DE111333T1 - Lichtstrahlabtasteinrichtung. - Google Patents
Lichtstrahlabtasteinrichtung.Info
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- DE111333T1 DE111333T1 DE1983112423 DE83112423T DE111333T1 DE 111333 T1 DE111333 T1 DE 111333T1 DE 1983112423 DE1983112423 DE 1983112423 DE 83112423 T DE83112423 T DE 83112423T DE 111333 T1 DE111333 T1 DE 111333T1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/106—Scanning systems having diffraction gratings as scanning elements, e.g. holographic scanners
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Claims (24)
1. Abtastvorrichtung mit einem Lichtstrahl, mit einer mit wenigstens einem.ebenen Beugungsgitter versehenen,
drehbaren Platte, mit einer Lichtstrahlenquelle, um einen auf das ebene Beugungsgitter auffallenden Lichtstrahl der-art
auszusenden, daß die Einfallsebene eine Ebene ist, in der die Drehachse der drehbaren Platte liegt, mit einem
optischen System, um den durch das eoene Beugungsgitter
gebeugten Lichtstrahl durch Verwendung von wenigstens einer ebenen Reflexionsoberfläche zu reflektieren, die zu der
Einfallsebene senkrecht steht, und um den Lichtstrahl erneut zu dem ebenen Beugungsgitter zu lenken, und mit einer
Sammellinse, um den erneut von dem ebenen Beugungsgitter· ge-
beugten Lichtstrahl auf einer Abtastoberfläche zu fokussieren, wodurch die Abtastoberfläche mit dem
fokussierten Lichtfleck abgetastet wird, wenn sich die drehbare Platte dreht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 , bei der die Richtung der Gitterlinien des ebenen Beugungsgitters
tangential zur Drehrichtung der drehbaren Platte ver-
läuft.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der das
optische System zum Reflektieren und erneuten Lenken
des Lichtstrahls zu dem ebenen Beugungsgitter zwei 15
ebene- Reflexionsoberflächen umfaßt. '
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, bei der die zwei daenen Reflexionsoberflächen senkrecht zueinander positioniert
sind.
5. Vorrichtung nach irgendeinem der Ansprüche
1 bis 4 , bei der der Einfallswinkel des auf das ebene
Beugungsgitter einfallenden Lichtstrahls 0° beträgt.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der die
Lichtstrahlenquelle einen Lichtstrahl aussendet, dessen Wellenlänge ungefähr eine halbe Gitterperiode des ebenen
Beugungsgitter ist und der auf das ebene Beugungsgitter in einer zu der Drehachse parallelen Richtung
auftrifft, und bei der das optische System zum Reflektieren
und Lenken des Lichtstrahls erneut zu dem ebenen Beugungsgitter so angeordnet ist, daß es den von dem
ebenen Beugungsgitter gebeugten Lichtstrahl unter Verwendung von wenigstens einer ebenen Reflexionsober-35
fläche, die senkrecht zu der Einfallsebene verläuft, reflektiert und den Lichtstrahl erneut zu dem ebenen
Beugungsgitter lenkt, so daß die auf die Einfallsebene projizierte Richtung des gelenkten Lichtstrahls unter
einem Winkel von 180° im Bezug auf die Richtung des auf die Einfallsebene projizierten , gebeugten Lichtstrahls
verläuft.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, bei der das optische System zum Reflektieren und Lenken des Lichtstrahls
erneut zu dem ebenen Beugungsgitter zwei ebene Reflexionsoberflächen umfasst.
8.' Vorrichtung nach Anspruch 7, bei der die zwei
ebenen Reflexionsoberflächen senkrecht zueinander
positioniert sind.
9- Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der das
optische System zum Reflektieren und Lenken des Lichtstrahls erneut zu dem ebenen Beugungsgitter umfasst
eine Zylinderlinse, die in dem optischen Weg des von dem ebenen Beugungsgitter gebeugten Lichtstrahl so
„p. positioniert ist, daß die Achse der Zylinderlinse
senkrecht zu der Einfallsebene verläuft, und einen ■ ebenen Reflexionsspiegel, um durch eine ebene Reflexionsfläche desselben, die senkrecht zu der Einfallsflache
verläuft, den Lichtstrahl zu reflektieren und den Licht-
strahl erneut zu dem ebenen Beugungsgitter zu lenken, 30
wobei der ebene Reflexionsspiegel von der Zylinderlinse
mit einem Abstand beabstandet ist, der gleich der Brennweite der Zylinderlinse ist.
10. · Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der der Licht-35
strahl durch einen halbdurchlässigen Spiegel
auf das ebene Beugungsgitter auftrifft und bei der
der erneut von dem ebenen Beugungsgitter gebeugte
Lichtstrahl über den halbdurchlässigen Spiegel durch, die Sammellinse auf die, Abtastober'fläche fokussiert
wird.
der erneut von dem ebenen Beugungsgitter gebeugte
Lichtstrahl über den halbdurchlässigen Spiegel durch, die Sammellinse auf die, Abtastober'fläche fokussiert
wird.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, bei der ^q der Einfallswinkel des auf das ebene Beugungsgitter
auftreffenden Lichtstrahls 0° beträgt.
12. Abtastvorrichtung mit einem Lichtstrahl, mit einer mit wenigstens einein ebenen Beugungsgitter ver-
,j- sehenen , drehbaren Platte, einer Lichtstrahlenquelle,
um einen auf das ebene Beugungsgitter auffallenden
Lichtstrahls so auszusenden , daß die Einfallsebene
eine Ebene ist, in der die Drehachse der drehbaren Platte liegt, einer Kombination aus einer ersten Relaislinse
Lichtstrahls so auszusenden , daß die Einfallsebene
eine Ebene ist, in der die Drehachse der drehbaren Platte liegt, einer Kombination aus einer ersten Relaislinse
on und einer zweiten Relaislinse mit wenigstens zwei
ebenen Reflexionsspiegeln, um den von dem ebenen Beugungsgitter
gebeugten Lichtstrahl erneut zu dem ebenen Beugungsgitter zu lenken, wobei die erste Relaislinse
und die zweite Relaislinse gleiche Brennweiten auf-
„,. weisen und längs des optischen Weges voneinander mit
dem Abstand der doppelten Brennweite positioniert sind, und einer Sammellinse, um den erneut von dem ebenen
Beugungsgitter gebeugten Lichtstrahl auf eine Abtast-, oberfläche zu fokussieren, wobei der Abstand zwischen der Stelle, an der der Lichtstrahl zuerst gebeugt wird, und der ersten Relaislinse und der Abstand zwischen der zweiten Relaislinse und der Stelle, an der der Lichtstrahl erneut gebeugt wird, jeweils gleich der Brennweite der ersten Relaislinse und der zweiten Relaislinse ist, wodurch die Abtastoberfläche mit dem fokussierten Lichtfleck abgetastet wird, wenn sich die drehbare Platte
Beugungsgitter gebeugten Lichtstrahl auf eine Abtast-, oberfläche zu fokussieren, wobei der Abstand zwischen der Stelle, an der der Lichtstrahl zuerst gebeugt wird, und der ersten Relaislinse und der Abstand zwischen der zweiten Relaislinse und der Stelle, an der der Lichtstrahl erneut gebeugt wird, jeweils gleich der Brennweite der ersten Relaislinse und der zweiten Relaislinse ist, wodurch die Abtastoberfläche mit dem fokussierten Lichtfleck abgetastet wird, wenn sich die drehbare Platte
dreht.
c
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, bei der die Richtung der Gitterlinien des ebenen Beugungsgitters
tangential zu der Drehrichtung der drehbaren Platte verläuft.
-0
14. Vorrichtung nach Anspruch 12, bei der die
erste Relaislinse und die zweite Relaislinse so positioniert sind, daß ihre optischen Achsen in der
Einfallsebene liegen, und bei der wenigstens zwei ebene Reflektionsspiegel in der zu der Einfallsebene
senkrechten Richtung positioniert sind.
15. Vorrichtung nach Anspruch 12, bei der die ■zwei Stellen , an denen die Beugung durch das Beugungsgitter
erfolgt, auf gegenüberliegenden Seiten der Drehachse der drehbaren Platte liegen.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 15, bei der der Einfallswinkel des auf das ebene
Beugungsgitter einfallenden Lichtstrahls 0° beträgt.
17. Abtastvorrichtung mit einem Lichtstrahl, mit
einer mit wenigstens einem ebenen Beugungsgitter versehenen, drfehbaren Platte, einer Lichtstrahlenquelle,
um einen auf das ebene Beugungsgitter auftreffenden
Lichtstrahl auszusenden, einem optischen System, um den 30
gebeugten Lichtanteil erster Ordnung und den gebeugten Lichtanteil ohne die erste Ordnung des von dem ebenen
Beugungsgitter gebeugten Lichtstrahls unter Verwendung einer Vielzahl von ebenen Reflexionsoberflächen zu
reflektieren und den reflektierten LichtEtrahl des 35
gebeugten Lichtantei-ls erster Ordnung und den reflek-
tierten Lichtstrahl des gebeugten Lichtanteils ohne die erste .Ordnung erneut auf das ebene Beugungsgitter
so zu lenken, daß , nachdem die reflektierten Licht-5
strahlen erneut von dem ebenen Beugungsgitter gebeugt
worden sind, die erneut gebeugten Lichtstrahlen parallel zu dem ursprünglichen auf das Beugungsgitter auftreffenden
Lichtstrahl verlaufen, und mit einer Sammellinse, um die parallelen Lichtstrahlen , die erneut von dem ebenen
Beugungsgitter gebeugt worden sind, zu einem Lichtfleck auf einer Abtastoberfläche zu fokussieren , wodurch
die Abtastoberfläche mit dem fokussierten Lichtfleck
abgetastet wird, wenn die drehbare Platte gedreht wird.
18. Vorrichtung nach Anspruch 17, bei der die ■■-..'■
Richtung ·Gitterlinien des ebenen Beugungsgitters tangential zu der Drehrichtung der drehbaren Platte
verläuft.
19. Vorrichtung nach Anspruch 17, bei der das optische
System zum Reflektieren und Lenken des Lichtstrahls erneut zu dem ebenen Beugungsgitter zwei ebene Reflexionsoberflächen umfasst, die senkrecht zu der Einfallsebene
verlaufen. 25
20. Vorrichtung nach Anspruch 19, bei der die zwei ;
ebenen Reflexionsoberflächen senkrecht zueinander positioniert
sind.
21. Vorrichtung nach irgendeinem der Ansprühhe
17 bis 20, bei der der Einfallswinkel des auf das ebene
Beugungsgitter auffallenden Lichtstrahls 0° beträgt.
22. Vorrichtung nach Anspruch 17, bei der das optische System zum Reflektieren und Lenken des Licht-
Strahls erneut zu dem ebenen Beugungsgitter drei ebene
.Reflexionsoberflächen umfasst.
23. Vorrichtung nach Anspruch 22, bei der die drei
ebenen Reflexionsoberflächen senkrecht zueinander positioniert
sind.
24. Vorrichtung nach Anspruch 23, bei der wenigstens eine der drei ebenen Reflexionsoberflächen im Bezug auf
die Einfallsfläche geneigt ist.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57216742A JPS59105611A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 光ビ−ム走査装置 |
| JP57216741A JPS59105610A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 光ビ−ム走査装置 |
| JP58015137A JPS59140417A (ja) | 1983-02-01 | 1983-02-01 | 光ビ−ム走査装置 |
| JP58032554A JPS59157613A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 光ビ−ム走査装置 |
| JP58038868A JPS59164525A (ja) | 1983-03-09 | 1983-03-09 | 光ビ−ム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE111333T1 true DE111333T1 (de) | 1984-10-25 |
Family
ID=27519678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1983112423 Pending DE111333T1 (de) | 1982-12-10 | 1983-12-09 | Lichtstrahlabtasteinrichtung. |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0111333A1 (de) |
| DE (1) | DE111333T1 (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69233591T2 (de) * | 1991-03-27 | 2006-06-22 | Fujitsu Ltd., Kawasaki | Lichtabtastvorrichtung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5820403B2 (ja) * | 1975-01-31 | 1983-04-22 | 富士写真フイルム株式会社 | カイテンタメンキヨウノ ヘイコウドノ ゴサオ ジヨキヨスルホウホウ |
| JPS6048732B2 (ja) * | 1977-02-04 | 1985-10-29 | キヤノン株式会社 | 自己増幅偏向走査光学系 |
| US4304459A (en) * | 1979-07-02 | 1981-12-08 | Xerox Corporation | Reflective holographic scanning system insensitive to spinner wobble effects |
| US4284994A (en) * | 1979-07-30 | 1981-08-18 | Eikonix Corporation | Laser beam recorder |
-
1983
- 1983-12-09 EP EP83112423A patent/EP0111333A1/de not_active Withdrawn
- 1983-12-09 DE DE1983112423 patent/DE111333T1/de active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0111333A1 (de) | 1984-06-20 |
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