DE1004010B - Process for the production of firmly adhering and shiny galvanic metal coatings - Google Patents

Process for the production of firmly adhering and shiny galvanic metal coatings

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DE1004010B
DE1004010B DED21454A DED0021454A DE1004010B DE 1004010 B DE1004010 B DE 1004010B DE D21454 A DED21454 A DE D21454A DE D0021454 A DED0021454 A DE D0021454A DE 1004010 B DE1004010 B DE 1004010B
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Germany
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disulfimides
shiny
halogen
metal coatings
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German (de)
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Dr Alfred Kirstahler
Dr Wennemar Strauss
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DEHYDAG GmbH
Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH
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DEHYDAG GmbH
Dehydag Deutsche Hydrierwerke GmbH
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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Description

DEUTSCHESGERMAN

Gegenstand des Patentes 863 159 ist ein Verfahren zur Erzeugung festhaftender und glänzender galvanischer Metallüberzüge unter Verwendung von organischen Disulfimiden bzw. deren wasserlöslichen Salzen als Zusatzmittel zu den Metallsalzbädern. Diese Zusätze ergeben festhaftende und glänzende Überzüge.The subject of the patent 863 159 is a process for the production of firmly adhering and shiny galvanic Metal coatings using organic disulfimides or their water-soluble salts as additives to the metal salt baths. These additives result in firmly adhering and glossy coatings.

Es wurde nun in Weiterbildung dieses Verfahrens gefunden, daß organische Disulfimide, welche Halogensubstituenten enthalten, eine wesentlich verbesserte Wirkung besitzen. Diese besteht in erster Linie darin, daß die bei der Galvanisierung auftretende Wasserstoffabscheidung auf ein Mindestmaß zurückgedrängt wird, wodurch praktisch porenfreie Metallniederschläge erzielt werden. Die Zurückdrängung der Porenbildung gestattet es überdies, bei höheren pH-Werten zu arbeiten, so daß Stromdichten bis 8 Amp./dm2 und höher angewendet werden können. Es ergeben sich daraus höhere Durchsätze, und das Verfahren wird wirtschaftlicher.It has now been found in a further development of this process that organic disulfimides which contain halogen substituents have a significantly improved effect. This consists primarily in the fact that the hydrogen deposition that occurs during electroplating is suppressed to a minimum, as a result of which practically pore-free metal deposits are achieved. The suppression of the formation of pores allows, moreover, to work at higher values p H, so that current densities can be applied to 8 Amp./dm 2 and higher. This results in higher throughputs and the process becomes more economical.

Unter halogensubstituierten organischen Disulfimiden werden Dialkyl- oder Diaryldisulfimide bzw. gemischte Arylalkyldisulfimide oder deren wasserlösliche Salze verstanden, die als Halogensubstituenten vornehmlich Chlor und Brom enthalten können. Besonders günstige Effekte erhält man mit Halogendiaryldisulfimiden, die im Kern auch noch Alkylsubstituenten enthalten können. Als Beispiele für diese Produkte sind folgende zu nennen: 4-Brom-dibenzoldisulfimid, 4-Chlor-dibenzoldisulfimid, 4, 4'-Dibrom-dibenzoldisulfimid, 4, 4'-Dichlor-dibenzoldisulfimid, 4-Brom-4'-chlor-dibenzoldisulfimid, 3, 4, 3', 4'-Tetrachlor-dibenzoldisulfimid^-MethyW-brom-dibenzoldisulfimid, 4-Äthyl-4'-brom-dibenzoldisulfimid oder ein anderes 4-Alkyl-4'-brom- oder 4-Alkyl-4'-chlor-dibenzoldisulfimid (Alkylreste verzweigt oder unverzweigt mit höchstens 8 Kohlenstoffatomen), 3-Chlor-4, 4'-dimethyldibenzoldisulfimid, 3, 3'-Dichlor-4, 4'-dimethyl-dibenzoldisulfimid, 4-Chlorbenzol-methan-disulfirnid, 4-Chlorbenzol-äthan-disulfimid oder ein anderes 4-Halogenbenzolalkan-disulfimid, wobei Halogen Chlor oder Brom bedeutet und der Alkanrest gerad- oder verzweigtkettig sein kann und höchstens 8 Kohlenstoffatome enthalten soll. Die Disulfimide können als solche oder in Form ihrer wasserlöslichen Salze mit anorganischen oder organischen Basen, z. B. der Alkali- oder Ammonsalze, angewendet werden.Halogen-substituted organic disulfimides are dialkyl or diaryldisulfimides or mixed ones Arylalkyl disulfimides or their water-soluble salts understood as halogen substituents primarily chlorine and bromine. Particularly favorable effects are obtained with halodiaryldisulfimides, which are in the core may also contain alkyl substituents. The following are examples of these products: 4-bromo-dibenzene disulfimide, 4-chloro-dibenzene disulfimide, 4,4'-dibromo-dibenzenedisulfimide, 4,4'-dichlorodibenzenedisulfimide, 4-bromo-4'-chloro-dibenzene disulfimide, 3, 4, 3 ', 4'-tetrachloro-dibenzene disulfimide ^ -Methyl-bromo-dibenzene disulfimide, 4-ethyl-4'-bromo-dibenzenedisulfimide or another 4-alkyl-4'-bromo- or 4-alkyl-4'-chloro-dibenzenedisulfimide (Branched or unbranched alkyl radicals with a maximum of 8 carbon atoms), 3-chloro-4, 4'-dimethyldibenzene disulfimide, 3, 3'-dichloro-4, 4'-dimethyl-dibenzenedisulfimide, 4-chlorobenzene-methane-disulfimide, 4-chlorobenzene-ethane-disulfimide or another 4-halobenzene alkane disulfimide, where halogen is chlorine or bromine and the alkane radical is straight or branched chain can be and should contain a maximum of 8 carbon atoms. The disulfimides can be used as such or in the form of their water-soluble salts with inorganic or organic bases, e.g. B. the alkali or ammonium salts applied will.

Das Verfahren soll in erster Linie bei der Herstellung von Nickelniederschlägen angewendet werden, ist aber auch für die Herstellung anderer Metallniederschläge, ζ. B. von Cadmiumniederschlägen, brauchbar.The process is primarily intended to be used in the production of nickel deposits, but it is also for the production of other metal deposits, ζ. B. of cadmium precipitates, useful.

Die erfindungsgemäß verwendeten Glanzmittel können vorteilhaft auch mit Einebnungsmitteln kombiniert angewendet werden. Geeignete Einebnungsmittel sind z. B. Produkte, wie sie durch Umsetzung aus tertiären ein- oder mehrkernigen heterocyclischen Stickstoffbasen vom aromatischen Typ und Sultonen erhalten werden, die Verfahren zur Erzeugung festhaftenderThe brighteners used according to the invention can advantageously also be used in combination with leveling agents will. Suitable leveling agents are, for. B. Products, as they are obtained through implementation from tertiary or polynuclear aromatic-type heterocyclic nitrogen bases and sultones which Process for producing firmly adherent

und glänzender galvanischerand shiny galvanic

MetallüberzügeMetal coatings

Zusatz zum Patent 863 159Addendum to patent 863 159

Anmelder:Applicant:

DEHYDAG,DEHYDAG,

Deutsche Hydrierwerke G.m.b.H.,
Düsseldorf, Henkelstr. 67
Deutsche Hydrierwerke GmbH,
Düsseldorf, Henkelstr. 67

Dr. Alfred Kirstahler, Düsseldorf,Dr. Alfred Kirstahler, Düsseldorf,

und Dr. Wennemar Strauss, Düsseldorf-Holthausen,and Dr. Wennemar Strauss, Düsseldorf-Holthausen,

sind als Erfinder genannt wordenhave been named as inventors

salzartigen Charakter besitzen. Es sind für den gleichen Zweck auch Verbindungen, wie Bis- oder Polythioharnstoffe, -isothioharnstoffe, -thiocarbaminate usw. oder auch übliche bekannte Einebner verwendbar. Außerdem kann man bei dem Verfahren Netzmittel, Leitsalze oder andere Glanzmittel mitverwenden. Als zusätzliche Glanzmittel sind z. B. die nichthalogensubstituierten organischen Disulfimide geeignet.have salty character. There are also compounds such as bis- or polythioureas, -isothioureas, -thiocarbaminates etc. or also conventional known levelers can be used. aside from that wetting agents, conductive salts or other brightening agents can also be used in the process. As an additional gloss agent are z. B. the non-halogen-substituted organic disulfimides are suitable.

Die Anwendungskonzentrationen für die erfindungsgemäßen Mittel liegen zwischen 0,1 und 10 g/l, vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 g/l Badflüssigkeit. Es wird bei höheren Temperaturen, z. B. 50 bis 60° C bei pH-Werten zwischen 1,5 und 6, zweckmäßig bei 4,5 bis 5,5 und bei Stromdichten bis 8 Amp./dm2 und darüber gearbeitet.The use concentrations for the agents according to the invention are between 0.1 and 10 g / l, preferably between 0.5 and 5 g / l bath liquid. It is used at higher temperatures, e.g. B. worked 50 to 60 ° C at pH values between 1.5 and 6, preferably at 4.5 to 5.5 and at current densities of up to 8 Amp./dm 2 and above.

Beispielexample

In ein Nickelsalzbad vom Watts-Typ, welches im Liter Badflüssigkeit 200 g Nickelsulfat, 60 g Nickelchlorid und 40 g Borsäure enthält, gibt man 1 g/l 4-Brom-4'-chlordibenzoldisulfimidnatrium. Auch bei Abwesenheit von Netzmitteln erhält man damit bei Stromdichten bis 8 Amp./dm2 porenfreie, hochglänzende Nickelüberzüge. 1 g / l of sodium 4-bromo-4'-chlorodibenzene disulfimide are placed in a nickel salt bath of the Watts type, which contains 200 g of nickel sulfate, 60 g of nickel chloride and 40 g of boric acid per liter of bath liquid. Even in the absence of wetting agents, pore-free, high-gloss nickel coatings are obtained with current densities of up to 8 amps / dm 2.

Durch Einstellen des pH-Wertes der Badflüssigkeit auf 2 bis 3 können die Stromdichten bis auf 10 Amp./dm2 gesteigert werden. An Stelle des genannten DisulfimidsBy adjusting the p H -value of the bath liquid to 2 to 3, the current densities can be increased up to 10 Amp./dm. 2 Instead of the disulfimide mentioned

609 838/335609 838/335

können auch andere halogensubstituierte Disulfimide gemäß nachstehender Tabelle verwendet werden, in der die für die optimale Glanzwirkung anzuwendenden Konzentrationen der Mittel angegeben sind.It is also possible to use other halogen-substituted disulfimides according to the table below, in the the concentrations of the agents to be used for the optimal gloss effect are given.

TabelleTabel

GlanzmittelBrightener

4-Brom-dibenzoldisulfimidnatrium Sodium 4-bromo-dibenzenedisulfimide

4, 4'-Dibrom-dibenzoldisulfimidnatrium 4, 4'-Dichlor-dibenzoldisulfimidnatrium. 3, 4, 3', 4'-Tetrachlor-dibenzoldisulfimid-4,4'-Dibromo-dibenzenedisulfimide sodium 4,4'-Dichlorodibenzenedisulfimide sodium. 3, 4, 3 ', 4'-tetrachlorodibenzene disulfimide

natrium sodium

4-Chlor-dibenzoldisuhcimidnatrium 4-chloro-dibenzoldisuh c imide sodium

g/lg / l

5,0 3,0 2,05.0 3.0 2.0

1,0 0,51.0 0.5

IOIO

Der Einebnungseffekt des obigen Glanzbades kann erforderlichenfalls dadurch verbessert werden, daß man 0,4 bis 0,5 g/l Chinoliniumpropansulfonsäure oder einen anderen Einebner dieses Typs zusetzt. Die Zusatzmengen an Einebner liegen etwa zwischen 0,1 und 1 g/l, vorzugsweise bei 0,3 bis 0,6 g/l.The leveling effect of the above gloss bath can, if necessary, be improved by 0.4 to 0.5 g / l quinolinium propane sulfonic acid or another leveling agent of this type is added. The additional amounts of levelers are between 0.1 and 1 g / l, preferably 0.3 to 0.6 g / l.

Claims (5)

PATENTANSPRCCHE:PATENT CLAIM: 1. Weiterbildung des Verfahrens zur Erzeugung festhaftender und glänzender galvanischer Metallüberzüge gemäß Patent 863 159, dadurch gekennzeichnet, daß man an Stelle der dort verwendeten organischen Disulfimide bzw. deren wasserlöslichen Salze solche organische Disulfimide verwendet, die Halogensubstituenten enthalten.1. Further development of the process for producing firmly adhering and shiny galvanic metal coatings according to patent 863 159, characterized in that instead of the there used Organic disulfimides or their water-soluble salts used those organic disulfimides which Contain halogen substituents. 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man halogensubstituierte Diaryldisulfimide oder deren wasserlösliche Salze verwendet.2. The method according to claim 1, characterized in that halogen-substituted diaryldisulfimides or their water-soluble salts are used. 3. Verfahren gemäß Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man salzartige Umsetzungsprodukte aus tertiären ein- oder mehrkernigen Stickstoffbasen vom aromatischen Typ und Sultonen mitverwendet. 3. The method according to claim 1 and 2, characterized in that one salt-like reaction products from tertiary mononuclear or polynuclear nitrogen bases of the aromatic type and sultones are also used. 4. Verfahren gemäß Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man nichthalogensubstituierte Disulfimide mitverwendet.4. The method according to claim 1 to 3, characterized in that non-halogen-substituted disulfimides used. 5. Verfahren gemäß Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß man bekannte Netzmittel, Leitsalze, Einebnungsmittel und Glanzmittel mitverwendet. 5. The method according to claim 1 to 4, characterized in that known wetting agents, conductive salts, Leveling agents and polishing agents also used. ©«09 838/335 2.57© «09 838/335 2.57
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1221873B (en) * 1961-07-08 1966-07-28 Dehydag Gmbh Galvanic nickel baths
FR2742437A1 (en) * 1995-12-14 1997-06-20 Electricite De France Substituted metal bi:phenyl sulphonyl imides in ionically conductive materials

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1221873B (en) * 1961-07-08 1966-07-28 Dehydag Gmbh Galvanic nickel baths
FR2742437A1 (en) * 1995-12-14 1997-06-20 Electricite De France Substituted metal bi:phenyl sulphonyl imides in ionically conductive materials
US5837400A (en) * 1995-12-14 1998-11-17 Electricite De France-Service National Ionically conductive materials including bis(phenylsulphonyl) imides

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