30622A DED0030622A DE1134258B DE 1134258 B DE1134258 B DE 1134258B DE D30622 A DED30622 A DE D30622A DE D0030622 A DED0030622 A DE D0030622A DE 1134258 B DE1134258 B DE 1134258B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
acid
nickel bath
galvanic nickel
benzenesulfonyl
bath
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DED30622A
Other languages
German (de)
Inventor
Dr Wennemar Strauss
Dipl-Ing Gregor Michael
Dr Wolf-Dieter Willmund
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DEHYDAG GmbH
Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH
Original Assignee
DEHYDAG GmbH
Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DEHYDAG GmbH, Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH filed Critical DEHYDAG GmbH
Priority to DED30622A priority Critical patent/DE1134258B/en
Priority to GB11130/60A priority patent/GB879707A/en
Priority to FR825332A priority patent/FR1254852A/en
Priority to US25843A priority patent/US3023151A/en
Publication of DE1134258B publication Critical patent/DE1134258B/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die galvanische Erzeugung glänzender und einebnender Nickelüberzüge von guter Duktilität und Haftung und befaßt sich im besonderen mit der Verbesserung der Glanztiefenstreuung in galvanischen Nickelbädern.The present invention relates to the galvanic production of shiny and leveling nickel coatings of good ductility and adhesion and deals in particular with the improvement of the gloss depth scattering in galvanic nickel baths.

Es ist bekannt, galvanischen Nickelbädern Glanzmittel wie Sulfonamide, Sulfonimide (Saccharin), Disulfonimide oder eine Sulfogruppe enthaltende Harnstoffderivate zuzusetzen. Ferner ist bekannt, zur Erhöhung des Glanzes und zur Erzielung von Einebnungseffekten neben den oben angeführten Mitteln dreifach ungesättigte Alkohole, wie z. B. Butindiol, oder Pyridinbzw. Chinolinderivate in Glanznickelbädern zu verwenden. Es kann jedoch häufig beobachtet werden, daß bei Bädern, die die obigen organischen Verbindungen enthalten, in den niedrigen Stromdichtebereichen (z. B. 0,25 bis 0,5 Amp./qdm) bzw. bei sich in diesen Bereichen befindlichen Perforierungen des zu vemikkelnden Objektes matte oder schleierige Nickelüberzüge auftreten. Dabei kann festgestellt werden, daß die so Stärke der Schleierbildung von der Geschwindigkeit der Warenbewegung im Nickelbad abhängig ist. Treten bei einer Warenbewegung von 20 cm/sec starke Schleier im niedrigen Stromdichtebereich auf, kann mit 10 cm/ see die Schleierbildung auf die Hälfte zurückgegangen und bei der Warenbewegung Null vollkommen unterdrückt sein. Da jedoch beim Betrieb technischer Bäder in den meisten Fällen nicht auf eine Warenbewegung verzichtet werden kann und außerdem die Geschwindigkeit der Warenbewegung von Fall zu Fall unterschiedlich ist, wird die Überwachung der Bäder auf Grund des intensitätsmäßig unterschiedlichen Auftretens matter bzw. schleieriger Zonen erschwert.It is known to use electrolytic nickel baths, brighteners such as sulfonamides, sulfonimides (saccharin), disulfonimides or to add a sulfo group-containing urea derivative. It is also known to increase the gloss and to achieve leveling effects three times in addition to the means listed above unsaturated alcohols, such as. B. butynediol, or pyridine or. Quinoline derivatives in bright nickel baths too use. However, it can often be observed that baths containing the above organic compounds included, in the low current density ranges (e.g. 0.25 to 0.5 Amp./qdm) or in these Areas of the perforations of the object to be vemikkelte matt or veiled nickel coatings appear. It can be seen that the strength of the fog depends on the speed the movement of goods in the nickel bath is dependent. Strong veils appear when goods move at 20 cm / sec in the low current density range, fogging can be reduced by half at 10 cm / see and be completely suppressed in the movement of goods zero. Since, however, when operating technical baths In most cases it is not possible to dispense with a movement of goods and also the speed the movement of goods differs from case to case, the monitoring of the baths is on Difficult because of the different intensity of the appearance of matt or hazy zones.

Es wurde nun gefunden, daß man das Auftreten matter Zonen im niedrigen Stromdichtebereich verhindern, das Vernickelungsverfahren also unabhängig von der Geschwindigkeit der Warenbewegung gestalten kann und besonders gute Glanz- und Einebnungswirkungen erzielt werden, wenn man den Nickelbädern N-sulfonylcarbonsäureamide des TypsIt has now been found that one can prevent the occurrence of dull zones in the low current density range, make the nickel plating process independent of the speed of the movement of goods can and particularly good gloss and leveling effects can be achieved if you use the nickel baths N-sulfonylcarboxamides of the type

R — CO — NH — SO2 — R'R - CO - NH - SO 2 - R '

zusammen mit salzartigen Umsetzungsprodukten aus tertiären ein- oder mehrkernigen heterocyclischen Stickstoffbasen vom aromatischen Typ und Sultonen kombiniert, wie z. B. dem inneren Salz der Pyridinium-N-propan-co-sulf onsäure oder ähnlichen Verbindungen dieses Typs, zusetzt. In der Formel stehen R und R' für Aryl- bzw. Alkylreste, die gleichartig oder ungleichartig sein können. Beide Reste können Substituenten, wie Chlor, Brom, Hydroxylgruppen, weitere Alkylreste u. a., tragen. Ferner kann die Gruppe Saures galvanisches Nickelbadtogether with salt-like reaction products from tertiary mononuclear or polynuclear heterocyclic Aromatic type nitrogen bases and sultones combined, e.g. B. the inner salt of pyridinium-N-propane-co-sulf onic acid or similar compounds of this type. In the formula are R and R ' for aryl or alkyl radicals, which can be identical or dissimilar. Both radicals can have substituents such as chlorine, bromine, hydroxyl groups, other alkyl radicals and others. Furthermore, the group Acid galvanic nickel bath

Anmelder:Applicant:

Dehydag Deutsche Hydrierwerke G.m.b.H., Düsseldorf, Henkelstr. 67Dehydag Deutsche Hydrierwerke G.m.b.H., Düsseldorf, Henkelstr. 67

Dr. Wennemar Strauss, Düsseldorf-Holthausen, Dipl.-Ing. Gregor Michael, Düsseldorf,Dr. Wennemar Strauss, Düsseldorf-Holthausen, Dipl.-Ing. Gregor Michael, Düsseldorf,

und Dr. Wolf-Dieter Willmund,and Dr. Wolf-Dieter Willmund,

Düsseldorf-Holthausen, sind als Erfinder genannt wordenDüsseldorf-Holthausen, have been named as the inventor

-CO-NH-SO2-auch mehrere Male im Molekül vorhanden sein.-CO-NH-SO 2 -can also be present several times in the molecule.

Mittel entsprechend der Formel sind z. B.:Means according to the formula are z. B .:

N-(Benzolsulfonyl)-benzoylamidN- (benzenesulfonyl) benzoylamide

C6H5 — CO — NH — SO2 — C6H5 N-(Benzolsulfonyl)-p-toluylamidC 6 H 5 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 5 N- (benzenesulfonyl) -p-toluylamide

CH3 — C6H4 — CO — NH — SO2 — C6H5 N-Cp-ToluolsulfonylJ-p-toluylamidCH 3 - C 6 H 4 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 5 N-Cp -toluenesulfonylI-p -toluylamide

CH3-CeH4-CO-NH-SO2-C6H4-CH3 N-(Benzolsulfonyl)-acetamidCH 3 -CeH 4 -CO-NH-SO 2 -C 6 H 4 -CH 3 N- (benzenesulfonyl) acetamide

CH3 — CO — NH — SO2 — C6H5 N-(Octylsulfonyl)-acetamidCH 3 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 5 N- (octylsulfonyl) acetamide

CH3 — CO — NH — SO2 — C8H17 N-(Benzolsulfonyl)-2-äthyl-hexansäureamidCH 3 - CO - NH - SO 2 - C 8 H 17 N- (benzenesulfonyl) -2-ethyl-hexanoic acid amide

C7H15 — CO — NH — SO2 — C6H5 N-(Butylsulfonyl)-p-toluylamidC 7 H 15 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 5 N- (butylsulfonyl) -p-toluylamide

CH3 — C6H4 — CO — NH — SO2 — C4H9 N-(Benzolsulfonyl)-lauroylamidCH 3 - C 6 H 4 - CO - NH - SO 2 - C 4 H 9 N- (benzenesulfonyl) lauroylamide

C11H23 — CO — NH — SO2 — C6H5 N-(3,4-Dichlorbenzolsulfonyl)-p-toluylamidC 11 H 23 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 5 N- (3,4-dichlorobenzenesulfonyl) -p-toluylamide

CH3-C6H4-CO-NH-SO2-C6H3-Cl2 N-(Benzylsulfonyl)-p-toluylamidCH 3 -C 6 H 4 -CO-NH-SO 2 -C 6 H 3 -Cl 2 N- (benzylsulfonyl) -p-toluylamide

CH3-C6H4-CO-NH-SO2-CH2-C6H5 N-(Cyclohexylsulfonyl)-benzoylamidCH 3 -C 6 H 4 -CO-NH-SO 2 -CH 2 -C 6 H 5 N- (cyclohexylsulfonyl) benzoylamide

C6H5 — CO — NH — SO2 — C6H11 N-(Benzolsulfonyl)-butylamid C3H7 — CO — NH — SO2 — C6H5 C 6 H 5 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 11 N- (benzenesulfonyl) butylamide C 3 H 7 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 5

209 628/242209 628/242

N,N'-Bis-(p-toluolsulfonyl)-weinsäurediamidN, N'-bis (p-toluenesulfonyl) -tartaric acid diamide

CH3-C6H4-SO2-NH-CO-(CHOH)2-CO-Nh-SO2-C6H4-CH3 CH 3 -C 6 H 4 -SO 2 -NH-CO- (CHOH) 2 -CO-Nh -SO 2 -C 6 H 4 -CH 3

N,N'-Bis-(xylolsulfonyl)-adipinsäurediamidN, N'-bis (xylenesulfonyl) adipic acid diamide

(CH3)2 — C6H3 — SO2 — NH — CO — (CHj)4 — CO — NH — SO2 — C6H3 — (CH3)2 (CH 3 ) 2 - C 6 H 3 - SO 2 - NH - CO - (CHj) 4 - CO - NH - SO 2 - C 6 H 3 - (CH 3 ) 2

m-Benzol-disulfonyl-(N,N'-dilactyl)-amidm-Benzene-disulfonyl- (N, N'-di-lactyl) -amide

CH3-CHOH-CO-NH-SO2-C6H4-SO2-NH-CO-CHOh-CH3 CH 3 -CHOH-CO-NH-SO 2 -C 6 H 4 -SO 2 -NH-CO-CHOh-CH 3

Zur Unterdrückung der Porenbildung kann man den Bädern außerdem noch geringe Mengen an Halogenalkansulfonsäuren, wie S-Chlor-^-oxypropansulfonsäure, 2-Bromäthansulfonsäure, oder andere Verbindungen dieser Art bzw. deren Salze sowie auch bekannte Netzmittel zusetzen. Auf die alleinige Ver-Wendung der genannten Mittel in galvanischen Bädern wird kein Schutz begehrt.To suppress the formation of pores, small amounts of haloalkanesulfonic acids, like S-chloro - ^ - oxypropanesulfonic acid, 2-Bromoethanesulfonic acid, or other compounds of this type or their salts, as well as known ones Add wetting agent. The sole use of the above-mentioned agents in galvanic baths no protection is sought.

Beispiel 1example 1

Setzt man einem Nickelbad vom Wattstyp 1,5 g/l N-(Benzolsulfonyl)-benzoylamid, 0,35 g/l des inneren Salzes der Pyridinium-N-propan-w-sulfonsäure und 1 g/l des Natriumsalzes der 3-Chlor-2-oxypropansul~ fonsäure zu, erhält man im Stromdichtebereich von 0,1 bis 8 Amp./dm2 bei 55°C hochglänzende Nickelüberzüge. Eine Mattzonenbildung im niedrigen Stromdichtebereich ist selbst bei einer Warenbewegung von 20 cm/ see nicht zu verzeichnen. Tauscht man jedoch das N-(Benzolsulfonyl)-benzoylamid gegen das Natriumsalz des Toluolsulfamids aus, treten im niedrigen Stromdichtebereich bei Warenbewegungen von 3,8 bis 20 cm/sec starke Mattzonen auf.If one puts 1.5 g / l of N- (benzenesulfonyl) -benzoylamide, 0.35 g / l of the inner salt of pyridinium-N-propane-w-sulfonic acid and 1 g / l of the sodium salt of 3-chloro into a nickel bath of the Watt type -2-oxypropanesulphonic acid, high-gloss nickel coatings are obtained in the current density range from 0.1 to 8 amps / dm 2 at 55 ° C. A matt zone formation in the low current density range is not recorded even with a goods movement of 20 cm / sec. If, however, the N- (benzenesulfonyl) -benzoylamide is exchanged for the sodium salt of toluenesulfamide, strong matt zones occur in the low current density range when goods move from 3.8 to 20 cm / sec.

Beispiel 2Example 2

In einem mit 1,0 g/l N-(Benzolsulf onyl)-p-toluylamid, 0,8 g/l des inneren Salzes der Chinolinium-N-propaneu-sulfonsäure, 1,2 g/l des Natriumsalzes der ω-Oxypropansulfonsäure und 0,5 g/l Natriumoctylsulfat angesetzten Nickelbad erhält man bei 50° C im Stromdichtebereich von 0,1 bis 8 Amp./dm2 einwandfreie glänzende Nickelabscheidungen. Verwendet man statt des N-(Benzolsuh°onyl)-p-toluylamids 1,5 g/l Benzoesäure-4-sulfonamid, treten im niedrigen Stromdichtebereich, insbesondere an den Rändern von Durchbohrungen, matte Zonen auf.In one with 1.0 g / l of N- (benzenesulfonyl) -p-toluylamide, 0.8 g / l of the inner salt of quinolinium-N-propaneu-sulfonic acid, 1.2 g / l of the sodium salt of ω-oxypropanesulfonic acid and 0.5 g / l of sodium octyl sulphate, the nickel bath obtained is perfectly shiny at 50 ° C. in the current density range from 0.1 to 8 amps / dm 2. If 1.5 g / l benzoic acid-4-sulfonamide is used instead of N- (benzene sulfonyl) -p-toluylamide, dull zones occur in the low current density range, especially at the edges of perforations.

Claims (3)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Saures galvanisches Nickelbad üblicher Zusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß es nichtcyclische N-sulfonylcarbonsäureamide und salzartige Umsetzungsprodukte aus tertiären ein- oder mehrkernigen heterocyclischen Stickstoff basen vom aromatischen Typ und Sultonen enthält.1. Acid galvanic nickel bath of usual composition, characterized in that it non-cyclic N-sulfonylcarboxamides and salt-like reaction products from tertiary one or polynuclear heterocyclic nitrogen bases of the aromatic type and sultones. 2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es nichtcyclische N-sulfonylcarbonsäureamide mit mehreren —CO — NH — SO2-Gruppen im Molekül enthält.2. Bath according to claim 1, characterized in that it contains non-cyclic N-sulfonylcarboxamides with several —CO — NH — SO 2 groups in the molecule. 3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich Halogenalkansulfonsäuren oder deren SaLze enthält.3. Bath according to claim 1 and 2, characterized in that it also contains haloalkanesulfonic acids or its salary contains. In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 028 407.
Considered publications:
German interpretative document No. 1 028 407.
© 209 628/2+2 7.62© 209 628/2 + 2 7.62
DED30622A 1959-05-06 1959-05-06 Acid galvanic nickel bath Pending DE1134258B (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DED30622A DE1134258B (en) 1959-05-06 1959-05-06 Acid galvanic nickel bath
GB11130/60A GB879707A (en) 1959-05-06 1960-03-30 Electrolytic nickel-plating baths
FR825332A FR1254852A (en) 1959-05-06 1960-04-26 Electrolytic nickel plating baths
US25843A US3023151A (en) 1959-05-06 1960-05-02 Nickel electroplating baths

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DED30622A DE1134258B (en) 1959-05-06 1959-05-06 Acid galvanic nickel bath

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1134258B true DE1134258B (en) 1962-08-02

Family

ID=7040573

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DED30622A Pending DE1134258B (en) 1959-05-06 1959-05-06 Acid galvanic nickel bath

Country Status (3)

Country Link
US (1) US3023151A (en)
DE (1) DE1134258B (en)
GB (1) GB879707A (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1238032B (en) * 1962-07-21 1967-04-06 Dehydag Gmbh Process for the preparation of sulfobetaines containing oxy groups
DE1224112B (en) * 1962-12-04 1966-09-01 Dehydag Gmbh Acid galvanic nickel bath
GB1438554A (en) 1972-07-03 1976-06-09 Oxy Metal Industries Corp Electrodeposition of bright nickel-iron or nickel-cobalt-iron deposits
US4179343A (en) * 1979-02-12 1979-12-18 Oxy Metal Industries Corporation Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits
DE19540011C2 (en) * 1995-10-27 1998-09-10 Lpw Chemie Gmbh Process for the galvanic deposition of glare-free nickel or nickel alloy deposits

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1028407B (en) * 1956-08-22 1958-04-17 Heyden Chem Fab Bath and process for the galvanic deposition of shiny nickel coatings

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1028407B (en) * 1956-08-22 1958-04-17 Heyden Chem Fab Bath and process for the galvanic deposition of shiny nickel coatings

Also Published As

Publication number Publication date
US3023151A (en) 1962-02-27
GB879707A (en) 1961-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE971806C (en) Electroplated nickel plating
DE1066068B (en) Electrolyte for galvanic deposition of mirror-shining, leveled, ductile nickel deposits
DE1004011B (en) Acid galvanic nickel bath
DE1134258B (en) Acid galvanic nickel bath
EP0006461A1 (en) Acid bath for electrodeposition of nickel-containing sulfobetaine as brightening and levelling agent
DE1106139B (en) Bath and process for the galvanic deposition of nickel coatings
DE2366419C2 (en)
DE1133208B (en) Acid galvanic nickel bath
DE888191C (en) Bath and process for galvanic nickel plating
DE1621186B1 (en) Galvanic chrome bath with additives that prevent spray mist
DE2326300A1 (en) Aqueous ACID ZINC GALVANIZATION BATH AND PROCESS
EP0621908B1 (en) Process for producing nickel-plated mouldings
US3432509A (en) Certain quaternary n-propargyl pyridinium salts
DE1190287B (en) Aqueous bath for galvanic nickel plating
DE1084098B (en) Acid baths for the production of galvanic copper coatings
DE1042337B (en) Bath and process for the galvanic deposition of high-gloss nickel coatings
DE971335C (en) Bright nickel plating
DE939662C (en) Process for the galvanic production of shiny nickel deposits
DE1028407B (en) Bath and process for the galvanic deposition of shiny nickel coatings
DE1496919C3 (en) Aqueous galvanic nickel bath
US2839457A (en) Electroplating
DE1004010B (en) Process for the production of firmly adhering and shiny galvanic metal coatings
DE1621186C (en) Galvanic chrome bath with additives to prevent spray mist
US4270987A (en) Acid galvanic nickel baths containing N-(2,3-dihydroxypropyl)-pyridinium sulfates
DE1124780B (en) Electrolyte for the deposition of high-gloss nickel coatings